TWI596698B - 保持裝置、微影設備以及製造物品的方法 - Google Patents
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002009139A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-01-11 | Nikon Corp | 静電チャック |
| JP2002217276A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Ushio Inc | ステージ装置 |
| US20140065553A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | United Microelectronics Corporation | Chuck and semiconductor process using the same |
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|---|---|---|---|---|
| JPH03289154A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-19 | Toshiba Corp | 半導体ウエーハチャック装置 |
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| US6809802B1 (en) * | 1999-08-19 | 2004-10-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate attracting and holding system for use in exposure apparatus |
| JP2001215716A (ja) * | 2000-02-02 | 2001-08-10 | Orc Mfg Co Ltd | ワークとマスクの分離機構 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2002009139A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-01-11 | Nikon Corp | 静電チャック |
| JP2002217276A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Ushio Inc | ステージ装置 |
| US20140065553A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | United Microelectronics Corporation | Chuck and semiconductor process using the same |
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