JP2010087121A

JP2010087121A - 光学フィルタおよびその製造方法

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Publication number: JP2010087121A
Application number: JP2008252969A
Authority: JP
Inventors: Yasuko Sone; 康子曽根; Takehiro Yamashita; 雄大山下
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2008-09-30
Filing date: 2008-09-30
Publication date: 2010-04-15

Abstract

【課題】金属パターン層上に平坦化層及び光反射防止層を形成した光学フィルタであって、該光反射防止層表面に微小な凹凸乃至ウネリがなく、画像光に歪みを生じない光学フィルタを提供する。
【解決手段】透明基材上に、金属パターン層と、透明樹脂からなり該金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である平坦化層と、転写によって形成された光鏡面反射防止層とがこの順に積層されてなることを特徴とする電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有するフィルタである。
【選択図】なし

Description

本発明は光学フィルタ、特に画像表示装置（ディスプレイ）の前面に配置するのに好適な、電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有するフィルタと、その製造方法に関する。

現在、電磁波遮蔽フィルタは、ディスプレイの前面に配置する用途などで使用されており、そのなかでも代表的にはプラズマディスプレイ（ＰＤＰともいう）用途がある。プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽フィルタにおいて、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた金属パターンとしてはメッシュ状のパターンが多く用いられている。金属パターン（ＥＭＩ遮蔽メッシュ）は、透明基材に金属箔を透明接着剤で貼り合せた後、フォトリソグラフィー法により金属箔をメッシュ状にケミカルエッチングして作ることができる。

また、ディスプレイ用フィルタには、電磁波遮蔽性とともに、外来光反射防止等の光学フィルタ機能が求められるが、金属パターンを形成した透明基材に反射防止剤を塗布すると、金属パターン層と透明基材との凹凸により、反射防止剤の塗りムラや気泡の混入が起こり、反射防止効果が不十分なものとなる。この問題を解決するために、金属パターン層と透明基材との凹凸を平坦化するための透明な平坦化層を塗工により設け、その上面に平坦化層よりも屈折率の低い反射防止層を塗工又はシート積層により設けることが提案されている（特許文献１）。

特開平１１−３３７７０２号公報

しかしながら、凹凸のある金属パターン層上に液状平坦化層を塗工すると、液状（流体）の平坦化層が固化するまでの間に、表面張力、粘性、レオロジー特性等の影響により、該金属パターンの凹凸が反映した凹凸が多少なりとも平坦化層表面に現われる。そのため、かかる凹凸残留表面に光反射防止層を形成すると僅かであるが該光反射防止層表面にも微小な凹凸乃至ウネリが生じ、該平坦化層上に、反射防止剤形成用の塗料を塗布した際に、該塗料が流動化して、形成された反射防止層表面が平坦化層表面の残留凹凸に追従するため、その程度によっては画像光に微妙な歪みを生じる場合があった。

そこで、本発明は、金属パターン層上に平坦化層及び光反射防止層を形成した光学フィルタであって、該光反射防止層表面に微小な凹凸乃至ウネリがなく、画像光に歪みを生じない光学フィルタを提供することを目的とする。
また、そのような光学フィルタの製造方法を提供することである。

本発明は、透明基材上に、金属パターン層と、透明樹脂からなり該金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である平坦化層と、転写によって形成された光鏡面反射防止層とがこの順に積層されてなることを特徴とする電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有するフィルタおよびその製造方法を提供する。

本発明においては、金属パターン層凹凸上に平坦化層を間に介して光鏡面反射防止層を転写によって形成する。
そのため、塗工した平坦化層表面に多少の凹凸乃至ウネリが残留していても、転写時の圧力が加わり、且つその状態で平坦面を持った固体である剥離性基材が押圧されるため、残留していた平坦化層の表面の凹凸が完全な平坦面に矯正される（平坦面が賦形される）。且つ光鏡面反射防止層も、予め離型性基材上に平滑で一定膜厚の固体状態で製膜済みのものを平坦化層上に転写、接着せしめる。その結果、得られるフィルタは、表面の微小な凹凸やウネリによる画像の歪みを生じることがない。勿論、光鏡面反射防止層を形成する時点で既に金属パターン表面の凹凸は平坦化層で埋められて気泡の残留はなく、残留気泡が原因の画像の曇りもない。
なお、更に平坦化層も転写によって光鏡面反射防止層と一緒に形成する実施形態を採用する場合には、平坦化層もまた転写時の加圧（場合によっては更に加熱）により流動状態となるので、剥離性基材による平坦面の賦形が容易となる。そのため、画像の曇り防止効果及び歪み防止効果がより一層良好に奏される。

本発明によって、金属パターン層上に平坦化層及び光反射防止層を形成した光学フィルタであって、該光反射防止層表面に微小な凹凸乃至ウネリがなく、金属パターン層表面に残留気泡もなく、表面画像光に歪みを生じず、画像の曇りもない光学フィルタが提供される。

図１は、本発明による光学フィルタの一形態の層構成を示す断面の概念図である。
同図の場合、透明基材１の一方の面に、金属パターン２が形成され、この金属パターン２は、透明接着剤層３によって透明基材１に接着固定され積層されている。透明接着剤層３は金属パターンの開口部も含めて透明基材１の全面に形成されている。
そして、本発明による光学フィルタは、金属パターン２の上に、透明樹脂からなり該金属パターンの凹凸を埋めてその表面が平坦面である平坦化層４と、光鏡面反射防止層５がこの順に積層されている。光鏡面反射防止層５、或いは、光鏡面反射防止層５及び平坦化層４は、転写法で形成する。なお、図１において、上方が観察者（視聴者）側であり、下方が画像表示装置側である。
以下、本発明の光学フィルタの構成につき、詳細に説明する。

［透明基材］
透明基材１は、可視領域での透明性（光透過性）、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すればよく、ガラス、セラミックス等の透明無機物の板、或いは樹脂板など板状体の剛直物でもよい。ただし、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、フレキシブルな樹脂フィルム（乃至シート）が好ましい。なお、ロール・トゥ・ロールとは、巻取（ロール）から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。

樹脂フィルム、樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エチレングリコール−１，４シクロヘキサンジメタノール−テレフタール酸共重合体、エチレングリコール−テレフタール酸−イソフタール酸共重合体などのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリプロピレン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等である。なかでも、ポリエチレンテレフタレートはその２軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい透明基材である。
透明無機物としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、鉛硝子等の硝子、或はＰＬＺＴ、石英等の透明セラミックス等である。

透明基材の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択し、フレキシブルな樹脂フィルムを利用する場合、例えば１２〜５００μｍ、好ましくは２５〜２００μｍ程度である。樹脂や透明無機物の板を利用する場合、例えば、５００〜５０００μｍ程度である。

なお、透明基材の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。
また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ったものでもよい。

［金属パターン］
金属パターン２は金属で形成したパターン層であり、該層自体は不透明であるが、開口部など該層の非形成部を設けたパターンとすることによって、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた層である。電磁波遮蔽性は各用途に応じて所望の程度とするが、例えばＰＤＰ前面フィルタ用途では、通常、ＭＨｚ〜ＧＨｚ帯域で３０ｄＢ程度以上の減衰率とする。そのためには、金属パターン層の表面電気抵抗で２Ω／□以下、より好ましくは０．１Ω／□以下とする。また、光透過性としては５０％程度以上、より好ましくは８０%以上とする。

金属パターン層を構成する金属としては、アルミニウム、金、銀、白金、銅、錫、鉄、ニッケル等の高導電率を有する各種金属が挙げられる。

なお、金属パターンは金属箔から形成するのではなく、透明基材上に金属を気相成長法、例えば真空蒸着法で形成した金属蒸着膜から形成したものを利用してもよい。

金属パターンの厚みは、電磁波遮蔽性能、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、より好ましくは８〜１５μｍである。厚みが薄いと電磁波遮蔽性能、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。

金属パターンの平面視のパターンの形状は、例えばメッシュ（格子）形状、ストライプ（縞）形状、スパイラル（螺旋）形状などの電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた公知のパターンである。なかでもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的であり、この他、格子形状で言えば例えば長方形格子、菱形格子、六角格子、三角格子などがある。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区画するライン部（線部又は線条部）となる。ライン部は通常、幅均一でライン状のものであり、また通常は開口部及び開口部間は、全て各々同一形状で同一サイズとなる。

なお、上記パターンは、ディスプレイ用途では、電磁波遮蔽フィルタの画像表示に影響しない四辺周辺部には、接地用導通の為に開口部を設けないベタパターンか、あっても占有面積比率が小さい接地領域を、開口部を有する内部の画像表示領域の周囲に有することがある。

パターンのライン部のライン幅は例えば５〜５０μｍ、本発明の効果がより際立つ点ではより細い５〜３０μｍであり、より好ましくは５〜２０μｍである。ラインの繰り返し周期であるライン間隔（ピッチ）は例えば１００〜５００μｍである。ただし、画像表示装置の画面用途の場合は、開口率は画像透視性の点から５０％程度以上、より好ましくは８０%以上とする。また、金属パターンの強度及び加工精度の点からは９６％程度以下とする。

（パターン形成）
金属パターンのパターンを形成するには、透明基材上に金属箔などパターン形成前の金属層を積層した後、ケミカルエッチングによって形成できる。
ケミカルエッチング時のレジストパターンのパターン形成はフォトリソグラフィー法（パターン露光法）、印刷法などの公知のパターン形成法を適宜選択すればよい。なかでも、フォトリソグラフィー法は印刷法に比べて、電磁波遮蔽フィルタに要求されるライン幅やその均一性など高精度で狭幅のパターンを安定的に形成できる点で好ましい方法である。

金属パターンをケミカルエッチングする際のエッチング液としては、公知のエッチング液を適宜選択使用すればよい。例えば、塩化第二鉄水溶液を含む酸性のエッチング液である。

（金属の酸化皮膜）
本発明の金属パターンは、防蝕性や防錆性の賦与等の目的で、その表面に金属の酸化皮膜を形成してもよい。
例えば、アルミニウムの酸化皮膜はアルミニウム酸化物を含む層であり、アルミニウムパターンをアルミニウム箔を利用して形成する場合、少なくとも２〜３Å程度のアルミニウムの酸化皮膜を箔の上面及び下面の表裏両面に存在させ、アルミニウム箔の内部に酸化乃至は腐食が進行することを防止することができる。なお、安定したケミカルエッチングが可能であるためには、アルミニウムの各酸化皮膜の厚みは１３Å以下であることが好ましい。

アルミニウムの酸化皮膜の厚みを上記のような薄い所定の厚みにするには、各種あるが、アルミニウムパターンにアルミニウム箔を利用する場合、アルミニウム箔は圧延法によって作られ、その後、焼鈍して製造されているが、圧延条件や焼鈍条件を調整することで、目的とする厚みに調整できる。

（黒化処理層）
本発明の金属パターンはその表面に黒化処理層を形成してもよい。
黒化処理層は、金属パターンやその表面の酸化皮膜による光反射を抑制することで、外光吸収、画像のコントラスト向上を図る層である。黒化処理層は外光吸収、画像のコントラスト向上が必要な場合に設ける。黒化処理層は金属パターンの表面、表面に酸化皮膜がある場合はその皮膜表面に設けて、その光反射率を低下させる層である。

ここで表面は上面、下面、側面などの面をいう。黒化処理して黒化処理層を形成する表面としては、上面のみ、上面と両側側面、下面のみ、上面と両側側面と下面の全ての表面など、要求に応じた面とすればよいのは公知の黒化処理と同じである。このうち、金属パターン層の表面のうち透明接着剤層存在下で透明接着剤に接する面が下面である。下面の反対側の面が上面である。また、電磁波遮蔽フィルタをその上面側を観察者側にして使用するには、少なくとも上面については黒化処理層を形成するのが好ましく、更に好ましくは両側側面、画像表示素子側となる下面についても黒化処理層を形成するのがよい。

黒化処理層としては、電磁波遮蔽フィルタにおいて、公知のものを適宜採用すればよい。例えば、金属パターンが銅の場合は、酸化銅、銅−コバルト合金、黒色ニッケル等が、金属パターンが鉄の場合は、黒色酸化鉄等が用いられ、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。一般に、該黒化層は平均粒子径１μｍ程度以下の微粒子或いは微小な針状の形態で形成される。

（防錆層）
本発明の金属パターンはその表面に、従来公知の防錆層を形成してもよい。防錆層としては、例えば、銅の金属パターンの場合は、クロム、亜鉛、ニッケル等から選ばれた１種以上の金属を含む皮膜が用いられる。代表的なものとしては所謂クロメート処理で形成した防錆層が挙げられる。
また、鉄の金属パターンの場合は、防錆層としては、亜鉛、錫、或いは四三酸化鉄（Ｆｅ₃Ｏ₄）の皮膜が用いられる。
アルミニウムの金属パターンの場合は、前記のアルミニウム酸化皮膜が防錆層として用いることができる。

［透明接着剤層］
透明接着剤層３は、金属パターンを透明基材に固定するための層であり、例えば、金属パターンを金属箔から形成する場合に、金属箔を透明基材に接着固定するために使用される。なお、透明接着剤層は、金属パターンを金属蒸着で透明基材上に直接積層した金属層から形成する場合には省略できる。

透明接着剤層としては、金属パターンの開口部による光透過性を阻害しないように、透明な接着剤であればよく、公知の透明な接着剤を適宜使用すればよい。例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤などである。なかでも、ウレタン系接着剤、例えば２液硬化型ウレタン系接着剤は、接着力などの点で好ましい。２液硬化型ウレタン系接着剤としては、ポリオールを主剤とし、これに硬化剤としてポリイソシアネート化合物を用いた接着剤を使用できる。ポリオールは、例えば、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリウレタンポリオールなどである。また、ポリイソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート系、キシリレンジイソシアネート系、ジフェニルメタンジイソシアネート系、ナフタレンジイソシアネート系等の芳香族イソシアネート化合物、ヘキサメチレンジイソシアネート系、水素添加トリレンジイソシアネート系、イソホロンジイソシアネート系等の脂肪族乃至脂環式イソシアネート化合物などである。これらイソシアネート化合物は、多量体、或いは付加体の形で用いることもできる。ポリオール、ポリイソシアネート化合物は、各々複数種使用してもよい。

透明接着剤層は、透明な接着剤を金属箔、透明基材のいずれか又は両方に公知の形成法によって施した後、これらを接着剤を介するように積層することで形成できる。該形成法は、塗工法、印刷法などである。

［平坦化層］
金属パターン層は凹凸表面（開口部が凹、線條部が凸）をなす。そして、光鏡面反射防止層を形成する材料は、一般的に、凹凸を充填して表面を平坦化する性能には乏しい為、金属パターン層上に直接、光鏡面反射防止層を形成すると、該金属パターン層の凹凸を該光鏡面反射防止層が完全に充填しない場合には、該光鏡面反射防止層表面に残留した凹凸が画像光を散乱する。又、該光鏡面反射防止層が完全に金属パターン層の凹凸を充填し切れた場合であっても、該金属パターン層の凹部内の空気が十分に置換されずに残留し、気泡となって画像光を散乱して、画像に曇りを生じ、又画像の明暗コントラストの低下、画像端部の輪郭の不鮮明化等の画質低下をもたらす。これを防止する為に、金属パターン層と光鏡面反射防止層との間に平坦化層４を介在させる。

平坦化層４は、金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である層であり、透明な樹脂からなる。該樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等のなかから適宜選択する。
熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、セルロース系樹脂、ポリオレフィン樹脂等が用いられる。
ここで、アクリル樹脂としては、例えば、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート−エチル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−ブチル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−スチレン共重合体、メチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシ３フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート共重合体、メチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート−スチレン共重合体等が挙げられる（なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する）。
熱可塑性ポリエステル樹脂としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、１，４シクロヘキサンジメタノール等の多価アルコールと、テレフタール酸、イソフタール酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸等の多塩基酸とを縮重合させたものが挙げられる。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体としては、例えば、酢酸ビニル含有量が５〜２０質量％程度、平均重合度３５０〜９００程度の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が挙げられる。なお、必要に応じ、更にマレイン酸、フマル酸、（メタ）アクリル酸等のカルボン酸を共重合させたものでもよい。
セルロース系樹脂としては、例えば、ニトロセルロース（硝化綿）、酢酸セルロース、セルロースアセテートプロピオネート等が挙げられる。
ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状ポリオレフィン等が挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性ウレタン樹脂、熱硬化性の不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂当が用いられる。
ここで、ウレタン樹脂としては、例えば、（多価）ポリオールと（多価）イソシアネートとを反応させてなるから成るものである。（多価）ポリオールとしては、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリウレタンポリオール等が挙げられる。（多価）イソシアネートとしては、２，４トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、１，６ヘキサメチレンジイソシアネート、水添トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートの脂肪族（乃至脂環式）イソシアネートが挙げられる。
電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー（単量体）、或いはプレポリマーやオリゴマーが用いられる。モノマーとしては、例えば、ラジカル重合性モノマー、具体的には、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートが挙げられる。その他、カチオン重合性官能基を有するモノマー、例えば、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート等の脂環式エポキシド類、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル等グリシジルエーテル類、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル等ビニルエーテル類、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン等オキセタン類等が挙げられる。
また、プレポリマー（乃至はオリゴマー）としては、例えば、ラジカル重合性プレポリマー、具体的には、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、トリアジン（メタ）アクリレート、等の各種（メタ）アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオール系プレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマー、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。
これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、１種類単独で用いる他、モノマーを２種類以上混合したり、プレポリマーを２種類以上混合したり、或いはモノマー１種類以上とプレポリマー１種類以上とを混合して用いたりすることができる。
光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系等の化合物が、また、カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び／又はプレポリマーからなる組成物１００重量部に対して０．１〜５重量部程度添加する。
なお、電離放射線としては、紫外線又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、Ｘ線、γ線等の電磁波、或いはα線、各種イオン線等の荷電粒子線を用いることもできる。

これら平坦化層の構成材料中には、必要に応じて適宜添加剤を添加することができる。該添加剤としては、例えば、熱安定剤、ラジカル捕捉剤、可塑剤、界面活性剤、レベリング剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、色素（着色染料、着色顔料）、体質顔料、光拡散剤等が挙げられる。

平坦化層の厚みは、金属パターン層の凹凸を埋めてその表面を平坦面とせしめる為に、その最大厚みである該金属パターン開口部における厚みが、該金属パターン層の厚みと同等以上、より好ましくは、該金属パターン層の厚みよりも１〜２０μｍ程度厚くなるように設定する。

（形成法）
平坦化層の形成方法は、通常は、上記樹脂を、金属パターン層の凹凸を充填し得る程度に軟化させるか乃至は流動性を付与せしめる。より好ましくは、液状物とした状態で、透明基材上に形成された金属パターン層と光鏡面反射防止層との間に位置して、該金属パターン層の凹凸を充填するように塗工する。なお、ここで云う流動性としては、Ｎｅｗｔｏｎ粘性には限らず、ダイラタンシー或いはティキソトロピーの非Ｎｅｗｔｏｎ粘性であってもよい。粘度についても金属パターン層の凹凸を充填し得るに足る粘度であればよく、塗工或いは転写（平坦化層を転写で形成する場合）時の加工条件や該凹凸の程度に応じて適宜調整する。
塗工対象は、金属パターン層の凹凸側にのみ塗工、光鏡面反射防止層側にのみ塗工、或いは金属パターン層の凹凸側上及び光鏡面反射防止層側の両方に分割して塗工のいずれも可能である。塗工後、該液状物の塗膜を固体化乃至硬化せしめて平坦化層を形成する。
その他、別途、転写シート上に予め塗工形成しておいた平坦化層を、単独で或いは光鏡面反射防止層と一緒に、金属パターン層上に転写して形成する形態も選択できる。

金属パターン層の凹凸面上に平坦化層を、直接塗工して、形成する形態においては、それ自体が室温にて液状の単量体又はプレポリマーの場合は、それを塗工用液とし、必要に応じて、有機溶剤等の希釈剤にて適正な粘度に希釈する。かかる塗工用液を金属パターン層上に塗工し、しかる後、もし溶剤希釈してある場合は該溶剤を乾燥除去した上で、加熱、電離放射線照射等により、該単量体又はプレポリマーを架橋乃至重合して硬化（固体化）せしめて平坦化層とする。上記熱硬化性樹脂、及び電離放射線硬化性樹脂の場合は、専ら、この形態による。塗工法としては、ロールコート、グラビアロールコート、バーコート、カーテンフローコート、ダイコート、コンマコート、スプレーコート等を適用する。
それ自体が室温にて固体の高分子重合体からなる樹脂の場合は、これを融点乃至溶融温度以上に加熱して液状物化せしめるか、もしくは有機溶剤により溶液化する。かかる液状物又は溶液を金属パターン層上に塗工し、しかる後、融点乃至溶融温度以下に冷却もしくは溶剤を乾燥除去して固体化せしめ、平坦化層とする。上記熱可塑性樹脂の場合は、専ら、この形態による。熱可塑性樹脂を溶融して用いる場合の塗工法としては、Ｔダイからの溶融押出し塗工法が代表的なものである。
一方、金属パターン層の凹凸面上に平坦化層を、転写して、形成する形態においては、後述の如き剥離基材上に、予め転写層として平坦化層を塗工形成した構成の転写シートを用意しておく。次いで、該転写シートの平坦化層側の面が金属パターン層側に当接する向きで、該転写シートを金属パターン層上に圧着する。そして、該平坦化層がその時点において流動性を有する場合は、その状態のままで、また該平坦化層がその時点において流動性がない場合は、該平坦化層を加熱し、軟化或いは溶融等の方法により流動化せしめる。次いで、該流動性の平坦化層を金属パターン層の凹凸内に充填させ、該凹凸内の空気と置換せしめる。なお、この過程の間、平坦化層の金属パターン側とは反対側面は、剥離基材の平坦面と接触し、変形を規制されるため、平坦面に保たれる。しかる後、該平坦化層を金属パターン層側に残し、該剥離基材のみを剥離除去する。
なお、この転写形態において、剥離基材上に、転写層として更に光鏡面反射防止層も形成しておき；
剥離基材／光鏡面反射防止層／平坦化層
の構成としておけば、金属パターン層上に平坦化層と同時に光鏡面反射防止層も形成することができ、好ましい。なお、かかる転写形態では、平坦化層が転写層を被転写体に接着する接着剤層としても機能する。

［光鏡面反射防止層］
光鏡面反射防止層５は、日光、電灯光等の外来光が画像表示装置（の前面に設置する光学フィルタの視聴者側）前面において鏡面反射して視聴者に目に入ることによって、画面上に外来光源の像が映り込んだり、画像が白化したり、或いは画像の明暗コントラストが低下することを防止するための層である。当該光鏡面反射防止層は、下記防眩層又は反射防止層のいずれかを選択する。或いは、両者を併用して設けることもできる。

（防眩層）
防眩層（ＡｎｔｉＧｌａｒｅ層、略称してＡＧ層）は、外来光を散乱もしくは拡散させるために、光の入射面を粗面化するか、或いは層内に光拡散性粒子を分散してなるものである。この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面に直接微細凹凸を形成して粗面化する方法；基体表面に放射線、熱のいずれかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂バインダ中に、光拡散性粒子としてシリカなどの無機充填剤や、樹脂粒子などの有機充填剤を含有させて塗膜表面に充填剤に対応する微小凹凸を突出させた塗膜により粗面化層を設ける方法；及び基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法等を挙げることができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、下記ハードコート層と同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適に使用される。
また、層内に光拡散性粒子を分散させた形態の場合は、塗膜中に分散させた前記充填剤と塗膜バインダー樹脂との間に屈折率差（好ましくは、０．１４以上）を有するように材料を選定する。この形態の場合は、塗膜表面は平坦面（平滑面）であってもよい。
防眩層の厚みは特に限定されるものではないが、０．０７μｍ以上２０μｍ以下が好ましい。
また、該防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、Ｓｍが６０〜２５０μｍであり、θａが０．３度〜１．０度であり、且つＲｚが０．３〜１．０μｍであることが好ましい。
なお、上記Ｓｍ、θａ及びＲｚはＪＩＳＢ０６０１１９９４に準拠し、例えば、表面粗さ測定器（（株）小坂研究所製「ＳＥ−３４００」）で測定し得るものである。

（反射防止層）
反射防止層（ＡｎｔｉＲｅｆｌｅｃｔｉｏｎ層、略称してＡＲ層）は、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、該低屈折率層が最上層に位置するように交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法も利用して形成することができる。
なお、ここで高（低）屈折率層とは、該層と隣接する層（例えば、平坦化層或いは低（高）屈折率層）と比較して該層の屈折率が相対的に高（低）いという意味である。
反射防止層に更に耐擦傷機能を付与する場合には、下記耐擦傷機能（ハードコート）層の項で記載するような硬度の高い材料を適宜用いて形成する。

反射防止効果の程度は、通常、可視光線波長帯域における光反射率（視感反射率）が２％以下、より好ましくは１％以下とされる。反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、原理上、直下の層の屈折率の平方根に設定することが好ましい。例えば、直下の層が屈折率１．５０であれば低屈折率層の屈折率は１．２３、又直下の層が屈折率２．１０であれば低屈折率層の屈折率は１．４５である。この値に完全一致はできないとしても極力この値に近づけるように設計する。
かかる低屈折率を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．３６）、ＭｇＦ₂（屈折率ｎ＝１．３８）、３ＮａＦ・ＡｌＦ₃ （屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ３（屈折率ｎ＝１．３７）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（屈折率ｎ＝１．３３）、ＮａＦ（屈折率ｎ＝１．３３）、ＣａＦ₂（屈折率ｎ＝１．４４）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ₂（屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。

また、低屈折率層には、空隙を有する微粒子を用いてもよい。空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。空隙を有する微粒子は、無機物、有機物のいずれでもあってよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂からなるものが挙げられ、好ましくは、酸化ケイ素（シリカ）微粒子が挙げられる。

さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ₂として０．５〜５０質量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。低屈折率層の好ましい態様によれば、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。

低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法で、高屈折率層、平坦化層等の所定の層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。或いは、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法（乃至ドライコーティング法）により低屈折率層を設けることもできる。

高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダ樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ₂（屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ₂（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ₂（屈折率ｎ＝１．９５）又はＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また近赤外線遮蔽の効果も得ることができる、Ｃｓ_0.33ＷＯ₃（セシウム含有酸化タングステン（屈折率ｎ＝２．５〜２．６）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ₂Ｏ₃（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ₂（屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ₂Ｏ₃（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの微粒子は単独又は混合して使用され、有機溶剤又は水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。

高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等のウェットコーティングで基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。或いは、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法（乃至ドライコーティング法）により高屈折率層を設けることもできる。
低屈折率層の厚みは特に限定されるものではないが、通常、低屈折率層の屈折率と厚みの積が反射率を最小化すべき可視光線の波長（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の１／４程度（９５〜１９５ｎｍ）とする。

（耐擦傷機能層）
耐擦傷機能（ハードコート）層は、ＪＩＳＫ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであることが好ましく、このような硬度と上記透明（樹脂）基材と同様な透明性を実現できるものであれば、材料は特に限定されない。
耐擦傷機能（ハードコート）層は、通常樹脂硬化層として形成される。形成する位置及び形態としては、上記光鏡面反射防止層の構成層の何れかを兼用するか、或いは上記光鏡面反射防止層と平坦化層との間に独立した別層として形成する。
用いる硬化性樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂、その他公知の硬化性樹脂などを要求性能などに応じて適宜採用すればよい。電離放射線硬化性樹脂としては、アクリレート系、オキセタン系、シリコーン系などが挙げられる。例えば、アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂は、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から２種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成することができる。
耐擦傷機能（ハードコート）は上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して上記平坦化層或いは転写シート上に担持された状態の（転写前の）光鏡面反射防止層上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。
耐擦傷機能層の厚みは特に限定されるものではないが、１．０μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは３．０μｍ以上５μｍ以下である。

［光鏡面反射防止層の形成法］
平坦化層上への光鏡面反射防止層の形成法は、転写シート上から光鏡面反射防止層を転写する方法による。また、転写シート上の光鏡面反射防止層の上に平坦化層を形成し、両層を金属パターン層上に同時に転写形成してもよい。
以下、転写法について説明する

［転写シート］
本発明では、剥離性基材上に光鏡面反射防止層、或いは光鏡面反射防止層及び平坦化層を剥離可能に積層してなる転写シートを用いることができる。
（転写法）
予め金属パターン層上に形成された平坦化層上に光鏡面反射防止層を転写するには、先ず、該平坦化層表面に、該転写シートの光鏡面反射防止層形成側を当接して加圧し、該転写シートと該平坦化層とを積層する。該加圧のみ、或いは接着剤層乃至平坦化層の材料に応じて、更に適宜、加熱、電離放射線照射等により、該光鏡面反射防止層と該平坦化層とを、間に接着剤層を介するか或いは介さないで、接着せしめる。しかる後、該剥離性基材のみを剥離除去し、該光鏡面反射防止層を該平坦化層上に残留、接着せしめる。
また、剥離性基材上に光鏡面反射防止層及び平坦化層を積層した転写シートを得、これを金属パターン層上に各種転写法により転写してもよい。転写後、剥離性基材を離型層とともに剥離し、金属パターン層の凹凸に平坦化層が埋め込まれた光鏡面反射防止層付きのフィルタを得ることができる。

（剥離性基材）
適宜の基材シートからなる。必要に応じて、転写層との剥離性（離型性ともいう）を確保する為に、転写層側に離型層を形成することが好ましい。
基材シートは、適度な強度と応力に対する寸法安定性（弾性率）、耐熱性（特に転写時に加熱する場合）、及び表面平滑性の高いものを選択する。厚さ２０〜１００μｍ程度の樹脂シート、或いは坪量２０〜１００ｇ／ｍ²の紙が用いられる。該樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂が挙げられる。紙としては上質紙、パーチメント紙、グラシン紙、硫酸紙等で地合のできるだけ均一なものが用いられる。
離型層は、基材シート自体では光鏡面反射防止層（転写層）との剥離性が不足する場合に形成される。離型層は、基材シートとの密着性が高く、且つ転写層との剥離性の高い材料を選定する。
剥離層の材料としては、メラミン樹脂、シリコン樹脂、ポリオレフィン樹脂等が用いられる。必要に応じて、これにワックス、フッ素樹脂等からなる離型剤を添加する。離型層の厚さは、通常、０．１〜５μｍ程度である。

（転写層）
剥離性基材側から平坦化層側に転写する層である。少なくとも該光鏡面反射防止層からなる。その他、必要に応じて、接着剤層、その他転写層を含んでもよいが、剥離性基材と接する側、即ち転写後に最外層になる側に光鏡面反射防止層を位置せしめる。
転写層の１要素としての接着剤層は、該光鏡面反射防止層と該平坦化層との両方に対して接着性を持つ材料からなる。
接着剤層の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂として、平坦化層のところで例示したものと同様のものの中から選択した、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、熱可塑性ポリエステル樹脂等が使用できる。その他、熱硬化性樹脂、或いは電離放射線硬化性樹脂を使用することもできる。該接着剤層中には、必要に応じて、ベンゾトリアゾール系化合物等の酸化防止剤を添加することにより、金属パターン層の酸化（錆）を防止する。
接着剤層の厚みは、通常、１〜３０μｍ程度である。
なお、接着剤層の形成形態は、次３形態がある。
（１）転写層としては形成せずに、予め金属パターン上に形成済みの平坦化層上に接着剤層を別途塗工する。そして、平坦化層上の接着剤層上に、光鏡面反射防止層を転写法により、形成する。
また、該光鏡面反射防止層自体が平坦化層に対して十分な接着力を有する場合には、接着剤層は省略することができる。
（２）予め、転写シート上に転写層として接着剤層を形成しておく。一方、金属パターン層上には予め平坦化層は形成しておく。その状態にて、該平坦化層上に該転写シートから接着剤層を転写する。なお、転写シート上に、転写層として接着剤層と光鏡面反射防止層の両方を形成しておくと、１転写工程で、接着剤層の形成と光鏡面反射防止層の形成を同時に行うことができる。なお、この場合も、該光鏡面反射防止層自体が平坦化層に対して十分な接着力を有する場合には、接着剤層は省略することができる。
（３）予め、転写シート上に転写層として平坦化層としても機能し得る接着剤層（平坦化層及び接着剤層兼用層）を形成しておく。一方、金属パターン層上には平坦化層は未形成とする。その状態にて、該金属パターン層上に該転写シートから該接着剤層を転写する。接着の際に、該接着剤層を加熱等によって流動性を付与せしめ、金属パターン層の凹凸内に該接着剤層を充填し、該接着剤層の表面が平坦化して後、該接着剤層を固化せしめる。かくすることにより、金属パターン層上に、接着剤層形成と同時に平坦化層も形成が完了する。なお、この形態においても、転写シート上に、転写層として接着剤層及び平坦化層兼用層と光鏡面反射防止層の両方を形成しておくと、１転写工程で、平坦化層の形成、接着剤層の形成、及び光鏡面反射防止層の形成を同時に行うことができる。
必要に応じて設けるその他転写層としては、例えば、適宜樹脂中に近赤外線吸收剤、紫外線吸收剤、ネオン光吸收剤、各種着色色素、帯電防止剤等の機能性材料を含む層であり、これらは各々、近赤外線吸収層等として機能する。或いは、これらの機能性材料を含む層を独立層として設けるのではなく、接着剤層（或いは平坦化層及び接着剤層兼用層）中にこれら機能性材料を添加して該接着剤層にこれら機能を付与せしめることもできる。

なお、平坦化層は、光鏡面反射防止層及び（必要に応じて設けられる）その他転写層の上に設けて転写層の最外層とすることができる。このような転写シートに熱転写法を適用することにより転写層が金属パターン層上に転写され、金属パターン層の凹凸に平坦化層が埋め込まれた光鏡面反射防止層付きのフィルタが得られる。

かかる転写シートは、所望の寸法形状に裁断された枚葉形態、或いは巻取に巻き取られた連続帯状の形態のいずれも可能である。

本発明の光学フィルタは、各種用途に使用可能である。特に、テレビジョン受像装置、各種測定機器や計器類の表示部、各種事務用機器や電算機器の表示部、電話機等に用いられるプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管ディスプレイ（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、電場発光ディスプレイ（ＥＬ）などの画像表示装置の前面フィルタ用として好適であり、特にプラズマディスプレイ用として好適である。また、その他、建築物の窓、車両、船舶、航空機、或いは電子レンジの窓等の電磁波遮蔽用途にも使用可能である。

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例により何ら限定されるものではない。

［実施例１］
（銅メッシュ作製）
先ず、金属パターンとする金属箔として、厚み１０μｍの連続帯状の電解銅箔を用意した。この銅箔の両面に銅―コバルト合金微粒子からなる黒化層を形成した。
また、透明基材として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、連続帯状の無着色透明な厚み１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
次いで、上記透明基材のプライマー層面と、上記金属箔の光沢面とを、透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤（主剤として平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部に対して、硬化剤としてキシリレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部を含む）でドライラミネートした後、５０℃で３日間養生して、金属箔と透明基材間に厚み７μｍの透明接着剤層を有する連続帯状の銅箔積層シートを得た。
次いで、上記銅箔積層シートの銅箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行い、開口部及びライン部とからなるメッシュ状領域、及びメッシュ状領域を囲繞する外縁部に額縁状の開口部非形成の接地用領域を有する銅パターンを形成した。
上記エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対して、マスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートの銅箔面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュの開口部に相当する領域上にレジスト層が非形成となったレジストパターンを形成した後、レジスト層非形成部の銅箔を、塩化第二鉄を含む酸性水溶液のエッチング液でエッチングして除去して、メッシュ状の開口部を有した銅パターンを形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
メッシュ状領域（画像表示領域）のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状のライン部のライン幅は１０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは１０μｍ、長方形の枚葉シートに切断した場合に、該ライン部と該長方形の長辺とが構成する劣角として定義されるバイアス角度は４９度であった。このようにして、幅寸法６０５ｍｍの電磁波遮蔽フィルタの中間体を得て、ロール状に巻き取った。

（ＡＲ転写シートの作製）
離型基材の準備：
片面にメラミン樹脂系の離型層が形成された幅１０００ｍｍで厚さ１００μｍの長尺２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用意した。
反射防止層の形成：
反射防止層を構成する低屈折率層形成用組成物として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１．９５質量部に、光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア１８４」］０．１質量部を添加し、次いで処理シリカゾル含有溶液［空隙を有する微粒子（平均粒子径６０nm）、シリカゾル固形分２０質量％、溶媒；メチルイソブチルケトン］１２．３質量部、及びシリカ粒子含有溶液［ナカライテスク社製、商品名「ｓｉｃａｓｔａｒ」、巨大粒子（平均粒子径１００nm）、シリカ粒子固形分２０質量％、溶媒；メチルイソブチルケトン］１．２３質量部を混合したのち、メチルイソブチルケトン８３．５質量部を加えて、紫外線硬化性樹脂組成物の形態の低屈折率層形成用塗工液を調製した。
該ＰＥＴフィルムの離型層上記低屈折率層形成用塗工液を、乾燥重量０．１ｇ／ｍ²塗布（バーコーティング）し、次いで、４０℃にて６０秒間乾燥した。その後、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射を行うことにより硬化せしめて低屈折率層となし、反射防止層を連続的に形成した。
なお、該低屈折率層の硬化後の膜厚は、９０ｎｍ、屈折率が１．４４になるように形成した。
次いでウレタンアクリレートプレポリマーと１，６ヘキサンジオールジアクリレートとを混合した組成物１００質量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５質量部、メチルセロソルブ３００質量部を混合し均一化した電離放射線硬化性樹脂から成るコーティング剤を、該反射防止層（低屈折率層）上に、ロールコーター法により塗布し、８０℃で乾燥後、８０Ｗの高圧水銀灯照射し、３μｍ厚さのハードコート層を形成した。
前記ハードコート層の上に、平均分子量１０００００、ガラス転移温度８０℃の熱可塑性ポリエステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチルエチルケトン５０部からなる溶液をリバースロールコーティング法にて連続的に５０ｍ／分で塗布、乾燥し厚さ２５μｍの接着層（平坦化層兼用）を形成して、反射防止用転写シートを得た。

（メッシュ上へのＡＲ層作製）
このようにして得た反射防止用転写シートを、上記メッシュ上に熱転写法により転写した該転写シートの接着剤層側を該電磁波遮蔽フィルムのメッシュ側に対峙させて当接し、表面を１４０℃に加熱したシリコンゴムロール（鉄芯有り）にて加圧し、同時に加熱した。溶融した該接着剤層を該メッシュ凹部内に充填してのち、室温（２３℃）雰囲気中で冷却して、該接着剤層を固化せしめると共に、該接着剤層の表面に該ＰＥＴフィルム表面の平坦面を賦形して、冷却固化した該接着剤層表面（ハードコート層界面）を平坦面とせしめた。即ち、この場合、該接着剤層が平坦化層として機能していた。しかる後に該ＰＥＴフィルムを離型層とともに剥離し、反射防止層付きのメッシュからなる実施例１の光学フィルタを作製した。
得られた光学フィルタを、該ＡＲ層を最外面となるように平坦なガラス板（厚さ１０ｍｍ）上に、厚さ５μｍのアクリル系無色透明粘着劑層を介して貼着して、該表面を目視観察した。その結果、特に表面歪み、気泡に起因する白化は認められなかった。

［比較例１］
実施例１において、該メッシュ上に、実施例１と同様の接着層（平坦化層兼用）形成用組成物を、バーコータを用いて、乾燥時膜厚が２５μｍ（メッシュ開口部における厚み）になるように塗工して、接着剤層兼平坦化層を形成した。しかる後、実施例１と同様の低屈折率層形成用組成物及びハードコート層形成用組成物を、実施例１と同様の膜厚で塗工して、ハードコート層及び低屈折率層を形成して、比較例１の光学フィルタを作製した。
得られた光学フィルタを、実施例１と同条件にて、該表面を目視観察した。その結果、表面歪みを認め、また気泡に起因する白化を認めた。

本発明の光学フィルタの一例を示す模式的な断面図である。

符号の説明

１透明基材
２金属パターン
３透明接着剤層
４平坦化層
５光鏡面反射防止層

Claims

透明基材上に、金属パターン層と、透明樹脂からなり該金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である平坦化層と、転写によって形成された光鏡面反射防止層とがこの順に積層されてなることを特徴とする電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有するフィルタ。
透明基材の一方の面に金属パターン層と光鏡面反射防止層とが形成されてなる電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有するフィルタの製造方法であって、
透明基材上に、金属からなる所定のパターン層を形成する金属パターン層形成工程と、
前記金属パターン層形成工程後、剥離性基材上に光鏡面反射防止層を剥離可能に積層してなる転写シートを準備し、該金属パターン層の凹凸を埋めてその表面が平坦面である平坦化層を間に介して、該転写シートをその光鏡面反射防止層側を金属パターン層側に対面する向きで重ねることで、該金属パターン層及び該平坦化層上に該光鏡面反射防止層を積層せしめ、該剥離性基材を剥離除去する光鏡面反射防止層転写工程とを有することを特徴とする、請求項１に記載の電磁波遮蔽性と光鏡面反射防止性とを有するフィルタの製造方法。