JP2024016325A - 保持機構及び露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】平坦度が高い真空吸着を実現することが可能な保持機構及び露光装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一形態に係る保持機構は、吸着部と、シール部とを具備する。前記吸着部は、基板を真空吸着する吸着エリアを有する。前記シール部は、前記吸着エリアを囲んで配置された複数の辺部と前記複数の辺部のうち隣合う辺部の間に形成された複数の角部とを有する弾性部と、前記複数の角部の少なくとも１つに対して設けられた反発力抑制部とを有する。
【選択図】図２Ａ

Description

本発明は、基板を保持する保持機構及びそれを搭載した露光装置に関する。

プリント基板、半導体基板、液晶基板等を製造する工程では、露光等の加工処理を行う際に基板が位置ずれを起こさないように、基板を吸着保持するワークステージが用いられる。基板を吸着保持する方法としては、真空吸着が広く利用されている。

例えば特許文献１には、真空吸着により基板を保持するステージ装置について記載されている。このステージ装置では、真空系につながる複数の貫通孔が設けられた薄板状部材により基板が真空吸着される。また薄板状部材の周囲にはシール用弾性部材が環状に設けられる。これにより、基板の反り等に伴う真空のリーク等が抑制される（特許文献１の明細書段落［００１５］、［００２４］、［００２５］図１、図５等）。

特開２００２－２１７２７６号公報

近年、配線の微細化や実装密度の高密度化に伴い、露光時に要求される基板の平坦度は高くなっている。一方で基板の大型化に伴い平坦度を向上させることが難しくなってきている。このため、平坦度が高い真空吸着を実現する技術が求められている。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、平坦度が高い真空吸着を実現することが可能な保持機構及び露光装置を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る保持機構は、吸着部と、シール部とを具備する。
前記吸着部は、基板を真空吸着する吸着エリアを有する。
前記シール部は、前記吸着エリアを囲んで配置された複数の辺部と前記複数の辺部のうち隣合う辺部の間に形成された複数の角部とを有する弾性部と、前記複数の角部の少なくとも１つに対して設けられた反発力抑制部とを有する。

この保持機構では、基板を真空吸着する吸着エリアを囲むように弾性部からなるシール部が配置される。シール部を構成する角部には反発力抑制部が設けられる。これにより、角部における反発力が抑制され基板の盛り上がりを低減することが可能となる。この結果、平坦度が高い真空吸着を実現することが可能となる。

前記弾性部は、前記基板が載置される載置面を有してもよい。この場合、前記反発力抑制部は、前記角部における前記載置面の面積を、前記角部につながる２つの辺部を延長して交差させた交差領域の面積よりも小さくした構造であってもよい。

前記反発力抑制部は、前記角部の内側に形成された切り欠きであってもよい。

前記切り欠きの平面形状は、四角形又は円形のいずれか一方であってもよい。

前記反発力抑制部は、前記角部の少なくとも一部の表面を前記載置面に対して低くした段差部であってもよい。

前記反発力抑制部は、前記角部に配置され前記辺部よりも反発力が低い低反発部であってもよい。

前記反発力抑制部は、前記角部につながる２つの辺部を延長して交差させた交差領域と重なるように配置されてもよい。又は前記反発力抑制部は、前記交差領域と接するように配置されてもよい。

前記弾性部の平面形状は、矩形形状であってもよい。この場合、前記複数の角部は、前記矩形形状の４つの頂点に対応する４つの角部を含んでもよい。また前記反発力抑制部は、前記４つの角部の少なくとも１つに設けられてもよい。

前記吸着部は、真空を供給する凹部と当該凹部内に形成された複数の凸部とを有する基台と、前記吸着エリアを形成する吸着面と当該吸着面に形成された複数の貫通孔とを有し前記凹部上に取り付けられる吸着板とを有してもよい。この場合、前記シール部は、前記基台又は前記吸着板のどちらか一方に取り付けられてもよい。

前記吸着部は、前記吸着面よりも低い位置に設けられ前記シール部の下面が取付けられる取付部を有してもよい。この場合、前記シール部は、前記取付部に前記下面が取付けられた状態で前記下面とは反対側となる上面が前記吸着面よりも高く突出するように構成されてもよい。

前記弾性部は、ゴムスポンジを用いて構成されてもよい。

本発明の一形態に係る露光装置は、光出射部と、マスクステージと、ワークステージとを具備する。
前記光出射部は、露光光を出射する。
前記マスクステージは、パターンが形成されたマスクを前記露光光の光路上で保持する。
前記ワークステージは、前記パターンが転写されるワークを保持する。
前記ワークステージは、前記ワークを真空吸着する吸着エリアを有する吸着部と、前記吸着エリアを囲んで配置された複数の辺部と前記複数の辺部のうち隣合う辺部の間に形成された複数の角部とを有する弾性部と、前記複数の角部の少なくとも１つに対して設けられた反発力抑制部とを有するシール部とを有する。

以上のように、本発明によれば、平坦度が高い真空吸着を実現することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。

本発明の第１の実施形態に係るワークステージを備えた露光装置の構成例を示す模式図である。 ワークステージの構成例を示す模式図である。 ワークステージの構成例を示す模式図である。 シール部の基本的な構成について説明するための模式図である。 ワークステージに設けられたシール部の平面構成例を示す模式図である。 ワークステージによる真空吸着の動作を示す模式図である。 ワークステージによる真空吸着の動作を示す模式図である。 反発力抑制部の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の他の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の他の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の他の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の他の構成例を示す模式図である。 図８Ａ及び図８Ｂの反発力抑制部を表す模式的な斜視図である。 反発力抑制部の他の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の他の構成例を示す模式図である。 反発力抑制部の他の構成例を示す模式図である。 比較例として挙げるシール部を示す模式図である。 第２の実施形態に係るワークステージの構成例を示す模式図である。 第２の実施形態に係るワークステージの構成例を示す模式図である。 他の実施形態に係るワークステージの構成例を示す模式図である。 他の実施形態に係るワークステージの構成例を示す模式図である。 他の実施形態に係るシール部の構成例について説明する模式図である。

以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。

［露光装置の構成］
図１は、本発明の第１の実施形態に係るワークステージを備えた露光装置の構成例を示す模式図である。露光装置１００は、ワークＷを露光する露光装置である。ここで、ワークＷは、例えばプリント基板とすることができる。本実施形態では、ワークＷは、保持機構により保持される基板に相当する。
露光装置１００は、光照射部１０と、マスクＭと、マスクステージ１１と、投影レンズ１２と、ワークステージ２０と、配管Ｌとを有する。

光照射部１０は、露光光を出射する。光照射部１０は、ランプ１５と、ミラー１６と、ランプハウス１７とを有する。ランプ１５は、紫外線を含む露光光を放射する露光用光源である。ミラー１６は、ランプ１５から放射された露光光を所定の出射方向にむけて反射する。ランプハウス１７は、ランプ１５及びミラー１６を収容するケースである。
なお、ここでは光照射部１０の光源がランプ１５である場合について説明するが、光源としてＬＥＤ（Light Emitting Diode）やレーザ光源等が用いられてもよい。また露光光の波長や帯域も限定されない。
本実施形態では、光照射部１０は、露光光を出射する光出射部に相当する。

マスクＭには、ワークＷに露光（転写）される回路パターンなどのパターンが形成されている。
マスクステージ１１は、パターンが形成されたマスクを露光光の光路上で保持する。
投影レンズ１２は、マスクＭを透過した露光光をワークＷに投影する。例えば投影レンズ１２は、マスクＭのパターンを縮小してワークＷの表面に結像させる縮小光学系として構成される。なお、本実施形態では、露光装置１００が投影レンズ１２を備える場合について説明するが、投影レンズ１２を備えない露光装置にも本発明を適用可能である。

ワークステージ２０は、マスクＭのパターンが転写されるワークＷを保持する。具体的には、ワークステージ２０は、ワークＷ（基板）を真空吸着して保持する保持機構である。ワークステージ２０には、複数の真空吸着孔２９が設けられた吸着エリア２２と、吸着エリア２２を囲むように配置されたシール部３０とが設けられる。真空吸着孔２９は、真空を引くための配管Ｌに接続される。
ワークステージ２０の具体的な構成については後に詳しく説明する。

配管Ｌは、一端がワークステージ２０に接続され、他端には二股に分かれた分岐路が設けられた真空引き用の配管である。分岐路の一方は、バルブＢ１を介して図示しない真空ポンプに接続される。また分岐路の他方は、バルブＢ２を介して図示しない空気導入部に接続される。バルブＢ１及びバルブＢ２としては、流路を遮断する電磁弁等が用いられる。

［露光装置の基本的な動作］
ここで、露光装置１００の基本的な露光動作の流れを説明する。
露光装置１００では、図示しない搬送手段によりプリント基板等のワークＷが搬送される。ワークＷはその表面（パターンを形成する側）を上側にしてワークステージ２０に置かれる。より詳しくは、ワークＷは吸着エリア２２を囲むシール部３０上に載置される。この時、ワークＷの表面には、露光光によって感光するレジストが塗布されている。

ワークＷが置かれると、配管ＬのバルブＢ２が閉じられバルブＢ１が開かれる。この結果、配管Ｌに接続された貫通孔（真空吸着孔２９）に真空が供給され、ワークＷは吸着エリア２２に吸着される。このとき、ワークＷの真空吸着に伴いシール部３０は押しつぶされるように弾性変形する。これによりワークＷの裏面とワークステージ２０との間で真空がリークするといった事態が回避され、ワークＷは確実に吸着保持される。

光照射部１０から出射された露光光が、マスクＭと投影レンズ１２とを介して、ワークステージ２０が保持するワークＷに照射される。そしてマスクＭに形成されたパターンが、ワークＷ上に投影されて所望のパターンが露光される。なお、ワークステージ２０への真空の供給は、露光処理中、ワークＷが移動しないように継続される。

露光処理が終了すると、バルブＢ１が閉じられ、真空吸着孔２９への真空の供給が停止される。これにより、ワークＷの真空吸着が解除される。次にバルブＢ２が開かれ、真空吸着孔２９にエアーが供給される。この結果、真空吸着孔２９からはエアーが吹き出し、ワークステージ２０からワークＷが取り外される。その後、不図示の搬送手段によりワークＷが回収され、露光装置１００の外部に搬送される。

［ワークステージの構成］
図２は、ワークステージ２０の構成例を示す模式図である。図２Ａは、ワークステージ２０を分解した状態を示す模式的な斜視図である。また図２Ｂは、ワークステージ２０の構成例を示す模式的な断面図である。
図２に示すように、ワークステージ２０は、吸着部２１と、シール部３０とを有する。以下では、ワークステージ２０においてワークＷが保持される側（露光光が照射される側）をワークステージの上側と記載し、その反対側を下側と記載する。

吸着部２１は、ワークＷを真空吸着する吸着エリア２２を有する。吸着エリア２２は、真空吸着によりワークＷが保持される平面領域であり、ワークステージ２０の上側に設けられる。真空吸着が行われている間、ワークＷは吸着エリア２２に張り付くようにして保持される。
吸着部２１は、基台２３と、基台２３に取り付けられる吸着板２４とを有する。このうち吸着板２４の表面に吸着エリア２２が形成される。また吸着部２１には、シール部３０を取り付けるための取付部３７が設けられる。

基台２３は、吸着部２１の土台となる金属ブロックである。基台２３を上側からみた平面形状は矩形形状（ここでは略正方形）である。基台２３は、典型的には表面を無電解ニッケルメッキ処理したアルミニウムブロックによって構成されるが、アルマイト処理や、セラミックスを溶着したものを用いてもよい。また基台２３の材質も鉄や銅などの金属であってもよい。

基台２３の上側表面の中央部には、凹部２５が形成され、凹部２５内には吸着板２４を載せる複数の凸部２６が形成されている。また、凹部２５には、基台２３に取り付けられた真空系（配管Ｌ）から真空を凹部２５に導くために、複数の真空導入路２７が設けられている。配管Ｌに供給された真空またはエアーは、この真空導入路２７から凹部２５に導かれる。
このように、基台２３は、真空を供給する凹部２５と、当該凹部２５内に形成された複数の凸部２６とを有する。

また基台２３の上側表面は精度の良い平面に仕上げられている。ここで上側表面とは、凸部２６の上面と基台２３の上側の外周面（凹部２５の縁を囲む面）とでつくる面である。即ち、凸部２６の上面と基台２３の外周面とは同じ高さであり、その平面度は１０μｍ程度である。基台２３の上側表面は、吸着板２４が配置される面となる。

吸着板２４は、基台２３の凹部２５を完全に覆う大きさを有し、基台２３の上側表面にならうよう、ある程度の柔軟性を有する材質で構成された薄い板状部材である。吸着板２４としては、例えば厚さ０．３ｍｍのステンレス板が用いられる。なお吸着板２４の厚さや材質はこれに限定されず、例えば凹部２５のサイズ等に応じて吸着板２４の厚さや材質が適宜選択されてよい。
図２に示すように、吸着板２４は、吸着面２８と、複数の真空吸着孔２９とを有する。

吸着面２８は、吸着エリア２２を形成する面である。すなわち、吸着面２８は、真空吸着時にワークＷが保持される面となる。吸着板２４は、吸着面２８を上側にして、基台２３の凹部２５上に取り付けられる。
図２Ａに示す例では、吸着板２４の四隅にはネジＳを通す貫通孔が設けられ、吸着板２４はネジＳにより基台２３に対して固定される。なお、ネジＳではなく他の固定金具を使って固定しても良い。

複数の真空吸着孔２９は、吸着面２８に形成された貫通孔である。各真空吸着孔２９は、上側から見た平面視で基台２３の凹部２５と重なる領域の全面に渡って設けられる。ここでは、所定の直径を有する真空吸着孔２９が一定間隔で格子状に設けられている。なお、真空吸着孔２９の位置は、基台２３の凸部２６の位置と一致することがないように設定される。
基台２３上に吸着板２４を取り付けて、基台２３に真空を供給すると、上記のように基台２３の凹部２５に真空が導かれ、その凹部２５を覆う吸着板２４の真空吸着孔２９にも真空が供給される。これにより、ワークＷを真空吸着することが可能となる。

露光装置１００では、ワークＷの大きさや形状、又はワークＷに設けられた切欠きや貫通孔の位置に合わせて複数の吸着板２４が準備される。各吸着板２４に設けられる真空吸着孔２９の数、孔径、形状や配列、真空吸着孔２９が設けられる領域等は、ワークＷに応じて設定される。

例えば、図２に示す例では、真空吸着孔２９として円形孔を設けたが、これに限定されず、矩形孔、長円孔など種々の形状の貫通孔を真空吸着孔２９として設けることができる。
また、図２に示す例では、吸着板２４の凹部２５と対応する領域の全面に渡って真空吸着孔２９が一定間隔で設けられているが、これに限定されず、ワークＷの大きさに応じてある決まった領域にのみ真空吸着孔２９を設けてもよい。
また、真空吸着孔２９のサイズ（直径等）や配列も、ワークＷの大きさ、柔らかさ、反り具合等に応じて、１枚の吸着板２４の面内で自由に設定することが可能である。

このように吸着板２４を構成することにより、加工するワークＷの種類に応じて、最適な吸着板２４を選択して、ワークＷを吸着保持することが可能となる。

シール部３０は、吸着エリア２２を囲むように配置された環状の弾性部材である。シール部３０は、下面３０ａ及び上面３０ｂを有する。下面３０ａは、基台２３に取り付けられる面である。上面３０ｂは、下面３０ａとは反対側の面である。上面３０ｂの少なくとも一部は、後述する載置面３４として機能する。

本実施形態では、シール部３０は、基台２３に取り付けられる。具体的には、シール部３０は、その下面３０ａを基台２３の上側表面に接触させて、吸着板２４を囲むように取付けられる。すなわち、基台２３の上側表面において吸着板２４を囲む環状の領域が、シール部３０の下面３０ａが取付けられる取付部３７となる。
図２Ｂに示すように、取付部３７の位置は、吸着板２４の厚みがあるため吸着面２８よりも低い位置となる。このように、シール部３０の下面３０ａは、吸着面２８よりも低い位置に設けられた取付部３７に取り付けられる。

またシール部３０は、取付部３７に下面３０ａが取付けられた状態で上面３０ｂが吸着エリア２２（吸着面２８）よりも高く突出するように構成される。従ってワークステージ２０にワークＷを置いた場合、真空吸着を行っていない状態では、ワークＷはシール部３０の上面３０ｂに接触した状態で、吸着面２８から離間して保持される（図５Ａ参照）。またワークＷの真空吸着を行っている状態では、シール部３０は、吸着面２８に引き付けられるワークＷにより押し潰されて圧縮変形し、真空リークを抑制するリーク抑制機構として機能する（図５Ｂ参照）。

シール部３０の形状は、シール部３０とワークＷとが接触する領域が環状に閉じた領域となるように構成される。典型的には、シール部３０の外周の形状は、ワークＷの外周の形状と同形同大の形状に設定される。なお、シール部３０の形状は、ワークＷを適正に真空吸着することが可能となる範囲で、適宜設定されてよい。例えばシール部３０の外周がワークＷの外周の内側に収まるようにシール部３０が構成されてもよい。またワークＷの外周がシール部３０の内周と外周との間に収まるようにシール部３０が構成されてもよい。

シール部３０を、基台２３に取り付ける本構成では、シール部３０が取付けられる面（基台２３の上側表面）よりも吸着面２８が高い位置にある。このため、真空吸着時にはシール部３０の厚みが吸着板２４の厚みまで圧縮された時点で、ワークＷは吸着面２８に吸着保持される。すなわち吸着板２４の厚みにより、圧縮時のシール部３０の厚みがキャンセルされる。従って、圧縮時のシール部３０の厚みをキャンセルするために、基台２３の上側表面に余分な段差等を設ける必要はない。これにより、基台２３の構成がシンプルになり、製造コストを抑えることが可能となる。また吸着板２４に対しても余分な段差等を設ける必要が無いため、ワークＷに応じた様々な吸着板２４を安価に製造することが可能となる。

［シール部の構成］
図３は、シール部３０の基本的な構成について説明するための模式図である。図３には、シール部３０の基本的な平面構成が模式的に図示されている。ここでは、図３を参照してシール部３０を構成する各部について説明する。
シール部３０は、弾性部３１と、反発力抑制部４０とを有する。

弾性部３１は、弾性材料を用いて構成されたシール部３０の本体である。弾性部３１は、例えばゴムスポンジを用いて構成される。
弾性部３１構成する材料としては、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、フッ素ゴム、ウレタン等の低反発な弾性材料が用いられる。弾性部３１は、全体が同様の材料で構成されてもよいし、図９を参照して説明するように、部分的に異なる材料で構成されてもよい。
弾性部３１の平面形状は、吸着エリア２２を囲む帯状の領域となる。図３では、弾性部３１として矩形形状の帯状の領域が設けられる。従って、弾性部３１の平面形状は、矩形形状である。また図３では、吸着エリア２２（ここでは吸着板２４が配置される領域）が点線の領域により模式的に図示されている。
弾性部３１は、複数の辺部３２と、複数の角部３３と、載置面３４とを有する。

複数の辺部３２は、吸着エリア２２を囲んで配置される。１つの辺部３２は、例えば一方向に延在する細長い矩形形状の領域（一定の幅を持った直線状の領域）であり、矩形形状の弾性部３１において辺を形成する。
図３に示す例では、矩形形状の吸着エリア２２の図中上側、右側、下側、及び、左側を囲むように、一定の幅を持った直線状の４つの辺部３２が配置される。

複数の角部３３は、複数の辺部３２のうち隣合う辺部３２の間に形成される。１つの角部３３は、例えば互いに隣合う２つの辺部３２を接続する部分である。２つの辺部３２を直線と見做した場合、角部３３は２つの直線の間に形成される頂点に対応する。
図３に示す例では、矩形型に配置された４つの辺部３２に対応して、吸着エリア２２の図中右上側、左上側、左下側、及び、右下側に、それぞれ４つの角部３３が配置される。すなわち、複数の角部は、矩形形状の４つの頂点に対応する４つの角部３３を含む。

以下では、隣合う辺部３２を延長して交差させた場合に、２つの辺部３２が交差する領域を交差領域３５と記載する。例えば、図３に示すように、隣合う辺部３２が直交して配置され、各辺部３２の幅が等しい場合、交差領域３５は、一辺が辺部３２の幅と等しい正方形状の領域となる。上記した角部３３は、複数の辺部３２からなる弾性部３１において、交差領域３５に形成される部分であるともいえる。

載置面３４は、弾性部３１においてワークＷが載置される面である。ここでは、各辺部３２及び角部３３において、真空吸着を行っていない状態でワークＷが接触する面が、載置面３４となる。すなわち載置面３４は、弾性部３１（シール部３０）が圧縮されていない自然状態で、ワークＷを支持する面であるともいえる。
例えば、複数の辺部３２及び複数の角部３３の厚みは一定に設定される。この場合、弾性部３１の上側表面が全て載置面３４となる。また複数の辺部３２及び複数の角部３３の一部が低く構成された場合（図８等参照）、その部分を除く弾性部３１の上側表面が載置面３４となる。

反発力抑制部４０は、弾性部３１を圧縮した時に発生する反発力を抑制する構造部分である。弾性材料で構成された弾性部３１は、圧縮変形された場合、元の形状に戻ろうとして弾性部３１を圧縮する部材（ワークＷ）に対して反発力を作用させる。典型的には弾性部３１の圧縮量（潰れ量）が大きいほど、弾性部３１からの反発力は大きくなる。
反発力抑制部４０が設けられた部分では、反発力抑制部４０を設けない場合と比べてこのような反発力が小さくなる。

シール部３０では、反発力抑制部４０は、複数の角部３３の少なくとも１つに対して設けられる。反発力抑制部４０が設けられた角部３３では、弾性部３１の反発力が小さくなる。
本実施形態では、複数の角部３３の全てに反発力抑制部４０が設けられる。図３に示す例では、反発力抑制部４０が４つの角部３３にそれぞれ設けられる。これにより、矩形形状の弾性部３１の４隅で反発力を小さくすることが可能となる。
反発力抑制部４０の構成については、以下で具体的に説明する。

図４は、ワークステージ２０に設けられたシール部３０の平面構成例を示す模式図である。図４には、図２Ａ及び図２Ｂに示すワークステージ２０を上側からみた平面図が図示されている。以下ではシール部３０（弾性部３１）を構成する辺部３２及び角部３３の厚みが全て一定に設定されているものとする。

ここでは、反発力抑制部４０として、反発力が作用する面積を小さくする構造が用いられる。具体的には、反発力抑制部４０は、角部３３における載置面３４の面積が、角部３３につながる２つの辺部３２を延長して交差させた交差領域３５の面積よりも小さくする。これは、圧縮されていない角部３３がワークＷに接する面積を、交差領域３５よりも小さくすることを意味する。これにより、角部３３においてワークＷに作用する反発力を抑制することが可能である。

図４に示すように、ここでは、反発力抑制部４０として、角部３３の内側に形成された切り欠き４１が設けられる。すなわち、角部３３には、辺部３２が形成する内周が外側に向けてカットされた円形の切り欠き４１が形成される。また、切り欠き４１は、全ての角部３３に対して設けられる。すなわち、矩形形状のシール部３０（弾性部３１）には、４隅に対応して４つの切り欠き４１がそれぞれ設けられる。

ここで交差領域３５に注目する。図４には、シール部３０の左上の角部３３に重畳して、その角部３３につながる２つの辺部３２の交差領域３５が図示されている。
角部３３に形成される載置面３４の面積は、切り欠き４１を設けることで、交差領域３５よりも小さくなる。これにより、例えば辺部３２と同様の材料で構成された角部３３において交差領域３５の全面が載置面３４となる構成（図１０参照）と比べて、角部３３において発生する反発力を小さくすることが可能となる。
なお、図４では、切り欠き４１により、角部３３だけでなく、辺部３２の角部３３につながる部分（辺部３２の端部）もカットされる。これにより、以下で説明する角部３３における盛り上がりを十分に回避することが可能となる。

また図４に示す例では、シール部３０が４つの部材３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄを張り合わせて形成されている。このうち、図中上側及び下側に配置された部材３６ａ及び３６ｃは、図中右側及び左側に配置された部材３６ｂ及び３６ｄで挟まれており、ともに辺部３２を構成する。一方、部材３６ｂ及び３６ｄの両端は、部材３６ａ及び３６ｃが隣接して配置されるため角部３３を構成する。このように、シール部３０が複数の部材３６に分かれて構成される場合でも、平面形状において角部３３となる部分に対して反発力抑制部４０（ここでは切り欠き４１）が設けられる。
また４つの部材３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄの間には一定の隙間が形成されることもあるが、このような隙間は圧縮変形した際に埋められるため、真空リークを発生させる心配はない。
なお、シール部３０（弾性部３１）を複数の部材３６に分けて構成する場合に限定されず、例えば１つながりの部材としてシール部３０が一体的に形成されてもよい。

［シール部を用いた真空吸着］
図５は、ワークステージ２０による真空吸着の動作を示す模式図である。図５Ａ及び図５Ｂは、真空吸着を行う前の状態及び真空吸着を行っている状態を示すワークステージ２０の断面図である。
図５Ａに示すように、ワークＷをワークステージ２０に載置した状態では、基台２３の凹部２５は大気圧であり、シール部３０（弾性部３１）の辺部３２や角部３３はほとんど変形しておらず自然状態である。この場合、ワークＷは、吸着面２８（吸着板２４）から浮いた状態で、シール部３０の載置面３４上で支持される。

図５Ｂに示すように、配管Ｌを介して凹部２５に真空を供給すると、真空吸着が行われる。真空吸着中は、ワークＷをワークステージ２０の表面である吸着面２８に押さえつける力が働き、ワークＷ裏面の周辺部が、シール部３０に押し付けられる。これにより、シール部３０は、ワークＷから圧縮される方向に力を受け圧縮変形する。このとき、ワークＷ裏面の周辺部の形状に合わせてシール部３０が変形することで、真空リークの発生等が防止される。これにより、ワークＷは吸着面２８に充分な力で押しつけられ、ワークＷを吸着面２８（吸着エリア２２）上でしっかりと吸着保持することが可能となる。
このような過程を経るため、ワークＷは中心部、周辺部の順に吸着板２４の表面に押さえつけられる。

シール部３０が厚み方向に圧縮変形される場合、シール部３０は厚み方向と直交する横方向に膨らむことが考えられる。この場合、２つの辺部３２が交わる部分、すなわちシール部３０の角部３３には、２つの辺部３２の横方向への膨らみが集中し、逃げ場を失った膨らみにより角部３３が盛り上がる可能性がある。これは、角部３３において、各辺部３２から角部３３に集中した横方向へ変形が反発力に変換されているともいえる。この結果、ワークＷの４隅では、他の場所と比べて局所的におおきな反発力が作用し、ワークＷの４隅が盛り上がってしまう可能性がある。この結果、ワークＷの平坦度が低下する可能性がある（図１０参照）。

上記したように図４に示す例では、シール部３０の４隅（４つの角部３３）に切り欠き４１を設けて反発力を抑制している。また切り欠き４１があることで、例えば隣合う辺部３２からの横方向の盛り上がりを逃がす構造となっている。
これにより、ワークＷは盛り上がることなく、吸着板２４の表面に充分な力で押しつけられ、ワークステージ２０上で高い平坦度でワークＷを保持することが可能となる。この結果、露光装置１００では、デフォーカスによる露光不良を適切に抑制することができ、歩留まりの悪化を十分に回避することが可能となる。

［反発力抑制部の構成例］
図６は、反発力抑制部４０の構成例を示す模式図である。図６Ａ～図６Ｄには、角部３３における載置面３４の面積を交差領域３５よりも小さくした構成例が模式的に図示されている。また図６Ｅには、角部３３の周辺における載置面３４の面積を小さくした構成例が模式的に図示されている。ここでは、シール部３０に含まれる複数の角部３３のうち１つの角部３３に設けられた反発力抑制部４０を代表して図示している。

図６Ａでは、反発力抑制部４０として角部３３の内側に切り欠き４１が設けられる。また切り欠き４１の平面形状は、円形である。これは図４に示した切り欠き４１と同様の構成である。円形の切り欠き４１を設けることで、例えば横方向における応力の集中を分散することが可能となり、角部３３における盛り上がりを十分に抑制することが可能となる。

図６Ｂでは、反発力抑制部４０として角部３３の内側に切り欠き４１が設けられる。また切り欠き４１の平面形状は、四角形である。四角形の切り欠き４１は、例えばシール部３０を構成する弾性部材を直線的にカットすることで容易に形成することが可能である。これにより、シール部３０の製造性が向上し、製造コストを抑えることが可能である。

図６Ｃでは、反発力抑制部４０として角部３３の外周を切除した外周切除部４２が設けられる。図６Ｃに示す外周切除部４２では、交差領域３５のうち内側の頂点と外側の頂点の間の対角線に沿って外側の頂点を含む領域が切除される。これにより、角部３３における載置面３４の面積は交差領域３５よりも小さくなる。このように、角部３３の外側を切除した場合でも、圧縮時にワークＷに接する面が少なくなるため、角部３３における反発力を低減することが可能となる。

図６Ｄでは、反発力抑制部４０として角部３３（交差領域３５）と重なるように開口部４５が設けられる。開口部４５は、外周が閉じた貫通穴である。図６Ｄでは、交差領域３５の内側に円形の開口部４５が設けられる。これにより、角部３３における載置面３４の面積は交差領域３５よりも小さくなる。このように、角部３３の内側に貫通穴を設けた場合でも、角部３３における反発力を低減することが可能となる。

このように、図６Ａ、図６Ｂ、図６Ｃ、及び図６Ｄでは、反発力抑制部４０は、交差領域３５と重なるように配置される。これにより、角部３３における反発力を直接低減することが可能となり、ワークＷの盛り上がりを十分に抑制することが可能となる。この結果、ワークＷの平坦度を十分に向上することが可能となる。

図６Ｅでは、反発力抑制部４０として角部３３につながる辺部３２の内側に切り欠き４１が設けられる。具体的には、角部３３につながる２つの辺部３２のうち交差領域３５に接する部分に内側からそれぞれ切り欠き４１ａ及び４１ｂが形成される。このように、反発力抑制部４０は、交差領域３５と接するように配置されてもよい。このような場合でも、角部３３に集中する横方向の膨らみが抑制され、角部３３における反発力を下げることが可能となる。

図７は、シール部３０の他の構成例を示す模式図である。
上記したシール部３０では、隣接する２つの辺部３２を構成する部材の内、一方の部材により角部３３が形成された。図７Ａ及び図７Ｂでは、シール部３０の各部（２つの辺部３２及び角部３３）を構成する部材の分け方が上記した例とは異なる。

図７Ａでは、２つの辺部３２及び角部３３が別々の部材で構成される。ここでは、角部３３となる部材に隣接して、辺部３２となる２つの部材が配置される。このとき各辺部３２の間の角度は９０度に設定される。また図７Ａでは、反発力抑制部４０として、３つの部材（２つの辺部３２及び角部３３）に重なるように円形の切り欠き４１が形成される。これは、図６Ａに示すシール部３０の角部３３を辺部３２とは別の部材で構成した例であるともいえる。

例えば円形の切り欠き４１の中心は、交差領域３５の外側の頂点（図中左上の頂点）と内側の頂点（図中右下の頂点）とを結ぶ線上に設定される。この場合、円形の切り欠き４１により切除された２つの辺部３２の形状は、互いに線対称な形状となる。
このように、２つの辺部３２の形状が線対称となる場合、一方の辺部３２の上面及び下面（または辺部３２の上下や左右の配置）を反転させることで、他方の辺部３２として使用することが可能となる。すなわち辺部３２を構成する部材を共通化することが可能となる。また角部３３はどの頂点でも用いることが可能であり、角部３３を構成する部材についても共通化が可能である。これにより、角部３３や辺部３２を構成する部材を共通化して製造コストを抑えることが可能となる。

図７Ｂでは、隣接する２つの辺部３２を構成する２つの部材により角部３３が形成される。辺部３２となる２つの部材の平面形状は、細長い長方形の端に、長手方向に対して所定の角度で傾斜した斜辺３８を設けた形状となっている。例えば図７Ｂに示すように、２つの辺部３２の間の角度を９０度に設定する場合、各部材の端には長手方向に対して４５度傾斜した斜辺３８が形成される。辺部３２となる２つの部材は、斜辺３８により形成される鋭角の頂点が向き合うように、各斜辺３８を対向させて配置される。また、２つの斜辺３８を含む領域に交差領域３５が形成され、辺部３２となる２つの部材のうち交差領域３５と重なる部分が角部３３となる。

また図７Ｂでは、反発力抑制部４０として、２つの辺部３２及び角部３３を構成する２つの部材に重なるように円形の切り欠き４１が形成される。これは、図６Ａに示すシール部３０において、２つの辺部３２を構成する２つの部材により角部３３を構成した例であるともいえる。
この場合、図７Ａと同様に、円形の切り欠き４１の中心を交差領域３５の外側の頂点と内側の頂点とを結ぶ線上に設定することで、２つの部材の形状は、互いに線対称な形状となる。これにより辺部３２及び角部３３を構成する２つの部材を共通化することや、部品点数を少なくすることが可能となる。

図７Ａ及び図７Ｂでは、反発力抑制部４０として、円形の切り欠き４１を設ける例について説明したが、これに限定されない。
例えば、円形の切り欠き４１に代えて、図６Ｂと同様に四角形の切り欠き４１が設けられてもよい。また図６Ｃと同様に角部３３の外周を切除した外周切除部４２が設けられてもよい。また図６Ｄと同様に角部３３と重なるように開口部４５が設けられてもよい。また図６Ｅと同様に角部３３につながる辺部３２の内側に切り欠き４１が設けられてもよい。
いずれの場合でも、辺部３２の平面形状を線対称な形状とすることで、２つの部材を共通化することが可能である。

図８は、反発力抑制部の他の構成例を示す模式図である。
図８では、反発力抑制部４０として、角部３３の少なくとも一部の表面を載置面３４に対して低くした段差部４３が用いられる。段差部４３は、角部３３の上側表面の全部または一部を他の部分に対してへこませた段差である。

図８Ａ及び図８Ｂには、交差領域３５の全面に形成された段差部４３を示す平面図が模式的に図示されている。図中の斜線の領域が段差部４３であり、段差部４３は交差領域３５と同じ大きさに設定される。また図８Ｃには、図８Ａ及び図８Ｂに示す段差部４３を示す斜視図が模式的に図示されている。図８Ｃに示すように、段差部４３となった部分は、隣接する辺部３２が形成する載置面３４に対して、所定の深さだけ凹んだ領域となる。

図８Ａでは、２つの辺部３２と角部３３とが別々の部材で構成される。この場合、角部３３を構成する部材の厚みは、辺部３２を構成する部材の厚みよりも小さく設定される。これにより、角部３３の上側表面には、辺部３２の上側表面（載置面３４）よりも低い段差部４３が構成される。
例えば、辺部３２の一部に角部３３を形成する場合、辺部３２の厚みを部分的に小さくする加工等が必要となる。これに対し、角部３３を辺部３２とは別部材で構成することで、辺部３２に角部３３を設けるための加工等が不要となり、角部３３及び辺部３２となる部材を容易に製造することが可能となる。

図８Ｂでは、２つの辺部３２を構成する部材のうち、一方の辺部３２を構成する部材に角部３３が形成される。この場合、角部３３となる部分の厚みは、他の部分の厚みよりも小さく設定される。これにより、角部３３となる部分には、載置面３４よりも低い段差部４３が構成される。
このように、辺部３２と角部３３とを一体的に形成してもよい。これにより、部材点数を少なくすることが可能となる。

自然状態での段差部４３の厚みは、載置面３４となる位置（辺部３２）の厚みよりも小さく、かつ真空吸着時に圧縮変形された状態でのシール部３０の厚み（本実施形態では、吸着板２４の厚み）よりも大きく設定される。この場合、段差部４３では載置面３４となる位置よりも厚みが小さくなっているため、反発力が小さくなる。これにより、角部３３における反発力を直接低減することが可能となり、ワークＷの盛り上がりを十分に抑制することが可能となる。
また圧縮変形された場合には、段差部４３も多少圧縮されることになるので、ワークＷに密着するため真空リークの発生を抑制することが可能である。

図８Ｄには、交差領域３５の一部に形成された段差部４３の一例を示す平面図が模式的に図示されている。図８Ｄに示す斜線の領域が段差部４３である。ここでは、角部３３と重なる交差領域３５のうち内側の頂点と外側の頂点の間の対角線で分けられる外側の頂点を含む領域に段差部４３が形成される。なお、内側の頂点を含む領域は、辺部３２と同じ厚みに設定され載置面３４として機能する。
なお図８Ｄでは、角部３３が辺部３２とは別部材で構成されているが、角部３３が辺部３２と一体的に構成されてもよい。

このように、交差領域３５の一部だけを段差部４３とする構成であっても、角部３３に発生する反発力を低減することが可能となり、ワークＷの盛り上がりを抑制することが可能となる。また角部３３には段差部４３の他に載置面３４が形成される。このため角部３３はワークＷに確実に密着することになり、真空リークの発生を十分に抑制することが可能である。

図９は、反発力抑制部の他の構成例を示す模式図である。
図９では、反発力抑制部４０として、角部３３に配置され辺部３２よりも反発力が低い弾性材料で構成される低反発部４４が用いられる。低反発部４４は、辺部３２を構成する弾性材料よりも低反発な弾性材料を用いて構成される。例えば辺部３２に用いられる材料よりも気孔量を多くして反発力を低減したゴムスポンジ等が低反発部４４として用いられる。

図９Ａでは、２つの辺部３２と角部３３とが別々の部材で構成され、各部材を個別に取り付けてシール部３０が構成される。角部３３を構成する部材としては、辺部３２よりも低反発な部材が用いられ、角部３３全体が低反発部４４となる。この場合、反発力の異なる材料を加工して、角部３３及び辺部３２となる部材を容易に製造することが可能となる。
図９Ｂでは、２つの辺部３２を構成する部材のうち、一方の辺部３２を構成する部材と一体的に角部３３が形成される。例えば、辺部３２を構成する部材のうち角部３３となる部分に、より低反発な部材を接着して低反発部４４が形成される。この場合、取り付けが必要な部材点数を少なくすることが可能となる。

例えば、低反発部４４（角部３３）の厚みは、辺部３２の厚みと等しく設定される。この場合、低反発部４４の上側表面は、辺部３２の上側表面とともに載置面３４として機能する。またワークＷが載置され真空吸着が行われている状態では、低反発部４４（角部３３）及び辺部３２は同じ変位量で圧縮変形される。この時、低反発部４４（角部３３）における反発力は辺部３２と比べ低いため、ワークＷの隅の盛り上がりを抑制することが可能となる。

なお低反発部４４の位置や形状等は限定されない。例えば角部３３に加え、２つの辺部３２において角部３３に接する部分にも低反発部４４が設けられてもよい。また例えば、角部３３の少なくとも１つに低反発部４４が設けられてもよい。この場合でも、角部３３における反発力が抑制され、ワークＷの盛り上がりを抑制することが可能となる。

図６～図９を参照して説明したように、本実施形態では、シール部３０に形成される角部３３に対して、切り欠き４１、段差部４３、低反発部４４等の反発力抑制部４０が設けられる。このようなシール部３０によりワークＷを真空吸着して保持する構成とすることで、真空吸着した際にワークＷの４隅の盛り上がりを抑制することが可能となる。この結果、ワークＷを適切に平面保持することが可能となる。

以上、本実施形態に係るワークステージ２０では、ワークＷを真空吸着する吸着エリア２２を囲むように弾性部３１からなるシール部３０が配置される。シール部３０を構成する角部３３には反発力抑制部４０が設けられる。これにより、角部３３における反発力が抑制されワークＷの盛り上がりを低減することが可能となる。この結果、平坦度が高い真空吸着を実現することが可能となる。

図１０は、比較例として挙げるシール部５０を示す模式図である。図１０に示すシール部５０に設けられる角部３３は、辺部３２と同様の材質で構成され、辺部３２と同様の厚みであり、各辺は辺部３２と同様の幅に設定される。つまり２つの辺部３２の交差領域３５の全面に、辺部３２と同様の材質で角部３３が構成される。この場合、シール部３０が厚み方向に圧縮変形されると、２つの辺部３２の横方向への膨らみが角部３３に集中し、角部３３が盛り上がることが考えられる。

ワークステージ２０には、載置されたワークＷが確実に吸着保持され、吸着保持中のワークＷが平面となることが求められる。しかし、図１０に示す例では、真空吸着されたワークＷの４隅が盛り上がってしまい、ワークＷの平面度が低下する可能性がある。近年では、配線の微細化や実装密度の高密度化に伴い、ワークＷに露光されるパターンがより細かくなってきている。このため、例えばワークＷの盛り上がりが僅かである場合でも、盛り上がった部分やその周辺では、露光などの加工処理を行う際にデフォーカスが発生して露光不良となる。その結果、歩留まりが悪化するという問題があった。

本実施形態では、シール部３０において盛り上がりを発生させやすい角部３３に対して反発力抑制部４０が設けられる。例えば、四隅に設けた切り欠き４１、段差部４３、及び低反発部４４等が反発力抑制部４０となる。これらの反発力抑制部４０により、角部３３からワークＷに作用する反発力が抑制される。

このように、反発力抑制部４０が設けられたシール部３０を導入することで、真空吸着によりワークＷを保持するワークステージ２０において、ワークＷを真空吸着した場合に、４隅の盛り上がりを抑制し、ワークＷを平面度よく吸着保持することが可能となる。この結果、デフォーカス等による露光不良を十分に抑制し、歩留まりを向上することが可能となる。

ワークステージ２０に吸着保持されて加工処理されるワークＷの１つとして、プリント基板が挙げられる。プリント基板は、ガラスエポキシ等の樹脂基板に、回路等のパターンを形成加工することにより製作される。近年、プリント基板の適用される分野が広がり、柔らかく変形しやすい基板や、複雑な形状をした多数の切り欠きや貫通孔を有する基板など、様々な種類の基板が使用されるようになってきた。また、プリント基板は年々大型化しており、基板の反りや変形が発生しやすくなっている。

本発明のワークステージ２０によれば、反りや変形が大きく生じやすいワークＷであっても、ワークＷの四隅の盛り上がりを抑制し、ワークＷを適切に平面保持することが可能となる。また、このようなワークステージ２０を使用した露光装置によれば、高精度な露光を実現することができる。また、露光不良が抑制されるため、歩留まりを向上することが可能となる。

＜第２の実施形態＞
本発明に係る第２の実施形態に係るワークステージについて説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明したワークステージ２０における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。

図１１は、第２の実施形態に係るワークステージの構成例を示す模式図である。図１１Ａは、ワークステージ２２０を分解した状態を示す模式的な斜視図である。また図１１Ｂは、ワークステージ２２０の構成例を示す模式的な断面図である。
図１１に示すように、ワークステージ２２０は、基台２２３及び吸着板２２４により構成される吸着部２２１と、シール部２３０とを有する。このうち、基台２２３は、例えば図２等を参照して説明した基台２３と同様に構成される。

図１１Ａに示すように、ワークステージ２２０では、シール部２３０は、吸着板２２４に取り付けられる。ここでは、基台２２３の凹部２５を完全に覆う矩形形状の吸着板２２４の上側に、吸着面２８（吸着エリア２２）を囲うようにシール部２３０が配置される。またシール部２３０の４つの角部３３には、それぞれ反発力抑制部４０（ここでは円形の切り欠き４１）が設けられる。これにより、４隅の盛り上がりを抑制することが可能となる。

また吸着エリア２２の周囲には、シール部２３０の下面２３０ａが取付けられる取付部３７が設けられる。取付部３７は、吸着面２８よりも低い段差として構成され、シール部２３０の下面２３０ａは、吸着面２８よりも低い位置に取り付けられる。また、シール部３０は、取付部３７に下面２３０ａが取付けられた状態で上面２３０ｂが吸着面２８よりも高く突出するように構成される。このような構成により、圧縮時のシール部２３０の厚みがキャンセルされ、ワークＷを適正に真空吸着することが可能となる。

このように、吸着板２２４にシール部２３０を設ける構成により、対応可能なワークＷのサイズが広がる。例えば吸着エリア２２及びシール部２３０の形状は、ワークステージ２２０に置かれるワークＷの形に合わせて構成される。これにより、例えば基台２２３の凹部２５の平面形状よりも小さいワークＷ等であっても、高い平面度で適正に真空吸着することが可能となる。

＜その他の実施形態＞
本発明は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。

上記の実施形態では、基台に対して吸着板をネジ止めするように構成されたワークステージについて説明した（図２及び図１１参照）。吸着板を固定する方法は限定されず、例えば真空吸着を利用して吸着板を固定する方法が用いられてもよい。

図１２Ａは、他の実施形態に係るワークステージの構成例を示す模式図である。
ワークステージ３２０は、基台３２３及び吸着板３２４により構成される吸着部３２１と、シール部３３０とを有する。このうち、上記したワークステージに対して、主に基台３２３及び吸着板３２４の構成が異なる。また図１２Ａでは、シール部３３０は、吸着板３２４を囲むように基台３２３に取り付けられる。

基台３２３は、第１の凹部３２５と、第１の凸部３２６と、第１の真空導入路３２７と、第２の凹部３５５と、第２の凸部３５６と、第２の真空導入路３５７とを有する。
基台３２３の上側表面の中央部には第１の凹部３２５が形成され、第１の凹部３２５内には吸着板３２４を載せる複数の第１の凸部３２６と第２の凸部３５６とが形成されている。第２の凸部３５６は、第１の凹部３２５の中央部に設けられた環状の突出部分であり、その内側には第２の凹部３５５が形成される。

第１の凹部３２５には、複数の第１の真空導入路３２７が設けられている。各第１の真空導入路３２７は、基台３２３に取り付けられた第１の真空系（配管Ｌ１）に接続される。配管Ｌ１に供給された真空またはエアーは、第１の真空導入路３２７から第１の凹部３２５に導かれる。
第２の凹部３５５には、複数の第２の真空導入路３５７が設けられている。各第２の真空導入路３５７は、基台３２３に取り付けられた第２の真空系（配管Ｌ２）に接続される。配管Ｌ２に供給された真空またはエアーは、第２の真空導入路３５７から第２の凹部３５５に導かれる。
なお配管Ｌ１（第１の真空系）及び配管Ｌ２（第２の真空系）に対する真空またはエアーの導入は、独立して制御可能である。

また基台３２３の上側表面は精度の良い平面に仕上げられている。ここで上側表面とは、第１の凸部３２６の上面、第２の凸部３５６の上面、及び基台３２３の上側の外周面（第１の凹部３２５の縁を囲む面）でつくる面である。即ち、第１の凸部３２６の上面、第２の凸部３５６の上面、及び基台３２３の外周面とは同じ高さである。

第１の凹部３２５、第１の凸部３２６、及び第１の真空導入路３２７は、例えば図２に示す凹部２５、凸部２６、及び真空導入路２７に対応する。従って、基台３２３は、図２に示す基台２３に、第２の凹部３５５、第２の凸部３５６、及び第２の真空導入路３５７を設け、第２の真空系である配管Ｌ２を接続した構成となっているともいえる。

吸着板３２４は、基台３２３の第１の凹部３２５を完全に覆う薄い板状部材である。吸着板３２４は、吸着面２８と、複数の真空吸着孔２９とを有する。
吸着面２８は、吸着エリア２２を形成し、真空吸着時にワークＷが保持される面となる。
複数の真空吸着孔２９は、吸着面２８に形成された貫通孔である。各真空吸着孔２９は、上側から見た平面視において、第１の凹部３２５と重なる領域のうち、第２の凸部３５６と重なる固定用領域６０（図中の点線の領域）を除く領域の全面に渡って設けられる。なお、固定用領域６０には、貫通孔は設けられず、第２の凸部３５６（第２の凹部３５５）を完全にふさぐ領域となる。

ここでワークステージ３２０の動作について説明する。ワークステージ３２０では、配管Ｌ１及びＬ２が閉じられており、真空やエアーの供給がない状態で、基台３２３の上側表面に吸着板３２４が載置される。このとき、吸着板３２４は、固定用領域６０と第２の凸部３５６とが重なるように配置される。
吸着板３２４が載置された状態で、配管Ｌ２に真空が供給される。この結果、第２の真空導入路３５７を介して第２の凹部３５５に真空が導入され、吸着板３２４が真空吸着される。これにより、基台３２３に対して吸着板３２４を固定することが可能となる。

吸着板３２４が固定された状態で、ワークＷが吸着板３２４（吸着面２８）上に配置される。この時ワークＷは、吸着面２８から浮いた状態でシール部３３０の載置面３４により支持される。このようにワークＷが載置された状態で、配管Ｌ１に真空が供給される。この結果、第１の真空導入路３２７を介して第１の凹部３２５に真空が導入され、ワークＷが真空吸着孔２９を介して吸着面２８に真空吸着される。これにより、吸着板３２４に対してワークＷを固定することが可能となる。
また、ワークＷに対する露光等の処理が完了した場合、配管Ｌ１にエアーが供給され、ワークＷの真空吸着が解除される。

このようにワークＷの真空吸着を実行している期間や、ワークＷの真空吸着が解除されている期間にも、配管Ｌ２による真空引きが行われ、吸着板３２４は基台３２３に対して継続して固定される。
また、吸着板３２４を交換する場合には、配管Ｌ２による真空引きを停止し、配管Ｌ２からエアー等の供給が行われる。これにより、吸着板３２４を容易に取り外すことが可能である。
なお、吸着板３２４の固定用領域６０には貫通孔等は設けられていないため、ワークＷが、配管Ｌ２による真空引きにより吸着されるといったことはない。すなわち、吸着板３２４の真空吸着とワークＷの真空吸着とは完全に独立して行うことが可能である。

図１２Ｂは、他の実施形態に係るワークステージの構成例を示す模式図であり、図１２Ａにおけるシール部３３０の配置を変更したものである。図１２Ｂに示すワークステージ４２０では、シール部３３０は、吸着面２８を囲むように吸着板３２４に取り付けられる。このようにシール部３３０を吸着板３２４に取り付けた構成であっても、吸着板３２４の真空吸着とワークＷの真空吸着とは完全に独立して行うことが可能である。

またワークステージ４２０では、吸着板３２４の平面形状が、例えば上側から見た基台３２３の外周部の平面形状と同形同大に設定される。これにより、基台３２３にシール部３３０を配置する場合よりもより大きなワークＷを真空吸着することが可能となる。

このように、ワークステージ３２０及び４２０では、吸着板３２４が基台３２３に対して裏面から真空吸着される。これにより、ネジ止め等が邪魔にならず、吸着板３２４（または基台３２３）の外周部の端まで吸着面２８として利用することが可能となる。
また、吸着板３２４の交換に際して、ネジ止め等の作業が不要となり、狭い領域でも容易に吸着板３２４の交換作業等を行うことが可能となる。

上記では、平面形状が矩形形状のシール部について、４つの角部３３の全てに反発力抑制部４０が設けられる構成について説明した。必ずしも反発力抑制部４０を４つの角部３３の全てに設ける必要はなく、例えばワークＷの材質や厚み等に応じて、４つの角部３３の少なくとも１つに反発力抑制部４０が設けられてもよい。このような構成であっても、反発力抑制部４０が設けられた角部３３では、ワークＷの盛り上がりを抑制することが可能である。

また角部３３ごとに、特性や種類の異なる反発力抑制部４０が設けられてもよい。例えば、反発力抑制部４０として、角部３３ごとに大きさや形状の異なる切り欠き４１等が設けられてもよい。また例えば、切り欠き４１、段差部４３、低反発部４４といった異なる種類の反発力抑制部４０が混在して設けられてもよい。
この他、反発力抑制部４０を設ける角部３３の選択や、各角部３３に設けられる反発力抑制部４０の特性や種類等は限定されず、ワークＷの種類や要求される平面度等に応じて適宜設定されてよい。

図１３は、他の実施形態に係るシール部の構成例について説明する模式図である。
上記では、主に平面形状が矩形形状となるシール部について説明した。シール部の形状は限定されない。

図１３には、矩形形状の一辺に内側に凹んだ凹状領域５１（図中の点線の領域）が形成された変形多角形形状のシール部４３０が模式的に図示されている。ここでは、凹状領域５１は、４つの角部３３によって囲まれた矩形状の領域として構成される。この場合、シール部４３０には、凹状領域５１以外に形成された角部３３を含め全体で８つの角部３３が形成される。

このような場合でも、各角部３３に対して反発力抑制部４０（ここでは円形の切り欠き４１）を設けることで、角部３３における反発力が抑制され、ワークＷの盛り上がりを抑制することが可能となる。これにより外周に切り欠きがある複雑な形状のワークＷであっても、高い平面度で適正に真空吸着することが可能となる。

なお凹状領域５１を覆うようにワークＷが配置されてもよい。この場合、凹状領域５１は、ワークＷを搬送する際にワークＷを挟む治具等が入り込むスペースとして用いることが可能である。このように、シール部４３０の形状が搬送系等を導入するために変形するような場合であっても、反発力抑制部４０を設けることで、変形した部分（凹状領域５１）でのワークＷの盛り上がりを十分に抑制することが可能となる。

この他、シール部の形状は限定されない。本発明は、角部が形成される形状であれば、任意の形状に適用可能である。例えば角部の角度（辺部の交差角度）は９０度である必要はなく、例えばひし形、平行四辺形のシール部が構成されてもよい。また例えば３角形や５角形といった多角形形状のシール部が構成されてもよい。また辺部の形状も限定されず、例えば辺部の一部が曲線で形成されていてもよい。

図６等を参照して説明した反発力抑制部では、主に切り欠きや段差を角部に形成することで、角部における載置面（ワークに対する接触面積）を小さくする構成について説明した。これに限定されず、例えば角部の上側表面に斜面や溝を形成して角部における載置面を小さくしてもよい。また角部の載置面を残したまま、角部を構成する材料の内部に空洞や切込み等を形成して角部における反発力を小さくしてもよい。この他、角部における反発力を抑制可能な任意の構造が反発力抑制部として用いられてよい。

上記の実施形態では、主に露光装置に用いるワークステージ（保持機構）を例にして説明した。露光装置以外であっても、基板を真空吸着保持して処理する装置であれば、本発明に係るワークステージ（保持機構）を使用することができる。例えば蒸着、エッチング、スパッタリング、研磨、切削といった種々の加工処理を行う装置において、本保持機構が利用されてよい。これにより高い平面度でワークＷが保持されるため、各加工処理を高精度に行うことが可能となる。

本開示において、説明の理解を容易とするために、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が適宜使用されている。一方で、これら「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言を使用する場合と使用しない場合とで、明確な差異が規定されるわけではない。
すなわち、本開示において、「中心」「中央」「均一」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「延在」「軸方向」「円柱形状」「円筒形状」「リング形状」「円環形状」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に中央」「実質的に均一」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に延在」「実質的に軸方向」「実質的に円柱形状」「実質的に円筒形状」「実質的にリング形状」「実質的に円環形状」等を含む概念とする。
例えば「完全に中心」「完全に中央」「完全に均一」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に延在」「完全に軸方向」「完全に円柱形状」「完全に円筒形状」「完全にリング形状」「完全に円環形状」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
従って、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現され得る概念が含まれ得る。反対に、「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現された状態について、完全な状態が必ず排除されるというわけではない。

本開示において、「Ａより大きい」「Ａより小さい」といった「より」を使った表現は、Ａと同等である場合を含む概念と、Ａと同等である場合を含なまい概念の両方を包括的に含む表現である。例えば「Ａより大きい」は、Ａと同等は含まない場合に限定されず、「Ａ以上」も含む。また「Ａより小さい」は、「Ａ未満」に限定されず、「Ａ以下」も含む。
本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。

以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。

Ｗ…ワーク
１０…光照射部
１１…マスクステージ
２０、２２０、３２０、４２０…ワークステージ
２１、２２１、３２１…吸着部
２２…吸着エリア
２３、２２３、３２３…基台
２４、２２４、３２４…吸着板
３０、２３０、３３０、４３０…シール部
３１…弾性部
３２…辺部
３３…角部
３４…載置面
３５…交差領域
４０…反発力抑制部
１００…露光装置

Claims (12)

1. 基板を真空吸着する吸着エリアを有する吸着部と、
   前記吸着エリアを囲んで配置された複数の辺部と前記複数の辺部のうち隣合う辺部の間に形成された複数の角部とを有する弾性部と、前記複数の角部の少なくとも１つに対して設けられた反発力抑制部とを有するシール部と
   を具備する保持機構。
2. 請求項１に記載の保持機構であって、
   前記弾性部は、前記基板が載置される載置面を有し、
   前記反発力抑制部は、前記角部における前記載置面の面積を、前記角部につながる２つの辺部を延長して交差させた交差領域の面積よりも小さくした構造である
   保持機構。
3. 請求項２に記載の保持機構であって、
   前記反発力抑制部は、前記角部の内側に形成された切り欠きである
   保持機構。
4. 請求項３に記載の保持機構であって、
   前記切り欠きの平面形状は、四角形又は円形のいずれか一方である
   保持機構。
5. 請求項２に記載の保持機構であって、
   前記反発力抑制部は、前記角部の少なくとも一部の表面を前記載置面に対して低くした段差部である
   保持機構。
6. 請求項１に記載の保持機構であって、
   前記反発力抑制部は、前記角部に配置され前記辺部よりも反発力が低い弾性材料で構成される低反発部である
   保持機構。
7. 請求項１から６のうちいずれか１項に記載の保持機構であって、
   前記反発力抑制部は、前記角部につながる２つの辺部を延長して交差させた交差領域と重なるように配置される、又は前記交差領域と接するように配置される
   保持機構。
8. 請求項１から６のうちいずれか１項に記載の保持機構であって、
   前記弾性部の平面形状は、矩形形状であり、
   前記複数の角部は、前記矩形形状の４つの頂点に対応する４つの角部を含み
   前記反発力抑制部は、前記４つの角部の少なくとも１つに設けられる
   保持機構。
9. 請求項１から６のうちいずれか１項に記載の保持機構であって、
   前記吸着部は、真空を供給する凹部と当該凹部内に形成された複数の凸部とを有する基台と、前記吸着エリアを形成する吸着面と当該吸着面に形成された複数の貫通孔とを有し前記凹部上に取り付けられる吸着板とを有し、
   前記シール部は、前記基台又は前記吸着板のどちらか一方に取り付けられる
   保持機構。
10. 請求項９に記載の保持機構であって、
    前記吸着部は、前記吸着面よりも低い位置に設けられ前記シール部の下面が取付けられる取付部を有し、
    前記シール部は、前記取付部に前記下面が取付けられた状態で前記下面とは反対側となる上面が前記吸着面よりも高く突出するように構成される
    保持機構。
11. 請求項１から６のうちいずれか１項に記載の保持機構であって、
    前記弾性部は、ゴムスポンジを用いて構成される
    保持機構。
12. 露光光を出射する光出射部と、
    パターンが形成されたマスクを前記露光光の光路上で保持するマスクステージと、
    前記パターンが転写されるワークを保持するワークステージと
    を具備し、
    前記ワークステージは、前記ワークを真空吸着する吸着エリアを有する吸着部と、前記吸着エリアを囲んで配置された複数の辺部と前記複数の辺部のうち隣合う辺部の間に形成された複数の角部とを有する弾性部と、前記複数の角部の少なくとも１つに対して設けられた反発力抑制部とを有するシール部とを有する
    露光装置。

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