JP2011186370A

JP2011186370A - 光学シートの製造方法

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Publication number: JP2011186370A
Application number: JP2010054163A
Authority: JP
Inventors: Yusuke Hashimoto; 裕介橋本
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2010-03-11
Filing date: 2010-03-11
Publication date: 2011-09-22
Anticipated expiration: 2030-03-11
Also published as: JP5678441B2

Abstract

【課題】付加的な工程が不要で、凹凸がある層に他の層を積層しても当該他の層の面が平滑である面を得ることが可能である光学シートの製造方法を提供する。
【解決手段】光学シートの製造方法であって、基材層上に、光を透過可能に該基材層の表面に沿って並列されるプリズム部を形成し、プリズム部間には光を吸収可能であるとともに凹部を有する光吸収部を形成して光学機能シート層を製造する工程と、光吸収部の凹部が形成されている側面の光学機能シート層に透光性を有する電離放射線硬化樹脂液を塗布する工程と、電離放射線硬化樹脂液が塗布された光学機能シート層のうち、電離放射線硬化樹脂液を平滑面を有する金型に接触させる工程と、電離放射線硬化樹脂液が前記金型に接した状態で電離放射線硬化樹脂液に電離放射線を照射して透光性樹脂層を形成する工程と、を含む。
【選択図】図４

Description

本発明は、映像源から出射される映像光を制御して観察者側に出射する光学シートの製造方法に関する。

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、リアプロジェクションディスプレイ、有機ＥＬ、ＦＥＤ等のような、映像を観察者に出射する映像表示装置には、映像源、及び該映像源からの映像光の質を高めて観察者に出射するための各種機能を有する層を具備する光学シートが備えられている。

かかる光学シートは、上記したように各種機能を有する層が積層されて形成されているため、例えばそのうちの１層が凹凸を有していると、当該１層より上に配置される層にも凹凸が表れることがある。そしてこれは単に凹凸が表れるという見た目だけでなく、他の層を積層する時に空気を巻き込む等、製造上の問題になることが多い。

例えば特許文献１には、溝に黒色樹脂が充填された透明樹脂層の上にバリア層を形成した例が開示されている。そして特許文献１にはこのバリア層が、真空成膜法や湿式塗布法等により形成される旨も記載されている。

特開２００９−１３９８９３号公報

しかしながら、特許文献１に記載のような従来の方法では、黒樹脂が充填された溝部に存する凹部がバリア層にも凹部として表れてしまう問題があった。当該凹部はその上に積層する層との間に空気層を形成してしまうので、製造の観点から不具合となっていた。これを解消するために、従来では、オートクレーブ処理を施したり、凹部が表れなくなるまで層厚を厚くしたりする対応をとっていた。当然、これらの対策は付加的な工程を要したり、層が必要以上に厚くなったりするので、生産性やコストの観点から好ましくなかった。

そこで本発明は、上記の問題点に鑑み、付加的な工程を必要とすることなく、凹凸がある層に他の層を積層しても当該他の層の面が平滑面を得ることができる光学シートの製造方法を提供することを課題とする。

以下、本発明について説明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものではない。

請求項１に記載の発明は、複数の層を有する光学シートの製造方法であって、基材層（１１）上に、光を透過可能に該基材層の表面に沿って並列されるプリズム部（１３）を形成し、プリズム部間には光を吸収可能であるとともに凹部（１４ａ、１４ａ、…）を有する光吸収部（１４、１４、…）を形成して光学機能シート層（１２）を製造する工程と、光学機能シート層のうち、光吸収部の凹部が形成されている側面に透光性を有する電離放射線硬化樹脂液を塗布する工程と、電離放射線硬化樹脂液が塗布された光学機能シート層のうち、電離放射線硬化樹脂液を、平滑面を有する金型に接触させる工程と、電離放射線硬化樹脂液が金型に接した状態で電離放射線硬化樹脂液に電離放射線を照射して透光性樹脂層（１７）を形成する工程と、を含む、光学シートの製造方法である。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光学シートの製造方法において、透光性樹脂層の平均層厚が０．５μｍ〜１０．０μｍであることを特徴とする。

ここで、「平均層厚」のうち、「層厚」は、透光性樹脂層のうち、プリズム部に接している面と、これとは反対側の面との距離を意味し、「平均」は、当該層厚のうち、任意の１ｍｍ^２における任意の１０点を抽出し、当該１０点の層厚の平均値である。

請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の光学シートの製造方法により製造された光学シートを具備する表示装置である。

本発明によれば、光学機能シート層に凹凸があっても、これに積層する透光性樹脂層では、光学機能シート層と接触する面とは反対側の面において、これを平滑にすることができる。これにより、他の層を積層する際に、空気を巻き込まない等、生産性の観点から有利である。ここで、本発明では、このような平滑面を得るに際して、オートクレーブ等の他の追加的な工程が必要なく、層の形成と平滑面を同時に得ることができる。また、透光性樹脂層を不必要に厚くする必要がなく、厚いことが原因の１つである割れや反りの発生を抑制することが可能である。そして、使用する樹脂量も低減させることもできる。

１つの実施形態にかかる光学シートの製造方法によって得られる光学シートの層構成を模式的に表わした図である。図１の一部を拡大して示した図である。光学機能シート層の形成過程を説明するための図である。透光性樹脂層の形成過程を説明するための図である。透光性樹脂層の形成過程を説明するための他の図である。

本発明の上記した作用及び利得は、次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。以下本発明を図面に示す実施形態に基づき説明する。ただし、本発明はこれら実施形態に限定されるものではない。

図１は、１つの実施形態にかかる光学シートの製造方法により製造された光学シート１０の断面の一部を概略的に示した図である。図１では、見易さのため繰り返しとなる符号は一部省略することがある（以降に示す各図において同じ。）。ここでは、わかりやすさのため、はじめに光学シート１０について説明し、その後に製造方法を説明する。

図１からわかるように、光学シート１０は、基材層１１、該基材層１１上に形成された光学機能シート層１２、及び透光性樹脂層１７を有している。光学シート１０は図１で示した断面を維持して紙面奥／手前方向に延在する。

基材層１１は、光学機能シート層１２をその上に形成させるベースとなる層であり、適度な透明性と耐熱性を有している。基材層１１としては例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、ノルボルネン、ポリアリレート、フッ素系樹脂（ＰＴＦＥ、ＣＴＦＥ、ＥＴＦＥ）、透明ポリイミド、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニルスルフォン、トリアセチルセルロース等を挙げることができる。
基材層１１の厚さは特に制限されることはないが、ある程度の機械的強度を備える必要性から５０μｍ〜３００μｍの範囲が好ましい。

光学機能シート層１２は、層厚方向断面において略台形であるプリズム部１３、１３、…と、該プリズム部１３、１３、…の間に配置された光吸収部１４、１４、…とを備えている。図２には図１の一部を拡大した図を示した。

プリズム部１３、１３、…は、一方のシート面側が上底、他方のシート面側が下底となるように配置された略台形断面を有する要素である。プリズム部１３、１３、…は、適度な透明性と耐熱性を有していることが必要であり、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、もしくはポリアミド樹脂等を挙げることができる。

プリズム部１３、１３、…の厚さは特に制限されないが、プリズム部１３、１３、…間に形成される光吸収部１４、１４、…によりコントラストを向上させる観点から５０μｍ〜５００μｍ、好ましくは１００μｍ〜２００μｍ程度の範囲で設定することができる。

光吸収部１４、１４、…は、プリズム部１３、１３、…の間に配置され、図１、図２に表れる断面において略三角形断面を有する要素である。当該三角形断面の底辺に相当する面がプリズム部１３、１３、…の上底側のシート面に面するように並列されている。これにより光吸収部１４、１４、…の底辺、及びプリズム部１３、１３、…の上底により光学機能シート層１２の一方の面が形成されている。ここで、当該三角形断面の斜辺は、光学機能シート層１２のシート面の法線方向に対して０度より大きく、１０度以下の角度をなしていることが好ましい。

光吸収部１４、１４、…には、光吸収粒子１６、１６、…が分散されたバインダーが充填され、バインダー部１５、１５、…とされている。
バインダー部１５、１５、…は、プリズム部１３、１３、…の屈折率と同じ、又はこれより小さい屈折率を有する所定の材料により構成されている。具体的には、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、もしくはポリアミド樹脂等の樹脂材料を挙げることができる。

光吸収粒子１６、１６、…は、光を吸収可能にバインダー部１５、１５、…に分散された粒子であり、入手性及び取扱いの観点から平均粒径が１μｍ以上の粒子が好ましく、これはカーボン等の顔料又は赤、青、黄等の染料にて所定の濃度に着色されている。これには例えば市販の着色樹脂微粒子を使用することもできる。

かかる光学機能シート層１２によれば、光吸収部１４、１４、…に迷光や外光を吸収させ、コントラストを向上させることができる。また、プリズム部１３、１３、…と光吸収部１４、１４、…とを異なる屈折率にすることにより、一定の条件で照射された光をその界面で反射させ、光の利用効率、すなわち輝度を向上させることも可能である。

また、図２からわかるように、光吸収部１４、１４、…のうち、基材層１１とは反対側となる面である三角形の底辺に相当する部位には、凹部１４ａ、１４ａ、…が形成されている。当該凹部１４ａ、１４ａ、…は意図的に形成する場合と、製造上不可避的に形成されてしまう場合といずれの場合もある。
意図的に凹部１４ａ、１４ａ、…を形成するのは、例えばこの曲面に光拡散機能を持たせることを目的とする場合を挙げることができる。
一方、製造上不可避的に形成されてしまうのは、後述するように、光吸収部を形成する際に、余剰の材料を掻き出すことにより生じる場合等を挙げることができる。

本実施形態では、光吸収部１４、１４、…の断面形状は三角形であったが、これに限定されることなく、矩形、台形であってもよい。また、三角形の斜辺が折れ線状や曲線状であってもよい。

透光性樹脂層１７は、光を透過可能である電離放射線硬化樹脂により形成される層である。これには例えばエポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、ポリチオール系等の樹脂が適宜選択される。特に密着性、ガラス転移温度（Ｔｇ）の設計の容易さ等の点から、ウレタンアクリレートが好ましい。ウレタンアクリレートとしては、以下の水酸基含有（メタ）アクリレート、アミン化合物、ポリエチレングリコール類（分子内に少なくとも１個の水酸基を含有する）、及び有機ポリイソシアナート化合物を反応させて得られる。

水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類、前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類のε−カプロラクトン縮合物、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシフェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸等との反応により得られるエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらはそれぞれを単独で又は組み合わせて使用できる。

上記アミン化合物の具体例としては、プロピルアミン、イソブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、１，２−ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン等のアルキルアミン、３−メトキシプロピルアミン、３−エトキシプロピルアミン等が挙げられる。これらはそれぞれを単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。

上記ポリエチレングリコール類としては、分子内に少なくとも１個の水酸基を有する各種のものを特に制限なく使用できるが、下記一般式（１）で表されるものが特に好適である。
Ｈ−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ−ＯＲ（１）
（（１）式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を、ｎは７〜２５の整数を示す。）

有機ポリイソシアネート化合物としては、各種公知の芳香族、脂肪族及び脂環族のポリイソシアネート類、たとえば、１，５−ナフチレンジイソシアネート、４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４´−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、４，４´−ジベンジルイソシアネート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、ブタン−１，４−ジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４´−ジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート等や、それらジイソシアネートから得られる３量体、該ジイソシアネート類をトリメチロールプロパンなどの多価アルコールと反応させたプレポリマー、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネートなどが挙げられる。これらはそれぞれ単独又は組み合わせて使用できる。

また、さらに反応性希釈剤として、反応性モノマーを用いてもよい。具体的には例えば、硬化性、硬化膜硬度の点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリ（繰り返し数１〜３）プロポキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリ（繰り返し数１〜３）エトキシ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジフェニルジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポリ（繰り返し数１〜４）プロポキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポリ（繰り返し数１〜４）エトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（繰り返し数１〜６）プロポキシヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（繰り返し数１〜６）エトキシヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリ（繰り返し数１〜４）プロポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリ（繰り返し数１〜４）エトキシジ（メタ）アクリレート、さらにはポリウレタンアクリレートポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、エポキシポリアクリレート等を挙げることができる。反応性希釈剤を用いる場合には、その使用量は、用途に応じて決定すればよいが、１分子中に２つ以上の重合成官能基を有するモノマー割合を５０質量％〜９０質量％程度用いることが特に好ましい。

透光性樹脂層１７は、図２からわかるように、光学機能シート層１２と接する側の面は、光吸収部１４、１４、…の凹部１４ａ、１４ａ、…内にも充填されている。一方、これとは反対側の面１７ａは平滑である。かかる形状の形成方法については、光学シート１０の製造方法の説明において説明する。

透光性樹脂層１７の厚さは特に限定されるものではないが、後述する製造方法によれば透光性樹脂１７の厚さを薄くしても、上記したような平滑な面１７ａを得ることができる。従って透光性樹脂層１７を厚く形成する必要がある場合は、１０μｍより厚く形成することが可能であるとともに、それ以下の層厚であってもオートクレーブ等の付加的な工程を必要とすることなく平滑な面１７ａを形成することができる。具体的には、平均の層厚が０．５μｍ〜１０μｍの範囲であることが好ましい。層厚が０．５μｍより薄いと、透光性樹脂層を形成するための組成物の供給量が、光吸収部に形成された凹部に対して少ないため、プリズム部表面と同一の面まで透光性樹脂の組成物が充填されないことがあり、凹部形状は残ってしまうことがある。一方、層厚が１０μｍより厚いと、平滑な面を形成することに支障は無いが、光学シート１０として形成した際に硬化性の観点から生産性が悪く、材料ロスも多くなる。また、物性面で割れや反りの原因になる場合もある。ここで、「平均層厚」のうち、「層厚」は、透光性樹脂層のうち、図２に矢印Ａで示したように、プリズム部１３に接している面と、これとは反対側の面との距離を意味する。また、「平均」は、当該層厚のうち、任意の１ｍｍ^２における任意の１０点を抽出し、当該１０点の層厚の平均値である。

以上のような光学シート１０によれば、光学機能シート層１２において、凹部１４ａ、１４ａ、…が生じていても、透光性樹脂層１７の平滑な面１７ａに他の層を積層するに際して空気を巻き込み難く、生産性の向上を図ることができる。

従って、光学シート１０には、上記した他、各種機能を有する他の層が積層されていてもよい。具体的には、反射防止層、粘着剤層、電磁波遮蔽層、波長フィルタ層、防眩層、ハードコート層等を挙げることができる。これらの層の積層順、及び積層数は、光学シートの用途に応じて適宜決定される。以下、これらの層の機能などについて説明する。

反射防止層は最も観察者側に配置されて外光の反射を防止する機能を有する層である。これによれば、外光が光学シートの観察者側面で反射して観察者側へ戻って、いわゆる映り込みが生じて映像が見え難くなることを抑制することができる。このような反射防止層は、市販の反射防止フィルムを用いる等して構成することが可能である。

粘着剤層は、必要な光透過性、粘着性、耐候性を得ることができれば限定されるものではない。その粘着力は例えば数Ｎ／２５ｍｍ〜２０Ｎ／２５ｍｍ程度が好ましい。ただし、粘着剤層がガラス面に貼り合わされる場合は、貼りなおし（リワーク）、リサイクルを考慮し、数Ｎ／２５ｍｍ〜１０Ｎ／２５ｍｍ程度が望ましい。また、電磁波シールド層に貼り合わされる場合は、ベンゾトリアゾールなどの酸化防止剤が含まれているか、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ_２などの酸基が含まれていないことが望ましい。また、層構成によっては、色素の劣化を防止するために、紫外線を吸収する効果のあるＵＶ吸収剤（ベンゾトリアゾールなど）を粘着剤に含めることが望ましい。

電磁波遮蔽層は、その名称が示す通り、電磁波を遮断する機能を有する層である。当該機能を有する層であれば、電磁波を遮断する手段は特に限定されるものではない。これには、例えば銅メッシュを挙げることができる。当該銅メッシュを得る方法としてはエッチング、蒸着等により微細な銅のメッシュパターンを形成することが有効である。銅メッシュのピッチ等は遮断すべき電磁波により適宜設計されるが、例えばピッチ約３００μｍ、線幅１２μｍであるものを挙げることができる。

波長フィルタ層は、所定の波長の光をフィルタリングする機能を有する層である。フィルタリングされるべき波長は必要に応じて適宜選択することができるが、ＰＤＰから出射されるネオン線をカットしたり、赤外線、近赤外線をカットする層を挙げることができる。

防眩層は、いわゆるぎらつきを抑制する機能を有する層であり、アンチグレア層、ＡＧ層と呼ばれることもある。このような防眩層としては市販のものを用いることができる。

ハードコート層は、ＨＣ層と呼ばれることもある。これは、画像表示面に傷がつくことを抑えるために耐擦傷性を付与することができる機能を有するフィルムが配置された層である。

次に光学シート１０の製造方法について説明する。ここでは最初に光学機能シート層１２を形成する例を説明し、そのあと、その上に透光性樹脂層を形成する方法を記載する。

図３に光学機能シート層１２の形成過程を説明する図を示した。まず、図３（ａ）に示すように、基材層１１の片面側にプリズム部１３、１３、…を形成する。プリズム部１３、１３、…を形成する方法は特に限定されず、従来から公知の方法を用いることができる。例えば、プリズム部１３、１３、…を構成する樹脂を基材層１１上に供給しつつ、外周面に光吸収部１４、１４、…を転写した形状の凸部を有した金型ロールにて該樹脂を所定の圧力で押圧するとともに、該樹脂を硬化させることによって、基材層１１上にプリズム部１３、１３、…を形成することができる。

プリズム部１３、１３を形成した後、図３（ｂ）に示すように、プリズム部１３、１３間に光吸収粒子１６、１６、…が分散された樹脂からなる液状のバインダーを充填する。充填後、余剰分の光吸収粒子１６、１６、…及びバインダーを掻き出し、残ったバインダーを硬化させて、光吸収部１４、１４、…が形成される。ここで上記したように、余剰分の光吸収粒子１６、１６、…及びバインダーを掻きだした際に光吸収部１４に凹部１４ａが形成される。

次に、上記のように形成された光学機能シート層１２に透光性樹脂層１７を形成する方法について説明する。図４、図５に説明図を示した。
図４からわかるように、図３（ｂ）に示したような基材層１１上に光学機能シート層１２が形成されたシートを、金型ロール２０と、押圧ロール２１、２２との間を通過させる。ここで、金型ロール２０の表面は平滑面とされている。

より詳しくは次の通りである。図４の紙面左から供給されたシートは、金型ロール２０と押圧ロール２１との間に挟まれるように移送される。この際にシートと金型ロール２０との間に透光性樹脂層１７となる、硬化前の電離放射線硬化樹脂液２５が供給されて、光学機能シート層１２上に塗布される。

そして電離放射線硬化樹脂液２５が塗布されたシートが、金型ロール２０と押圧ロール２１との間に挟まれ、電離放射線硬化樹脂液２５の一方の面が金型ロール２０に接触する。これにより金型ロール２０の平滑面が転写された液状の電離放射線硬化樹脂液２５の層が形成される。

かかる状態で、下方から紫外線照射装置２３によりシート及び電離放射線硬化樹脂液２５に紫外線を照射する。これにより、液状の電離放射線硬化樹脂液２５が硬化して、透光性樹脂層１７が形成される。その後、金型ロール２０と押圧ロール２２との間を移送され、シートを金型ロール２０から離型させる。

以上の工程により、基材層１１、光学機能シート層１２、及び透光性樹脂層１７が積層される。かかる製造方法によれば、透光性樹脂層１７となる材料がはじめに液状で供給されるので、図５に示したように、透光性樹脂層１７の材料が、光吸収部１４の凹部１４ａに充填される。さらに、他方の面は金型ロール２０の平滑面が転写されるので、平滑な表面を得ることができる。
これによれば、透光性樹脂層１７の層厚には無関係であるから、薄い透光性樹脂層１７であっても適切に平滑面を得ることが可能である。また、当該平滑面を得るに際して、オートクレーブ等の付加的な工程を必要としない。

以上のようにして製造された光学シートは、液晶ディスプレイパネルに積層される等して、表示装置を構成する部材として機能する。

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。実施例１では、上記したように、光吸収部に凹部（凹部の深さ：５μｍ）を有する光学機能シート上に電離放射線硬化樹脂液を塗布した。次いで、平滑面を有する金型ロールと押圧ロールとの間にこれを挟み、金型ロールの平滑面が転写された液状の電離放射線硬化樹脂液の層を形成した。そしてこれを硬化させて透光性樹脂層を形成した。
透光性樹脂層の材料（紫外線硬化樹脂液）としては、イソホロンジイソシアネートとビスフェノールＡを主骨格としたウレタンアクリレートオリゴマー５０質量部、フェノキシエチルアクリレート１５質量部、イソボルニルアクリレート１０質量部、ジシクロペンタニルジアクリレート１０質量部、ビスフェノールＡジアクリレート（ＰＯ付加）１５質量部とし、当該樹脂液質量に対し、光重合開始剤を一定量添加したものを用いた。
また、紫外線を、フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン株式会社製のＤバルブ９５％、シートを３ｍ／分で流しつつ照射した。

これにより、光吸収部の凹部（凹部の深さ：５μｍ）は透光性樹脂で充填され、かつ平坦な透光性樹脂層を得ることができた。また、透光性樹脂層の平均層厚は６μｍ〜７μｍであった。そして、当該透光性樹脂層を、粘着剤層と貼り合わせしたところ、泡を巻き込むことなく貼合することができた。

比較例１として、光学機能シート層上に、実施例１で用いた透光性樹脂層の材料を平均層厚が０．５μｍ〜１０．０μｍの間になるように、上記したような平滑面を有する金型を用いることなくコーティングし、実施例１と同様の硬化条件で硬化させた。その後、当該光学機能シート層の断面を光学顕微鏡で測定した。その結果、透光性樹脂層の表面のうち光学機能シート層に接する側の面とは反対側の面で、光吸収部に対応する部位に０．５μｍ〜２．０μｍの窪みが現れ、平滑面を得ることはできなかった。そしてこれを粘着剤層と貼り合わせしたところ、泡の巻き込みが発生した。

比較例２として、比較例１と同様の手順で透光性樹脂層の平均層厚が１０．０μｍより厚くなるように形成した。その結果、透光性樹脂層の表面は平滑にすることができた。しかしながら層が厚いため、光学シートの反り（カール）が１５ｍｍ（１ｍ×１ｍサイズのシート状で４角の平均値）発生してしまった。また、多量の透光性樹脂を用いる必要があり、コストの観点から好ましくない。

比較例３として、比較例１と同様の手順で透光性樹脂層の層厚が０．５μｍより薄くなるように形成した。その結果、比較例１と同様、透光性樹脂層の表面のうち光学機能シート層と接する側の面とは反対側の面で、光吸収部に対応する部位に１．０μｍ〜２．０μｍの窪みが形成され、平滑面を得ることはできなかった。

参考例として、実施例１と同様の方法により透光性樹脂層の層厚が１０．０μｍより厚くなるように形成した。これにより、透光性樹脂層に平滑面を得ることはできた。ただし、透光性樹脂層が厚いため、光学シートの反り（カール）が発生してしまったので、層厚は１０μｍ以下であることが好ましい。

１０光学シート
１１基材層
１２光学機能シート層
１３プリズム部
１４光吸収部
１４ａ凹部
１５バインダー部
１６光吸収粒子
１７透光性樹脂層
２０金型ロール
２３紫外線照射装置

Claims

複数の層を有する光学シートの製造方法であって、
基材層上に、光を透過可能に該基材層の表面に沿って並列されるプリズム部を形成し、前記プリズム部間には光を吸収可能であるとともに凹部を有する光吸収部を形成して光学機能シート層を製造する工程と、
前記光学機能シート層のうち、前記光吸収部の前記凹部が形成されている側面に透光性を有する電離放射線硬化樹脂液を塗布する工程と、
前記電離放射線硬化樹脂液が塗布された光学機能シート層のうち、前記電離放射線硬化樹脂液を、平滑面を有する金型に接触させる工程と、
前記電離放射線硬化樹脂液が前記金型に接した状態で前記電離放射線硬化樹脂液に電離放射線を照射して透光性樹脂層を形成する工程と、を含む、
光学シートの製造方法。
前記透光性樹脂層の平均層厚が０．５μｍ〜１０．０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光学シートの製造方法。
請求項１又は２に記載の光学シートの製造方法により製造された光学シートを具備する表示装置。