TWI517971B - 遠紅外線反射積層體 - Google Patents

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伊藤喜代彥
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Description

遠紅外線反射積層體
本發明是關於一種遠紅外線反射積層體。
先前以來，作為藉由控制通過窗戶等的紅外線而降低溫調或保冷時所需的能量的技術，已知有設置著紅外線反射層的膜(參照專利文獻1、專利文獻2)或玻璃。該些紅外線反射體中，在使可見光穿透的基材上設置著以氧化鈦或ITO(Indium tin oxide，氧化銦錫)、氧化鋅等金屬氧化物層而積層著含有金、銀、銅等的金屬薄膜層的結構的紅外線反射層，具有可見光線的穿透性，並且可反射近紅外線。該些紅外線反射體是利用在遮斷自建築物或交通工具的窗戶進入的太陽能而實現冷氣效果的提高、或實現冷凍冷藏櫃的保冷效果的提高的用途中。
又，在專利文獻1或專利文獻2中，作為物理地保護紅外線反射層的手段，記載有聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂、藉由矽酸乙酯而獲得的聚合物等矽樹脂、聚酯樹脂、三聚氰胺樹脂、氟樹脂等。亦已知有將聚烯烴系樹脂用作保護層等。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特公昭58-010228號公報(申請專利範圍)
專利文獻2：日本專利特開2001-310407號公報(申 請專利範圍第2項)
於使用紅外線反射體來獲得絕熱或隔熱的效果時，對於太陽光等在近紅外線區域具有高能量者，藉由反射或吸收近紅外線可有效地控制能量的流出流入。然而，為了獲得在冬季抑制能量自室內流出等效果，反射遠紅外線變得重要。
然而，就利用先前的技術所形成的紅外線反射體而言，因保護紅外線反射層的表面的硬塗層或玻璃層會吸收遠紅外線，故雖具有反射近紅外線的性能但無法避免遠紅外線的反射性能大幅度降低。又，作為遠紅外線的吸收少的保護層，亦有使用雙軸延伸聚丙烯膜等聚烯烴系樹脂的示例，由於保護層的表面柔軟故有耐摩擦性不足，因而在施工或使用時表面容易受損，從而存在無法作為窗戶等中使用的製品而發揮充分的保護性能的問題。
為了解決上述問題，本發明的目的在於提供一種兼具表面不易受損的表面保護性能與良好的遠紅外線反射性能的遠紅外線反射積層體。
為了解決上述問題，本發明採用如下所述的手段。即，一種遠紅外線反射積層體，其依序配置有以下的[A]~[C]層：[A]基板；[B]具有以下的[B1]或[B2]的結構的遠紅外線反射層：[B1]含有95質量%~100質量%銀(Ag)的金屬單層 結構、[B2]包含含有95質量%~100質量%銀(Ag)的金屬層與含有金屬氧化物及/或金屬氮化物且折射率為1.5~3的層的多層結構；[C]含有具有選自磷酸基、磺酸基及醯胺基所組成之群中的1種以上的極性基的交聯樹脂，且厚度為0.4μm~2.0μm的表面硬塗層。
又，本發明的另一形態是依序配置有基板、金屬層及表面硬塗層的遠紅外線反射積層體，其中該金屬層含有95質量%~100質量%的銀，該表面硬塗層的厚度為0.4μm~2.0μm，且該遠紅外線反射積層體的遠紅外線反射率為60%以上，且表面耐摩擦性為10條/10mm以下。
根據本發明，可提供一種表面不易受損，且具有良好的遠紅外線反射性能的遠紅外線反射積層體。
圖1表示本發明的遠紅外線反射積層體的一例。圖1所示的遠紅外線反射積層體依序具有表面硬塗層1、遠紅外線反射層2、內部硬塗層3以及基板4。以下，對本發明中的各層的構成進行說明。
[基板]
本發明中使用的基板[A]是依照應用遠紅外線反射積層體的用途而自樹脂、金屬、金屬氧化物及紙或木材等天然素材中所選擇。就用於獲取外部光且觀察內部的窗戶中 的遠紅外線反射積層體而言，基板[A]較佳為使可見光線穿透的透明樹脂或透明玻璃。為了容易操作，基板[A]更佳為具有可撓性的透明樹脂膜。作為樹脂膜的材料，可例示例如以聚對苯二甲酸乙二酯或聚2,6-萘二甲酸乙二酯為代表的芳香族聚酯、以尼龍6或尼龍66為代表的脂肪族聚醯胺、芳香族聚醯胺、以聚乙烯或聚丙烯為代表的聚烯烴、聚碳酸酯等。於該些之中，就成本或操作的容易性、對加工積層體時受到的熱的耐熱性等方面而言，較佳為芳香族聚酯，其中較佳為聚對苯二甲酸乙二酯或聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯，尤佳為聚對苯二甲酸乙二酯膜。又，較佳為已提高機械強度的雙軸延伸膜，尤佳為雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯膜。就操作的容易性或利用加工單位的長尺寸化所致的生產性提高方面而言，膜的厚度較佳為5μm~250μm的範圍，更佳為15μm~150μm。
[遠紅外線反射層]
遠紅外線反射層[B]是具有可見光穿透特性或遠紅外線反射特性優異的以下的[B1]或[B2]的結構的層：[B1]含有95質量%~100質量%銀(Ag)的金屬單層結構；[B2]包括含有95質量%~100質量%銀(Ag)的金屬層與含有金屬氧化物及/或金屬氮化物且折射率為1.5~3的層的多層結構。
通常，已知有如下情況：導電性優異的金屬層具有反射遠紅外線的性能，從而為了提高遠紅外線反射性，可使 用金屬層來增加其導電性。然而，若為了提高導電性而使金屬層變厚，則金屬層對可見光的吸收或反射會變大，因此可見光穿透性能變低。於是，為了獲得較高的遠紅外線反射性能且同時亦獲得優異的可見光穿透率，作為[B1]及[B2]的結構中共同包含的金屬層，較佳為使用導電性或可見光穿透性優異的含有95質量%~100質量%Ag的金屬層。
作為含有95質量%~100質量%Ag的金屬層的材料，較佳為選自Au、Pt、Pd、Cu、Bi、Ni、Nd、Mg、Zn、Al、Ti、Y、Eu、Pr、Ce、Sm、Ca、Be、Si、Ge、Cr、Co及Ni等中的1種以上的金屬與Ag的合金。藉由設為與上述金屬的合金，可抑制Ag與硫或氧等發生反應而劣化，或可防止於形成金屬層時產生凝聚等缺點。為了使可見光穿透特性或遠紅外線反射特性良好，金屬層的Ag含量較佳為95質量%~100質量%，更佳為98質量%~100質量%以上。用作為與Ag的合金的金屬，可根據所需的遠紅外線反射性能或可見光穿透率、抗化學物質及抗環境性而適當選擇。上述合金較佳為含有0.2質量%~2質量%的選自Au、Pd、Cu、Bi及Nd中的金屬。較佳為例如Ag-1質量%Au、Ag-1質量%Pd-1質量%Cu、Ag-1質量%Bi-1質量%Au、Ag-0.2質量%Nd-1質量%Au等的Ag合金。
於遠紅外線反射層[B]具有[B1]的結構時，單層結構是指遠紅外線反射層[B]包含含有95質量%~100質量%銀(Ag)的一層金屬層。上述單層結構因結構簡單而有利於 膜質的穩定化或生產性的提高。於遠紅外線反射層[B]具有[B1]的結構時，[B]層的厚度較佳為5nm~20nm，更佳為10nm~15nm。
又，亦可以被覆含有95質量%~100質量%Ag的金屬層的單面或兩面的方式，進一步設置含有選自Y、Ti、Zr、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ru、Ir、Pd、Pt、Cu、Au、Al、Ce、Nd、Sm、Tb等中的金屬或其混合物的金屬薄層。為了保護含有95質量%~100質量%Ag的金屬層不受腐蝕，上述金屬薄層的膜厚較佳為0.5nm以上。又，為了獲得良好的可見光穿透性能，上述金屬薄層的膜厚較佳為10nm以下。為了兼顧保護性能與可見光穿透性能，上述金屬薄層的膜厚更佳為1nm以上5nm以下。上述金屬薄層是為了保護含有95質量%~100重量%Ag的金屬層不受腐蝕而設置的保護層，且對遠紅外線反射性能等特性的影響小。因此，當對於遠紅外線反射性能等特性而考慮[B]層的厚度時，將金屬薄層排除在外。
在欲兼顧高可見光穿透率與高遠紅外線反射率的情況下，當遠紅外線反射層[B]具有[B1]的結構時，[B]層的表面電阻較佳為3Ω/□~30Ω/□，更佳為5Ω/□~10Ω/□。另一方面，於無需可見光穿透性能而僅需要遠紅外線反射性能的情形時，為了提高紅外線反射性能，[B]層的表面電阻較佳為小於3Ω/□。再者，此處所說的表面電阻是利用四端子四探針法施加恆定電流方式進行測定而獲得的值(以下同樣)。
於遠紅外線反射層[B]具有[B2]的結構的情形時，多層結構是指遠紅外線反射層[B]分別積層有1層以上的含有95質量%~100質量%銀(Ag)的金屬層與含有金屬氧化物及/或金屬氮化物且折射率為1.5~3的層(以下，有時亦記作高折射率層)的結構。藉由組合金屬層與高折射率層，可抑制界面反射而獲得良好的可見光穿透特性，故較佳。即，存在如下情況：含有95質量%~100質量%Ag的金屬層的折射率低，例如為0.3以下，因在界面上的反射的影響等導致可見光穿透性降低。與此相對，藉由設為金屬層與折射率為1.5~3的高折射率層組合所得的多層結構，可降低可見光線的界面反射。當遠紅外線反射層[B]包含交替地積層有多數個金屬層與多數個高折射率層的結構時，可抑制界面反射從而獲得良好的可見光穿透特性，故更佳。藉由上述多層結構，可控制可見光線的吸收特性，並可進一步提高光學特性。
作為高折射率層的材料，可自氧化鈦、氧化鋯、氧化釔、氧化鈮、氧化鉭、氧化鋅、摻錫氧化銦(ITO)、氧化錫及氧化鉍等氧化物、及氮化矽等氮化物、以及其等的混合物或於其等中摻雜含有鋁或銅等金屬或碳所得者等中，依照用途適當選擇而進行使用。
關於高折射率層的折射率及厚度，可依照金屬層的折射率或厚度及層構成，以可抑制界面反射的方式而適當選擇。於遠紅外線反射層[B]具有[B2]的結構的情形時，遠紅外線反射層[B]中所含的含有95質量%~100質量%Ag的 金屬層的總厚度較佳為5nm~20nm，更佳為10nm~15nm。再者，與具有上述[B1]的結構的情形相同，為了保護含有95質量%~100質量%Ag的金屬層，亦可進而設置被覆該金屬層的上述金屬薄層，但將此時的金屬薄層的厚度排除在上述[B]層中所含的含有95質量%~100質量%Ag的金屬層的厚度之外。
於遠紅外線反射層[B]具有[B2]的結構時，為了抑制各層間的界面反射而獲得良好的可見光穿透率，較佳為將高折射率層的每一層的厚度設為2nm~200nm，更佳為設為5nm~100nm。
於遠紅外線反射層[B]具有[B2]的結構時，在欲兼顧高可見光穿透率與高遠紅外線反射率的情況下，遠紅外線反射層[B]中所含的含有95質量%~100質量%Ag的金屬層的總表面電阻較佳為3Ω/□~30Ω/□，更佳為5Ω/□~10Ω/□。此處，關於金屬層的總表面電阻Pst，於遠紅外線反射層[B]包括含有95質量%~100質量%Ag的金屬層n層，且將各層的厚度設為t1~tn，將各層的表面電阻設為Ps1~Psn時，可利用1/Pst=1/Ps1+1/Ps2+1/Ps3+‥‥1/Psn的式子算出。
[表面硬塗層]
本發明中的表面硬塗層[C]是含有交聯樹脂，且厚度為0.4μm~2.0μm的層，上述交聯樹脂具有選自磷酸基、磺酸基及醯胺基所組成之群中的1種以上的極性基。若厚度 小於0.4μm，則欠缺硬塗層性能從而表面保護性能變低。另一方面，若厚度超過2.0μm，則硬塗層對遠紅外線的吸收變得過大，從而明顯阻礙遠紅外線反射層的性能。
表面硬塗層[C]保護本發明的遠紅外線反射積層體的表面。如下所示，表面硬塗層[C]不僅有單層構成的情形，有時亦採用多層構成。於多層構成時，自遠紅外線反射層[B]的外側至遠紅外線反射積層體的最表面的所有層均為表面硬塗層[C]。表面硬塗層亦可為如下構成中的任一個：(i)含有具有上述極性基的交聯樹脂的層的單層構成；(ii)含有具有上述極性基的交聯樹脂的層與含有其他交聯樹脂(既可具有上述極性基，亦可不具有上述極性基)的層的多層構成；(iii)是含有具有上述極性基的交聯樹脂及其他交聯樹脂(既可具有上述極性基，亦可不具有上述極性基)的層，且兩成分的組成在厚度方向上連續地發生變化的傾斜構成。於採用(ii)多層構成或(iii)傾斜構成時，至少在與遠紅外線反射層[B]接觸的層(多層構成的情形)或與遠紅外線反射層[B]接觸的區域(傾斜構成的情形)中含有具有上述極性基的交聯樹脂。
又，作為將選自磷酸基、磺酸基及醯胺基所組成之群中的1種以上的極性基導入具有上述極性的交聯樹脂的方法，可列舉使具有磷酸、胺、磺酸等極性基的丙烯酸衍生物或甲基丙烯酸衍生物混合於藉由照射紫外線(以下，有時亦簡稱為UV(Ultraviolet))等電磁波而形成交聯的丙烯酸系硬塗劑中，照射紫外線等電磁波的方法。作為如上 所述的具有磷酸、胺、磺酸等極性基的丙烯酸衍生物或甲基丙烯酸衍生物，可較佳地使用例如磷酸氫雙[2-(甲基丙烯醯氧基)乙基]酯。其中，較佳為含有磷酸基者。因表面硬塗層[C]中含有具有上述極性基的交聯樹脂，故可提高表面耐摩擦性。
為了提高表面耐摩擦性，較佳為表面硬塗層[C]具有恰當範圍的極性基。不論極性基的含量過少還是過多，表面耐摩擦性均會降低。於極性基為磷酸基時，作為磷酸基的含量的指標，使用將利用扇形磁場型二次離子質譜儀所獲得的屬於磷的信號的強度除以屬於碳的信號的強度而算出的標準化強度值。利用使用扇形磁場型二次離子質譜儀的測定，可獲得厚度方向的屬於磷及碳的信號的強度分佈(P[31(P)]分佈、C[13(C)]分佈)。自上述資料中取得關注的位置上的各信號強度值，而獲得上述位置上的標準化強度值[P/C]。於(i)單層構成時，表面硬塗層[C]的中心部±50nm的範圍內的標準化強度值[P/C]的平均值較佳為0.01~30的範圍，更佳為0.1~10。於(ii)多層構成或(iii)傾斜構成時，將自與遠紅外線反射層[B]的邊界起0nm~200nm的範圍的區域設為區域[C1]，區域[C1]中的標準化強度值[P/C]的最大值[P/C](C1)較佳為0.01~30的範圍，更佳為0.1~10。
又，於表面硬塗層[C]採用(ii)多層構成或(iii)傾斜構成時，若將自遠紅外線反射層[B]的相反側的面(遠紅外線反射積層體的表面)起0nm~200nm的範圍的區域 設為區域[C2]，並將自遠紅外線反射積層體的表面起100nm的位置的標準化強度值[P/C]設為區域[C2]的標準化強度值[P/C](C2)，則區域[C2]的標準化強度值[P/C](C2)較佳為區域[C1]的標準化強度值[P/C](C1)的10%以下。即，區域[C2]的磷酸基含量較佳為遠小於區域[C1]的磷酸基含量。進而，區域[C2]更佳為不含磷酸基。此處，對極性基為磷酸基的情形進行了說明，然而磺酸基及醯胺基亦同樣。其原因不明確，但推測其原因可能在於如下：存在於作為與遠紅外線反射層[B]的邊界區域的區域[C1]的極性基有助於提高表面硬塗層[C]與遠紅外線反射層[B]的親和性，然而存在於除此以外的區域內的極性基不助於親和性提高，若過多地存在，反而會降低表面硬塗層[C]本身的物性。
因此，於表面硬塗層[C]為(ii)多層構成或(iii)傾斜構成時，較佳為區域[C1]以外的區域內不含上述極性基，或其含量不會降低硬塗層自身的物性。不含上述極性基的區域的厚度較佳為表面硬塗層[C]的厚度的20%以上，更佳為50%以上，進而較佳為80%以上。
表面硬塗層[C]的材料可依照所需的表面耐摩擦性與遠紅外線反射性能、可見光穿透性能等而適當選擇。感光性的丙烯酸系硬塗劑會藉由紫外線等電磁波的照射而迅速地硬化從而形成表面硬塗層，故容易控制硬化，因此較佳。
為了對表面硬塗層的收縮或表面硬度進行改質，較佳為調配無機粒子。作為無機粒子，較佳為含有矽、鋁、鋯、 鈦、鋅、鍺、銦、錫、銻及鈰中的至少一種元素的氧化物的粒子。例如可組合使用選自矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、摻錫氧化銦(ITO)、氧化銻、氧化鈰等所組成之群中的1種無機粒子或2種以上的無機粒子。無機粒子的形狀有球狀、中空狀、多孔狀、棒狀、板狀、纖維狀、不定形狀等，可結合所需特性而適當選擇。進而，藉由進行將官能基導入該無機粒子的表面般的表面處理，可促進硬化性樹脂與無機粒子的交聯反應，從而進一步提高硬塗層特性。作為導入官能基的表面處理，例如可使含有聚合性不飽和基的有機化合物與無機粒子結合。作為聚合性不飽和基，並無特別限制，可列舉例如丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、丙烯基、丁二烯基、苯乙烯基、乙炔基、桂皮醯基、順丁烯二酸酯基及丙烯醯胺基。
表面硬塗層的厚度可依照所需的表面耐摩擦性、遠紅外線反射性能、可見光穿透性能等，藉由與硬塗層的材料的組合而適當選擇。例如，於使用感光性的丙烯酸系硬塗劑的表面硬塗層中，為了使遠紅外線反射性能不大幅度地降低，其厚度較佳為1.5μm以下，更佳為1.2μm以下，進而較佳為0.9μm以下。就表面耐摩擦性能的觀點而言，厚度較佳為0.4μm以上，更佳為0.5μm以上。
[內部硬塗層]
為了防止本發明的遠紅外線反射積層體因應力集中於各層的內部或層間的界面而造成破壞，較佳為於基板與 遠紅外線反射層之間設置含有交聯樹脂且厚度為0.2μm~10.0μm的內部硬塗層[D]。
內部硬塗層[D]可適當選擇有助於減少集中於界面的應力或提高遠紅外線反射層的密接力者。具體而言，可以與表面硬塗層相同的考量來適當選擇組成或特性的範圍，在位於遠紅外線反射層的內側方面，與表面硬塗層相比，可採用更廣泛的組成或特性的範圍。即，作為組成，亦可採用無需上述極性基，且遠紅外線的吸收變大的組成。厚度的上限可為10.0μm。為了對硬塗層的收縮或表面硬度進行改質，較佳為調配無機粒子。於此情形時，亦可以與表面硬塗層相同的考量來選擇材料(材質、形狀、表面官能基)。
內部硬塗層的厚度可依照所需的表面耐摩擦性能與可見光穿透性能等，藉由與硬塗層的材料的組合而適當選擇。例如，於使用感光性的丙烯酸系硬塗劑的內部硬塗層中，為了獲得良好的表面耐摩擦性，硬塗層的膜厚越厚越佳，但若膜厚變厚，則在因形成硬塗層時的膜收縮所引起的對基板界面的應力等方面變得不利，因此厚度較佳為0.5μm~10μm，更佳為0.5μm~5μm。表面硬塗層及內部硬塗層的厚度可藉由SEM(Scanning Electron Microscope，掃描電子顯微鏡)觀察圖像而求得。
[遠紅外線反射積層體的遠紅外線反射率]
本發明的遠紅外線反射積層體可藉由對基材、遠紅外線反射層、表面硬塗層、及視需要對內部硬塗層或其他構 成層，調整成分、膜質、膜厚及電阻值等特性，而設成與用途相應的遠紅外線反射率。遠紅外線反射積層體的遠紅外線反射率較佳為60%以上，更佳為70%以上，進而較佳為80%以上。
遠紅外線反射率的測定是依據JIS R 3106(1998)而進行的，將根據波長為5μm~25μm的分光反射率求出的對於283K的熱輻射的反射率作為遠紅外線反射率(%)。
[遠紅外線反射積層體的可見光穿透率]
本發明的遠紅外線反射積層體可藉由對基材、遠紅外線反射層、表面硬塗層、及視需要對內部硬塗層或其他構成層，調整成分、膜質及膜厚，而設成與用途相應的可見光穿透率。遠紅外線反射積層體的可見光穿透率較佳為40%以上，更佳為50%以上，進而較佳為60%以上。
可見光穿透率的測定是依據JISR3106(1998)而進行的，將根據波長為380nm~780nm的分光穿透率而求得的穿透率作為可見光穿透率(%)。
例如，當將遠紅外線反射層設為積層有含有95質量%~100質量%Ag且厚度為9nm~15nm的金屬層與厚度為40nm~60nm的摻錫氧化銦(ITO)層的構成時，可使作為相反的特性的遠紅外線反射率與可見光穿透率同時獲得高數值，因此為較佳的組合。
[遠紅外線反射積層體的表面耐摩擦性]
本發明的遠紅外線反射積層體中，因表面硬塗層[C]中含有具有上述的極性基的交聯樹脂，故即便於表面硬塗 層[C]的厚度相對較薄為0.4μm~2.0μm時，亦可具有高表面耐摩擦性。
表面耐摩擦性的測定可藉由如下方式進行：將遠紅外線反射積層體固定於玻璃板上，於積層體表面，使用摩擦裝置(例如大榮科學精器製作所(股)製造的RT-200)，對固定有鋼絲絨的30mm(寬度方向)×10mm(摩擦方向)的摩擦塊體施加500g的負荷，往返摩擦100次後，目測觀察表面。以下敍述詳細情況。
關於本發明的遠紅外線反射積層體的表面耐摩擦性，於評價往返摩擦100次時的目測劃痕時，較佳為無2mm寬度以上的目測劃痕，且目測劃痕為10條/10mm以下，更佳為目測劃痕為5條/10mm以下。若往返摩擦100次時的目測劃痕為11條/10mm以上，則表面耐摩擦性低，而不佳。又，於往返摩擦100次時產生2mm寬度以上的目測劃痕時，表面耐摩擦性明顯低，不佳。
[用途]
本發明的遠紅外線反射積層體利用遠紅外線反射性能與表面耐摩擦性優異的特性，可應用於利用遮斷自建築物或交通工具等的窗戶流出流入的熱能而實現的冷氣與暖氣效果的提高、植物培育用的容器或溫室中的熱環境保持性的提高、冷凍冷藏櫃中的保冷效果的提高、及於高低溫作業時自監視窗流出流入的熱輻射的降低等用途。又，藉由將本發明的遠紅外線反射積層體使用於牆壁或頂棚等的內飾材料或傢具、家電製品等的表面，可用來降低因遠紅 外線的放射而自空間內流出的熱能。本發明的遠紅外線反射積層體具有電磁波遮蔽性能，因此亦有作為電磁波遮罩材料的效果。又，就使用樹脂膜基板的遠紅外線反射積層體而言，因使用黏著劑等而貼合於玻璃板等上進行使用，故亦有防止玻璃板等破損時的飛散或保護玻璃板等而減少破損的效果。為了防止樹脂膜基板因紫外線而劣化，較佳為將紫外線吸收劑賦予樹脂膜基板表面或黏著劑等接著層。
實例
實例中的評價方法如下所述。
(遠紅外線反射率)
使用切割成7.5mm寬度×50mm長度的雙面膠(NITOMS(股)製造的PROSELF(註冊商標)No.539R)，以不產生皺褶或鬆弛的方式將50mm見方的遠紅外線反射積層體樣品的一端部固定在50mm見方的厚度3mm的玻璃板上，製成評價樣品片。對評價樣品片，藉由下述的裝置及測定條件，自積層體表面側(表面硬塗層側)射入光，測定波長為5μm~25μm的光線的分光反射率，依據JIS R 3106(1998)而求出對於283K的熱輻射的反射率。再者，於評價樣品片表面上的因遠紅外線反射積層體局部地鬆弛而未呈現正確的面的位置上，測定值變低，因此，於1個評價樣品片中逐漸移動測定位置而進行測定，並將最大值作為上述評價樣品片的遠紅外線反射率(%)。
．測定裝置：島津製作所(股)製造的IRPrestige-21
．正反射測定單元：SRM-8000A
．波數範圍：400cm-1~2000cm-1
．測定模式：%透射率
．變跡(apodize)係數：Happ-Genzel
．累計次數：10
．分解：4.0
．測定n數：使用將評價樣品5個中的最大值與最小值去除的3個的平均值。
(可見光穿透率)
使用切割成7.5mm寬度×50mm長度的雙面膠(NITOMS(股)製造的PROSELF(註冊商標)No.539R)，以不產生皺褶或鬆弛的方式將50mm見方的遠紅外線反射積層體樣品的一端部固定在50mm見方的厚度3mm的玻璃板上，而製成評價樣品片。對評價樣品片中央部，藉由下述的裝置及測定條件，自玻璃側(積層體表面側(表面硬塗層側)的反面)射入光，測定波長為380nm~780nm的分光穿透率，依據JIS R 3106(1998)而求出可見光穿透率(%)。
．測定裝置：島津製作所(股)製造的UV-3150
．波長範圍：380nm~780nm
．狹縫寬度：(20)
．掃描速度：高速
．取樣：1nm
．光柵：720nm
．測定n數：使用將評價樣品5個中的最大值與最小值去除的3個的平均值。
(表面耐摩擦性)
對於50mm見方的遠紅外線反射積層體樣品，使用切割成7.5mm寬度×50mm長度的雙面膠(NITOMS(股)製造的PROSELF(註冊商標)No.539R)，以遠紅外線反射積層體樣品表面不產生皺褶或鬆弛的方式，將與摩擦方向平行的兩端部固定在50mm見方的厚度3mm的玻璃板上，而製成表面摩擦試驗用評價樣品片。利用以下的裝置及條件並且使用固定有鋼絲絨的摩擦塊體來摩擦積層體表面側(硬塗層1側)後，目測觀察樣品中央部20mm見方部分的表面。
．摩擦裝置：大榮科學精器製作所(股)製造的RT-200
．摩擦速度：10
．摩擦次數：往返100
．負荷：500g
．摩擦塊體：130mm(寬度方向)×10mm(摩擦方向)
．鋼絲絨：日本鋼絲絨(股)製造的bonstar(註冊商標)No.0000
．測定n數：使用將評價樣品5個中的最大值與最小值去除的3個的平均值。
(表面電阻)
使用三菱化學Analytech(股)製造的Loresta(註冊商標)EP MCP-T360型(四端子四探針法施加恆定電流方 式)，測定遠紅外線反射層的表面電阻(Ω/□)。
(表面硬塗層及內部硬塗層的厚度)
利用以下的方法，調製遠紅外線反射積層體的樣品，進行SEM觀察，算出樣品的硬塗層厚度。
1.樣品調製
(i)露出剖面
．利用日本切片機研究所製造的「旋轉切片機RMS」進行切削
．切削刀：鋼製剃刀(leather blade)(Feather製造的單刃刀)
．鋼製剃刀切削角度：3度
．切削量：30μm
(ii)濺鍍處理
利用Eiko．Engineering公司(股)製造的「Ion CoaterIB-3型」進行濺鍍處理。
．濺鍍金屬：85質量%Pt+15質量%Pd
．濺鍍條件：2mA、5分鐘
．濺鍍膜厚：約10nm
2. SEMS觀察
使用TOPCON公司(股)製造的掃描式電子顯微鏡「ABT-32」。
(i)使用觀察條件
．加速電壓：15KV
．光點大小等級：6
．工作距離：20mm
．觀察角度：0度(與剖面成90度)
．觀察倍率：20000倍。
(ii)算出厚度
．根據於SEM像上測定出的厚度與觀察倍率算出。
．再者，進行計算時，使用測定光柵間距500μm×500μm(Oken製造)所得的結果作為標準資料而進行誤差修正。
(遠紅外線反射層的光學常數(折射率及消光係數、膜厚)的分析)
1.測定法
藉由下述的裝置及測定條件，測定來自測定樣品的反射光的偏光狀態的變化，藉由計算而求出光學常數。計算時，將利用試樣所測定出的△(相位差)與ψ(振幅反射率)的光譜與根據計算模型所算出的(△、ψ)進行比較，以接近測定值(△、ψ)的方式改變介電函數而進行匹配。此處所示的匹配結果是測定值與理論值最佳擬合(均方根誤差收斂至最小)所得的結果。
2.裝置
．高速分光式橢圓儀
．M-2000(J.A.Woollam公司製造)
．旋轉補償器型(RCE：Rotating Compensator Ellipsometer，旋轉補償橢偏儀)
．300mm R-Theta樣品台
3.測定條件
．入射角：65度、70度、75度
．測定波長：195nm~1680nm
．解析軟體：WVASE32
．光束直徑：1mm×2mm左右
．測定n數：1。
(表面硬塗層的極性基成分的分析)
1.測定法
藉由下述的裝置及測定條件，測定遠紅外線反射積層體樣品的表面硬塗層，獲得厚度方向的P[31(P)]分佈及C[13(C)]分佈，於厚度方向的各點，將31(P)的強度值除以13(C)的強度值而求出標準化強度[P/C]。
於(i)單層構成時，求出硬塗層[C]的中心部±50nm的範圍內的標準化強度值[P/C]的平均值。
於(ii)多層構成或(iii)傾斜構成時，[P/C](C1)及[P/C](C2)是以如下方式求得：[P/C](C1)：將自與遠紅外線反射層[B]的邊界起0~200nm的區域內的標準化強度值[P/C]的最大值設為[P/C](C1)；[P/C](C2)：將自遠紅外線反射層[B]的相反側的面(遠紅外線反射積層體的表面)起100nm的位置上的標準化強度值[P/C]設為[P/C](C2)。
2.裝置
扇形磁場型二次離子質譜儀
3.測定條件
．一次離子(Primary Ion)使用的是以14.5kV的加速 電壓進行加速的Cs+離子。
．分析時，為了補償試樣的帶電而使用E-gun，試樣台偏移電位設為0V。
．於二次離子的檢測中，使用EM(Electron Multiplier，電子倍增器)，利用負離子檢測出m/z=31(P)，13(C)。
．質量解析度必需為2000以上(31(SiH)與31(P)、13(CH)與13(C)可充分分離)。
．將C與P的累計時間設為相同。
．測定n數：1。
(樣品的判定基準)
對實例及比較例中所獲得的樣品，以上述方式測定遠紅外線反射率、表面耐摩擦性及可見光穿透率，並根據以下的判定基準，判定性能。
．遠紅外線反射率
A：80%以上
B：60%以上小於80%
C：小於60%
．表面耐摩擦性
A：往返摩擦100次時無2mm寬度以上的目測劃痕，且目測劃痕為0條/10mm~5條/10mm
B：往返摩擦100次時無2mm寬度以上的目測劃痕，且目測劃痕為6條/10mm~10條/10mm
C：往返摩擦100次時有2mm寬度以上的目測劃痕，或目測劃痕為11條/10mm以上
．可見光穿透率
A：60%以上
B：40%以上小於60%
C：小於40%
．綜合判定1
於遠紅外線反射率及表面耐摩擦性的判定中，按照以下的基準進行判定。
A：所有判定為A
B：判定中包含一個B，其餘為A
C：判定中包含2個以上B，或包含C
．綜合判定2
於綜合判定1及可見光穿透率的判定中，按照以下的基準進行判定，將A~C視為合格。
A：所有判定為A
B：判定中包含一個B，其餘均為A
C：綜合判定1為B以上，且判定中包含2個以上B，或包含C。
D：綜合判定1為C，且可見光穿透率的判定為A。
E：綜合判定1為C，且可見光穿透率的判定為B以下。
[實例1]
於基板上使用預先包含丙烯酸系硬塗層(膜厚為3.3μm)作為內部硬塗層的PET(polyethylene terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)膜(東麗薄膜加工(股)製造的Tuftop (註冊商標)C0T0(100μm厚))。
於該薄膜的內部硬塗層上，於到達壓力：8E-3Pa、Ag合金靶(56mm×106mm×1塊：Ag-1質量%Au)、搬送速度：0.3m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：0.5Pa、施加電力：直流(以下，有時亦簡稱為DC(Direct Current))105W的條件下進行濺鍍加工，形成含有95質量%~100質量%Ag的金屬單層結構的遠紅外線反射層。
繼而，以如下方式形成含有包含磷酸基的交聯樹脂的表面硬塗層。以在固體成分中成為2質量%的方式將包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的LightesterP-2M)混合於藉由照射紫外線而會形成交聯的丙烯酸系硬塗劑(JSR(股)製造的Opstar(註冊商標)Z7535)中，使用甲基乙基酮作為稀釋溶劑而稀釋成固體成分濃度為7.5質量%，從而獲得塗液。使用棒式塗佈機(編號為10)將所獲得的塗液塗佈於上述遠紅外線反射層上，於80℃下乾燥3分鐘後，照射UV(使用水銀燈、1200mJ/cm2)，使塗膜交聯，從而形成表面硬塗層。
在形成有遠紅外線反射層的階段中，測定遠紅外線反射層的表面電阻，結果為1Ω/□。表面硬塗層的膜厚是0.8μm。遠紅外線反射率是93%，表面耐摩擦性是3條/10mm，可見光穿透率是1%，綜合判定1是A，綜合判定2是C。
[實例2]
將形成含有95質量%~100質量%Ag的金屬單層結構 的遠紅外線反射層時的搬送速度設為0.8m/min，除此以外以與實例1同樣的方式獲得樣品。將結果示於表1及表3。
在形成有遠紅外線反射層的階段中，測定遠紅外線反射層的表面電阻，結果為7Ω/□。又，在該階段中使用高速分光式橢圓儀分析膜厚，結果為，積層於東麗薄膜加工(股)製造的Tuftop(註冊商標)C0T0上的內部硬塗層膜厚是3.3μm，遠紅外線反射層的膜厚是12.1nm。表面硬塗層的膜厚是0.8μm。遠紅外線反射率是88%，表面耐摩擦性是3條/10mm，可見光穿透率是54%，綜合判定1是A，綜合判定2是B。
[實例3]
作為遠紅外線反射層，以如下的方式形成包含含有95質量%~100質量%Ag的金屬層及含有金屬氧化物且折射率為1.5~3的高折射率層的多層結構的遠紅外線反射層，除此以外以與實例1同樣的方式獲得樣品。
(遠紅外線反射層的形成方法)
於到達壓力：2E-3Pa、Ag合金靶(76mm×330mm×2塊：Ag-0.2質量%Nd-1質量%Au)、搬送速度：3.5m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：9.5E-2Pa、施加電力：LF(Low Frequency，低頻)電源(40kHz)1.0kw的條件下，利用濺鍍加工形成金屬層後，於到達壓力：2E-3Pa以下、ITO靶(127mm×386mm×1塊：90質量%In2O3-10質量%SnO2)、搬送速度：0.9m/min、濺鍍氣體：Ar-3體積%O2、濺鍍壓力：9.5E-2Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)2.5kw 的條件下，利用濺鍍加工形成ITO層。將結果示於表1及表3。
形成ITO層後，測定表面電阻，結果為9Ω/□。在自表面硬塗層表面起的深度為400nm±50nm的範圍內，對於針對表面硬塗層利用扇形磁場型二次離子質譜儀所觀察到的P分佈除以C分佈的各點而得的標準化強度進行平均計算，所得的值P/C是1.3。遠紅外線反射率是86%，表面耐摩擦性是2條/10mm，可見光穿透率是67%，綜合判定1為A，綜合判定2亦為A。
[實例4]
在表面硬塗層的形成步驟中，以在固體成分中成為5質量%的方式混合包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的LightesterP-2M)，除此以外以與實例3同樣的方式獲得樣品。將結果示於表1及表3。遠紅外線反射率是88%，表面耐摩擦性是5條/10mm，可見光穿透率是66%，綜合判定1為A，綜合判定2亦為A。
[實例5]
在表面硬塗層的形成步驟中，以在固體成分中成為10質量%的方式混合包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的LightesterP-2M)，除此以外以與實例3同樣的方式獲得樣品。將結果示於表1及表3。
在自表面硬塗層表面起的深度為400nm±50nm的範圍內，對於針對表面硬塗層利用扇形磁場型二次離子質譜儀觀察所得的P分佈除以C分佈的各點而得的標準化強度 進行平均計算，所得的值P/C是6.2。遠紅外線反射率是86%，表面耐摩擦性是7條/10mm，可見光穿透率是67%，綜合判定1為B，綜合判定2亦為B。
[實例6]
在表面硬塗層的形成步驟中，以在固體成分中成為2質量%的方式混合包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的LightesterP-2M)，使用甲基乙基酮作為稀釋溶劑稀釋成固體成分濃度為0.75質量%，從而獲得塗液。使用棒式塗佈機(編號為10)將所獲得的塗液塗佈在遠紅外線反射層上，於80℃下乾燥3分鐘。繼而，不添加包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的LightesterP-2M)而使用甲基乙基酮作為稀釋溶劑將丙烯酸系硬塗劑(JSR(股)製造的Opstar(註冊商標)Z7535)稀釋成固體成分濃度為6.75質量%，從而獲得塗液。使用棒式塗佈機(編號為10)將所獲得的塗液塗佈在上述塗膜上，於80℃下乾燥3分鐘。繼而，照射UV(使用水銀燈、1200mJ/cm2)，使塗膜交聯，從而形成包含積層結構的表面硬塗層。以如上的方式形成表面硬塗層，除此以外以與實例3同樣的方式獲得樣品。將結果示於表1及表3。遠紅外線反射率是85%，表面耐摩擦性是2條/10mm，可見光穿透率是67%，綜合判定1為A，綜合判定2亦為A。
[實例7]
在表面硬塗層的形成步驟中，以在固體成分中不是成 為2質量%而是成為10質量%的方式混合包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的LightesterP-2M)，除此以外以與實例6同樣的方式獲得樣品。將結果示於表1及表3。遠紅外線反射率是85%，表面耐摩擦性是1條/10mm，可見光穿透率是68%，綜合判定1為A，綜合判定2亦為A。
[實例8]
在表面硬塗層的形成步驟中，以在固體成分中不是成為2質量%而是成為20質量%的方式混合包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的LightesterP-2M)，除此以外以與實例6同樣的方式獲得樣品。將結果示於表1及表3。遠紅外線反射率是85%，表面耐摩擦性是4條/10mm，可見光穿透率是68%，綜合判定1為A，綜合判定2亦為A。
[實例9]
作為遠紅外線反射層，以如下的方式形成包含含有95質量%~100質量%Ag的金屬層與含有金屬氧化物且折射率為1.5~3的高折射率層的多層結構的遠紅外線反射層，除此以外以與實例1同樣的方式獲得樣品。
(遠紅外線反射層的形成方法)
第1層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ti靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：0.2m/min、濺鍍氣體：Ar-35體積%O2、濺鍍壓力：0.3Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)9.5kw的條件下，利用濺鍍加工形成TiO2層。
第2層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ag合金靶(76mm×330mm×2塊：Ag-0.2質量%Nd-1質量%Au)、搬送速度：3.5m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：9.5E-2Pa、施加電力：LF電源(40kHz)1.0kw的條件下，利用濺鍍加工形成金屬層。
第3層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ti靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：5.0m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：0.2Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)4.3kw的條件下，利用濺鍍加工形成Ti層。
第4層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ti靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：0.2m/min、濺鍍氣體：Ar-35體積%O2、濺鍍壓力：0.3Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)9.5kw的條件下，利用濺鍍加工形成TiO2層。
將結果示於表2及表3。濺鍍加工TiO2層後，測定表面電阻，結果為6Ω/□。遠紅外線反射率是86%，表面耐摩擦性是4條/10mm，可見光穿透率是52%，綜合判定1是A，綜合判定2是B。
[實例10]
作為遠紅外線反射層，以如下的方式形成包含含有95質量%~100質量%Ag的金屬層與含有金屬氧化物且折射率為1.5~3的高折射率層的多層結構的遠紅外線反射層，除此以外以與實例1同樣的方式獲得樣品。
(遠紅外線反射層的形成方法)
第1層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ti靶(127mm×386 mm×1塊)、搬送速度：0.2m/min、濺鍍氣體：Ar-35體積%O2、濺鍍壓力：0.3Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)9.5kw的條件下，利用濺鍍加工形成TiO2層。
第2層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ag合金靶(76mm×330mm×2塊：Ag-0.2質量%Nd-1質量%Au)、搬送速度：3.5m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：9.5E-2Pa、施加電力：LF電源(40kHz)1.0kw的條件下，利用濺鍍加工形成金屬層。
第3層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ti靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：5.0m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：0.2Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)1.7kw的條件下，利用濺鍍加工形成Ti層。
第4層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ti靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：0.2m/min、濺鍍氣體：Ar-35體積%O2、濺鍍壓力：0.3Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)9.5kw的條件下，利用濺鍍加工形成TiO2層。
將結果示於表2及表3。濺鍍加工TiO2層後，測定表面電阻，結果為7Ω/□。遠紅外線反射率是85%，表面耐摩擦性是3條/10mm，可見光穿透率是72%，綜合判定1是A，綜合判定2是A。
[實例11]
作為遠紅外線反射層，以如下的方式形成包含含有95質量%~100質量%Ag的金屬層與含有金屬氧化物且折射率為1.5~3的高折射率層的多層結構的遠紅外線反射 層，除此以外以與實例1同樣的方式獲得樣品。
(遠紅外線反射層的形成方法)
第1層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Nb靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：0.3m/min、濺鍍氣體：Ar-30體積%O2、濺鍍壓力：0.3Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)5kw的條件下，利用濺鍍加工形成Nb2O5層。
第2層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ag合金靶(76mm×330mm×2塊：Ag-0.2質量%Nd-1質量%Au)、搬送速度：3.5m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：9.5E-2Pa、施加電力：LF電源(40kHz)1.0kw的條件下，利用濺鍍加工形成金屬層。
第3層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Nb靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：5.0m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：0.1Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)2.3kw的條件下，利用濺鍍加工形成Nb層。
第4層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Nb靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：0.3m/min、濺鍍氣體：Ar-30體積%O2、濺鍍壓力：0.3Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)5kw的條件下，利用濺鍍加工形成Nb2O5層。
將結果示於表2及表3。濺鍍加工Nb2O5層後，測定表面電阻，結果為7Ω/□。遠紅外線反射率是86%，表面耐摩擦性是3條/10mm，可見光穿透率是53%，綜合判定1是A，綜合判定2是B。
[實例12]
作為遠紅外線反射層，以如下的方式形成包含含有95質量%~100質量%Ag的金屬層與含有金屬氧化物且折射率為1.5~3的高折射率層的多層結構的遠紅外線反射層，除此以外以與實例1同樣的方式獲得樣品。
(遠紅外線反射層的形成方法)
第1層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Nb靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：0.3m/min、濺鍍氣體：Ar-30體積%O2、濺鍍壓力：0.3Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)5kw的條件下，利用濺鍍加工形成Nb2O5層。
第2層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Ag合金靶(76mm×330mm×2塊：Ag-0.2質量%Nd-1質量%Au)、搬送速度：3.5m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：9.5E-2Pa、施加電力：LF電源(40kHz)1.0kw的條件下，利用濺鍍加工形成金屬層。
第3層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Nb靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：5.0m/min、濺鍍氣體：Ar、濺鍍壓力：0.1Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)0.9kw的條件下，利用濺鍍加工形成Nb層。
第4層：於到達壓力：2E-3Pa以下、Nb靶(127mm×386mm×1塊)、搬送速度：0.3m/min、濺鍍氣體：Ar-30體積%O2、濺鍍壓力：0.3Pa、施加電力：DC脈衝(50kHz)5kw的條件下，利用濺鍍加工形成Nb2O5層。
將結果示於表2及表3。濺鍍加工Nb2O5層後，測定表面電阻，結果為13Ω/□。遠紅外線反射率是80%，表 面耐摩擦性是5條/10mm，可見光穿透率是70%，綜合判定1是A，綜合判定2是A。
[比較例1]
將於表層含有聚烯烴系樹脂的帝人Dupont薄膜(股)製造的reftel(註冊商標)ZC05G(基板(PET膜)/包含金屬層與介電質層(氧化鈦)的遠紅外線反射層/OPP(oriented polypropylene，定向聚丙烯)膜)作為比較例1的樣品。將結果示於表2及表3。遠紅外線反射率是81%，在表面耐摩擦性方面觀察到11條/10mm以上的無數劃痕，可見光穿透率是66%，綜合判定1是C，綜合判定2是D。
[比較例2]
在表面硬塗層的形成步驟中，不添加包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的LightesterP-2M)，除此以外以與實例1同樣的方式獲得樣品。將結果示於表2及表3。
比較例2的表面硬塗層的膜厚是0.8μm。遠紅外線反射率是87%，在表面耐摩擦性方面觀察到2mm寬度以上的劃痕，可見光穿透率是53%，綜合判定1是C，綜合判定2是E。
[比較例3]
在表面硬塗層的形成步驟中，使用JSR(股)製造的Opstar Z7535作為丙烯酸系硬塗劑，將使用甲基乙基酮作為稀釋溶劑稀釋成固體成分濃度為20質量%所得者作為 塗液，並使用棒式塗佈機(編號為12)塗佈該塗液，除此以外以與實例1同樣的方式獲得樣品。將結果示於表2及表3。
比較例3的表面硬塗層的膜厚是3μm。遠紅外線反射率是54%，表面耐摩擦性是0條/10mm，可見光穿透率是54%，綜合判定1是C，綜合判定2是E。
[比較例4]
在表面硬塗層的形成步驟中，不添加包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的Lightester P-2M)，除此以外以與實例3同樣的方式獲得樣品。將結果示於表2及表3。
在自表面硬塗層表面起的深度為400nm±50nm的範圍內，對於針對表面硬塗層利用扇形磁場型二次離子質譜儀觀察所得的P分佈除以C分佈的各點而得的標準化強度進行平均計算，所得的值P/C是6×10-4。遠紅外線反射率是87%，在表面耐摩擦性方面觀察到2mm寬度以上的劃痕，可見光穿透率是67%，綜合判定1是C，綜合判定2是D。
[比較例5]
在表面硬塗層的形成步驟中，以在固體成分中成為2質量%的方式將包含磷酸基的甲基丙烯酸衍生物(共榮社化學(股)製造的Lightester P-2M)混合於作為丙烯酸系硬塗劑的JSR(股)製造的Opstar Z7535中，使用甲基乙基酮作為稀釋溶劑稀釋成固體成分濃度為1.9質量%，從 而獲得塗液。使用棒式塗佈機(編號為10)塗佈所獲得的塗液，除此以外以與實例3同樣的方式獲得樣品。將結果示於表2及表3。
比較例5的表面硬塗層的膜厚是0.2μm。遠紅外線反射率是89%，在表面耐摩擦性方面觀察到2mm寬度以上的劃痕，可見光穿透率是64%，綜合判定1是C，綜合判定2是D。
[產業上的可利用性]
本發明的遠紅外線反射積層體由於具備高遠紅外線反射率及良好的對表面摩擦性，故可較佳地用於藉由遮蔽自窗戶等流出流入的熱能來保持熱環境的用途中。尤其，可較佳地用於在冬季抑制能量自室內流出的用途中。
1‧‧‧表面硬塗層
2‧‧‧遠紅外線反射層
3‧‧‧內部硬塗層
4‧‧‧基板
圖1是表示本發明的遠紅外線反射積層體的一例的剖面示意圖。
1‧‧‧表面硬塗層
2‧‧‧遠紅外線反射層
3‧‧‧內部硬塗層
4‧‧‧基板

Claims (7)

  1. 一種遠紅外線反射積層體，依序配置有以下的[A]~[C]層：[A]基板；[B]具有以下的[B1]或[B2]的結構的遠紅外線反射層：[B1]含有95質量%~100質量%銀的金屬單層結構、[B2]包含含有95質量%~100質量%銀的金屬層與含有金屬氧化物及/或金屬氮化物且折射率為1.5~3的層的多層結構；[C]含有具有選自磷酸基、磺酸基及醯胺基所組成之族群中的1種以上的極性基的交聯樹脂，且厚度為0.4μm~2.0μm的表面硬塗層。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的遠紅外線反射積層體，其中於上述[A]層與上述[B]層之間配置有以下的[D]層：[D]含有交聯樹脂，且厚度為0.2μm~10.0μm的內部硬塗層。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的遠紅外線反射積層體，根據波長為5μm~25μm的分光反射率求出的對於283K的熱輻射的遠紅外線反射率為60%以上，且表面耐摩擦性為10條/10mm以下。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的遠紅外線反射積層體，其中於上述[C]層中，上述極性基包含磷酸基。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的遠紅外線反射積層 體，其中上述[C]層為單層構成，且上述[C]層的中心部±50nm的範圍內的標準化強度值[P/C]的平均值為0.01~30的範圍。
  6. 如申請專利範圍第4項所述的遠紅外線反射積層體，其中上述[C]層是多層構成或組成在厚度方向上連續發生變化的傾斜構成，在上述[C]層中，自上述[C]層與上述[B]層的邊界起0nm~200nm的範圍的區域[C1]中的利用扇形磁場型二次離子質譜儀所獲得的標準化強度值[P/C](C1)是0.01~30。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的遠紅外線反射積層體，其中在上述[C]層中，自與上述[B]層相反側的表面起0nm~200nm的範圍的區域[C2]中的利用扇形磁場型二次離子質譜儀所獲得的標準化強度值[P/C](C2)是上述標準化強度值[P/C](C1)的10%以下。
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