JP6708455B2 - 保持装置、保持方法、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明の第1実施形態に係る保持装置を備えた露光装置の概略図である。当該保持装置は、他のリソグラフィ装置(例えばインプリント装置)へ適用することもできるが本実施形態では露光装置への適用を例に説明する。本実施形態に係る保持装置を備えた露光装置は、光源110と、照明光学系120と、投影光学系130と、ステージ140と、制御部150と、を含む。また、本実施形態に係る保持装置は、吸着部160と、吸着制御部170と、を含む。なお、投影光学系130の光軸をZ軸とし、それに垂直な平面をXY平面とする。
H=Σ(|PM1t−PS1t|+|PM2t−PS2t|+|PM3t−PS3t|)
ただし、PM1t〜PM3tは、時刻tにおける圧力センサP1〜P3が計測する圧力値(実測データ)、PS1t〜PS3tは、時刻tにおける圧力センサP1〜P3が示すべき圧力値(基準データ)、t=1…nである。
第1実施形態は、各電磁弁の開放はそれぞれ一回を想定している。しかしながら、基板の形状によっては、各電磁弁の開閉を繰り返す(再吸着する)必要がありうる。この場合、第1実施形態のように、各吸着領域の吸引可能量の合計が一定量として決まっている場合、吸い直しによる基板の吸着が困難となりうる。本実施形態は、これに対応した実施形態である。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上記保持装置により保持された基板に対し、上記露光装置を用いてパターンを基板に形成する(露光する)工程と、かかる工程でパターンを形成された基板を加工(現像)する工程とを含む。リソグラフィ装置がインプリント装置である場合は、現像する工程の代わりに、例えば残膜を除去する工程を含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
150 制御部
W 基板
Claims (16)
- 基板を保持する保持装置であって、
前記基板を真空吸着する、複数の吸着機構を有する吸着部と、
前記複数の吸着機構の圧力を計測する計測部と、
真空吸着を開始する前記複数の吸着機構の順序を示す第1の順序に基づいて、前記複数の吸着機構が前記基板を真空吸着する場合に基準となる前記複数の吸着機構の圧力の時間変化を含む基準データを取得し、
前記第1の順序に基づいて前記複数の吸着機構が第1の基板を保持するように前記吸着部を制御し、
前記第1の順序に基づいて前記第1の基板を真空吸着している状態で前記複数の吸着機構の圧力を計測するように前記計測部を制御して、前記計測された圧力の時間変化を示す計測データを取得し、
前記基準データと前記計測データとを比較することにより比較結果を取得し、
前記比較結果が所定の条件を満たす場合に、前記第1の順序に基づいて前記複数の吸着機構が第2の基板を真空吸着するように前記吸着部を制御し、
前記比較結果が所定の条件を満たさない場合には、前記第1の順序とは異なる第2の順序に基づいて前記複数の吸着機構が前記第2の基板を真空吸着するように前記吸着部を制御する制御部と、を有する、
ことを特徴とする保持装置。 - 前記制御部は、前記第1の順序と前記基準データの組み合せを取得することを特徴とする請求項1に記載の保持装置。
- 前記組み合せは、前記基板の形状ごとに複数の種類が準備され、
前記制御部は、前記複数の種類の組み合せを取得する、ことを特徴とする請求項2に記載の保持装置。 - 前記制御部は、前記基準データとして、前記吸着部により基板を吸着したときの前記圧力と時間との関係を表すデータを取得する
ことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の保持装置。 - 前記制御部は、前記基準データとして、前記圧力と時間の関係を表す関係式を取得する
ことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の保持装置。 - 前記所定の条件は、ある吸着機構の吸着が完了した時刻と、前記吸着機構より前記基板の中心から離れた位置にある他の吸着機構の吸着が完了した時刻との時間差を基準として定められる
ことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の保持装置。 - 前記所定の条件は、前記圧力が所定の圧力に達するまでの時間を基準として定められる
ことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の保持装置。 - 前記保持装置は、基板の平坦度を計測する第2計測部を有し、
前記所定の条件は、前記第2計測部で計測した前記基板の平坦度の計測結果を基準として定められる
ことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の保持装置。 - 前記第1の順序と前記第2の順序は、吸着が開始された前記複数の吸着機構の吸着を停止させて再び吸着を開始させる再吸着順序を含むことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の保持装置。
- 前記吸着部は、前記複数の吸着機構ごとに真空源を備える、ことを特徴とする請求項9に記載の保持装置。
- 前記制御部は、
前記再吸着順序を含まない順序に基づいて前記吸着部を制御することで得られた前記比較結果が所定の条件を満たさない場合には、前記再吸着順序に基づいて前記吸着部を制御し、前記計測データを取得する、ことを特徴とする請求項9または10に記載の保持装置。 - 前記第1の基板および前記第2の基板は、同一の形状となるように選択されることを特徴とする請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載の保持装置。
- 前記第1の基板および前記第2の基板は、同一のロットから選択されることを特徴とする請求項1乃至12のうちいずれか1項に記載の保持装置。
- 複数の吸着機構により基板を真空吸着して保持する保持方法であって、
真空吸着を開始する前記複数の吸着機構の順序を示す第1の順序に基づいて、前記複数の吸着機構が前記基板を真空吸着する場合に基準となる前記複数の吸着機構の圧力の時間変化を含む基準データを取得し、
前記第1の順序に基づいて前記複数の吸着機構が第1の基板を真空吸着している状態で計測された、前記複数の吸着機構の圧力の時間変化を示す計測データを取得し、
前記基準データと前記計測データとを比較することにより比較結果を取得し、
前記比較結果が所定の条件を満たす場合に、前記第1の順序に基づいて前記複数の吸着機構が第2の基板を真空吸着し、
前記比較結果が前記所定の条件を満たさない場合には、前記第1の順序とは異なる第2の順序に基づいて前記複数の吸着機構が前記第2の基板を真空吸着する、
ことを特徴とする保持方法。 - パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を真空吸着して保持する請求項1乃至13のうちいずれか1項に記載の保持装置を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項15に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を有し、加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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