JP4965406B2 - 装着装置及び装着方法 - Google Patents

装着装置及び装着方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4965406B2
JP4965406B2 JP2007284070A JP2007284070A JP4965406B2 JP 4965406 B2 JP4965406 B2 JP 4965406B2 JP 2007284070 A JP2007284070 A JP 2007284070A JP 2007284070 A JP2007284070 A JP 2007284070A JP 4965406 B2 JP4965406 B2 JP 4965406B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
contact body
plate
adjusting means
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007284070A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009111272A (ja
Inventor
幸範 村上
則義 細野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Lintec Corp
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Polymer Co Ltd, Lintec Corp filed Critical Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority to JP2007284070A priority Critical patent/JP4965406B2/ja
Publication of JP2009111272A publication Critical patent/JP2009111272A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4965406B2 publication Critical patent/JP4965406B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、装着装置及び装着方法に係り、特に、半導体ウエハ等の板状部材を極薄に研削したり、極薄に研削された半導体ウエハを搬送する場合に、安定して半導体ウエハを支持することのできる支持手段を装着することができる装着装置及び装着方法に関する。
半導体ウエハ(以下、単に、「ウエハ」と称する)を加工する装置としては、例えば、特許文献1に開示されたものが知られている。同文献の装置において、ウエハは、表面に保護シートが貼付された状態で裏面の研削が行われた後、搬送装置を介して次工程に搬送される。
特開2002−343756号公報
しかしながら、近時のウエハの直径の大型化や、数十μm厚にまで研削する極薄化により、ウエハの搬送中、当該ウエハが曲がったり変形したりして割れ等の損傷が生じてしまう場合があり、ウエハの搬送を行えなくなるという不都合がある。ここで、保護シートの貼付によりウエハをある程度補強できるものの、前記大型化や極薄化の技術が向上する現状では、前記不都合を十分に回避することが困難となる。
ところで、本出願人は、前記不都合を回避すべく、特願2007−208264号を提案した。この出願では、ウエハに面接触して支持する粘性を備えた接触体及びこれを支持する基台を有する支持手段を用いてウエハの搬送を行っている。具体的には、ウエハに接触体を重ねて面接触した後、それらの界面を真空引きして支持手段にウエハを支持させている。ところが、このようにウエハを支持させた場合、真空引きされる領域が吸引口周辺のみとなるため、ウエハと接触体との密着性をより高めたい、という要請がある。
[発明の目的]
本発明は、前記不都合に着目しつつ前記要請に対応して案出されたものであり、その目的は、接触体と板状部材とを密着させて良好に一体化することができる装着装置及び装着方法を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明は、板状部材に面接触して支持する粘性を備えた接触体及びこれを支持する基台と、板状部材に対する接触体の接触面積を調整する接触面積調整手段と、板状部材と接触体との間の空間を減圧可能な圧力調整手段とを備えた支持手段の装着装置であって、
前記接触面積調整手段に接続可能な第1吸引部と、前記圧力調整手段に接続可能な第2吸引部とを有し、
前記第1吸引部は、前記接触面積調整手段を介して、前記接触体を部分的に陥没可能、且つ、当該陥没を解除して板状部材に部分的に接触した接触体を全体的に接触可能に設けられ、
前記第2吸引部は、前記圧力調整手段を介して、板状部材と接触体との間における空間の減圧を解除して前記支持手段と板状部材とを一体化可能に設けられる、という構成を採っている。
本発明において、前記支持手段を保持可能に設けられた保持手段と、この保持手段を移動させる移動手段とを更に備える、という構成も好ましくは採用される。
また、本発明の搬送方法は、 板状部材に面接触して支持する粘性を備えた接触体及びこれを支持する基台と、板状部材に対する接触体の接触面積を調整する接触面積調整手段と、板状部材と接触体との間の空間を減圧可能な圧力調整手段とを備えた支持手段の装着方法であって、前記接触体を接触面積調整手段により部分的に陥没させる工程と、前記部分的に陥没された接触体を板状部材に接触させて部分的に接触させる工程と、前記板状部材と接触体との間の空間を圧力調整手段により減圧する工程と、前記接触面積調整手段によって前記部分的な接触から全体的な接触とする工程と、前記圧力調整手段による減圧を解除して前記支持手段と板状部材とを一体化する工程とを備える、という方法を採っている。
本発明によれば、第1吸引部による吸引により、接触体と板状部材とが部分的に接触したり、全体的に接触したりするようにコントロールできるので、それらの密着性をより高めることができる。しかも、第2吸引部により板状部材と接触体との間の空間を減圧するので、密着性をより一層高めることが可能となる。
また、保持手段と移動手段を設けることで、板状部材と支持手段を一体化した状態で搬送することもできる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図1には、実施形態に係る装着装置の概略平面図が示され、図2には、図1の要部拡大断面図が示されている。これらの図において、装着装置10は、図1中右側のカセットCAに収容された支持手段11を同図中下側のテーブルT上に載置された板状部材としてのウエハWに装着するように設けられている。装着装置10は、前記支持手段11を後述の基台21側から保持可能に設けられた保持手段12と、この保持手段12を移動させる移動手段としてのロボット13とを備えている。なお、テーブルTは、前記ウエハWを下方から吸着して支持する吸着面を備えている。
前記支持手段11は、前記ウエハWに面接触して支持する粘性を備えた接触面20Aを有する接触体20と、この接触体20を支持する基台21とを含む。接触体20は、粘着性、可撓性、耐熱性、弾性等に優れたシリコーン系、ウレタン系、アクリル系、フッ素系のエラストマーを素材としたシート状をなし、前記ウエハWと略同一の平面形状を備えたものが好ましくは採用されている。接触体20の面内中央部には孔20Bが形成されている。なお、この接触体20は、本出願人によって出願された特願2006−304366号に開示され、密着層として開示されたものと実質的に同一のものを利用することができる。
前記基台21は、特に限定されるものではないが、図3に示されるように、平面視略円形をなす板状に設けられている。この基台21は、図2に示されるように、平面部24と、この平面部24の外周に位置する平面視略リング状の周壁25と、平面部24の下面側から下向きに突出するとともに下端位置が周壁25の下端位置と略同一平面上に位置する高さの複数の突起26とからなる。接触体20は、周壁25の下端面に固定され、この状態で、前記突起26の各下端に接触体20が当接し、これにより、基台21と接触体20との間に空間C1が形成されることとなる。この空間C1は、図2に示されるように、前記平面部24の少なくとも一箇所に形成された第1の貫通孔28に連通しており、これら平面部24、周壁25、突起26、第1の貫通孔28により、ウエハWに対する接触体20Aの接触面積を調整する接触面積調整手段が構成されている。また、前記平面部24の面内中央位置する中央突起26Aは、他の突起より大きい平面形状に設けられるとともに、上下に貫通して前記孔20Bに連通する第2の貫通孔29が形成され、これら孔20B及び第2の貫通孔29によりウエハWと接触体との間の空間を減圧可能な圧力調整手段が構成されている。
前記保持手段12は、図4にも示されるように、前記ロボット13に連結された平面視略円形をなすフレーム板31と、このフレーム板31の下面中心部に形成された凹部32と、フレーム板31下面において当該フレーム板の同心円に沿って設けられた環状の内溝33及び環状の外溝34とを備えている。凹部32は、前記第2の貫通孔29に連通可能となっている一方、内溝33は、前記第1の貫通穴28に連通可能となっている。フレーム板31の上面側には、第1ないし第3のホース37〜39が接続されており、第1のホース37は凹部32に形成された第2吸引部としての貫通孔32Aに連通し、第2のホース38は内溝33に形成された第1吸引部としての貫通孔33Aに連通し、第3のホース39は外溝34に形成された貫通孔34Aに連通している。また、第1ないし第3のホース37〜39は、電磁バルブV1〜V3を介して減圧ポンプPにそれぞれ接続されている。従って、第1のホース37を介して減圧ポンプP、貫通孔32A、凹部32、第2の貫通孔29及び孔20Bが連通する一方、第2のホース38を介して減圧ポンプP、貫通孔33A、内溝33、第1の貫通孔28及び空間C1が連通する。また、第3のホース39を介して、減圧ポンプP、貫通孔34A及び外溝34が連通しており、これにより、支持手段11を吸着保持できるようになっている。
前記ロボット13は、多関節構造からなる公知のロボットからなり、予め設定した軌跡に沿って先端に設けられた保持手段12を介して支持手段11をカセットCAからテーブルT上に載置されたウエハW上に搬送可能に設けられている。
次に、本実施形態における支持手段11のウエハWへの装着方法について説明する。なお、ここでは、図2に示されるように、第1〜第3のホース37〜39は減圧ポンプPに接続され、途中に設けられた電磁バルブV1〜V3によって減圧制御される。
先ず、ロボット13を動作してカセットCA中の支持手段11上に保持手段12を移動させた後、電磁バルブV3を動作して支持手段11を1枚保持し(図5参照)、ロボット13の動作によってカセットCAから取り出す。次いで、テーブルT上のウエハWに接触体20を当接させる前に、電磁バルブV2を動作して貫通孔33Aを介して空間C1内を減圧し、接触体20が反転凹状に空間C1内に陥没するように変形させる。これにより、接触体20におけるウエハWと接触可能な接触面20Aの面積が凹状に陥没した領域分縮小することとなる(図6参照)。その後、図7に示されるように、ウエハW上面に接触面20Aを面接触させる。このとき、接触面20Aは、ウエハWに対して部分的に接触することとなり、当該ウエハWと接触体20との間に空間C2が形成される。この状態で、電磁バルブV1が動作して、貫通孔32Aを介して前記空間C2内が減圧される。この状態で、電磁バルブV2が動作して減圧を解除すると、接触体20がウエハWに対して全体的に接触し密着性が高まることとなり、当該接触体20とウエハWとが良好に一体化する(図8参照)。そして、所定時間経過後、電磁バルブV1の動作によって空間C2(実際にはなくなっている)内の減圧を解除する。支持手段11と一体化されたウエハWは、ロボット13によってカセットCAに戻されたり、次工程に搬送されたりする。搬送先では、電磁バルブV3が動作して支持手段11の減圧を解除することで離脱が可能となっている。
従って、このような実施形態によれば、接触体20を空間C1内に陥没させた後、ウエハWと接触体20との間の空間C2内を減圧するので、それらを全体的に接触させて密着性を高めることができ、支持手段11とウエハWとを良好に一体化することが可能となる。
以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
従って、上記に開示した形状などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状などの限定の一部若しくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
例えば、本発明における装着対象物としては、半導体ウエハに限定されるものではなく、ガラス板、鋼板、または、樹脂板等、その他の被着体も対象とすることができ、半導体ウエハは、シリコンウエハや化合物ウエハであってもよい。
また、移動手段を構成するロボット13は、駆動制御できるものであれば特に限定されることはなく、エアシリンダ等によって構成してもよい。
実施形態に係る装着装置の概略平面図。 図1の要部拡大断面図。 基台の底面図。 保持手段の底面図。 図2の要部拡大断面図。 接触体の接触面積を減少させた状態を示す図5と同様の断面図。 接触体とウエハとが部分的に接触した状態を示す図5と同様の断面図。 接触体とウエハとが全体的に接触した状態を示す図5と同様の断面図。
符号の説明
10 装着装置
11 支持手段
12 保持手段
13 ロボット(移動手段)
20 接触体
20A 接触面
20B 孔(圧力調整手段)
21 基台
24 平面部(接触面積調整手段)
25 周壁(接触面積調整手段)
26 突起(接触面積調整手段)
28 第1の貫通孔(接触面積調整手段)
29 第2の貫通孔(圧力調整手段)
32A 貫通孔(第2吸引部)
33A 貫通孔(第1吸引部)
C1 空間
C2 空間
W 半導体ウエハ(板状部材)

Claims (3)

  1. 板状部材に面接触して支持する粘性を備えた接触体及びこれを支持する基台と、板状部材に対する接触体の接触面積を調整する接触面積調整手段と、板状部材と接触体との間の空間を減圧可能な圧力調整手段とを備えた支持手段の装着装置であって、
    前記接触面積調整手段に接続可能な第1吸引部と、前記圧力調整手段に接続可能な第2吸引部とを有し、
    前記第1吸引部は、前記接触面積調整手段を介して、前記接触体を部分的に陥没可能、且つ、当該陥没を解除して板状部材に部分的に接触した接触体を全体的に接触可能に設けられ、
    前記第2吸引部は、前記圧力調整手段を介して、板状部材と接触体との間における空間の減圧を解除して前記支持手段と板状部材とを一体化可能に設けられていることを特徴とする装着装置。
  2. 前記支持手段を保持可能に設けられた保持手段と、この保持手段を移動させる移動手段とを更に備えたことを特徴とする請求項1記載の装着装置。
  3. 板状部材に面接触して支持する粘性を備えた接触体及びこれを支持する基台と、板状部材に対する接触体の接触面積を調整する接触面積調整手段と、板状部材と接触体との間の空間を減圧可能な圧力調整手段とを備えた支持手段の装着方法であって、
    前記接触体を接触面積調整手段により部分的に陥没させる工程と、
    前記部分的に陥没された接触体を板状部材に接触させて部分的に接触させる工程と、
    前記板状部材と接触体との間の空間を圧力調整手段により減圧する工程と、
    前記接触面積調整手段によって前記部分的な接触から全体的な接触とする工程と、
    前記圧力調整手段による減圧を解除して前記支持手段と板状部材とを一体化する工程とを備えていることを特徴とする装着方法。
JP2007284070A 2007-10-31 2007-10-31 装着装置及び装着方法 Expired - Fee Related JP4965406B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007284070A JP4965406B2 (ja) 2007-10-31 2007-10-31 装着装置及び装着方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007284070A JP4965406B2 (ja) 2007-10-31 2007-10-31 装着装置及び装着方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009111272A JP2009111272A (ja) 2009-05-21
JP4965406B2 true JP4965406B2 (ja) 2012-07-04

Family

ID=40779426

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007284070A Expired - Fee Related JP4965406B2 (ja) 2007-10-31 2007-10-31 装着装置及び装着方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4965406B2 (ja)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2850853B2 (ja) * 1996-06-13 1999-01-27 日本電気株式会社 基板固定治具
JP2003066699A (ja) * 2001-08-27 2003-03-05 Canon Inc シール形状回復方法及び現像剤容器の製造方法
JP4665429B2 (ja) * 2004-04-26 2011-04-06 富士電機システムズ株式会社 半導体素子の製造方法
JP4587828B2 (ja) * 2005-02-03 2010-11-24 信越ポリマー株式会社 精密基板用の固定治具
JP4573763B2 (ja) * 2005-12-01 2010-11-04 信越ポリマー株式会社 吸着装置
JP4745945B2 (ja) * 2006-12-04 2011-08-10 リンテック株式会社 搬送装置及びこれを用いたシート貼付装置並びにシート剥離装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009111272A (ja) 2009-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8465011B2 (en) Fixing jig and method of processing work
TWI571350B (zh) 吸著盤
JP2010118584A (ja) ウエハのマウント装置
JP2012199282A5 (ja)
JP5144434B2 (ja) 支持装置
US10607870B2 (en) Substrate carrier for active/passive bonding and de-bonding of a substrate
JP4671841B2 (ja) 対象物間の脱ガス方法および脱ガス装置
JP4797027B2 (ja) 基板体の貼着装置及び基板体の取り扱い方法
JP2019062201A (ja) ウエハ支持システム、ウエハ支持装置、ウエハ及びウエハ支持装置を備えるシステム、並びにマスクアライナ
JP6029354B2 (ja) ウェーハ研削装置およびウェーハ研削方法
JP5164785B2 (ja) 支持装置
JP2009302237A (ja) テープ貼付装置
JP2016197623A (ja) 吸着保持用治具とこの治具を備えた吸着保持装置、吸着保持方法、基板の処理方法、及び基板の成膜方法
JP2010103426A (ja) 板状部材の支持装置および支持方法
KR20130051686A (ko) 기판 착탈 장치
JP5329916B2 (ja) 半導体ウエハの支持具
JPH03270048A (ja) 真空チャック
JP4965406B2 (ja) 装着装置及び装着方法
JP2013243203A (ja) 支持装置
JP2003245886A (ja) 吸着機構
JP2009141173A (ja) 貼り合わせ装置
JP2005074551A (ja) 真空吸着装置
JP2006156612A (ja) 位置決め装置
JP5185080B2 (ja) 板状部材の支持装置及び支持方法並びに支持具
JP2022098006A (ja) ワーク搬送用ハンド

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100427

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110302

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110915

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111108

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120327

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120329

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4965406

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150406

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees