WO2012096304A1 - 遠赤外線反射積層体 - Google Patents

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前田行弘
伊藤喜代彦
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東レ株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a far-infrared reflective laminate.
  • films see Patent Document 1 and Patent Document 2
  • glass provided with an infrared reflective layer
  • These infrared reflectors are provided with an infrared reflective layer having a structure in which a metal thin film layer made of gold, silver, copper, or the like is laminated with a metal oxide layer such as titanium oxide, ITO, or zinc oxide on a substrate that transmits visible light. It is possible to reflect near infrared rays while having visible light transmittance.
  • These infrared reflectors are used for purposes such as improving the cooling effect by blocking the solar energy that enters from the windows of buildings and vehicles, and improving the cooling effect in a refrigerated showcase.
  • Patent Document 1 and Patent Document 2 as means for physically protecting the infrared reflective layer, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, silicon resins such as polymers obtained from ethyl silicate, polyester resins, melamine resins , Fluororesins and the like are described. It is also known to use a polyolefin-based resin as a protective layer.
  • infrared reflectors When using infrared reflectors to obtain heat insulation or heat shielding effects, for those that have large energy in the near infrared region, such as sunlight, energy can be controlled by reflecting or absorbing near infrared rays. effective. However, it is important to reflect far-infrared rays in order to obtain effects such as suppressing the outflow of energy from the room in winter.
  • the infrared reflector formed by the conventional technology absorbs far infrared rays because the hard coat layer and glass layer protecting the surface of the infrared reflecting layer absorb far infrared rays. It was not possible to avoid a significant drop.
  • a polyolefin-based resin such as a biaxially stretched polypropylene film as a protective layer with little absorption of far-infrared rays, but the surface of the protective layer is inadequate because of the soft surface of the protective layer during construction and use. There was a problem that it was easily scratched and could not exhibit sufficient protection performance as a product used for windows.
  • an object of the present invention is to provide a far-infrared reflective laminate having both a surface protection performance that prevents the surface from being scratched and a good far-infrared reflection performance.
  • a far-infrared reflective laminate in which the following layers [A] to [C] are arranged in this order; [A] substrate; [B] A far-infrared reflective layer having the following structure [B1] or [B2]; [B1] a single layer structure of metal containing 95 to 100% by mass of silver (Ag); [B2] a multilayer structure comprising a metal layer containing 95 to 100% by mass of silver (Ag) and a layer containing a metal oxide and / or metal nitride and having a refractive index of 1.5 to 3; [C] A surface hard coat layer comprising a cross-linked resin having at least one polar group selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a sulfonic acid group and an amide group, and having a thickness of 0.4 to 2.0 ⁇ m.
  • Another embodiment of the present invention is a far-infrared reflective laminate in which a substrate, a metal layer, and a surface hard coat layer are arranged in this order, and the metal layer contains 95 to 100% by mass of silver,
  • the thickness of the surface hard coat layer is 0.4 to 2.0 ⁇ m
  • the far-infrared reflectance of the far-infrared reflective laminate is 60% or more
  • the surface scratch resistance is 10/10 mm or less. It is a far-infrared reflective laminate.
  • the present invention it is possible to provide a far-infrared reflective laminate having a surface that is hardly damaged and that has good far-infrared reflective performance.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a far-infrared reflective laminate of Example 3.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a far-infrared reflective laminate of Example 3.
  • the substrate [A] used in the present invention is selected from resins, metals, metal oxides, and natural materials such as paper and wood according to the application to which the far-infrared reflective laminate is applied.
  • the substrate [A] is preferably a transparent resin or transparent glass that transmits visible light.
  • the substrate [A] is more preferably a transparent resin film having flexibility.
  • resin film materials include aromatic polyesters represented by polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate; aliphatic polyamides represented by nylon 6 and nylon 66; aromatic polyamides; represented by polyethylene and polypropylene.
  • Examples thereof include polyolefins and polycarbonates.
  • aromatic polyesters are preferable in terms of cost, ease of handling, and heat resistance against heat received during processing of the laminate, and polyethylene terephthalate or polyethylene-2,6-naphthalate is particularly preferable, particularly polyethylene.
  • a terephthalate film is preferred.
  • the biaxially stretched film which raised mechanical strength is preferable, and especially a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is preferable.
  • the thickness of the film is preferably in the range of 5 to 250 ⁇ m, and more preferably 15 to 150 ⁇ m.
  • the far-infrared reflective layer [B] is a layer having the following [B1] or [B2] structure excellent in visible light transmission characteristics and far-infrared reflection characteristics.
  • [B1] Single layer structure of metal containing 95 to 100% by mass of silver (Ag)
  • [B2] Metal layer containing 95 to 100% by mass of silver (Ag) and metal oxide and / or metal nitride
  • a multilayer structure comprising a layer having a refractive index of 1.5 to 3.
  • a metal layer with excellent conductivity has the ability to reflect far-infrared rays, and in order to improve the far-infrared reflectivity, it is known that the metal layer may be used and its conductivity increased. ing.
  • the metal layer is thickened to increase conductivity, visible light absorption and reflection by the metal layer increase, and the visible light transmission performance is lowered. Therefore, in order to obtain high far-infrared reflection performance and at the same time excellent visible light transmittance, as a metal layer that is commonly included in the structures of [B1] and [B2], conductivity and visible light transmittance are improved. It is preferable to use a metal layer containing 95 to 100% by mass of excellent Ag.
  • the material of the metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag As the material of the metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag, Au, Pt, Pd, Cu, Bi, Ni, Nd, Mg, Zn, Al, Ti, Y, Eu, Pr, Ce, Sm, Ca, An alloy of at least one metal selected from Be, Si, Ge, Cr, Co, Ni and the like and Ag is preferable. By using an alloy with such a metal, it is possible to prevent Ag from deteriorating due to reaction with sulfur, oxygen, or the like, or to prevent occurrence of defects such as agglomeration when forming a metal layer. In order to improve the visible light transmission characteristics and the far-infrared reflection characteristics, the Ag content of the metal layer is preferably 95 to 100% by mass, and more preferably 98 to 100% by mass or more.
  • the metal used as an alloy with Ag can be appropriately selected according to the required far-infrared reflection performance, visible light transmittance, chemical resistance, and environmental resistance.
  • the alloy preferably contains 0.2 to 2% by mass of a metal selected from Au, Pd, Cu, Bi and Nd.
  • a metal selected from Au, Pd, Cu, Bi and Nd a metal selected from Au, Pd, Cu, Bi and Nd.
  • Ag alloys such as Ag-1 mass% Au, Ag-1 mass% Pd-1 mass% Cu, Ag-1 mass% Bi-1 mass% Au, Ag-0.2 mass% Nd-1 mass% Au, etc. Is preferred.
  • the single-layer structure means that the far-infrared reflective layer [B] consists of a single metal layer containing 95 to 100% by mass of silver (Ag). It means to become.
  • Such a single layer structure is advantageous in terms of stabilization of film quality and improvement of productivity because of its simple structure.
  • the thickness of the [B] layer is preferably 5 to 20 nm, and more preferably 10 to 15 nm.
  • Y, Ti, Zr, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Ru, Ir, Pd, Pt, Cu so as to cover one side or both sides of the metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag.
  • a thin metal layer made of a metal selected from Au, Al, Ce, Nd, Sm, Tb, or a mixture thereof.
  • the thickness of the metal thin layer is preferably 0.5 nm or more. In order to obtain good visible light transmission performance, the thickness of the metal thin layer is preferably 10 nm or less.
  • the thickness of the metal thin layer is more preferably 1 nm or more and 5 nm or less.
  • the metal thin layer is a protective layer provided to protect a metal layer containing 95 to 100% by weight of Ag from corrosion and has little influence on characteristics such as far-infrared reflection performance. Therefore, when considering the thickness of the [B] layer for characteristics such as far-infrared reflection performance, the metal thin layer is excluded.
  • the surface resistance of the [B] layer is 3 to 30 ⁇ / ⁇ . Preferably, it is 5 to 10 ⁇ / ⁇ .
  • the surface resistance of the [B] layer is preferably less than 3 ⁇ / ⁇ in order to improve the infrared reflection performance.
  • the surface resistance is a value obtained by measurement by a 4-terminal 4-probe method constant current application method (hereinafter the same).
  • the multilayer structure is a metal layer and metal oxide in which the far-infrared reflective layer [B] contains 95 to 100% by mass of silver (Ag). And / or a structure in which one or more layers each including a metal nitride and having a refractive index of 1.5 to 3 (hereinafter sometimes referred to as a high refractive index layer) are stacked.
  • a combination of a metal layer and a high refractive index layer is preferable for obtaining good visible light transmission characteristics while suppressing interface reflection.
  • the metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag has a low refractive index of, for example, 0.3 or less, and the visible light transmittance may be lowered due to the influence of reflection at the interface.
  • the interface reflection of visible light can be reduced by using a multilayer structure in which a metal layer and a high refractive index layer having a refractive index of 1.5 to 3 are combined.
  • the far-infrared reflective layer [B] has a structure in which a plurality of metal layers and a plurality of high refractive index layers are alternately stacked in order to obtain good visible light transmission characteristics while suppressing interface reflection. With such a multilayer structure, the absorption characteristics of visible light can be controlled, and the optical characteristics can be further improved.
  • Examples of the material for the high refractive index layer include titanium oxide, zirconium oxide, yttrium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, tin-doped indium oxide (ITO), oxides such as tin oxide and bismuth oxide, and silicon nitride.
  • ITO tin-doped indium oxide
  • a nitride, a mixture thereof, or a metal-doped carbon such as aluminum or copper doped with carbon or the like can be appropriately selected and used according to the application.
  • the refractive index and thickness of the high refractive index layer can be appropriately selected so as to suppress interface reflection in accordance with the refractive index and thickness of the metal layer and the layer configuration.
  • the total thickness of the metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag contained in the far-infrared reflective layer [B] is 5 to 20 nm. It is preferably 10 to 15 nm, and more preferably.
  • the above-described metal thin layer covering the metal layer may be further provided. In this case, the thickness of the metal thin layer is considered excluding the thickness of the metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag contained in the layer [B].
  • the thickness per layer of the high refractive index layer is set to 2 in order to suppress the interface reflection between the respective layers and obtain a good visible light transmittance. It is preferably ⁇ 200 nm, more preferably 5 to 100 nm.
  • the total surface resistance of the metal layer containing 95 to 100% by mass is preferably 3 to 30 ⁇ / ⁇ , and more preferably 5 to 10 ⁇ / ⁇ .
  • the total surface resistance Pst of the metal layer is such that the far-infrared reflective layer [B] includes n metal layers containing 95 to 100% by mass of Ag, and the thickness of each layer is t1 to tn.
  • the surface hard coat layer [C] in the present invention contains a crosslinked resin having one or more polar groups selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and an amide group, and has a thickness of 0.4 to 2.
  • the surface hard coat layer [C] protects the surface of the far-infrared reflective laminate of the present invention.
  • the surface hard coat layer [C] may have a multilayer structure as well as a single layer structure. In the case of a multilayer structure, all the layers from the outside of the far-infrared reflective layer [B] to the outermost surface of the far-infrared reflective laminate are the surface hard coat layer [C].
  • the surface hard coat layer is composed of (i) a single layer configuration of a layer containing a crosslinked resin having the polar group, (ii) a layer containing a crosslinked resin having the polar group and other crosslinked resins (having the polar group And (iii) a crosslinked resin having the polar group and another crosslinked resin (which may or may not have the polar group).
  • the layer may be any of a tilted configuration in which the composition of both components continuously changes in the thickness direction.
  • At least a layer in contact with the far-infrared reflective layer [B] (in the case of a multilayer configuration) or a region in contact with the far-infrared reflective layer [B] (inclined configuration) Case) contains a crosslinked resin having the polar group.
  • polar groups such as phosphoric acid, amide and sulfonic acid are used.
  • Acrylic acid derivative or methacrylic acid derivative is mixed with an acrylic hard coat agent that forms a crosslink by irradiating electromagnetic waves such as ultraviolet rays (hereinafter sometimes abbreviated as UV), and radiating electromagnetic waves such as ultraviolet rays.
  • UV ultraviolet rays
  • acrylic acid derivatives and methacrylic acid derivatives having polar groups such as phosphoric acid, amide, and sulfonic acid
  • hydrogen phosphate bis [2- (methacryloyloxy) ethyl]
  • those containing a phosphate group are preferable.
  • the surface hard coat layer [C] has an appropriate range of polar groups. If the content of the polar group is too small or too large, the surface scratch resistance is lowered.
  • the polar group is a phosphate group
  • the signal intensity attributed to carbon is the intensity of the signal attributed to phosphorus obtained with a sector magnetic field type secondary ion mass spectrometer as an indicator of the phosphate group content. The normalized strength value calculated by dividing by is used. In the measurement using the sector magnetic field type secondary ion mass spectrometer, signal intensity profiles (P [31 (P)] profile, C [13 (C)] profile) attributed to phosphorus and carbon in the thickness direction are obtained. be able to.
  • each signal intensity value at the position of interest is obtained from such data, and a normalized intensity value [P / C] at that position is obtained.
  • the average of the normalized strength values [P / C] in the range of the center portion ⁇ 50 nm of the surface hard coat layer [C] is preferably in the range of 0.01-30. 0.1 to 10 is more preferable.
  • a region in the range of 0 to 200 nm from the boundary with the far-infrared reflective layer [B] is defined as a region [C1], and a normalized intensity value in the region [C1] [
  • the maximum value [P / C] (C1) of P / C] is preferably in the range of 0.01 to 30, and more preferably 0.1 to 10.
  • the surface hard coat layer [C] adopts (ii) a multilayer structure or (iii) an inclined structure
  • the surface hard coat layer [C] is 0 to 0 from the surface opposite to the far-infrared reflective layer [B] (the surface of the far-infrared reflective laminate).
  • the region in the range of 200 nm is defined as region [C2], and the normalized intensity value [P / C] at a position of 100 nm from the surface of the far-infrared reflective laminate is defined as the normalized intensity value [P / C] in the region [C2] (C2 ) ,
  • the normalized strength value [P / C] (C2) of the region [C2] is preferably 10% or less of the normalized strength value [P / C] (C1) of the region [C1]. That is, it is preferable that the phosphate group content in the region [C2] is very small compared to the phosphate group content in the region [C1].
  • the region [C2] does not include a phosphate group.
  • the polar group is a phosphoric acid group
  • the polar group present in the region [C1] which is the boundary region with the far-infrared reflective layer [B]
  • the polar group present in the region [C1] which is the boundary region with the far-infrared reflective layer [B]
  • the polar group existing in other regions do not contribute to the improvement of affinity, and if they are present in excess, it may rather decrease the physical properties of the surface hard coat layer [C] itself. Infer.
  • the region other than the region [C1] does not contain the polar group or the physical properties of the hard coat layer itself. It is preferable that the content does not decrease.
  • the thickness of the region not including the polar group is preferably 20% or more of the thickness of the surface hard coat layer [C], more preferably 50% or more, and further preferably 80% or more.
  • the material for the surface hard coat layer [C] can be appropriately selected according to the required surface scratch resistance, far-infrared reflection performance, visible light transmission performance, and the like.
  • the photosensitive acrylic hard coat agent is preferably cured easily by irradiation with an electromagnetic wave such as ultraviolet rays to form a surface hard coat layer, so that the curing can be easily controlled.
  • inorganic particles it is preferable to blend inorganic particles in order to modify the shrinkage and surface hardness of the surface hard coat layer.
  • oxide particles containing at least one element of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium are preferable.
  • the shape of the inorganic particles includes a spherical shape, a hollow shape, a porous shape, a rod shape, a plate shape, a fiber shape, an indefinite shape, and the like, and can be appropriately selected according to necessary characteristics. Furthermore, by performing a surface treatment that introduces a functional group on the surface of the inorganic particles, the crosslinking reaction between the curable resin and the inorganic particles proceeds, and the hard coat characteristics can be further improved.
  • the surface treatment for introducing a functional group for example, an organic compound containing a polymerizable unsaturated group can be bonded to inorganic particles.
  • the polymerizable unsaturated group is not particularly limited, and examples thereof include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, propenyl group, butadienyl group, styryl group, ethynyl group, cinnamoyl group, maleate group and acrylamide group. .
  • the thickness of the surface hard coat layer can be appropriately selected according to the combination with the material of the hard coat in accordance with the required surface scratch resistance, far-infrared reflection performance, visible light transmission performance, and the like.
  • the thickness is preferably 1.5 ⁇ m or less, more preferably 1.2 ⁇ m, in order not to significantly reduce far-infrared reflection performance. Or less, more preferably 0.9 ⁇ m or less.
  • the thickness is preferably 0.4 ⁇ m or more, and more preferably 0.5 ⁇ m or more.
  • the far-infrared reflective layer is made of a crosslinked resin between the substrate and the far-infrared reflective layer and has a thickness of 0. It is preferable to provide an internal hard coat layer [D] of 2 to 10.0 ⁇ m.
  • the composition and the range of properties can be appropriately selected based on the same idea as the surface hard coat layer, but in terms of being located inside the far infrared reflective layer, the composition and A wider range of characteristics can be taken. That is, as the composition, the polar group is not essential, and a composition that increases absorption of far infrared rays may be employed.
  • the upper limit of the thickness can be 10.0 ⁇ m. It is also preferable to blend inorganic particles in order to modify the shrinkage and surface hardness of the hard coat layer.
  • the material can be selected in the same way as the surface hard coat layer.
  • the thickness of the internal hard coat layer matches the required surface abrasion resistance and visible light transmission performance. Depending on the combination with the material of the hard coat, it can be selected as appropriate. For example, in an internal hard coat layer using a photosensitive acrylic hard coat agent, in order to obtain good surface scratch resistance, a thicker hard coat layer is preferable.
  • the thickness is preferably 0.5 ⁇ m to 10 ⁇ m, more preferably 0.5 ⁇ m to 5 ⁇ m, because it is disadvantageous in terms of stress on the substrate interface due to film shrinkage during coating formation.
  • the thickness of the surface hard coat layer and the internal hard coat layer can be determined from the SEM observation image.
  • the far-infrared reflective laminate of the present invention comprises a substrate, a far-infrared reflective layer, a surface hard coat layer, and, if necessary, an internal hard coat layer and other constituent layers, components, film quality, film thickness, resistance value, etc. By adjusting the characteristics, it is possible to design the far-infrared reflectance suitable for the application.
  • the far-infrared reflectance of the far-infrared reflective laminate is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and further preferably 80% or more.
  • the far-infrared reflectivity is measured in accordance with JIS R 3106 (1998), and the reflectivity for thermal radiation of 283K is obtained from the spectral reflectivity with a wavelength of 5 to 25 ⁇ m as the far-infrared reflectivity (%). To do.
  • the far-infrared reflective laminate of the present invention adjusts the components, film quality and film thickness of the substrate, far-infrared reflective layer, surface hard coat layer, and internal hard coat layer and other constituent layers as necessary.
  • the visible light transmittance can be designed according to the application.
  • the visible light transmittance of the far-infrared reflective laminate is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, and further preferably 60% or more.
  • the measurement of the visible light transmittance is performed according to JIS R 3106 (1998), and the value obtained from the spectral transmittance at a wavelength of 380 to 780 nm is defined as the visible light transmittance (%).
  • the far-infrared reflective layer may have a structure in which a metal layer having a thickness of 9 to 15 nm containing 95 to 100% by mass of Ag and a tin-doped indium oxide (ITO) layer having a thickness of 40 to 60 nm are stacked.
  • ITO indium oxide
  • the surface hard coat layer [C] contains the cross-linked resin having the polar group, so that the surface hard coat layer [C] has a thickness of 0.4 to 2.0 ⁇ m. Even when it is relatively thin, it can have high surface scratch resistance.
  • Surface abrasion resistance is measured by fixing a far-infrared reflective laminate to a glass plate, and using a rubbing device (for example, RT-200 manufactured by Daiei Kagaku Seisakusho Co., Ltd.) A 500 g load is applied to the fixed 30 mm (width direction) ⁇ 10 mm (friction direction) friction element, and after 100 reciprocations, the surface can be visually observed. Details will be described later.
  • the surface scratch resistance of the far-infrared reflective laminate of the present invention is such that there are no visual scratches of 2 mm width or more and the visual scratches are 10/10 mm or less when the visual scratches at the time of 100 reciprocations are evaluated. It is preferable that the visual scratch is 5 pieces / 10 mm or less. When the number of rubbing cycles is 100, the surface scratch resistance is low and it is not preferable. Further, when the number of rubbing cycles is 100, the visual scratch having a width of 2 mm or more is not preferable because the surface scratch resistance is extremely low.
  • the far-infrared reflective laminate of the present invention takes advantage of the properties excellent in far-infrared reflective performance and surface scratch resistance, improves the heating and cooling effect by blocking heat energy flowing in and out of windows of buildings and vehicles, and for plant growth It can be used for applications such as improving the thermal environment retention in cases and houses, improving the cooling effect in freezing and refrigerated showcases, and reducing heat radiation flowing in and out of the monitoring window during high and low temperature operations.
  • the far-infrared reflective laminate of the present invention on the surface of interior materials such as walls and ceilings, furniture, and home appliances, it can be used to reduce the thermal energy that flows out of the space due to the radiation of far-infrared rays. can do.
  • the far-infrared reflective laminate of the present invention Since the far-infrared reflective laminate of the present invention has an electromagnetic shielding performance, it also has an effect as an electromagnetic shielding material.
  • the far-infrared reflective laminate using a resin film substrate is used by sticking it to a glass plate with an adhesive, etc., to prevent scattering when the glass plate is damaged and to protect the glass plate. This also has the effect of reducing breakage.
  • an ultraviolet absorber to the resin film substrate surface or an adhesive layer such as an adhesive.
  • the spectral reflectance of a light beam having a wavelength of 5 to 25 ⁇ m was measured according to JIS R 3106 (1998) by entering light from the laminate surface side (surface hard coat layer side) with the following apparatus and measurement conditions.
  • the reflectance for thermal radiation of 283K was determined based on the above.
  • the measurement position is gradually changed in one evaluation sample piece. It was measured by moving, and the largest value was taken as the far-infrared reflectance (%) of the evaluation sample piece.
  • Measurement device IR Prestige-21 manufactured by Shimadzu Corporation ⁇ Specular reflection measurement unit: SRM-8000A -Wave number range: 400-2000cm -1 -Measurement mode:% Transmittance ⁇ Abodoid coefficient: Happ-Genzel ⁇ Number of integration: 10 Decomposition: 4.0 N number of measurements: use the average value of 3 samples excluding the maximum and minimum values of 5 evaluation samples.
  • the visible light transmittance (%) was determined in accordance with JIS R 3106 (1998).
  • ⁇ Measurement device UV-3150 manufactured by Shimadzu Corporation ⁇ Wavelength range: 380-780nm ⁇ Slit width: (20) ⁇ Scanning speed: High speed ⁇ Sampling: 1 nm ⁇ Grating: 720nm N number of measurements: use the average value of 3 samples excluding the maximum and minimum values of 5 evaluation samples.
  • the surface resistance ( ⁇ / ⁇ ) of the far-infrared reflective layer was measured using a Loresta (registered trademark) EP MCP-T360 type (4-terminal 4-probe method constant current application method) manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.
  • [P / C] (C1) and [P / C] (C2) were determined as follows.
  • [P / C] (C1) The maximum value of the normalized intensity value [P / C] in the region of 0 to 200 nm from the boundary with the far-infrared reflective layer [B] was defined as [P / C] (C1) .
  • [P / C] (C2) The normalized intensity value [P / C] at a position of 100 nm from the surface opposite to the far-infrared reflective layer [B] (the surface of the far-infrared reflective laminate) [P / C] (C2) . 2.
  • Apparatus Sector magnetic field type secondary ion mass spectrometer 3. Measurement conditions: Cs + ions accelerated at an acceleration voltage of 14.5 kV were used as primary ions. -At the time of analysis, E-gun was used for charge compensation of the sample, and the sample stage offset potential was set to 0V. -EM (Electron Multiplier) was used for detection of secondary ions, and m / z 31 (P) and 13 (C) were detected with negative ions. The mass resolution should be 2000 or more (31 (SiH) and 31 (P), 13 (CH) and 13 (C) can be sufficiently separated). ⁇ The accumulated time of C and P is the same. -Number of measurement n: 1.
  • Example criteria About the sample obtained by the Example and the comparative example, the far-infrared reflectance, the surface abrasion resistance, and the visible light transmittance were measured as mentioned above, and the performance was determined according to the following criteria.
  • Example 1 A PET film (Toughtop (registered trademark) C0T0 (100 ⁇ m thickness) manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.) having an acrylic hard coat (film thickness 3.3 ⁇ m) in advance as an internal hard coat layer on the substrate was used.
  • Toughtop registered trademark
  • C0T0 100 ⁇ m thickness
  • acrylic hard coat film thickness 3.3 ⁇ m
  • a surface hard coat layer made of a crosslinked resin containing a phosphate group was formed as follows.
  • Acrylic hard coat agent (OPSR (registered trademark) Z7535 manufactured by JSR Corporation) that forms a crosslink by irradiation with ultraviolet rays is added to a methacrylic acid derivative containing a phosphate group (Light Ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). ) was mixed to a solid content of 2% by mass, and diluted to a solid content concentration of 7.5% by mass using methyl ethyl ketone as a diluent solvent to obtain a coating solution.
  • OPSR registered trademark
  • methacrylic acid derivative containing a phosphate group Light Ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • the obtained coating liquid was applied onto the far-infrared reflective layer using a bar coater (counter No. 10), dried at 80 ° C. for 3 minutes, and then UV (using a mercury lamp, 1200 mJ / cm 2 ). Irradiated to crosslink the coating to form a surface hard coat layer.
  • the surface resistance of the far-infrared reflective layer was measured at the stage where the far-infrared reflective layer was formed, it was 1 ⁇ / ⁇ .
  • the film thickness of the surface hard coat layer was 0.8 ⁇ m.
  • the far-infrared reflectance was 93%
  • the surface abrasion resistance was 3/10 mm
  • the visible light transmittance was 1%
  • the overall judgment 1 was A
  • the overall judgment 2 was C.
  • Example 2 A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the conveyance speed at the time of forming the far-infrared reflective layer having a single layer structure of metal containing 95 to 100% by mass of Ag was 0.8 m / min. The results are shown in Tables 1 and 3.
  • the surface resistance of the far-infrared reflective layer was measured and found to be 7 ⁇ / ⁇ . Further, when the film thickness was analyzed using a high-speed spectroscopic ellipsometer at this stage, the film thickness of the internal hard coat layer laminated on Toughtop (registered trademark) C0T0 manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd. was 3.3 ⁇ m, far infrared rays. The thickness of the reflective layer was 12.1 nm. The film thickness of the surface hard coat layer was 0.8 ⁇ m. The far-infrared reflectance was 88%, the surface abrasion resistance was 3/10 mm, the visible light transmittance was 54%, the overall judgment 1 was A, and the overall judgment 2 was B.
  • Example 3 A far-infrared reflective layer having a multilayer structure comprising a metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag as a far-infrared reflective layer and a high-refractive index layer containing a metal oxide and having a refractive index of 1.5 to 3 A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that was formed as follows.
  • the surface resistance was measured and found to be 9 ⁇ / ⁇ .
  • the normalized intensity obtained by reversing the P profile observed at the surface magnetic coat layer with a sector magnetic field type secondary ion mass spectrometer at each point of the C profile is within a range of depth of 400 nm ⁇ 50 nm from the surface hard coat layer surface.
  • the average value P / C was 1.3.
  • the far-infrared reflectance was 86%
  • the surface abrasion resistance was 2/10 mm
  • the visible light transmittance was 67%.
  • the overall judgment 1 was A
  • the overall judgment 2 was also A.
  • Example 4 In the process of forming the surface hard coat layer, the same procedure as in Example 3 was conducted, except that a methacrylic acid derivative containing a phosphoric acid group (light ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was mixed to a solid content of 5% by mass. Sample. The results are shown in Tables 1 and 3. The far-infrared reflectance was 88%, the surface abrasion resistance was 5/10 mm, the visible light transmittance was 66%, the overall judgment 1 was A, and the overall judgment 2 was also A.
  • Example 5 In the process of forming the surface hard coat layer, the same procedure as in Example 3 was conducted, except that a methacrylic acid derivative containing a phosphoric acid group (light ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was mixed to a solid content of 10% by mass. Sample. The results are shown in Tables 1 and 3.
  • the normalized intensity obtained by reversing the P profile observed at the surface magnetic coat layer with a sector magnetic field type secondary ion mass spectrometer at each point of the C profile is within a range of depth of 400 nm ⁇ 50 nm from the surface hard coat layer surface.
  • the average value P / C was 6.2.
  • the far-infrared reflectance was 86%
  • the surface abrasion resistance was 7/10 mm
  • the visible light transmittance was 67%
  • the overall judgment 1 was B
  • the overall judgment 2 was B.
  • Example 6 In the step of forming the surface hard coat layer, a methacrylic acid derivative containing a phosphoric acid group (light ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) is mixed so as to be 2% by mass in the solid content, and methyl ethyl ketone is used as a dilution solvent.
  • the coating liquid was obtained by diluting to a solid content concentration of 0.75% by mass.
  • the obtained coating liquid was applied onto the far-infrared reflective layer using a bar coater (counter No. 10), and dried at 80 ° C. for 3 minutes.
  • an acrylic hard coat agent (Opster (registered trademark) Z7535, manufactured by JSR Corporation) was added as a dilution solvent without adding a methacrylic acid derivative containing a phosphoric acid group (light ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).
  • a methacrylic acid derivative containing a phosphoric acid group (light ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).
  • the obtained coating liquid was applied onto the coating film using a bar coater (counter No. 10) and dried at 80 ° C. for 3 minutes.
  • UV using a mercury lamp, 1200 mJ / cm 2
  • Example 3 A sample was obtained in the same manner as in Example 3 except that the formation of the surface hard coat layer was as described above. The results are shown in Tables 1 and 3. The far-infrared reflectance was 85%, the surface abrasion resistance was 2/10 mm, and the visible light transmittance was 67%. The overall judgment 1 was A, and the overall judgment 2 was also A.
  • Example 7 In the step of forming the surface hard coat layer, a methacrylic acid derivative containing a phosphoric acid group (Light Ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was mixed in the solid content so as to be 10% by mass instead of 2% by mass. A sample was obtained in the same manner as in Example 6. The results are shown in Tables 1 and 3. The far-infrared reflectance was 85%, the surface abrasion resistance was 1/10 mm, and the visible light transmittance was 68%. The overall judgment 1 was A, and the overall judgment 2 was also A.
  • Example 8 In the step of forming the surface hard coat layer, a methacrylic acid derivative containing a phosphoric acid group (light ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was mixed in the solid content so that it was 20% by mass instead of 2% by mass. A sample was obtained in the same manner as in Example 6. The results are shown in Tables 1 and 3. The far-infrared reflectance was 85%, the surface abrasion resistance was 4/10 mm, and the visible light transmittance was 68%. The overall judgment 1 was A, and the overall judgment 2 was also A.
  • Example 9 A far-infrared reflective layer having a multilayer structure composed of a metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag and a high-refractive index layer containing a metal oxide and having a refractive index of 1.5 to 3 is used as the far-infrared reflective layer.
  • a sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was formed as described above.
  • First layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ti target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 0.2 m / min, sputtering gas: Ar-35% by volume O 2 , sputtering pressure: 0.3 Pa, Input power: A TiO 2 layer was formed by sputtering at a DC pulse (50 kHz) of 9.5 kw.
  • Second layer Ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ag alloy target (76 mm ⁇ 330 mm ⁇ 2 sheets: Ag-0.2 mass% Nd-1 mass% Au), transport speed: 3.5 m / min, sputtering gas: A metal layer was formed by sputtering with Ar, sputtering pressure: 9.5E-2 Pa, input power: LF power supply (40 kHz) 1.0 kW.
  • Third layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ti target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 5.0 m / min, sputtering gas: Ar, sputtering pressure: 0.2 Pa, input power: DC pulse ( (50 kHz) A Ti layer was formed by sputtering at 4.3 kw.
  • Fourth layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ti target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 0.2 m / min, sputtering gas: Ar-35% by volume O 2 , sputtering pressure: 0.3 Pa, Input power: A TiO 2 layer was formed by sputtering at a DC pulse (50 kHz) of 9.5 kw.
  • a far-infrared reflective layer having a multilayer structure composed of a metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag as a far-infrared reflective layer and a high refractive index layer containing a metal oxide and having a refractive index of 1.5 to 3 is as follows. A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was formed as described above.
  • First layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ti target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 0.2 m / min, sputtering gas: Ar-35% by volume O 2 , sputtering pressure: 0.3 Pa, Input power: A TiO 2 layer was formed by sputtering at a DC pulse (50 kHz) of 9.5 kw.
  • Second layer Ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ag alloy target (76 mm ⁇ 330 mm ⁇ 2 sheets: Ag-0.2 mass% Nd-1 mass% Au), transport speed: 3.5 m / min, sputtering gas: A metal layer was formed by sputtering with Ar, sputtering pressure: 9.5E-2 Pa, input power: LF power supply (40 kHz) 1.0 kW.
  • Third layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ti target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 5.0 m / min, sputtering gas: Ar, sputtering pressure: 0.2 Pa, input power: DC pulse ( (50 kHz) A Ti layer was formed by sputtering at 1.7 kw.
  • Fourth layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ti target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 0.2 m / min, sputtering gas: Ar-35% by volume O 2 , sputtering pressure: 0.3 Pa, Input power: A TiO 2 layer was formed by sputtering at a DC pulse (50 kHz) of 9.5 kw.
  • a far-infrared reflective layer having a multilayer structure composed of a metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag as a far-infrared reflective layer and a high refractive index layer containing a metal oxide and having a refractive index of 1.5 to 3 is as follows. A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was formed as described above.
  • First layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Nb target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 0.3 m / min, sputtering gas: Ar-30 vol% O 2 , sputtering pressure: 0.3 Pa, Input power: An Nb 2 O 5 layer was formed by sputtering at a DC pulse (50 kHz) of 5 kw.
  • Second layer Ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ag alloy target (76 mm ⁇ 330 mm ⁇ 2 sheets: Ag-0.2 mass% Nd-1 mass% Au), transport speed: 3.5 m / min, sputtering gas: A metal layer was formed by sputtering with Ar, sputtering pressure: 9.5E-2 Pa, input power: LF power supply (40 kHz) 1.0 kW.
  • Third layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Nb target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 5.0 m / min, sputtering gas: Ar, sputtering pressure: 0.1 Pa, input power: DC pulse ( (50 kHz) An Nb layer was formed by sputtering at 2.3 kW.
  • Nb target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 0.3 m / min, sputtering gas: Ar-30 vol% O 2 , sputtering pressure: 0.3 Pa, Input power: An Nb 2 O 5 layer was formed by sputtering at a DC pulse (50 kHz) of 5 kw.
  • a far-infrared reflective layer having a multilayer structure composed of a metal layer containing 95 to 100% by mass of Ag as a far-infrared reflective layer and a high refractive index layer containing a metal oxide and having a refractive index of 1.5 to 3 is as follows. A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was formed as described above.
  • First layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Nb target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 0.3 m / min, sputtering gas: Ar-30 vol% O 2 , sputtering pressure: 0.3 Pa, Input power: An Nb 2 O 5 layer was formed by sputtering at a DC pulse (50 kHz) of 5 kw.
  • Second layer Ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Ag alloy target (76 mm ⁇ 330 mm ⁇ 2 sheets: Ag-0.2 mass% Nd-1 mass% Au), transport speed: 3.5 m / min, sputtering gas: A metal layer was formed by sputtering with Ar, sputtering pressure: 9.5E-2 Pa, input power: LF power supply (40 kHz) 1.0 kW.
  • Third layer ultimate pressure: 2E-3 Pa or less, Nb target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 5.0 m / min, sputtering gas: Ar, sputtering pressure: 0.1 Pa, input power: DC pulse ( The Nb layer was formed by sputtering at 50 kHz) 0.9 kW.
  • Nb target (127 mm ⁇ 386 mm ⁇ 1 sheet), transport speed: 0.3 m / min, sputtering gas: Ar-30 vol% O 2 , sputtering pressure: 0.3 Pa, Input power: An Nb 2 O 5 layer was formed by sputtering at a DC pulse (50 kHz) of 5 kw.
  • Comparative Example 1 Leftel (registered trademark) ZC05G (substrate (PET film) / metal layer and dielectric layer (titanium oxide) made of Teijin DuPont Films Co., Ltd.) having a polyolefin-based resin on the surface layer was used as a sample of Comparative Example 1.
  • the results are shown in Table 2 and Table 3.
  • the far-infrared reflectance was 81%, and the surface scratch resistance was innumerable scratches of 11/10 mm or more, the visible light transmittance was 66%, the overall judgment 1 was C, and the overall judgment 2 was D. .
  • Example 2 A sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that in the step of forming the surface hard coat layer, a methacrylic acid derivative containing phosphoric acid groups (light ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was not added. The results are shown in Table 2 and Table 3.
  • the film thickness of the surface hard coat layer of Comparative Example 2 was 0.8 ⁇ m.
  • the far-infrared reflectance was 87%, and scratches with a width of 2 mm or more were observed with respect to the surface scratch resistance, the visible light transmittance was 53%, the overall judgment 1 was C, and the overall judgment 2 was E.
  • the film thickness of the surface hard coat layer of Comparative Example 3 was 3 ⁇ m.
  • the far-infrared reflectance was 54%
  • the surface abrasion resistance was 0/10 mm
  • the visible light transmittance was 54%
  • the overall judgment 1 was C
  • the overall judgment 2 was E.
  • Example 4 A sample was obtained in the same manner as in Example 3 except that in the step of forming the surface hard coat layer, a methacrylic acid derivative containing phosphoric acid groups (light ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was not added. The results are shown in Table 2 and Table 3.
  • the normalized intensity obtained by reversing the P profile observed at the surface magnetic coat layer with a sector magnetic field type secondary ion mass spectrometer at each point of the C profile is within a range of depth of 400 nm ⁇ 50 nm from the surface hard coat layer surface.
  • the average value P / C was 6 ⁇ 10 ⁇ 4 .
  • the far-infrared reflectivity was 87%, and scratches with a width of 2 mm or more were observed with respect to the surface scratch resistance, the visible light transmittance was 67%, the overall judgment 1 was C, and the overall judgment 2 was D.
  • the film thickness of the surface hard coat layer of Comparative Example 5 was 0.2 ⁇ m.
  • the far-infrared reflectance was 89%, and scratches with a width of 2 mm or more were observed with respect to the surface abrasion resistance, the visible light transmittance was 64%, the overall judgment 1 was C, and the overall judgment 2 was D.
  • the far-infrared reflective laminate of the present invention has a high far-infrared reflectance and good scratch resistance to the surface, it is preferably used for applications that maintain a thermal environment by shielding thermal energy flowing in and out from windows and the like. Can do. In particular, it can be suitably used for applications that suppress the outflow of energy from the room in winter.

Abstract

　本発明の遠赤外線反射積層体は、以下の［Ａ］～［Ｃ］の層が、この順で配された遠赤外線反射積層体である；［Ａ］基板；［Ｂ］次の［Ｂ１］または［Ｂ２］の構造を有する遠赤外線反射層；［Ｂ１］銀（Ａｇ）を９５～１００質量％含有する金属の単層構造；［Ｂ２］銀（Ａｇ）を９５～１００質量％含有する金属の層と金属酸化物および／または金属窒化物を含み屈折率が１．５～３である層とからなる多層構造；［Ｃ］リン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群より選ばれる１種以上の極性基を有する架橋樹脂を含み、かつ、厚みが０．４～２．０μｍである表面ハードコート層。本発明は、表面に傷のつきにくい遠赤外線反射積層体を提供する。

Description

遠赤外線反射積層体
　本発明は、遠赤外線反射積層体に関する。
　従来から、窓などを通過する赤外線を制御することで温調や保冷に必要なエネルギーを低減する技術として、赤外線反射層を設けたフィルム（特許文献１、特許文献２参照）やガラスが知られている。これらの赤外線反射体は、可視光を透過する基材に金、銀、銅等からなる金属薄膜層を酸化チタンやＩＴＯ、酸化亜鉛などの金属酸化物層で積層した構造の赤外線反射層が設けられており、可視光線の透過性を有しながら、近赤外線を反射することができる。これらの赤外線反射体は、建物や乗り物の窓から入ってくる太陽エネルギーを遮断して冷房効果の向上を図ったり、冷凍冷蔵ショーケースにおいて保冷効果の向上を図ったりする用途に利用されている。
　また、特許文献１や特許文献２において赤外線反射層を物理的に保護する手段として、ポリメタアクリル酸メチルなどのアクリル系樹脂、エチルシリケートより得られる重合体などのケイ素樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂などが記載されている。ポリオレフィン系樹脂を保護層として用いることなども知られている。
特公昭５８－０１０２２８号公報（特許請求の範囲） 特開２００１－３１０４０７号公報（請求項２）
　赤外線反射体を用いて、断熱あるいは遮熱の効果を得る場合、太陽光などの近赤外線領域に大きなエネルギーを有するものに対しては、近赤外線を反射もしくは吸収することでエネルギーの流出入コントロールに効果がある。しかし、冬期に室内からのエネルギー流出を抑えるなどの効果を得るためには遠赤外線を反射することが重要になる。
　しかしながら従来の技術で形成された赤外線反射体は、赤外線反射層の表面を保護するハードコート層やガラス層が遠赤外線を吸収してしまうため、近赤外線反射性能は有するものの遠赤外線の反射性能が大幅に低下することを避けることができなかった。また、遠赤外線の吸収が少ない保護層として二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂を用いる例もあるが、保護層の表面が柔らかいために耐擦過性が不足して施工や使用中に表面に傷がつき易く窓などに使用する製品として十分な保護性能を発揮できないという問題があった。
　本発明は、上記の問題点を解決するために、表面に傷がつきにくい表面保護性能と良好な遠赤外線反射性能を兼ね備える遠赤外線反射積層体を提供することを目的とするものである。
　本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、
以下の［Ａ］～［Ｃ］の層が、この順で配されてなる遠赤外線反射積層体；
［Ａ］基板；
［Ｂ］次の［Ｂ１］または［Ｂ２］の構造を有する遠赤外線反射層；
　［Ｂ１］銀（Ａｇ）を９５～１００質量％含有する金属の単層構造；
　［Ｂ２］銀（Ａｇ）を９５～１００質量％含有する金属層と金属酸化物および／または金属窒化物を含み、屈折率が１．５～３である層とからなる多層構造；
［Ｃ］リン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群より選ばれる１種以上の極性基を有する架橋樹脂を含み、かつ、厚みが０．４～２．０μｍである表面ハードコート層。
　また、本発明の別の態様は、基板、金属層および表面ハードコート層が、この順で配された遠赤外線反射積層体であって、該金属層が銀を９５～１００質量％含有し、該表面ハードコート層の厚みが０．４～２．０μｍであり、かつ、該遠赤外線反射積層体の遠赤外線反射率が６０％以上、かつ、耐表面擦過性が１０本／１０ｍｍ以下である遠赤外線反射積層体である。
　本発明によれば、表面が傷つきにくく、かつ、良好な遠赤外線反射性能を有する遠赤外線反射積層体を提供することができる。
実施例３の遠赤外線反射積層体の断面模式図である。
　以下に本発明における各層の構成を説明する。
　［基板］
　本発明に用いる基板［Ａ］は、遠赤外線反射積層体を適用する用途に合わせて樹脂、金属、金属酸化物および紙や木材などの天然素材から選択される。外光を取り入れたり内部を観察する窓に使用する用途に適用する遠赤外線反射積層体の場合、基板［Ａ］が可視光線を透過する透明樹脂や透明ガラスであることが好ましい。取り扱いを容易とするためには、基板［Ａ］が可撓性を有する透明な樹脂フィルムであることがより好ましい。樹脂フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン－２，６－ナフタレートに代表される芳香族ポリエステル；ナイロン６やナイロン６６に代表される脂肪族ポリアミド；芳香族ポリアミド；ポリエチレンやポリプロピレンに代表されるポリオレフィン；ポリカーボネート等が例示される。これらの中で、コストや取り扱いの容易さ、積層体を加工する際に受ける熱に対する耐熱性といった面で、芳香族ポリエステルが好ましく、中でもポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン－２，６－ナフタレートが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。また、機械強度を高めた二軸延伸フィルムが好ましく、特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。取り扱いの容易さや、加工単位の長尺化による生産性向上といった点からは、フィルムの厚みは５～２５０μｍの範囲が好ましく、１５～１５０μｍであることがさらに好ましい。
　［遠赤外線反射層］
　遠赤外線反射層［Ｂ］は、可視光透過特性や遠赤外線反射特性に優れた次の［Ｂ１］または［Ｂ２］の構造を有する層である。
［Ｂ１］銀（Ａｇ）を９５～１００質量％含有する金属の単層構造
［Ｂ２］銀（Ａｇ）を９５～１００質量％含有する金属の層と金属酸化物および／または金属窒化物を含み、屈折率が１．５～３である層とからなる多層構造。
　一般に、導電性に優れた金属層には、遠赤外線を反射する性能があり、遠赤外線反射性を向上させるためには、金属層を用い、その導電性を増加させればよいことが知られている。しかし、導電性を上げるために金属層を厚くすると、金属層による可視光の吸収や反射が大きくなるために、可視光透過性能が低くなってしまう。そこで、高い遠赤外線反射性能を得ると同時に優れた可視光透過率も得るためには、［Ｂ１］および［Ｂ２］の構造に共通して含まれる金属層として、導電性や可視光透過性に優れたＡｇを９５～１００質量％含有する金属層を用いることが好ましい。
　Ａｇを９５～１００質量％含有する金属層の材料としては、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｂｉ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｙ、Ｅｕ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｃａ、Ｂｅ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｃｒ、ＣｏおよびＮｉなどから選ばれる１種以上の金属とＡｇとの合金が好ましい。かかる金属との合金とすることで、Ａｇが硫黄や酸素などと反応して劣化することを抑えたり、金属層を形成する際に凝集などの欠点が発生するのを防ぐことができる。可視光透過特性や遠赤外線反射特性を良好にするために、金属層のＡｇ含有量が９５～１００質量％であることが好ましく、９８～１００質量％以上であることがより好ましい。Ａｇとの合金として使用する金属は、必要とする遠赤外線反射性能や可視光透過率、耐化学物質および耐環境性に応じて適宜選ぶことができる。前記合金が、０．２～２質量％のＡｕ、Ｐｄ、Ｃｕ、ＢｉおよびＮｄから選ばれる金属を含むことは好ましい。例えば、Ａｇ－１質量％Ａｕ、Ａｇ－１質量％Ｐｄ－１質量％Ｃｕ、Ａｇ－１質量％Ｂｉ－１質量％Ａｕ、Ａｇ－０．２質量％Ｎｄ－１質量％ＡｕなどといったＡｇ合金が好ましい。
　遠赤外線反射層［Ｂ］が［Ｂ１］の構造を有する場合において、単層構造とは、遠赤外線反射層［Ｂ］が、銀（Ａｇ）を９５～１００質量％含有する金属の層一層からなることを意味する。かかる単層構造は、構造が単純であるために膜質の安定化や生産性の向上に有利である。遠赤外線反射層［Ｂ］が、［Ｂ１］の構造を有する場合に、［Ｂ］層の厚みは５～２０ｎｍであることが好ましく、１０～１５ｎｍであることがさらに好ましい。
　また、Ａｇを９５～１００質量％含有する金属の層の片面もしくは両面を被覆するように、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｔｂなどから選ばれた金属やその混合物からなる金属薄層をさらに設けることも可能である。Ａｇを９５～１００質量％含有する金属の層を腐食から保護するためには、上記金属薄層の膜厚が０．５ｎｍ以上であることが好ましい。また、良好な可視光透過性能を得るためには、上記金属薄層の膜厚が１０ｎｍ以下であることが好ましい。保護性能と可視光透過性能を両立するためには、上記金属薄層の膜厚が１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。上記金属薄層は、Ａｇを９５～１００重量％含有する金属の層を腐食から保護するために設ける保護層であり、遠赤外線反射性能などの特性に対する影響は小さい。したがって、遠赤外線反射性能などの特性に対して［Ｂ］層の厚みを考慮する際には、金属薄層は除外して考える。
　高い可視光透過率と高い遠赤外線反射率を両立しようとする場合において、遠赤外線反射層［Ｂ］が［Ｂ１］の構造を有するときには、［Ｂ］層の表面抵抗は３～３０Ω／□であることが好ましく、５～１０Ω／□であることがさらに好ましい。一方、可視光透過性能が不要であり、遠赤外線反射性能だけが必要である場合、赤外線反射性能を高めるために、［Ｂ］層の表面抵抗は３Ω／□未満とすることが好ましい。なお、ここでいう表面抵抗は４端子４探針法定電流印加方式で測定して得られる値である（以下同じ）。
　遠赤外線反射層［Ｂ］が［Ｂ２］の構造を有する場合において、多層構造とは、遠赤外線反射層［Ｂ］が、銀（Ａｇ）を９５～１００質量％含有する金属層と金属酸化物および／または金属窒化物を含み屈折率が１．５～３である層（以降、高屈折率層と記すこともある）とが、それぞれ１層以上積層された構造をいう。金属層と高屈折率層を組み合わせることで、界面反射を抑えて良好な可視光透過特性を得るために好ましい。すなわち、Ａｇを９５～１００質量％含有する金属層は、屈折率が例えば０．３以下などと低く、界面での反射による影響等で可視光透過性が低下する場合がある。それに対し、金属層と屈折率が１．５～３である高屈折率層と組み合わせた多層構造とすることで、可視光線の界面反射を低減することができる。遠赤外線反射層［Ｂ］が、複数の金属層と複数の高屈折率層が交互に積層された構造からなることは、界面反射を抑えて良好な可視光透過特性を得るためにより好ましい。かかる多層構造であることにより、可視光線の吸収特性を制御し、光学特性をより向上することができる。
　高屈折率層の材料としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化亜鉛、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫および酸化ビスマスといった酸化物、および、窒化ケイ素などの窒化物、ならびにそれらの混合物やそれらにアルミや銅などの金属や炭素を含有ドープしたものなどから、用途に合わせて適宜選択して用いることができる。
　高屈折率層の屈折率および厚みは、金属層の屈折率や厚み、および層構成に合わせて、界面反射を抑えるように適宜選択することができる。遠赤外線反射層［Ｂ］が、［Ｂ２］の構造を有する場合に、遠赤外線反射層［Ｂ］に含まれるＡｇを９５～１００質量％含有する金属層のトータルの厚みとしては５～２０ｎｍであることが好ましく、１０～１５ｎｍであればさらに好ましい。なお、前記［Ｂ１］の構造を有する場合と同様に、Ａｇを９５～１００質量％含有する金属層を保護するために、該金属層を被覆する上述した金属薄層をさらに設けても良いが、その場合の金属薄層の厚みは上記［Ｂ］層に含まれるＡｇを９５～１００質量％含有する金属層の厚みから除外して考える。
　遠赤外線反射層［Ｂ］が、［Ｂ２］の構造を有する場合に、各層間における界面反射を抑えて良好な可視光透過率を得るために、高屈折率層の１層あたりの厚みを２～２００ｎｍにすることが好ましく、５～１００ｎｍにすることがさらに好ましい。
　遠赤外線反射層［Ｂ］が、［Ｂ２］の構造を有する場合に、高い可視光透過率と高い遠赤外線反射率を両立しようとする場合において、遠赤外線反射層［Ｂ］に含まれるＡｇを９５～１００質量％含有する金属層のトータルの表面抵抗は３～３０Ω／□であることが好ましく、５～１０Ω／□であることがさらに好ましい。ここで、金属層のトータルの表面抵抗Ｐｓｔは、遠赤外線反射層［Ｂ］が、Ａｇを９５～１００質量％含有する金属層をｎ層含み、それぞれの層の厚みをｔ１～ｔｎ、それぞれの層の表面抵抗をＰｓ１～Ｐｓnした場合、
　１／Ｐｓｔ＝１／Ｐｓ１＋１／Ｐｓ２＋１／Ｐｓ３＋・・・・１／Ｐｓｎ
の式で計算することができる。
　［表面ハードコート層］
　本発明における表面ハードコート層［Ｃ］は、リン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群より選ばれる１種以上の極性基を有する架橋樹脂を含み、かつ、厚みが０．４～２．０μｍである層である。厚み０．４μｍ未満ではハードコート性能が乏しくなり表面保護性能が低くなる。一方、厚みが２．０μｍを超えると、ハードコート層による遠赤外線の吸収が過大となり、遠赤外線反射層の性能を著しく妨げる。
　表面ハードコート層［Ｃ］は、本発明の遠赤外線反射積層体の表面を保護する。次に示すように、表面ハードコート層［Ｃ］は、単層構成の場合のみならず、多層構成を採る場合もある。多層構成の場合、遠赤外線反射層［Ｂ］の外側から遠赤外線反射積層体の最表面までの全ての層が、表面ハードコート層［Ｃ］である。表面ハードコート層は、（ｉ）前記極性基を有する架橋樹脂を含む層の単層構成、（ｉｉ）前記極性基を有する架橋樹脂を含む層とその他の架橋樹脂（前記極性基を有しても有していなくても良い）を含む層との多層構成、（ｉｉｉ）前記極性基を有する架橋樹脂およびその他の架橋樹脂（前記極性基を有しても有していなくても良い）を含む層であって、両成分の組成が厚み方向に連続的に変化している傾斜構成、のいずれの構成であっても良い。（ｉｉ）多層構成または（ｉｉｉ）傾斜構成を採る場合は、少なくとも、遠赤外線反射層［Ｂ］と接する層（多層構成の場合）または、遠赤外線反射層［Ｂ］と接する領域（傾斜構成の場合）に前記極性基を有する架橋樹脂を含むものである。
　また、前記極性を有する架橋樹脂にリン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群より選ばれる１種以上の極性基を導入する方法としては、リン酸、アミド、スルホン酸などの極性基を有するアクリル酸誘導体やメタクリル酸誘導体を、紫外線（以降、ＵＶと略記することもある）などの電磁波を照射することによって架橋を形成するアクリル系ハードコート剤に混合し、紫外線などの電磁波を照射する方法が挙げられる。このような、リン酸、アミド、スルホン酸などの極性基を有するアクリル酸誘導体やメタクリル酸誘導体としては、例えば、リン酸水素＝ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］を好ましく使用することができる。中でもリン酸基を含むものであることが好ましい。表面ハードコート層［Ｃ］に前記極性基を有する架橋樹脂を含むことにより、耐表面擦過性を向上することが可能となる。
　耐表面擦過性を向上するには、表面ハードコート層［Ｃ］が適正範囲の極性基を有することが好ましい。極性基の含有量が少なすぎても、多すぎても、耐表面擦過性が低下する。極性基がリン酸基の場合、リン酸基の含有量の指標としては、セクター磁場型二次イオン質量分析装置にて得たリンに帰属される信号の強度を炭素に帰属される信号の強度で除して算出される規格化強度値を用いる。セクター磁場型二次イオン質量分析装置を用いた測定では、厚み方向のリンおよび炭素に帰属される信号の強度プロファイル（Ｐ［３１（Ｐ）］プロファイル，Ｃ［１３（Ｃ）］プロファイル）を得ることができる。かかるデータから着目する位置における各信号強度値を取得し、その位置での規格化強度値［Ｐ／Ｃ］を得る。（ｉ）単層構成の場合、表面ハードコート層［Ｃ］の中心部±５０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均が、０．０１～３０となる範囲であることが好ましく、０．１～１０であることがより好ましい。（ｉｉ）多層構成または（ｉｉｉ）傾斜構成の場合は、遠赤外線反射層［Ｂ］との境界から０～２００ｎｍの範囲の領域を領域［Ｃ１］とし、領域［Ｃ１］における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の最大値［Ｐ／Ｃ］（Ｃ１）が、０．０１～３０の範囲であることが好ましく、０．１～１０であることがより好ましい。
　また、表面ハードコート層［Ｃ］が（ｉｉ）多層構成または（ｉｉｉ）傾斜構成を採る場合は、遠赤外線反射層［Ｂ］の反対側の面（遠赤外線反射積層体の表面）から０～２００ｎｍの範囲の領域を領域［Ｃ２］とし、遠赤外線反射積層体の表面から１００ｎｍの位置の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］を領域［Ｃ２］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｃ２）とすると、領域［Ｃ２］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｃ２）は、領域［Ｃ１］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｃ１）の１０％以下であることが好ましい。すなわち、領域［Ｃ２］のリン酸基含有量が、領域［Ｃ１］のリン酸基含有量と比較して、非常に小さいことが好ましい。さらには、領域［Ｃ２］は、リン酸基を含まないことがより好ましい。ここで、極性基がリン酸基の場合について説明したが、スルホン酸基およびアミド基についても同様である。この原因は、明確ではないが、遠赤外線反射層［Ｂ］との境界領域である領域［Ｃ１］に存在する極性基は、表面ハードコート層［Ｃ］と遠赤外線反射層［Ｂ］との親和性向上に寄与するが、それ以外の領域に存在する極性基は、親和性向上に寄与せず、過剰に存在すると、むしろ表面ハードコート層［Ｃ］自体の物性を低下させるためではないかと推測する。
　したがって、表面ハードコート層［Ｃ］が（ｉｉ）多層構成または（ｉｉｉ）傾斜構成の場合は、領域［Ｃ１］以外の領域には、前記極性基を含まないか、ハードコート層自体の物性を低下させない含有量であることが好ましい。前記極性基を含まない領域の厚みが、表面ハードコート層［Ｃ］の厚みの２０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。
　表面ハードコート層［Ｃ］の材料は、必要とする耐表面擦過性と遠赤外線反射性能、可視光透過性能などに合わせて適宜選ぶことができる。感光性のアクリル系ハードコート剤は、紫外線などの電磁波を照射することによって素早く硬化して表面ハードコート層を形成することから硬化を制御しやすく好ましい。
　表面ハードコート層の収縮や表面硬度を改質するために無機粒子を配合することは好ましい。無機粒子としては、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムのうち少なくとも一つの元素を含む酸化物の粒子が好ましい。例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウムなどからなる群から選ばれる、１種の無機粒子または２種以上の無機粒子を組み合わせて用いることができる。無機粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状などがあり、必要特性に合わせて適宜選択することができる。さらに、この無機粒子の表面に官能基を導入するような表面処理を行なうことで、硬化性樹脂と無機粒子の架橋反応が進み、よりハードコート特性を向上させることができる。官能基を導入する表面処理としては、例えば、重合性不飽和基を含む有機化合物を無機粒子と結合させることができる。重合性不飽和基としては、特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基およびアクリルアミド基を挙げることができる。
　表面ハードコート層の厚みは、必要とする耐表面擦過性、遠赤外線反射性能、可視光透過性能などに合わせて、ハードコートの材料との組み合わせにより、適宜選ぶことができる。例えば、感光性のアクリル系ハードコート剤を用いた表面ハードコート層においては、遠赤外線反射性能を大幅に低下させないためには厚みが１．５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１．２μｍ以下であり、さらに好ましくは０．９μｍ以下である。耐表面擦過性能の観点からは、厚みが０．４μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。
　［内部ハードコート層］
　本発明の遠赤外線反射積層体において、各層の内部や層間の界面に応力が集中して破壊されることを防ぐために、基板と遠赤外線反射層との間に架橋樹脂からなり、厚みが０．２～１０．０μｍである内部ハードコート層［Ｄ］を設けることが好ましい。
　内部ハードコート層［Ｄ］は、界面への応力集中低減や遠赤外線反射層の密着力向上に寄与するものを適宜選択することができる。具体的には、表面ハードコート層と同様の思想で組成や特性の範囲を適宜選択することができるが、遠赤外線反射層の内側に位置する点において、表面ハードコート層に比較し、組成や特性の範囲をより広く採りうる。すなわち、組成としては、前記極性基を必須とせず、また、遠赤外線の吸収が大きくなる組成を採用しても良い。厚みは、上限が１０．０μｍまで用いることができる。ハードコート層の収縮や表面硬度を改質するために無機粒子を配合することも好ましい。この場合も表面ハードコート層と同じ考え方で材料（材質、形状、表面官能基）を選択することができる
　内部ハードコート層の厚みは、必要とする耐表面擦過性能と可視光透過性能などに合わせて、ハードコートの材料との組み合わせにより適宜選ぶことができる。例えば、感光性のアクリル系ハードコート剤を用いた内部ハードコート層においては、良好な耐表面擦過性を得るためにはハードコート層の膜厚は厚い方が好ましいが、膜厚が厚くなるとハードコート形成時の膜収縮による基板界面への応力などの点で不利となるため、厚みは、０．５μｍ～１０μｍが好ましく、０．５μｍ～５μｍがさらに好ましい。表面ハードコート層および内部ハードコート層の厚みは、ＳＥＭ観察画像より求めることができる。
　［遠赤外線反射積層体の遠赤外線反射率］
　本発明の遠赤外線反射積層体は、基材、遠赤外線反射層、表面ハードコート層、および、必要に応じて内部ハードコート層や他の構成層について、成分、膜質、膜厚および抵抗値などの特性を調整することで、用途に合わせた遠赤外線反射率を設計することができる。遠赤外線反射積層体の遠赤外線反射率は、６０％以上であることが好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上がさらに好ましい。
　遠赤外線反射率の測定は、ＪＩＳ　Ｒ　３１０６（１９９８）に準拠して行い、波長５～２５μｍの分光反射率より、２８３Ｋの熱放射に対する反射率を求めたものを遠赤外線反射率（％）とする。
　［遠赤外線反射積層体の可視光透過率］
　本発明の遠赤外線反射積層体は、基材、遠赤外線反射層、表面ハードコート層、および、必要に応じて内部ハードコート層や他の構成層について、成分、膜質および膜厚を調整することで、用途に合わせた可視光透過率を設計することができる。遠赤外線反射積層体の可視光透過率は４０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、６０％以上がさらに好ましい。
　可視光透過率の測定は、ＪＩＳ　Ｒ　３１０６（１９９８）に準拠して行い、波長３８０～７８０ｎｍの分光透過率より求めたものを可視光透過率（％）とする。
　例えば、遠赤外線反射層を、Ａｇを９５～１００質量％含有する厚さ９～１５ｎｍの金属層と厚さ４０～６０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層を積層した構成とすることは、相反する特性である遠赤外線反射率と可視光透過率において共に高い数値を得ることができることから好ましい組み合わせである。
　［遠赤外線反射積層体の耐表面擦過性］
　本発明の遠赤外線反射積層体は、表面ハードコート層［Ｃ］に、前記の極性基を有する架橋樹脂を含むことにより、表面ハードコート層［Ｃ］の厚みが０．４～２．０μｍと、比較的薄い場合であっても、高い耐表面擦過性を有することができる。
　耐表面擦過性の測定は、遠赤外線反射積層体をガラス板に固定し、積層体表面を、擦過装置（例えば、（株）大栄科学精器製作所製　ＲＴ－２００）を用いて、スチールウールを固定した３０ｍｍ（幅方向）×１０ｍｍ（摩擦方向）の摩擦子に５００ｇの荷重をかけて、１００往復擦過した後、表面を目視観察することにより行うことができる。詳細は、後述する。
　本発明の遠赤外線反射積層体の耐表面擦過性は、擦過回数１００往復時の目視キズを評価した際に、２ｍｍ幅以上の目視キズがなく、かつ、目視キズが１０本／１０ｍｍ以下であることが好ましく、目視キズが５本／１０ｍｍ以下であることがさらに好ましい。擦過回数１００往復時の目視キズが１１本／１０ｍｍ以上であると、耐表面擦過性が低く、好ましくない。また、擦過回数１００往復時に２ｍｍ幅以上の目視キズが発生するのは、著しく耐表面擦過性が低い場合であり好ましくない。
　［用途］
　本発明の遠赤外線反射積層体は、遠赤外線反射性能と耐表面擦過性に優れた特性を生かし、建築物や乗り物などの窓から流出入する熱エネルギー遮断による冷暖房効果の向上、植物育成用のケースやハウスにおける熱環境保持性の向上、冷凍冷蔵ショーケースにおける保冷効果向上、および、高低温作業時に監視窓から流出入する熱輻射の低減などの用途に利用できる。また、本発明の遠赤外線反射積層体を壁や天井などの内装材や家具、家電製品などの表面に使用することで、遠赤外線の放射によって空間内から流出する熱エネルギーを低減することに利用することができる。本発明の遠赤外線反射積層体は、電磁波遮蔽性能を有することから、電磁波シールド材としての効果も有する。また、樹脂フィルム基板を用いた遠赤外線反射積層体は、粘着剤などを用いてガラス板などに貼り合わせて使用することで、ガラス板などが破損した場合の飛散防止やガラス板などを保護して破損を低減する効果も有する。樹脂フィルム基板が紫外線により劣化するのを防ぐためには、樹脂フィルム基板表面や粘着剤などの接着層に紫外線吸収剤を付与しておくことが好ましい。
　実施例における評価方法を以下に記す。
（遠赤外線反射率）
　５０ｍｍ角の遠赤外線反射積層体サンプルの片端部を、７．５ｍｍ幅×５０ｍｍ長にカットした両面テープ（（株）ニトムズ製ＰＲＯＳＥＬＦ（登録商標）Ｎｏ．５３９Ｒ）を用いて、５０ｍｍ角の３ｍｍ厚ガラス板に、シワや弛みが発生しないように固定して評価サンプル片を作成した。評価サンプル片について、下記の装置および測定条件により、積層体表面側（表面ハードコート層側）から入光して、波長５～２５μｍの光線の分光反射率を測定し、ＪＩＳ　Ｒ　３１０６（１９９８）に準拠して２８３Ｋの熱放射に対する反射率を求めた。なお、評価サンプル片表面の遠赤外線反射積層体が部分的にたるんでいたりして正確な面が出ていない位置では測定値が低く出るので、１つの評価サンプル片の中で測定位置を少しずつ動かして測定し、最も大きな値をその評価サンプル片の遠赤外線反射率（％）とした。
・測定装置：（株）島津製作所製　ＩＲＰｒｅｓｔｉｇｅ－２１
・正反射測定ユニット：ＳＲＭ－８０００Ａ
・波数範囲：４００～２０００ｃｍ－１
・測定モード：％Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ
・アボダイズ係数：Ｈａｐｐ－Ｇｅｎｚｅｌ
・積算回数：１０
・分解：４．０
・測定ｎ数：評価サンプル５個のうち最大値と最小値のものを除いた３個の平均値を使用。
　（可視光透過率）
　５０ｍｍ角の遠赤外線反射積層体サンプルの片端部を、７．５ｍｍ幅×５０ｍｍ長にカットした両面テープ（(株)ニトムズ製ＰＲＯＳＥＬＦ（登録商標）Ｎｏ．５３９Ｒ）を用いて、５０ｍｍ角の３ｍｍ厚ガラス板に、シワや弛みが発生しないように固定して評価サンプル片を作成した。評価サンプル片中央部について、下記の装置および測定条件により、ガラス側（積層体表面側（表面ハードコート層側）の逆面）から入光して、波長３８０～７８０ｎｍの分光透過率を測定し、ＪＩＳ　Ｒ　３１０６（１９９８）に準拠して可視光透過率（％）を求めた。
・測定装置：（株）島津製作所製　ＵＶ－３１５０
・波長範囲：３８０～７８０ｎｍ
・スリット幅：（２０）
・スキャンスピード：高速
・サンプリング：１ｎｍ
・グレーティング：７２０ｎｍ
・測定ｎ数：評価サンプル５個のうち最大値と最小値のものを除いた３個の平均値を使用。
　（耐表面擦過性）
　５０ｍｍ角の遠赤外線反射積層体サンプルを、７．５ｍｍ幅×５０ｍｍ長にカットした両面テープ（（株）ニトムズ製ＰＲＯＳＥＬＦ（登録商標）　Ｎｏ．５３９Ｒ）を用いて、５０ｍｍ角の３ｍｍ厚ガラス板に、遠赤外線反射積層体サンプル表面にシワや弛みが発生しないように擦過方向と平行な両端部を固定して表面擦過試験用評価サンプル片とした。以下の装置および条件でスチールウールを固定した摩擦子を用いて積層体表面側（ハードコート層１側）を擦過した後、サンプル中央部２０ｍｍ角部分の表面を目視観察した。
・擦過装置：（株）大栄科学精器製作所製　ＲＴ－２００
・擦過速度：１０
・擦過回数：１００往復
・荷重：５００ｇ
・摩擦子：３０ｍｍ（幅方向）×１０ｍｍ（摩擦方向）
・スチールウール：日本スチールウール（株）製　ボンスター（登録商標）　Ｎｏ．００００
・測定ｎ数：評価サンプル５個のうち最大値と最小値のものを除いた３個の平均値を使用。
　（表面抵抗）
　三菱化学アナリテック（株）製　ロレスタ（登録商標）ＥＰ　ＭＣＰ－Ｔ３６０型（４端子４探針法定電流印加方式）を用いて、遠赤外線反射層の表面抵抗（Ω／□）を測定した。
　（表面ハードコート層および内部ハードコート層の厚み）
　以下の方法で、遠赤外線反射積層体のサンプルを調製し、ＳＥＭ観察を行い、サンプルのハードコート層厚みを算出した。
１．サンプル調製
（ｉ）断面面出し
・日本ミクロトーム研究所製「ロータリミクロトーム　ＲＭＳ」で切削
・切削刃　スチール製レザー刃（フェザー製片刃）
・スチール製レザー刃切削角度　３度
・切削量　３０μｍ
（ｉｉ）スパッタ処理
　（株）エイコー・エンジニアリング社製「イオンコーターＩＢ－３型」でスパッタ処理を行った。
・スパッタ金属　Ｐｔ　８５質量％＋Ｐｄ　１５質量％
・スパッタ条件　２ｍＡ　５分間
・スパッタ膜厚　約１０ｎｍ
２．ＳＥＭ観察
　（株）トプコン社製　走査型電子顕微鏡「ＡＢＴ－３２」を使用した。
（ｉ）使用観察条件
・加速電圧　１５ＫＶ
・スポットサイズレベル　６
・ワーキングディスタンス　２０ｍｍ
・観察角度　０度（対断面９０度）
・観察倍率　２００００倍。
（ｉｉ）厚み算出
・ＳＥＭ像上で測定した厚みと観察倍率から計算した。
・なお、計算に当たっては、標準資料としてＧｒａｔｉｎｇＳｐａｃｅ　５００×５００ｍμ（Ｏｋｅｎ製）を測定した結果を用いて誤差補正を行った。
　（遠赤外線反射層の光学定数（屈折率および消衰係数、膜厚）の分析）
１．測定法
　下記の装置および測定条件により、測定サンプルからの反射光の偏光状態の変化を測定し、光学定数を計算により求めた。計算は、試料で測定されたΔ（位相差）とψ（振幅反射率）のスペクトルを計算モデルから算出された(Δ、ψ)と比較し、測定値（Δ、ψ）に近づくように誘電関数を変化させてフィッティングしていく。ここで示されたフィッティング結果は、測定値と理論値がベストフィット（平均二乗誤差が最小に収束）した結果である。
２．装置
・高速分光エリプソメーター
・Ｍ－２０００（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ　社製）
・回転補償子型（ＲＣＥ：　Ｒｏｔａｔｉｎｇ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒ　Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ）
・３００ｍｍ　Ｒ－Ｔｈｅｔａ　ステージ
３．測定条件
・入射角：６５　度、７０　度、７５　度
・測定波長：　１９５ｎｍ～１６８０ｎｍ
・解析ソフト：ＷＶＡＳＥ３２
・ビーム径：１×２ｍｍ　程度
・測定ｎ数：１。
　（表面ハードコート層の極性基成分の分析）
１．測定法
　下記の装置および測定条件により、遠赤外線反射積層体サンプルの表面ハードコート層を測定し、厚み方向のＰ［３１（Ｐ）］プロファイルおよびＣ［１３（Ｃ）］プロファイルを取得し、厚み方向の各点にて、３１（Ｐ）の強度値を１３（Ｃ）の強度値で除して規格化強度［Ｐ／Ｃ］を求めた。
（ｉ）単層構成の場合、ハードコート層［Ｃ］の中心部±５０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均値を求めた。
（ｉｉ）多層構成または（ｉｉｉ）傾斜構成の場合、［Ｐ／Ｃ］（Ｃ１）および、［Ｐ／Ｃ］（Ｃ２）は、以下のように求めた。
［Ｐ／Ｃ］（Ｃ１）：遠赤外線反射層［Ｂ］との境界から０～２００ｎｍの領域における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の最大値を［Ｐ／Ｃ］（Ｃ１）とした。
［Ｐ／Ｃ］（Ｃ２）：遠赤外線反射層［Ｂ］の反対側の面（遠赤外線反射積層体の表面）から１００ｎｍの位置における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］を［Ｐ／Ｃ］（Ｃ２）とした。
２．装置
　セクター磁場型二次イオン質量分析装置
３．測定条件
・一次イオンには１４．５ｋＶの加速電圧で加速したＣｓ＋イオンを使用した。
・分析時には、試料の帯電補償のためＥ－ｇｕｎを使用し、試料台オフセット電位は０Ｖとした。
・二次イオンの検出にはＥＭ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒ）を使用し、負イオンにてｍ／ｚ＝３１（Ｐ），　１３（Ｃ）を検出した。
・質量分解能には２０００以上（３１（ＳｉＨ）と３１（Ｐ）、１３（ＣＨ）と１３（Ｃ）が十分分離可能であること）が必要である。
・ＣとＰの積算時間は同一とする。
・測定ｎ数：１。
　（サンプルの判定基準）
　実施例および比較例で得られたサンプルについて、上記のとおりにして遠赤外線反射率、耐表面擦過性および可視光透過率を測定し、以下の判定基準により、性能を判定した。
・遠赤外線反射率
　Ａ：８０％以上
　Ｂ：６０％以上８０％未満
　Ｃ：６０％未満
・耐表面擦過性
　Ａ：擦過回数１００往復時に２ｍｍ幅以上の目視キズがなく、目視キズ０～５本／１０ｍｍ
　Ｂ：擦過回数１００往復時に２ｍｍ幅以上の目視キズがなく、目視キズ６～１０本／１０ｍｍ
　Ｃ：擦過回数１００往復時に２ｍｍ幅以上の目視キズがあるか、または、目視キズ１１本／１０ｍｍ以上
・可視光透過率
　Ａ：６０％以上
　Ｂ：４０％以上６０％未満
　Ｃ：４０％未満
・総合判定１
　遠赤外線反射率および耐表面擦過性の判定において以下の基準で判定した。
Ａ：すべての判定がＡ
Ｂ：判定にＢを１つ含み、残りはＡ
Ｃ：判定にＢを２つ以上含む、もしくはＣを含む
・総合判定２
　総合判定１および可視光透過率の判定において以下の基準で判定し、Ａ～Ｃを合格とした。
Ａ：すべての判定がＡ
Ｂ：判定にＢを１つ含み、残りは全てＡ
Ｃ：総合判定１がＢ以上であり、判定にＢを２つ以上含む、もしくはＣを含む。
Ｄ：総合判定１がＣであり、可視光透過率の判定がＡである。
Ｅ：総合判定１がＣであり、可視光透過率の判定がＢ以下である。
　［実施例１］
　基板上に内部ハードコート層として予めアクリル系ハードコート（膜厚３．３μｍ）を有するＰＥＴフィルム（東レフィルム加工（株）製タフトップ（登録商標）Ｃ０Ｔ０（１００μｍ厚））を使用した。
　該フィルムの内部ハードコート層の上に、到達圧力：８Ｅ－３Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（５６ｍｍｘ１０６ｍｍｘ１枚：Ａｇ－１質量％Ａｕ）、搬送速度：０．３ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：０．５Ｐａ、投入電力：直流（以下、ＤＣと略記することもある）１０５Ｗにてスパッタ加工を行い、Ａｇを９５～１００質量％含有する金属の単層構造の遠赤外線反射層を形成した。
　続いて、リン酸基を含む架橋樹脂からなる表面ハードコート層を以下のように形成した。紫外線を照射することによって架橋を形成するアクリル系ハードコート剤（ＪＳＲ（株）製オプスター（登録商標）Ｚ７５３５）に、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を固形分中２質量％となるよう混合し、希釈溶媒としてメチルエチルケトンを用いて固形分濃度７．５質量％に希釈して塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した後、ＵＶ（水銀ランプ使用、１２００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて表面ハードコート層を形成させた。
　遠赤外線反射層を形成した段階で、遠赤外線反射層の表面抵抗を測定したところ、１Ω／□であった。表面ハードコート層の膜厚は０．８μｍであった。遠赤外線反射率が９３％、耐表面擦過性では３本／１０ｍｍ、可視光透過率が１％であり、総合判定１はＡ、総合判定２はＣであった。
　［実施例２］
　Ａｇを９５～１００質量％含有する金属の単層構造の遠赤外線反射層を形成する際の搬送速度を０．８ｍ／ｍｉｎとした以外は実施例１と同様にしてサンプルを得た。結果を表１および表３に示す。
　遠赤外線反射層を形成した段階で、遠赤外線反射層の表面抵抗を測定したところ、７Ω／□であった。また、この段階で高速分光エリプソメーターを用いて膜厚を分析したところ、東レフィルム加工（株）製タフトップ（登録商標）Ｃ０Ｔ０に積層された内部ハードコート層膜厚が３．３μｍ、遠赤外線反射層の膜厚が１２．１ｎｍであった。表面ハードコート層の膜厚は０．８μｍであった。遠赤外線反射率が８８％、耐表面擦過性では３本／１０ｍｍ、可視光透過率が５４％であり、総合判定１はＡ、総合判定２はＢであった。
　［実施例３］
　遠赤外線反射層として、Ａｇを９５～１００質量％含有する金属の層、および、金属酸化物を含み屈折率が１．５～３である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。
　（遠赤外線反射層の形成方法）
到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ、Ａｇ合金ターゲット（７６ｍｍ×３３０ｍｍ×２枚：Ａｇ－０．２質量％Ｎｄ－１質量％Ａｕ）、搬送速度：３．５ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：９．５Ｅ－２Ｐａ、投入電力：ＬＦ電源（４０ｋＨｚ）１．０ｋｗにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、ＩＴＯターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚：９０質量％Ｉｎ２Ｏ３－１０質量％ＳｎＯ２）、搬送速度：０．９ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ－３体積％Ｏ２、スパッタ圧力：９．５Ｅ－２Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）２．５ｋｗにてＩＴＯ層をスパッタ加工にて形成した。結果を表１および表３に示す。
　ＩＴＯ層を形成した後、表面抵抗を測定したところ、９Ω／□であった。表面ハードコート層を、セクター磁場型二次イオン質量分析装置にて観察したＰプロファイルをＣプロファイルの各ポイントにて割返した規格化強度を表面ハードコート層表面からの深さ４００ｎｍ±５０ｎｍの範囲で平均した値Ｐ／Ｃは１．３であった。遠赤外線反射率が８６％、耐表面擦過性では２本／１０ｍｍ、可視光透過率が６７％であり、総合判定１はＡ、総合判定２もＡであった。
　［実施例４］
　表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を固形分中５質量％となるよう混合した以外は実施例３と同様にしてサンプルを得た。結果を表１および表３に示す。遠赤外線反射率が８８％、耐表面擦過性では５本／１０ｍｍ、可視光透過率が６６％であり、総合判定１はＡ、総合判定２もＡであった。
　［実施例５］
　表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を固形分中１０質量％となるよう混合した以外は実施例３と同様にしてサンプルを得た。結果を表１および表３に示す。
　表面ハードコート層を、セクター磁場型二次イオン質量分析装置にて観察したＰプロファイルをＣプロファイルの各ポイントにて割返した規格化強度を表面ハードコート層表面からの深さ４００ｎｍ±５０ｎｍの範囲で平均した値Ｐ／Ｃは６．２であった。遠赤外線反射率が８６％、耐表面擦過性では７本／１０ｍｍ、可視光透過率が６７％であり、総合判定１はＢ、総合判定２もＢであった。
　［実施例６］
　表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を固形分中２質量％となるよう混合し、希釈溶媒としてメチルエチルケトンを用いて固形分濃度０．７５質量％に希釈して塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、遠赤外線反射層上に塗布し、８０℃で３分乾燥した。次に、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を添加せずにアクリル系ハードコート剤（ＪＳＲ（株）製オプスター（登録商標）Ｚ７５３５）を希釈溶媒としてメチルエチルケトンを用いて固形分濃度６．７５質量％に希釈して塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて、前記塗膜上に塗布し、８０℃で３分乾燥した。続いて、ＵＶ（水銀ランプ使用、１２００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、塗膜を架橋させて、積層構造からなる表面ハードコート層を形成させた。表面ハードコート層の形成を以上のようにした以外は実施例３と同様にしてサンプルを得た。結果を表１および表３に示す。遠赤外線反射率が８５％、耐表面擦過性では２本／１０ｍｍ、可視光透過率が６７％であり、総合判定１はＡ、総合判定２もＡであった。
　［実施例７］
　表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を固形分中、２質量％ではなく１０質量％となるよう混合した以外は実施例６と同様にしてサンプルを得た。結果を表１および表３に示す。遠赤外線反射率が８５％、耐表面擦過性では１本／１０ｍｍ、可視光透過率が６８％であり、総合判定１はＡ、総合判定２もＡであった。
　［実施例８］
　表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を固形分中、２質量％ではなく２０質量％となるよう混合した以外は実施例６と同様にしてサンプルを得た。結果を表１および表３に示す。遠赤外線反射率が８５％、耐表面擦過性では４本／１０ｍｍ、可視光透過率が６８％であり、総合判定１はＡ、総合判定２もＡであった。
［実施例９］
　遠赤外線反射層として、Ａｇを９５～１００質量％含有する金属の層と金属酸化物を含み屈折率が１．５～３である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。
　（遠赤外線反射層の形成方法）
第１層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｔｉターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：０．２ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ－３５体積％　Ｏ２、スパッタ圧力：０．３Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）９．５ｋｗにてＴｉＯ２層をスパッタ加工にて形成した。
第２層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ａｇ合金ターゲット（７６ｍｍ×３３０ｍｍ×２枚：Ａｇ－０．２質量％Ｎｄ－１質量％Ａｕ）、搬送速度：３．５ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：９．５Ｅ－２Ｐａ、投入電力：ＬＦ電源（４０ｋＨｚ）１．０ｋｗにて金属層をスパッタ加工にて形成した。
第３層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｔｉターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：５．０ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：０．２Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）４．３　ｋｗにてＴｉ層をスパッタ加工にて形成した。
第４層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｔｉターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：０．２ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ－３５体積％　Ｏ２、スパッタ圧力：０．３Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）９．５ｋｗにてＴｉＯ２層をスパッタ加工にて形成した。
　結果を表２および表３に示す。ＴｉＯ２層をスパッタ加工した後、表面抵抗を測定したところ、６Ω／□であった。遠赤外線反射率が８６％、耐表面擦過性では４本／１０ｍｍ、可視光透過率が５２％であり、総合判定１はＡ、総合判定２はＢであった。
［実施例１０］
　遠赤外線反射層としてＡｇを９５～１００質量％含有する金属の層と金属酸化物を含み屈折率が１．５～３である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。
　（遠赤外線反射層の形成方法）
第１層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｔｉターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：０．２ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ－３５体積％　Ｏ２、スパッタ圧力：０．３Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）９．５ｋｗにてＴｉＯ２層をスパッタ加工にて形成した。
第２層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ａｇ合金ターゲット（７６ｍｍ×３３０ｍｍ×２枚：Ａｇ－０．２質量％Ｎｄ－１質量％Ａｕ）、搬送速度：３．５ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：９．５Ｅ－２Ｐａ、投入電力：ＬＦ電源（４０ｋＨｚ）１．０ｋｗにて金属層をスパッタ加工にて形成した。
第３層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｔｉターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：５．０ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：０．２Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）１．７　ｋｗにてＴｉ層をスパッタ加工にて形成した。
第４層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｔｉターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：０．２ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ－３５体積％　Ｏ２、スパッタ圧力：０．３Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）９．５ｋｗにてＴｉＯ２層をスパッタ加工にて形成した。
　結果を表２および表３に示す。ＴｉＯ２層をスパッタ加工した後、表面抵抗を測定したところ、７Ω／□であった。遠赤外線反射率が８５％、耐表面擦過性では３本／１０ｍｍ、可視光透過率が７２％であり、総合判定１はＡ、総合判定２はＡであった。
［実施例１１］
　遠赤外線反射層としてＡｇを９５～１００質量％含有する金属の層と金属酸化物を含み屈折率が１．５～３である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。
　（遠赤外線反射層の形成方法）
第１層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｎｂターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：０．３ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ－３０体積％　Ｏ２、スパッタ圧力：０．３Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）５ｋｗにてＮｂ２Ｏ５層をスパッタ加工にて形成した。
第２層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ａｇ合金ターゲット（７６ｍｍ×３３０ｍｍ×２枚：Ａｇ－０．２質量％Ｎｄ－１質量％Ａｕ）、搬送速度：３．５ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：９．５Ｅ－２Ｐａ、投入電力：ＬＦ電源（４０ｋＨｚ）１．０ｋｗにて金属層をスパッタ加工にて形成した。
第３層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｎｂターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：５．０ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：０．１Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）２．３ｋｗにてＮｂ層をスパッタ加工にて形成した。
第４層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｎｂターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：０．３ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ－３０体積％　Ｏ２、スパッタ圧力：０．３Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）５ｋｗにてＮｂ２Ｏ５層をスパッタ加工にて形成した。
　結果を表２および表３に示す。Ｎｂ２Ｏ５層をスパッタ加工した後、表面抵抗を測定したところ、７Ω／□であった。遠赤外線反射率が８６％、耐表面擦過性では３本／１０ｍｍ、可視光透過率が５３％であり、総合判定１はＡ、総合判定２はＢであった。
［実施例１２］
　遠赤外線反射層としてＡｇを９５～１００質量％含有する金属の層と金属酸化物を含み屈折率が１．５～３である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。
　（遠赤外線反射層の形成方法）
第１層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｎｂターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：０．３ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ－３０体積％　Ｏ２、スパッタ圧力：０．３Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）５ｋｗにてＮｂ２Ｏ５層をスパッタ加工にて形成した。
第２層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ａｇ合金ターゲット（７６ｍｍ×３３０ｍｍ×２枚：Ａｇ－０．２質量％Ｎｄ－１質量％Ａｕ）、搬送速度：３．５ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：９．５Ｅ－２Ｐａ、投入電力：ＬＦ電源（４０ｋＨｚ）１．０ｋｗにて金属層をスパッタ加工にて形成した。
第３層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｎｂターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：５．０ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ、スパッタ圧力：０．１Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）０．９ｋｗにてＮｂ層をスパッタ加工にて形成した。
第４層：到達圧力：２Ｅ－３Ｐａ以下、Ｎｂターゲット（１２７ｍｍ×３８６ｍｍ×１枚）、搬送速度：０．３ｍ／ｍｉｎ、スパッタガス：Ａｒ－３０体積％　Ｏ２、スパッタ圧力：０．３Ｐａ、投入電力：ＤＣパルス（５０ｋＨｚ）５ｋｗにてＮｂ２Ｏ５層をスパッタ加工にて形成した。
　結果を表２および表３に示す。Ｎｂ２Ｏ５層をスパッタ加工した後、表面抵抗を測定したところ、１３Ω／□であった。遠赤外線反射率が８０％、耐表面擦過性では５本／１０ｍｍ、可視光透過率が７０％であり、総合判定１はＡ、総合判定２はＡであった。
　［比較例１］
　ポリオレフィン系樹脂を表層に有している帝人デュポンフィルム（株）製レフテル（登録商標）ＺＣ０５Ｇ（基板（ＰＥＴフィルム）／金属層と誘電体層（酸化チタン）からなる遠赤外線反射層／ＯＰＰフィルム）を比較例１のサンプルとした。結果を表２および表３に示す。遠赤外線反射率が８１％、耐表面擦過性では１１本／１０ｍｍ以上の無数のキズが観察され、可視光透過率が６６％であり、総合判定１はＣ、総合判定２はＤであった。
　［比較例２］
　表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を添加しない他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。結果を表２および表３に示す。
　比較例２の表面ハードコート層の膜厚は０．８μｍであった。遠赤外線反射率が８７％、耐表面擦過性では２ｍｍ幅以上のキズが観察され、可視光透過率が５３％であり、総合判定１はＣ、総合判定２はＥであった。
　［比較例３］
　表面ハードコート層の形成工程において、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ（株）製オプスターＺ７５３５を用い、希釈溶媒としてメチルエチルケトンを用いて固形分濃度２０質量％に希釈したものを塗液とし、該塗液をバーコーター（番手Ｎｏ．１２）を用いて塗布する他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。結果を表２および表３に示す。
　比較例３の表面ハードコート層の膜厚は３μｍであった。遠赤外線反射率が５４％、耐表面擦過性では０本／１０ｍｍ、可視光透過率が５４％であり、総合判定１はＣ、総合判定２はＥであった。
　［比較例４］
　表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を添加しない他は実施例３と同様にしてサンプルを得た。結果を表２および表３に示す。
　表面ハードコート層を、セクター磁場型二次イオン質量分析装置にて観察したＰプロファイルをＣプロファイルの各ポイントにて割返した規格化強度を表面ハードコート層表面からの深さ４００ｎｍ±５０ｎｍの範囲で平均した値Ｐ／Ｃは６ｘ１０－４であった。遠赤外線反射率が８７％、耐表面擦過性では２ｍｍ幅以上のキズが観察され、可視光透過率が６７％であり、総合判定１はＣ、総合判定２はＤであった。
　［比較例５］
　表面ハードコート層の形成工程において、アクリル系ハードコート剤としてＪＳＲ（株）製オプスターＺ７５３５に、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体（共栄社化学（株）製ライトエステルＰ－２Ｍ）を固形分中２質量％となるよう混合し、希釈溶媒としてメチルエチルケトンを用いて固形分濃度１．９質量％に希釈して塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター（番手Ｎｏ．１０）を用いて塗布する他は実施例３と同様にしてサンプルを得た。結果を表２および表３に示す。
　比較例５の表面ハードコート層の膜厚は０．２μｍであった。遠赤外線反射率が８９％、耐表面擦過性では２ｍｍ幅以上のキズが観察され、可視光透過率が６４％であり、総合判定１はＣ、総合判定２はＤであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　本発明の遠赤外線反射積層体は、高い遠赤外線反射率および良好な対表面擦過性を備えるため、窓などから流出入する熱エネルギーを遮蔽することで熱環境を保持する用途に好適に用いることができる。特に、冬期に室内からのエネルギー流出を抑える用途に好適に用いることができる。
１：表面ハードコート層［Ｃ］
２：遠赤外線反射層［Ｂ］
３：内部ハードコート層［Ｄ］
４：基板［Ａ］

Claims (6)

  1. 以下の［Ａ］～［Ｃ］の層が、この順で配された遠赤外線反射積層体；
    ［Ａ］基板；
    ［Ｂ］次の［Ｂ１］または［Ｂ２］の構造を有する遠赤外線反射層；
    　［Ｂ１］銀を９５～１００質量％含有する金属の単層構造；
    　［Ｂ２］銀を９５～１００質量％含有する金属の層と金属酸化物および／または金属窒化物を含み、屈折率が１．５～３である層とからなる多層構造；
    ［Ｃ］リン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群より選ばれる１種以上の極性基を有する架橋樹脂を含み、かつ、厚みが０．４～２．０μｍである表面ハードコート層。
  2. 基板、金属層および表面ハードコート層が、この順で配された遠赤外線反射積層体であって、該金属層が銀を９５～１００質量％含有し、該表面ハードコート層の厚みが０．４～２．０μｍであり、かつ、該遠赤外線反射積層体の遠赤外線反射率が６０％以上、かつ、耐表面擦過性が１０本／１０ｍｍ以下である遠赤外線反射積層体。
  3. 前記［Ｃ］層において、前記極性基がリン酸基を含む請求項１または２に記載の遠赤外線反射積層体。
  4. 前記［Ａ］層と、前記［Ｂ］層との間に以下の［Ｄ］層が配されている請求項１～３のいずれかに記載の遠赤外線反射積層体；
    ［Ｄ］架橋樹脂からなり、厚みが０．２～１０．０μｍである内部ハードコート層。
  5. 前記［Ｃ］層が、多層構成または組成が厚み方向に連続的に変化する傾斜構成であり、
    前記［Ｃ］層において、前記［Ｃ］層と前記［Ｂ］層との境界から０～２００ｎｍの範囲の領域［Ｃ１］におけるセクター磁場型二次イオン質量分析装置にて得た規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｃ１）が０．０１～３０である請求項１～４のいずれかに記載の遠赤外線反射積層体。
  6. 前記［Ｃ］層において、前記［Ｂ］層とは反対側の表面から０～２００ｎｍの範囲の領域［Ｃ２］におけるセクター磁場型二次イオン質量分析装置にて得た規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｃ２）が、前記規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｃ１）の１０％以下である請求項５に記載の遠赤外線反射積層体。
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