TWI527777B - Manufacture of glass plate and manufacturing method of glass plate - Google Patents

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TWI527777B
TWI527777B TW100138340A TW100138340A TWI527777B TW I527777 B TWI527777 B TW I527777B TW 100138340 A TW100138340 A TW 100138340A TW 100138340 A TW100138340 A TW 100138340A TW I527777 B TWI527777 B TW I527777B
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Tetsushi Takiguchi
Tokuhiro Kagami
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Asahi Glass Co Ltd
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Description

玻璃板之製造裝置及玻璃板之製造方法
本發明係關於一種玻璃板之製造裝置及玻璃板之製造方法。
作為玻璃板之具有代表性之製造方法之一，已知有浮式法。於浮式法中，係將熔融玻璃連續地供給至浮式浴槽內之熔融金屬(例如熔融錫)之浴面而形成帶板狀之玻璃帶。玻璃帶自浴面提起後，自浮式浴槽之出口拉出，於提昇輥(lift out roll)上被搬送。繼而，玻璃帶被搬送至緩冷爐內，一面於搬送輥上搬送一面進行緩冷。繼而，玻璃帶被搬出至緩冷爐外，冷卻至室溫附近為止後，切割成特定尺寸，而成為作為製品之玻璃板。
然後，玻璃帶存在於浮式浴槽與緩冷爐之間與外部空氣接觸，從而受到其溫度影響之情況。其結果將導致玻璃帶產生變形，即便使緩冷爐內之溫度分佈最佳化，亦存在作為翹曲殘留於製品上之情況。
因此，提出有於浮式浴槽與緩冷爐之間設置具有隔熱構造之腔室，於腔室內調整玻璃帶之寬度方向之溫度分佈(例如參照專利文獻1)。調整溫度分佈之裝置包含加熱器(heater)、管道管(pipe)等。
加熱器係於玻璃帶之上下兩側相間隔地設置，且固定於腔室之內壁。加熱器沿玻璃帶之搬送方向設置有複數行。各行加熱器係沿玻璃帶之寬度方向分割，並且以使玻璃帶之溫度於寬度方向上變得均勻之方式受到控制。
管道管係設置於腔室內之上游側，對玻璃帶之下表面中央附近噴出氮氣等惰性氣體。藉此，可稀釋自浮式浴槽內流出之還原性氣體中之氫氣濃度，從而抑制因氫氣之燃燒火焰所致之溫度變動或局部加熱。又，藉此，可防止浮式浴槽內之污染(熔融金屬之氧化)。再者，為防止玻璃帶局部冷卻，惰性氣體被認為較佳為經預熱後噴出。
先前技術文獻 專利文獻
[專利文獻1]日本專利特開平6-227831號公報
然而，先前技術存在如下情況：於浮式浴槽與緩冷爐之間，未積極地冷卻玻璃帶，因此無法使玻璃帶之搬送方向之溫度分佈最佳化。於此情形時，即使於緩冷爐內使玻璃帶之溫度分佈最佳化，亦難以消除製品之翹曲。
因此，為於腔室內積極地冷卻玻璃帶，可考慮自上述先前之管道管噴出冷卻氣體，但於此情形時，存在因冷卻氣體所產生之熱衝擊之影響而導致玻璃帶容易破裂之問題。
特別是近年來，面向液晶顯示器(LCD，Liquid Crystal Display)或電漿顯示器(PDP，Plasma Display Panel)等顯示面板，製造有厚度較薄之(例如厚度為0.7 mm以下之)玻璃基板。於製造此種厚度較薄之玻璃板之情形時，製品之翹曲或玻璃帶之破裂容易成為問題。
本發明係鑒於上述問題而完成者，其目的在於提供一種可抑制製品之翹曲或玻璃帶之破裂的玻璃板之製造裝置及玻璃板之製造方法。
為解決上述目的，本發明之玻璃板之製造裝置包括：浮式浴槽，其收容熔融金屬；緩冷爐，在上述熔融金屬上成形為板狀之玻璃帶搬入該緩冷爐；腔室，其設置於上述浮式浴槽與上述緩冷爐之間；及複數根提昇輥，其設置於該腔室內，將上述玻璃帶自上述浮式浴槽搬送至上述緩冷爐；且包括第1送氣單元，其係於上述腔室內，將惰性氣體作為冷卻氣體供給至上述玻璃帶之下方空間中較上述玻璃帶與最下游之上述提昇輥之接點更下游側之空間內。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為包括：複數根搬送輥，其設置於上述緩冷爐內，搬送上述玻璃帶；及第2送氣單元，其係於上述緩冷爐內，將冷卻氣體供給至上述玻璃帶之下方空間或/及上方空間中較上述玻璃帶與最上游之上述搬送輥之接點更上游側之空間內。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為由上述第2送氣單元所供給之冷卻氣體至少包含空氣、水蒸氣及惰性氣體中之任一者。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為進而包括第3送氣單元，其係於上述腔室內，將惰性氣體供給至上述玻璃帶之下方空間中較上述玻璃帶與最上游之上述提昇輥之接點更上游側之空間內。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為進而包括第4送氣單元，其係於上述腔室內，將惰性氣體供給至上述玻璃帶之下方空間中上述玻璃帶和最上游之上述提昇輥之接點與上述玻璃帶和最下游之上述提昇輥之接點之間的至少一部分空間內。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為進而包括第5送氣單元，其係於上述腔室內，自上述浮式浴槽之出口之上壁附近向下方供給惰性氣體。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為於上述腔室內較上述玻璃帶更上方進而設置分隔上述玻璃帶之上方空間之構件。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為於上述腔室內進而設置加熱器。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為於上述浮式浴槽內之出口附近設置加熱器。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為於上述緩冷爐內之入口附近設置加熱器。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為由上述第1送氣單元所供給之惰性氣體為氮氣。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為由上述第2送氣單元所供給之惰性氣體為氮氣。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為由上述第3送氣單元所供給之惰性氣體為氮氣。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為由上述第4送氣單元所供給之惰性氣體為氮氣。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為由上述第5送氣單元所供給之惰性氣體為氮氣。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為於上述腔室內之出口附近或上述緩冷爐內之入口附近設置偵測上述玻璃帶之破裂之偵測器(detector)。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為上述腔室具有隔熱構造。
又，本發明之玻璃板之製造方法係將熔融玻璃連續地供給至浮式浴槽內之熔融金屬之浴面而形成帶板狀之玻璃帶，將該玻璃帶自上述浮式浴槽搬送至腔室內，並於該腔室內在複數根提昇輥上進行搬送，繼而搬送至緩冷爐內進行緩冷；且於上述腔室內，將惰性氣體作為冷卻氣體供給至上述玻璃帶之下方空間中較上述玻璃帶與最下游之上述提昇輥之接點更下游側之空間內。
於本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為上述玻璃板為無鹼玻璃。
於本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為上述玻璃板以氧化物基準之質量百分比表示，含有：
SiO2：50~66%
Al2O3：10.5~24%
B2O3：0~12%
MgO：0~8%
CaO：0~14.5%
SrO：0~24%
BaO：0~13.5%
MgO+CaO+SrO+BaO：9~29.5%
ZrO2：0~5%。
於本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為上述玻璃板以氧化物基準之質量百分比表示，含有：
SiO2：58~66%
Al2O3：15~22%
B2O3：5~12%
MgO：0~8%
CaO：0~9%
SrO：3~12.5%
BaO：0~2%
MgO+CaO+SrO+BaO：9~18%。
根據本發明，可提供一種能夠抑制製品之翹曲或玻璃帶之破裂的玻璃板之製造裝置及玻璃板之製造方法。
以下，參照圖式對用以實施本發明之形態進行說明。再者，於以下說明中，所謂「下游」係指玻璃帶之搬送方向下游，所謂「上游」係指玻璃帶之搬送方向上游。
圖1係本發明之一實施形態之玻璃板之製造裝置之部分剖面圖。如圖1所示，玻璃板之製造裝置1包括浮式浴槽10、緩冷爐20、設置於浮式浴槽10與緩冷爐20之間的腔室30。
於浮式浴槽10內之熔融金屬11之浴面12上，成形為所期望之寬度及厚度之玻璃帶2藉由提昇輥41~43及搬送輥21、22之牽引力而自浴面12提起。繼而，玻璃帶2自浮式浴槽10之出口13搬入至腔室30內，並且於提昇輥41~43上被搬送。繼而，玻璃帶2被搬入至緩冷爐20內，一面於搬送輥21、22上搬送一面進行緩冷。其後，玻璃帶2被搬出至緩冷爐20外，冷卻至室溫附近為止後，切割成特定尺寸，而成為作為製品之玻璃板。
玻璃板中所使用之玻璃係根據玻璃板之用途等而適當選定。例如，於玻璃板之用途為電漿顯示器之情形時，使用應變點之溫度較高，熱膨脹係數較大之鹼石灰玻璃(soda lime glass)。又，於玻璃板之用途為液晶顯示器之情形時，由於鹼金屬會對液晶顯示器之質量造成不良影響，因此使用實質上不含鹼金屬之無鹼玻璃。
此處，所謂「無鹼玻璃」，係指有意不含Li2O、Na2O、K2O等鹼金屬氧化物之玻璃。
本發明之玻璃板之製造裝置特別適用於無鹼玻璃之製造，且於為如下無鹼玻璃之情形時更佳，該無鹼玻璃以氧化物基準之質量百分比表示，含有：
SiO2：50~66%
Al2O3：10.5~24%
B2O3：0~12%
MgO：0~8%
CaO：0~14.5%
SrO：0~24%
BaO：0~13.5%
MgO+CaO+SrO+BaO：9~29.5%
ZrO2：0~5%。
進而，於如下情形時進而更佳，即，上述無鹼玻璃以氧化物基準之質量百分比表示，含有：
SiO2：58~66%
Al2O3：15~22%
B2O3：5~12%
MgO：0~8%
CaO：0~9%
SrO：3~12.5%
BaO：0~2%
MgO+CaO+SrO+BaO：9~18%。
玻璃帶2係將與玻璃板對應之複數種原料投入至熔解槽內進行熔解而製作熔融玻璃，並且將該熔融玻璃連續地供給至浮式浴槽10內而形成。較理想的是於將熔融玻璃供給至浮式浴槽10內之前，預先消除熔融玻璃之內部所含之氣泡。
浮式浴槽10收容有熔融金屬11。為防止熔融金屬11之氧化，浮式浴槽10內之上部空間由包含氮氣及氫氣之還原性氣體所充滿。又，為防止來自外部之空氣流入，浮式浴槽10內之上部空間設定為高於大氣壓之氣壓。
於浮式浴槽10內之出口13附近，設置有調節為使玻璃帶2可塑性變形之溫度的加熱器18。加熱器18之發熱量可根據浮式浴槽10內之出口13附近之溫度加以自動控制。例如，浮式浴槽10內之出口13附近之溫度係藉由熱電偶等之溫度感測器而檢測，其檢測結果被供給至包含微電腦等之控制裝置。控制裝置根據溫度感測器之檢測結果，自動控制加熱器18之發熱量。再者，下述加熱器28、48之發熱量亦可同樣地加以自動控制。
於浮式浴槽10內之出口13附近的玻璃帶2之溫度係根據玻璃之種類等而適當設定，例如較佳為以玻璃之緩冷點為基準高32~78℃之溫度。玻璃之緩冷點係玻璃之黏度成為1013 dPa‧s之溫度，並且由玻璃之組成等確定。
緩冷爐20於下游側之出口向外部開放。因此，緩冷爐20之內部基本上成為大氣環境。緩冷爐20之內部經由腔室30之內部與浮式浴槽10之內部連通。
於緩冷爐20內，除上述搬送輥21、22以外，亦設置有加熱器28等。搬送輥21、22分別藉由馬達等驅動裝置而旋轉驅動，藉由其驅動力，將玻璃帶2沿水平方向搬送。
加熱器28設置於緩冷爐20內之入口23附近。加熱器28係於玻璃帶2之上方或/及下方相間隔地設置。藉由調整加熱器28之發熱量，可將於緩冷爐20內之入口23附近之玻璃帶2之溫度設定為所期望之溫度。
腔室30包含設置於玻璃帶2之上方之遮罩(hood)31及設置於玻璃帶2之下方之浮渣箱(dross box)32等。腔室30可具有隔熱構造。例如，如圖1所示，遮罩31之至少一部分外壁由隔熱材料33所覆蓋，浮渣箱32之至少一部分內壁由隔熱材料34所覆蓋。作為隔熱材料33、34，可使用通常之材料。藉由使用隔熱材料33、34，可抑制來自腔室30之散熱而使玻璃帶2之溫度分佈穩定化，從而可抑制製品之翹曲。
於腔室30內，除上述提昇輥41~43(以下僅稱為「輥41~43」)以外，亦設置有接觸構件44~46、帷簾(drape)47、加熱器48等。輥41~43係分別藉由馬達等驅動裝置而旋轉驅動，藉由其驅動力將玻璃帶2向斜上方搬送。輥之數量只要為複數根，即無特別限定。於輥41~43之下部設置有接觸構件44~46。
接觸構件44~46係由碳等所形成。接觸構件44~46分別與相對應之輥41~43之外周面滑動接觸，將玻璃帶2之下方空間分隔成複數個空間35~38。
帷簾47係設置於玻璃帶2之上方，用以分隔玻璃帶2之上方空間之構件。於玻璃帶2之上方空間，自浮式浴槽10之出口13流出之還原性氣體向緩冷爐20之入口23流動。
帷簾47係限制空氣自緩冷爐20混入，而控制腔室30內之氧氣濃度之增加。藉此，可抑制還原性氣體中之氫氣之燃燒，從而可抑制因氫氣之燃燒火焰所致之溫度變動或局部加熱。
帷簾47包含鋼鐵材料或玻璃材料等耐火材料。帷簾47係構成為與玻璃帶2之上表面稍有間隔，以不阻礙玻璃帶2之搬送。帷簾47吊掛於遮罩31及隔熱材料33上，且沿玻璃帶2之搬送方向設置有複數個。
加熱器48係於玻璃帶2之上下兩側相間隔地設置，且分別沿玻璃帶2之搬送方向設置有複數行。例如，如圖1所示，各行加熱器48設置於帷簾47彼此之間及接觸構件44~46彼此之間。各行加熱器48可於玻璃帶2之寬度方向上分割。
如此，藉由將複數個加熱器48分割配置於玻璃帶2之寬度方向或搬送方向、上下方向上，並獨立地控制其發熱量，可精密地調整玻璃帶2之溫度分佈，從而可抑制製品之翹曲。複數個加熱器48既可獨立地控制，亦可集中幾個進行控制。
本實施形態之製造裝置1進而包括第1~第5送氣管51~55。第1~第5送氣管51~55中，除第2送氣管52以外，均係將氣體供給至腔室30內者。另一方面，第2送氣管52係將氣體供給至緩冷爐20內者。
第1送氣管51係於腔室30內，將作為冷卻氣體之惰性氣體供給至玻璃帶2之下方空間中較玻璃帶2與最下游之輥43之接點4更下游側之空間35內。第1送氣管51之送氣口只要於腔室30內，設置於較玻璃帶2更下方且較玻璃帶2與最下游之輥43之接點4更下游，則既可位於空間35之內部，亦可位於空間35之外部(側方)，於後者之情形時，自空間35之外部向內部吹入惰性氣體。
第1送氣管51所供給之惰性氣體藉由冷卻空間35，而冷卻較與最下游之輥43之接點4更下游側之玻璃帶2之下表面。藉此，可將在腔室30內之出口39附近的玻璃帶2之溫度設定得充分低，從而可抑制製品之翹曲。
能夠抑制製品之翹曲可認為其原因在於，可抑制於玻璃之轉移點玻璃之熱膨脹係數發生急遽變化之影響。玻璃之轉移點係低於玻璃之緩冷點之溫度，且係玻璃之黏度成為2×1013 dPa‧s之溫度。
於本實施形態中，由於將腔室30內之出口39附近之玻璃帶2之溫度設定為充分低，因此玻璃帶2可於短時間內通過玻璃之轉移點附近之溫度區域。由此，可抑制於玻璃之轉移點玻璃之熱膨脹係數發生急遽變化之影響，從而可抑制製品之翹曲。
於腔室30內之出口39附近的玻璃帶2之溫度係根據玻璃之種類等而適當設定，例如以玻璃之緩冷點為基準較佳為-50~10℃之範圍之溫度。更佳之範圍為-50~5℃，進而更佳之範圍為-50~0℃。
第1供給管51可連續地供給惰性氣體，亦可間斷地供給惰性氣體，以使於腔室30內之出口39附近的玻璃帶2之溫度成為特定之溫度範圍。
又，於本實施形態中，由於冷卻較與最下游之輥43之接點4更下游側之玻璃帶2，因此可抑制因冷卻氣體所致之熱衝擊之影響。其原因在於，玻璃帶2之溫度存在越往下游側越低之傾向。其結果為，可抑制玻璃帶2之破裂或變形。由於玻璃帶2之厚度越薄，玻璃帶2之強度越弱，故而其效果顯著。因此，本發明適合於作為製品之玻璃板之厚度為3 mm以下之情形，較佳適合於2 mm以下之情形，更佳適合於1.5 mm以下之情形，尤佳適合於0.7 mm以下之情形。再者，自處理性之角度考慮，玻璃板之厚度較理想的是0.1 mm以上。
進而，於本實施形態中，由於冷卻較與最下游之輥43之接點4更下游側之玻璃帶2，因此於玻璃帶2發生破裂之情形時，於較與最下游之輥43之接點4更下游側發生破裂。此時，玻璃帶2之後續部分已載置於複數根輥41~43上，因此容易將後續部分向緩冷爐20搬送。假設玻璃帶2於較最下游之輥43更上游側發生破裂，則將玻璃帶2之後續部分抵抗重力而搭載於斜上方之輥43上之作業非常複雜。
進而，於本實施形態中，由於對玻璃帶2之下表面進行冷卻，因此可抑制玻璃帶2呈向下凸出之曲面狀。由此，可避免與輥43之接觸壓力集中於成為製品之玻璃帶2之寬度方向中央部。
第2送氣管52於緩冷爐20內，將冷卻氣體供給至玻璃帶2之下方空間(或/及上方空間)內較玻璃帶2與最上游之搬送輥21之接點3更上游側之空間26內。第2送氣管52之送氣口只要於緩冷爐20內，設置於較玻璃帶2更下方(或/及上方)且較玻璃帶2與最上游之搬送輥21之接點3更上游，則既可位於空間26之內部，亦可位於空間26之外部，於後者之情形時，自空間26之外部向內部吹入冷卻氣體。冷卻氣體係藉由冷卻空間26，而冷卻較與最上游之搬送輥21之接點3更上游側之玻璃帶2之下表面(或/及上表面)。藉此，可獲得與將於腔室30內之出口39附近的玻璃帶2之溫度設定得充分低之情形時相同之效果。
第2供給管52可連續地供給冷卻氣體，亦可間斷地供給冷卻氣體，以使於緩冷爐20內之入口23附近的玻璃帶2之溫度成為特定之溫度範圍。
第3送氣管53係於腔室30內，將惰性氣體供給至玻璃帶2之下方空間中較玻璃帶2與最上游之輥41之接點5更上游側之空間38內。第3送氣管53之送氣口只要於腔室30內，設置於較玻璃帶2更下方且較玻璃帶2與最上游之輥41之接點5更上游，則既可位於空間38之內部，亦可位於空間38之外部，於後者之情形時，自空間38之外部向內部吹入惰性氣體。惰性氣體係藉由冷卻空間38，而冷卻較與最上游之輥41之接點5更上游側之玻璃帶2之下表面。
第4送氣管54係於腔室30內，將惰性氣體供給至玻璃帶2之下方空間中玻璃帶2與最上游之輥41之接點5及玻璃帶2與最下游之輥43之接點4之間的至少一部分空間37內。第4送氣管54之送氣口只要於腔室30內，設置於較玻璃帶2下方、較玻璃帶2與最上游之輥41之接點5更下游、且較玻璃帶2與最下游之輥43之接點4更上游，則既可位於空間37之內部，亦可位於空間37之外部，於後者之情形時，自空間37之外部向內部吹入惰性氣體。惰性氣體係藉由冷卻空間37，而冷卻與最上游之輥41之接點5及與最下游之輥43之接點4之間的玻璃帶2之下表面之至少一部分。
第5送氣管55係於腔室30內，自浮式浴槽10之出口13之上壁14附近向下方供給惰性氣體。惰性氣體係冷卻較與最上游之輥41之接點5更上游側之玻璃帶2之上表面。又，惰性氣體係稀釋自浮式浴槽10流出之還原性氣體中之氫氣濃度，而抑制因氫氣之燃燒火焰所致之溫度變動或局部加熱。
第2~第5送氣管52~55係與第1送氣管51組合使用。藉由組合使用，可維持複數個送氣管所供給之供給氣體之總流量，並且可降低各送氣管所供給之供給氣體之流量。由此，可減緩玻璃帶2之搬送方向之溫度梯度，從而可抑制玻璃帶2之破裂。再者，對組合之種類或數量並無限制，亦可單獨使用第1送氣管51。
第3~第5供給管52~55可連續地供給惰性氣體，亦可間斷地供給惰性氣體，以使於腔室30內之出口39附近的玻璃帶2之溫度成為特定溫度範圍。
作為第1~第5送氣管51~55所供給之供給氣體，除第2送氣管52以外，為防止腔室30內之氫氣之燃燒，係使用惰性氣體。作為惰性氣體，有氬氣等，但自成本之角度考慮，較理想的是氮氣。作為氮氣，係使用氧氣濃度為1體積ppm以下者。另一方面，作為第2送氣管52所供給之供給氣體，係使用至少包含空氣、水蒸氣及惰性氣體中任一者之氣體。
該等供給氣體較理想的是於預熱後自各送氣管51~55之送氣口噴出。於各送氣口之供給氣體之溫度較理想的是400℃以上。若供給氣體之溫度過低，則存在玻璃帶2因熱衝擊而破裂之虞。另一方面，若供給氣體之溫度過高，則難以充分冷卻玻璃帶2。因此，於各送氣口之供給氣體之溫度較理想的是以通過上方或下方之玻璃帶2之溫度為基準低80℃以上之溫度。
該等供給氣體之流量可根據腔室30內之溫度分佈而自動控制。例如，腔室30內之溫度係藉由熱電偶等溫度感測器而檢測，其檢測結果被供給至控制裝置。控制裝置根據溫度感測器之檢測結果，控制設置於各送氣管51~55內之電磁閥之開度。
又，本實施形態之製造裝置1進而包括偵測玻璃帶2之破裂之偵測器62。偵測器62例如，如圖1所示設置於腔室30內之出口39附近或緩冷爐20內之入口23附近。藉此，可提早偵測到玻璃帶2之破裂。
偵測器62可為通常之構成，既可為機械式者，亦可為光學式者。例如，偵測器62可包含滾子構件及檢測滾子構件之位置之位置感測器等，該滾子構件係載置於玻璃帶2上，若玻璃帶2破裂則落下。又，偵測器62亦可包含受光感測器等，該受光感測器係對玻璃帶2之側面照射光，並接收其反射光，根據受光量之變化而檢測破裂。
以上，已對本發明之一實施形態進行說明，但本發明並不限於上述實施形態，可不脫離本發明之範圍而對上述實施形態添加各種變形及替換。
實施例
以下，藉由實施例等對本發明進行具體說明，但本發明並不受該等示例所限定。
於實施例1中，使用圖1所示之製造裝置1，製造縱長1800 mm×橫長1500 mm×厚度0.7 mm之玻璃板。作為該玻璃板之玻璃，係使用緩冷點為711℃之玻璃。
作為自圖1所示之第1~第5送氣管51~55供給之氣體，除第2送氣管52以外，係使用氮氣。作為自第2送氣管52供給之氣體，係使用空氣。
玻璃帶2之寬度方向中央之溫度係於浮式浴槽10內之出口13附近及腔室30內之出口39附近，分別藉由放射溫度計而測定。又，成為所製造之玻璃板之翹曲指標的平面應變(殘留應力)係自藉由雙折射測定器而測定之彼此正交之直線偏光波之光程差(玻璃板之厚度方向上之光程差)換算而求出。將該等測定結果示於表1。
如表1所示，於實施例1中，玻璃帶2之溫度於浮式浴槽10內之出口13附近為755℃，於腔室30內之出口39附近為697℃。玻璃帶2中未產生破裂。玻璃板之平面應變之最大值為0.95 MPa，平均值為0.72 MPa。
另一方面，於比較例1中，除自第1~第5送氣管51~55未供給氣體以外，以與實施例1相同之方式製造玻璃板，並進行與實施例1相同之測定。將測定結果示於表1中。
如表1所示，於比較例1中，玻璃帶2之溫度於浮式浴槽10內之出口13附近為753℃，於腔室30內之出口39附近為722℃。玻璃帶2中未產生破裂。玻璃板之平面應變之最大值為1.71 MPa，平均值為1.31 MPa。
已參照特定之實施態樣對本發明進行詳細說明，但業者當知，可不脫離本發明之範圍及精神而添加各種修正或變更。本申請案係基於2010年11月18日提出申請之日本專利申請案2010-258102者，其內容以參照之形式併入於本文。
1．．．製造裝置
2．．．玻璃帶
3~5．．．接點
10．．．浮式浴槽
11．．．熔融金屬
12．．．浴面
13．．．出口
14．．．出口之上壁
18．．．加熱器
20．．．緩冷爐
21、22．．．搬送輥
23．．．入口
26．．．空間
28．．．加熱器
30．．．腔室
31．．．遮罩
32．．．浮渣箱
33、34．．．隔熱材料
35~38．．．空間
39．．．出口
41~43．．．提昇輥
44~46．．．接觸構件
47．．．帷簾
48．．．加熱器
51~55．．．第1~第5送氣管(第1~第5送氣單元)
62．．．偵測器
圖1係本發明之第1實施形態之玻璃板之製造裝置之部分剖面圖。
1．．．製造裝置
2．．．玻璃帶
3~5．．．接點
10．．．浮式浴槽
11．．．熔融金屬
12．．．浴面
13．．．出口
14．．．出口之上壁
18．．．加熱器
20．．．緩冷爐
21、22．．．搬送輥
23．．．入口
26．．．空間
28．．．加熱器
30．．．腔室
31．．．遮罩
32．．．浮渣箱
33、34．．．隔熱材料
35~38．．．空間
39．．．出口
41~43．．．提昇輥
44~46．．．接觸構件
47．．．帷簾
48．．．加熱器
51~55．．．第1~第5送氣管(第1~第5送氣單元)
62．．．偵測器

Claims (21)

  1. 一種玻璃板之製造裝置，其包括：浮式浴槽，其收容熔融金屬；緩冷爐，在上述熔融金屬上成形為板狀之玻璃帶搬入該緩冷爐；腔室，其設置於上述浮式浴槽與上述緩冷爐之間；及複數根提昇輥，其設置於該腔室內，將上述玻璃帶自上述浮式浴槽搬送至上述緩冷爐；且包括第1送氣單元，其係於上述腔室內，將惰性氣體作為冷卻氣體供給至上述玻璃帶之下方空間中較上述玻璃帶與最下游之上述提昇輥之接點更下游側之空間內。
  2. 如請求項1之玻璃板之製造裝置，其中包括：複數根搬送輥，其設置於上述緩冷爐內，搬送上述玻璃帶；及第2送氣單元，其係於上述緩冷爐內，將冷卻氣體供給至上述玻璃帶之下方空間或/及上方空間中較上述玻璃帶與最上游之上述搬送輥之接點更上游側之空間內。
  3. 如請求項2之玻璃板之製造裝置，其中由上述第2送氣單元所供給之冷卻氣體至少包含空氣、水蒸氣及惰性氣體中之任一者。
  4. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中進而包括第3送氣單元，其係於上述腔室內，將惰性氣體供給至上述玻璃帶之下方空間中較上述玻璃帶與最上游之上述提昇輥之接點更上游側之空間內。
  5. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中進而包括第4送氣單元，其係於上述腔室內，將惰性氣體供 給至上述玻璃帶之下方空間中上述玻璃帶與最上游之上述提昇輥之接點及上述玻璃帶與最下游之上述提昇輥之接點之間的至少一部分空間內。
  6. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中進而包括第5送氣單元，其係於上述腔室內，自上述浮式浴槽之出口之上壁附近向下方供給惰性氣體。
  7. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中於上述腔室內較上述玻璃帶更上方進而設置分隔上述玻璃帶之上方空間之構件。
  8. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中於上述腔室內進而設置加熱器。
  9. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中於上述浮式浴槽內之出口附近設置加熱器。
  10. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中於上述緩冷爐內之入口附近設置加熱器。
  11. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中由上述第1送氣單元所供給之惰性氣體為氮氣。
  12. 如請求項3之玻璃板之製造裝置，其中由上述第2送氣單元所供給之惰性氣體為氮氣。
  13. 如請求項4之玻璃板之製造裝置，其中由上述第3送氣單元所供給之惰性氣體為氮氣。
  14. 如請求項5之玻璃板之製造裝置，其中由上述第4送氣單元所供給之惰性氣體為氮氣。
  15. 如請求項6之玻璃板之製造裝置，其中由上述第5送氣單 元所供給之惰性氣體為氮氣。
  16. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中於上述腔室內之出口附近或上述緩冷爐內之入口附近，設置偵測上述玻璃帶之破裂之偵測器。
  17. 如請求項1至3中任一項之玻璃板之製造裝置，其中上述腔室具有隔熱構造。
  18. 一種玻璃板之製造方法，其係將熔融玻璃連續地供給至浮式浴槽內之熔融金屬之浴面而形成帶板狀之玻璃帶，將該玻璃帶自上述浮式浴槽搬送至腔室內，並於該腔室內在複數根提昇輥上進行搬送，繼而搬送至緩冷爐內進行緩冷；且於上述腔室內，將惰性氣體作為冷卻氣體供給至上述玻璃帶之下方空間中較上述玻璃帶與最下游之上述提昇輥之接點更下游側之空間內。
  19. 如請求項18之玻璃板之製造方法，其中上述玻璃板為無鹼玻璃。
  20. 如請求項19之玻璃板之製造方法，其中上述玻璃板以氧化物基準之質量百分比表示，含有：SiO2：50~66% Al2O3：10.5~24% B2O3：0~12% MgO：0~8% CaO：0~14.5% SrO：0~24% BaO：0~13.5% MgO+CaO+SrO+BaO：9~29.5% ZrO2：0~5%。
  21. 如請求項20之玻璃板之製造方法，其中上述玻璃板以氧化物基準之質量百分比表示，含有：SiO2：58~66% Al2O3：15~22% B2O3：5~12% MgO：0~8% CaO：0~9% SrO：3~12.5% BaO：0~2% MgO+CaO+SrO+BaO：9~18%。
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