TWI630677B - 處理設備 - Google Patents

Abstract

本發明之處理設備構造成在容器支撐體支撐有容器之狀態下，容器側接合面與支撐體側接合面接合，供給孔或排出孔與連通孔可連通，容器側接合面中至少連通孔之周圍形成平坦，支撐體側接合面呈隨著遠離供給孔或排出孔而逐漸向下之形狀。

Description

處理設備 發明領域

本發明是有關於一種處理設備，該處理設備具有容器、容器支撐體、容器側連接部、及支撐體側連接部，該容器收容收容物；該容器支撐體將前述容器在對位於設定位置之狀態下從下方支撐；該容器側連接部設於前述容器之底部，並具有可將容器內空間與外部之間連通之連通孔；該支撐體側連接部設於前述容器支撐體，具有用以進行對前述容器內空間之氣體之供給的供給孔或用以進行來自前述容器內空間之氣體之排出的排出孔；該處理設備並構造成在前述容器被支撐於前述容器支撐體之載置狀態下，為前述容器側連接部之下表面之容器側接合面與為前述支撐體側連接部之上表面之支撐體側接合面接合，前述供給孔或前述排出孔與前述連通孔可連通。

發明背景

此處理設備之一例有沖洗設備，該沖洗設備構造成為了在用以收容半導體晶圓之FOUP等容器以容器支撐體支撐之載置狀態下，防止收容於容器內之半導體晶圓之 污損，而進行對容器內空間之沖洗用氣體之供給或進行從容器空間內排出污染氣體(例如參照日本專利公開公報2010-147451號(專利文獻1))。

在專利文獻1之沖洗設備，支撐體側連接部於上端部具有平面觀看圓形之供氣排氣用供給排出孔，於該供給排出孔周圍形成有越遠離該供給排出孔越往下之側面觀看直線狀傾斜面。又，容器側連接部具有連通容器內空間與外部之連通孔、設於連通孔之周圍並形成在載置狀態下在側面觀看以複數個點接觸支撐體側連接部之傾斜面的形狀之彈性構件製密封部。因而，在載置狀態下，容器側連接部之密封部在側面觀看以複數個點抵接支撐體側連接部之傾斜面且密封部因容器之自身重量而被壓制於支撐體側連接部而變形，而可密封成沖洗用氣體等氣體不致從支撐體側連接部與容器側連接部之接合部漏出至外部。

發明概要

如上述專利文獻1般構成容器側連接部及支撐體側連接部時，需將容器側連接部之密封部形成為在載置狀態下在側面觀看以複數個點抵接傾斜面之形狀，容器側連接體之結構複雜。

是故，考慮將支撐體側連接體及容器側連接部形成為將支撐體側接合面之供給孔或排出孔之周圍及容器側接合面之連通孔之周圍皆形成為平坦面，而在載置狀態下，容 器側連接部之平坦面部與支撐體側連接體之平坦面部形成為面接觸之狀態。

然而，由於此種結構支撐體側連接部與容器側連接部之接觸面積大，故有產生下述弊端之虞，前述弊端是令容器為長時間載置狀態時，支撐體側連接體與容器側連接部吸住，為了使容器從容器支撐體移動至其他處理用場所等，而解除載置狀態時，對支撐體側連接體或容器側連接部其中一者或兩者施加過大之力而變形。

是故，期望實現容器側連接體之結構簡單且可抑制發生支撐體側連接部與容器側連接部吸住之情況的處理設備。

本發明之處理設備具有以下：容器、容器支撐體、容器側連接部、及支撐體側連接部，該容器收容收容物；該容器支撐體將前述容器在對位於設定位置之狀態下從下方支撐；該容器側連接部設於前述容器之底部，並具有可將容器內空間與外部之間連通之連通孔；該支撐體側連接部設於前述容器支撐體，具有用以進行對前述容器內空間之氣體之供給的供給孔或用以進行來自前述容器內空間之氣體之排出的排出孔；在此，該處理設備構造成在前述容器被支撐於前述容器支撐體之載置狀態下，為前述容器側連接部之下表面之容器側接合面與為前述支撐體側連接部之上表面之支撐體側接合面接合，前述供給孔或前述排出孔與前述連通孔可連通，前述容器側接合面中至少前述連通孔之周圍形成平坦；前述支撐體側接合面呈隨著遠 離前述供給孔或前述排出孔而逐漸向下之形狀。

根據此結構，在容器支撐於容器支撐體之載置狀態下，容器側接合面與支撐體側接合面形成為供給孔或排出孔與連通孔之連通部份之周圍接合的狀態，而可密封為氣體不致從支撐體側連接部與容器側連接部之接合部漏出至外部。

此時，由於支撐體側接合面為隨著遠離供給孔或排出孔而逐漸向下之形狀，故形成為越遠離供給孔或排出孔與連通孔之連通部份，容器側接合面與支撐體側接合面越拉開間隔之狀態。因此，可縮小容器側接合面與支撐體側接合面接合之面積，即使使容器長時間支撐於容器支撐體，亦可抑制支撐體側連接體與容器側連接部吸住之情況。

如此，可實現容器側連接體之結構簡單且可抑制發生支撐體側連接體與容器側連接部吸住之情況的處理設備。

以下，就本發明之較佳之實施形態之例作說明。

在本發明之處理設備之實施形態中，前述支撐體側接合面宜呈依循球面之形狀。

根據此結構，由於支撐體側接合面為依循球面之形狀，故在供給孔或排出孔與連通孔之連通部份的周圍，支撐體側接合面與容器側接合面靠近。

此外，一比較例是，支撐體接合面為隨著遠離供給孔或前述排出孔以直線狀向下之形狀時，容器側接合面與支撐體側接合面之接合部份在供給孔或排出孔與連通孔之連 通部份之周圍，僅限於形成為徑方向之厚度小之環狀。相對於此，支撐體側接合面形成為依循球面之形狀時，可使容器側接合面與支撐體側接合面之接合部份的徑方向之厚度較上述比較例大。因此，可適當地密封為氣體不致從支撐體側連接部與容器側連接部之接合部漏出至外部。

在本發明之處理設備之實施形態中，宜於前述支撐體側連接部與前述容器支撐體之間夾有彈性構件，前述支撐體側連接部以彈性係數大於前述彈性構件之材質構成。

根據此結構，由於呈載置狀態時，彈性構件彈性變形，故可使容器穩定地支撐於容器支撐體，並且可適當地使容器側接合面與支撐體側接合面接合。

又，在載置狀態下，當容器振動時，藉彈性構件彈性變形，可維持在容器側接合面與支撐體側接合面接合之狀態。

如此，藉彈性構件彈性變形，可適當地密封為氣體不致從支撐體側連接部與容器側連接部之接合部漏出至外部。

在本發明之處理設備之實施形態中，宜於前述支撐體側連接部之周圍設有用以將該支撐體側連接部之水平方向及上下方向之移動限制在預先規定之範圍內的限制構件。

根據此結構，藉將支撐體側連接部在將其水平方向及上下方向之移動限制在預先規定之範圍內之狀態下安 裝於容器支撐體，可容許支撐體側連接部之彈性構件在上下方向移動變形量，並且可將支撐體側連接部適當地安裝為在平面觀看不致從容器支撐體之預定位置移動。

在本發明之處理設備之實施形態中，前述支撐體側連接部宜具有平面觀看形成圓形並具有前述支撐體側接合面之頂部、徑小於前述頂部且大於前述供給孔或前述排出孔並鄰接前述頂部之下方而形成之縮徑部、徑大於前述縮徑部並鄰接前述縮徑部之下方而形成的腳部，前述限制構件具有形成厚度較前述縮徑部之上下方向尺寸薄之插入部，前述插入部設成位於與前述縮徑部重複之高度之位置且在平面觀看與前述頂部及前述腳部兩者重複。

根據此結構，由於插入部之上下方向尺寸形成為較縮徑部之上下方向尺寸薄，故支撐體側連接部可容許於上下方向移動相當於插入部之上下方向尺寸與縮徑部之上下方向尺寸之差的上下方向尺寸量。又，由於插入部呈在上下方向被插入頂部與腳部之間之狀態，故可限制支撐體側連接部在上下方向之移動而將支撐體側連接部適當地安裝於容器支撐體。

因而，可將支撐體側連接部限制在上下方向之移動並且以容許彈性構件彈性變形時之移動之形態安裝於容器支撐體。

在本發明之處理設備之實施形態中，前述支撐體側接合面之表面粗糙度宜為算術平均粗糙度(Ra)3.2μm~6.3μm之範圍內。

根據此結構，支撐體側接合面之表面粗糙度越小，支撐體側連接部與容器側連接部越易吸住。另一方面，當支撐體側接合面之表面粗糙度越大，即使在支撐體側接合面與容器側接合面接合之狀態下，氣體從該接合面之間漏出之虞越高。又，考慮容器之重量、與從供給孔供至容器內空間之氣體之供給壓的關係，不斷致力研究，結果發現令支撐體側接合面之表面粗糙度Ra為3.2μm~6.3μm。

如此，藉令支撐體側接合面之表面粗糙度Ra為3.2μm~6.3μm，可提供可適當地抑制支撐體側連接部與容器側連接部吸住之狀態並且適當地密封為氣體不致從支撐體側連接部與容器側連接部之接合部漏出至外部的處理設備。

2‧‧‧設備間容器搬送裝置

3‧‧‧堆高式起重機

3a‧‧‧行走台車

3b‧‧‧升降引導柱

3c‧‧‧升降台

3d‧‧‧移載裝置

4‧‧‧容器

4m‧‧‧底部

4G‧‧‧眼圈

4Gm‧‧‧容器側接合面

4R‧‧‧連通孔

4S‧‧‧容器內空間

4T‧‧‧晶圓支撐體

4V‧‧‧開關閥配備

10‧‧‧保管架

10a‧‧‧沖洗架

10b‧‧‧非沖洗架

14‧‧‧壁體

15‧‧‧容器支撐體

15m‧‧‧上表面

15p‧‧‧定位銷

51‧‧‧供給配管

52‧‧‧供給流量調節裝置

53‧‧‧容器用供給配管

53N‧‧‧供給噴嘴

55，55a，55b‧‧‧支撐體側連接部

55m‧‧‧支撐體側接合面

55K‧‧‧腳部

55R1‧‧‧供給孔

55R2‧‧‧排出孔

55S‧‧‧縮徑部

55T‧‧‧頂部

56‧‧‧彈性構件

56H‧‧‧孔部

57‧‧‧小螺釘

58，59‧‧‧安裝構件

58a‧‧‧第1安裝構件

58b‧‧‧第2安裝構件

58k‧‧‧內緣部份

83‧‧‧行走軌道

84‧‧‧入庫出庫輸送機

W‧‧‧半導體晶圓

圖1是顯示本發明實施形態之基板容器保管設備之結構的縱斷側視圖，圖2是該設備之部份平面圖，圖3是本發明實施形態之容器的部份剖切說明圖，圖4是本發明實施形態之容器支撐體之立體圖，圖5是顯示本發明實施形態之支撐體側連接部及其安裝構造的主要部份立體圖，圖6是本發明實施形態之支撐體側連接部之縱斷側視圖，圖7是說明載置狀態之容器側連接部及支撐體側連接部之狀態的圖。

用以實施發明之形態

依據圖式，說明將本發明之處理設備應用於基板容器保管設備時之實施形態。

如圖1及圖2所示，基板容器保管設備具有於上下方向及左右方向排列裝備複數個支撐用以將半導體晶圓以密閉狀態收容之FOUP等容器4之容器支撐體15的保管架10、在設置於該保管架10之前面之行走軌道83上行走自如且自由移載容器4之堆高式起重機3。

堆高式起重機3具有具在行走軌道83上轉動之行走輪(省略圖示)之行走台車3a、直立設置於行走台車3a之升降引導柱3b、受到升降引導柱3b引導而升降移動自如之升降台3c而構成。於升降台3c設有將容器4在與容器支撐體15之間自由移載之選擇順從性裝配機器手臂式移載裝置3d。移載裝置3d構造成自由載置容器4，並構造成可在平面觀看與升降台3c重複之拉入位置與突出至容器支撐體15側之突出位置之間自由切換位置。

保管架10以使前面對向之形態設有一對。該一對之保管架10中其中一者以設有支撐體側連接部(後述)之沖洗架10a構成。在此，支撐體側連接部具有為防止容器4內之半導體晶圓之污損而將氮氣等惰性氣體供至容器4之容器內空間之供給孔、或將容器內之氣體排出至容器內空間外之排出孔。一對保管架10中之另一個以未設支撐體側連接部之非沖洗架10b構成。堆高式起重機3之移載裝置3d構 造成對沖洗架10a之容器支撐體15及非沖洗架10b之容器支撐體15任一個皆自由移載容器4。

沖洗架10a、非沖洗架10b及堆高式起重機3設置於以壁體14包圍之空間之內部。又，在壁體14之外部與內部之間搬送容器4之入庫出庫輸送機84以貫穿壁體14之狀態而設。入庫出庫輸送機84之壁體14外側之端部作為與吊車式設備間容器搬送裝置2之間交接容器4的交遞處。又，入庫出庫輸送機84之壁體14內側之端部作為與堆高式起重機3之移載裝置3d之間交接容器4之交遞處。

如圖4所示，容器支撐體15形成為平面觀看形狀為U字形，以形成供移載裝置3d上下通過之空間，定位銷15p以立起狀態裝備於其上表面之3處。將容器4移載至容器支撐體15時，將升降台3c升降操作為使以移載裝置3d支撐之容器4之下表面之高度為較移載對象之容器支撐體15高設定高度的位置，將移載裝置3d切換至突出位置，接著，將升降台3c下降操作至容器4之下表面之高度為較移載對象之容器支撐體15低設定高度的高度為止。藉此，可將容器4從支撐於移載裝置3d之狀態切換為支撐於容器支撐體15之載置狀態。

如圖3所示，容器4為依據SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International：國際半導體設備暨材料協會)規格之合成樹脂製氣密容器，並構造成於上下方向排列裝備複數個收納半導體晶圓W之晶圓支撐體4T，而可收容複數片半導體晶圓W。於容器4之前面形成可以裝卸 自如之蓋體開關之基板出入用開口，於容器4之上表面形成以設備間容器搬送裝置2握持之頂凸緣4F，然後，於容器4之底部4m形成有供設於容器支撐體15之上表面之3個定位銷15p(參照圖4)分別卡合之3個引導用凹部(省略圖示)。引導用凹部形成為於容器4在設定位置時，抵接定位銷15p之上端之部份形成為最深之最深部，其他之部份形成為漸漸變淺之傾斜面狀被引導面。因而，隨著使容器4移動至下方以呈支撐於容器支撐體15之載置狀態，容器4在沿著水平面之方向漸漸移動至設定位置。即，設有收容半導體晶圓W之容器4及將該容器4在對位於設定位置之狀態下從下方支撐之容器支撐體15。

如圖3所示，於容器4之底部具有具用以將氮氣供至容器內空間4S之連通孔4R之眼圈4G，眼圈4G形成平面觀看圓形，於平面觀看圓形之中心設有連通孔4R。又，在眼圈4G之下表面的連通孔4R之周圍形成有形成平坦之容器側接合面4Gm。

此外，於眼圈4G之內部設有以彈簧等賦與勢能機構賦與往關閉方向之開關閥配備4V。開關閥配備4V構造成僅於藉由連通孔4R供給之氣體或藉由連通孔4R排出之氣體的壓力為設定壓力以上時，形成開啟狀態。在本實施形態中，眼圈4G相當於具有可連通容器內空間與外部間之連通孔4R之容器側連接部。

如圖4所示，於容器支撐體15從保管架10之架正面觀看，於架內側配設有2個、於架前側配設有2個共計4個 支撐體連接部55，架內側之2個及架右前側之1個作為具有用以對容器4之容器內空間4S進行沖洗用氣體之供給的供給孔55R1之支撐體側連接部55a。又，架左前側之1個作為具有用以進行從容器內空間4S排出氣體的排出孔55R2之支撐體側連接部55b。

如圖4及圖5所示，於沖洗架10a之容器支撐體15個別配設供給惰性氣體之供給配管51，供給配管51連接於供給流量調節裝置52之流入側連接部。又，於供給流量調節裝置52之流出側連接部連接有容器用供給配管53。容器用供給配管53構造成在容器支撐體15之支撐體側連接部55a之設置位置，連接於從容器支撐體15之上表面15m突出至上方的供給噴嘴53N，而從供給噴嘴53N噴出惰性氣體。

又，於容器支撐體15之支撐體側連接部55b之設置位置設有從容器支撐體15之上表面15m突出至上方之排出噴嘴(省略圖示)。排出噴嘴從容器支撐體15之上表面15m突出至上方之部份的尺寸(至上方之突出量)形成與供給噴嘴53N相同之尺寸。又，排出噴嘴之氣體流通方向下游側開口，而可從此開口釋出容器4之容器內空間4S之氣體。

供給噴嘴53N可滑動地嵌合於上述供給孔55R1，惰性氣體通過供給孔55R1噴出。排出噴嘴可滑動地嵌合於排出孔55R2，氣體通過排出孔55R2從容器內空間4S排出。支撐體側連接部55之供給孔55R1形成部份及排出孔55R2形成部份之上下方向的尺寸構造成至少大於供給噴嘴53N及排出噴嘴從容器支撐體15之上表面15m突出的高度。

此外，由於支撐體側連接部55a與支撐體側連接部55b為相同之結構，故之後，將該等一併以支撐體側連接部55來說明。

支撐體側連接部55以聚四氟乙烯(PTFE)構成，如圖5及圖6所示，形成平面觀看圓形，且在容器4支撐於容器支撐體15之載置狀態下，為眼圈4G之下表面之容器側接合面4Gm與為該支撐體側連接部55之上表面之支撐體側接合面55m接合，此時，構造成供給孔55R1與連通孔4R連通(關於排出孔55R2亦相同)。

支撐體側接合面55m形成依循朝上方凸起之球面之形狀。即，支撐體側接合面55m形成隨著遠離供給孔55R1或排出孔55R2而逐漸向下之形狀。又，支撐體側接合面55m經切削加工形成為表面粗糙度Ra(以JIS B0601規定之算術平均粗糙度)為3.2μm~6.3μm之範圍內。

如圖6及圖7所示，支撐體側連接部55具有具支撐體側接合面55m之頂部55T、徑小於頂部55T且大於供給孔55R1或排出孔55R2並鄰接頂部55T之下方而形成之縮徑部55S、徑大於縮徑部55S並鄰接縮徑部55S之下方而形成之腳部55K。

於圖5~圖7顯示將此支撐體側連接部55安裝於容器支撐體15之安裝構造。

如圖5所示，架內側之2個支撐體側連接部55a使用安裝構件58安裝於容器支撐體15之上表面15m，架右前側之支撐體側連接部55a及架左前側之支撐體側連接部55b使用安裝 構件59安裝於容器支撐體15之上表面15m。

由於安裝構件58之支撐體側連接部55之安裝方法與安裝構件59之支撐體側連接部55之安裝方法相同，故以安裝構件58之支撐體側連接部55之安裝方法為例來說明。

安裝構件58由平面觀看為環狀之板狀構件之第1安裝構件58a與第2安裝構件58b構成。

第1安裝構件58a形成為形成厚度較縮徑部55S之上下方向尺寸薄、內徑較頂部55T及腳部55K之外徑小且外徑較頂部55T及腳部55K之外徑大的環狀。又，第1安裝構件58a於圓周方向分割為複數個(在本例中分割為2個)。藉此，可使複數個第1安裝構件58a從各自不同之圓周方向位置移動至徑方向而插入至縮徑部55S。

第2安裝構件58b之上下方向尺寸大於腳部55K之上下方向尺寸與後述片狀彈性構件56之上下方向尺寸加在一起的尺寸。又，第2安裝構件58b之內徑為大於腳部55K之外徑之尺寸，第2安裝構件58b之外徑為與第1安裝構件58a相同之尺寸。第2安裝構件58b形成環狀。又，於第1安裝構件58a及第2安裝構件58b設有對應於設在容器支撐體15之安裝用小螺釘孔之貫穿孔。

彈性構件56以薄厚度狀且中心具有供給噴嘴53N之貫穿用孔部56H之環狀橡膠片(彈性係數較支撐體側連接部55之材質PTFE小的材質)。孔部56H之徑方向之尺寸形成為與供給噴嘴53N之筒外徑尺寸相同，或者為小於供給噴嘴53N之筒外徑尺寸之尺寸。

即，於支撐體側連接部55與容器支撐體15之間夾有彈性構件56，支撐體側連接部55以彈性係數大於彈性構件56之材質構成。

又，將支撐體側連接部55安裝於容器支撐體15時，使供給噴嘴53N貫穿彈性構件56之孔部56H，在使彈性構件56之下表面抵接容器支撐體15之上表面15m之狀態下，設置支撐體側連接部55。

接著，第1安裝構件58a之內緣部份58k為支撐體側連接部55之頂部55T及腳部55K所夾住，並嵌合於支撐體側連接部55之縮徑部55S，而形成為平面觀看與頂部55T及腳部55K兩者重複之狀態。再者，於第1安裝構件58a之下側(亦即腳部55K側)重疊第2安裝構件58b，小螺釘57貫穿第1安裝構件58a及第2安裝構件58b之貫穿孔，以小螺釘57將第1安裝構件58a及第2安裝構件58b鎖緊固定於容器支撐體15。此時，內緣部份58k位於與縮徑部55S重複之高度。

藉此，支撐體側連接部55可被容許相當於第1安裝構件58a之上下方向尺寸與縮徑部55S之上下方向尺寸之差之距離的上下移動，並且可於容器支撐體15安裝成在平面觀看不致從容器支撐體15之預定位置移動。

又，由於於支撐體側連接部55之下部設有彈性構件56，故支撐體側連接部55被容許上下移動並且賦與往上方之勢能，而可使為眼圈4G之下表面之容器側接合面4Gm與支撐體側連接部55之上表面之支撐體側接合面55m適當地接合。

在本實施形態中，第1安裝構件58a相當於限制構件，第1安裝構件58a之內緣部份58k相當於限制構件之插入部。即，於支撐體側連接部55之周圍設有將該支撐體側連接部55之水平方向及上下方向之移動限制在預先規定之範圍內的限制構件。又，限制構件具有形成為厚度較縮徑部55S之上下方向尺寸薄的內緣部份58k，內緣部份58k設成位於與縮徑部55S重複之高度且在平面觀看與頂部55T及腳部55K兩者重複。

其他實施形態

(1)在上述實施形態中，以使支撐體側接合面55m呈依循往上方凸出之形狀之球面的形狀為例而說明。然而，亦可使支撐體側接合面55m形成為隨著遠離供給孔55R1或排出孔55R2以直線狀向下之形狀(即，圓錐狀)、或依循以沿著供給孔55R1或排出孔55R2之軸心之方向為短半徑或長半徑之旋轉橢圓體的形狀。

(2)在上述實施形態中，說明了將橡膠片作為彈性構件56夾在支撐體側連接部55與容器支撐體15之間之例，彈性構件56不限於橡膠片。只要彈性係數小於支撐體側連接部55(在上述實施形態為PTFE)之其他材質，可使用任何一種材質。又，在確保密封性上，亦可為使例如彈簧等介於支撐體側連接部55與容器支撐體15之間的結構。

(3)在上述實施形態中，顯示了將第1安裝構件58a之內緣部份58k使用作為插入部之例，但不限於此。舉例言之，亦可構造成將第1安裝構件58a形成環狀並且使其 內徑大於頂部55T及腳部55K之外徑，從第1安裝構件58a之內緣之圓周方向的複數處，使厚度較縮徑部55S之上下方向尺寸薄之棒狀體突出，將該棒狀體作為插入部來使用。

(4)在上述實施形態中，支撐體側連接部55具有平面觀看形成圓形並具有支撐體側接合面55m之頂部55T、徑小於頂部55T且大於供給孔55R1或排出孔55R2並鄰接頂部55T之下方而形成之縮徑部55S、徑大於縮徑部55S且鄰接縮徑部55S之下方而形成之腳部55K而構成，但不限於此種結構。舉例言之，亦可為於圓柱狀部之上端形成支撐體側接合面55m並於圓柱狀部下端具有形成徑大於圓柱狀部之板狀的腳部55K之結構。此時，要將支撐體側連接部55安裝於容器支撐體15可使用具有平面觀看大於腳部55K之板狀按壓部且具有可插入圓柱狀部之孔部的安裝構件。即，在於安裝構件之孔部插入有圓柱狀部之狀態下，將按壓部在與容器支撐體15之上表面15m拉開大於腳部55K之上下方向尺寸與彈性構件56之上下方向尺寸加在一起之尺寸的距離之位置固定於容器支撐體15。藉此，可將支撐體側連接部55在上下方向移動自如且將水平方向及上下方向之移動限制在預先規定之範圍內之狀態下安裝於容器支撐體15。

(5)在上述實施形態中，說明了將容器4作為收容半導體基板W之FOUP之例，但不限於此種結構。舉例言之，令容器4之收容物為食品，令供給之氣體為抑制氧化用氣體等，本發明之處理設備可適用於各種處理設備。

Claims (6)

1. 一種處理設備，具有：容器，收容收容物；容器支撐體，將前述容器在對位於設定位置之狀態下從下方支撐；容器側連接部，設於前述容器之底部，並具有可將容器內空間與外部之間連通之連通孔；及支撐體側連接部，設於前述容器支撐體，具有用以進行對前述容器內空間之氣體之供給的供給孔、或用以進行來自前述容器內空間之氣體之排出的排出孔，在此，該處理設備構造成在前述容器被支撐於前述容器支撐體之載置狀態下，為前述容器側連接部之下表面的容器側接合面，與為前述支撐體側連接部之上表面的支撐體側接合面相接合，前述供給孔或前述排出孔與前述連通孔可連通，且該處理設備特徵在於：前述容器側接合面中至少前述連通孔之周圍平坦地形成，前述支撐體側接合面呈隨著遠離前述供給孔或前述排出孔而逐漸向下之形狀，於前述支撐體側連接部與前述容器支撐體之間夾有彈性構件，前述支撐體側連接部以彈性係數大於前述彈性構 件之材質構成。
2. 如請求項1之處理設備，其中前述支撐體側連接部配置於比前述容器支撐體的上表面更上側。
3. 如請求項1或2之處理設備，其中前述支撐體側接合面呈沿著球面之形狀。
4. 如請求項1或2之處理設備，其中於前述支撐體側連接部之周圍設有限制構件，該限制構件用以將該支撐體側連接部之水平方向及上下方向之移動，限制在預先規定之範圍內。
5. 如請求項4之處理設備，其中前述支撐體側連接部具有頂部、縮徑部、及腳部，前述頂部以平面觀看形成圓形並具有前述支撐體側接合面，前述縮徑部之徑小於前述頂部且大於前述供給孔或前述排出孔，並鄰接前述頂部之下方而形成，前述腳部之徑大於前述縮徑部並鄰接前述縮徑部之下方而形成，前述限制構件具有形成厚度較前述縮徑部之上下方向尺寸薄之插入部，前述插入部設成位於與前述縮徑部重複之高度之位置，且以平面觀看與前述頂部及前述腳部兩者重複。
6. 如請求項1或2之處理設備，其中前述支撐體側接合面之表面粗糙度為算術平均粗糙度(Ra)3.2μm~6.3μm之範圍內。