JPWO2012096304A1 - 遠赤外線反射積層体 - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 297
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 73
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 73
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 claims abstract description 13
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 8
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 abstract 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 63
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 41
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 41
- 239000010408 film Substances 0.000 description 32
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 21
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 19
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- -1 ITO Chemical compound 0.000 description 13
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 13
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 12
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 9
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 9
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 9
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical group OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004953 Aliphatic polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical group OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 229920003231 aliphatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001417 caesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 210000003746 feather Anatomy 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical group OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000008635 plant growth Effects 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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Abstract
Description
以下の[A]〜[C]の層が、この順で配されてなる遠赤外線反射積層体;
[A]基板;
[B]次の[B1]または[B2]の構造を有する遠赤外線反射層;
[B1]銀(Ag)を95〜100質量%含有する金属の単層構造;
[B2]銀(Ag)を95〜100質量%含有する金属層と金属酸化物および/または金属窒化物を含み、屈折率が1.5〜3である層とからなる多層構造;
[C]リン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群より選ばれる1種以上の極性基を有する架橋樹脂を含み、かつ、厚みが0.4〜2.0μmである表面ハードコート層。
本発明に用いる基板[A]は、遠赤外線反射積層体を適用する用途に合わせて樹脂、金属、金属酸化物および紙や木材などの天然素材から選択される。外光を取り入れたり内部を観察する窓に使用する用途に適用する遠赤外線反射積層体の場合、基板[A]が可視光線を透過する透明樹脂や透明ガラスであることが好ましい。取り扱いを容易とするためには、基板[A]が可撓性を有する透明な樹脂フィルムであることがより好ましい。樹脂フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−2,6−ナフタレートに代表される芳香族ポリエステル;ナイロン6やナイロン66に代表される脂肪族ポリアミド;芳香族ポリアミド;ポリエチレンやポリプロピレンに代表されるポリオレフィン;ポリカーボネート等が例示される。これらの中で、コストや取り扱いの容易さ、積層体を加工する際に受ける熱に対する耐熱性といった面で、芳香族ポリエステルが好ましく、中でもポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−2,6−ナフタレートが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。また、機械強度を高めた二軸延伸フィルムが好ましく、特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。取り扱いの容易さや、加工単位の長尺化による生産性向上といった点からは、フィルムの厚みは5〜250μmの範囲が好ましく、15〜150μmであることがさらに好ましい。
遠赤外線反射層[B]は、可視光透過特性や遠赤外線反射特性に優れた次の[B1]または[B2]の構造を有する層である。
[B1]銀(Ag)を95〜100質量%含有する金属の単層構造
[B2]銀(Ag)を95〜100質量%含有する金属の層と金属酸化物および/または金属窒化物を含み、屈折率が1.5〜3である層とからなる多層構造。
1/Pst=1/Ps1+1/Ps2+1/Ps3+・・・・1/Psn
の式で計算することができる。
本発明における表面ハードコート層[C]は、リン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群より選ばれる1種以上の極性基を有する架橋樹脂を含み、かつ、厚みが0.4〜2.0μmである層である。厚み0.4μm未満ではハードコート性能が乏しくなり表面保護性能が低くなる。一方、厚みが2.0μmを超えると、ハードコート層による遠赤外線の吸収が過大となり、遠赤外線反射層の性能を著しく妨げる。
本発明の遠赤外線反射積層体において、各層の内部や層間の界面に応力が集中して破壊されることを防ぐために、基板と遠赤外線反射層との間に架橋樹脂からなり、厚みが0.2〜10.0μmである内部ハードコート層[D]を設けることが好ましい。
内部ハードコート層の厚みは、必要とする耐表面擦過性能と可視光透過性能などに合わせて、ハードコートの材料との組み合わせにより適宜選ぶことができる。例えば、感光性のアクリル系ハードコート剤を用いた内部ハードコート層においては、良好な耐表面擦過性を得るためにはハードコート層の膜厚は厚い方が好ましいが、膜厚が厚くなるとハードコート形成時の膜収縮による基板界面への応力などの点で不利となるため、厚みは、0.5μm〜10μmが好ましく、0.5μm〜5μmがさらに好ましい。表面ハードコート層および内部ハードコート層の厚みは、SEM観察画像より求めることができる。
本発明の遠赤外線反射積層体は、基材、遠赤外線反射層、表面ハードコート層、および、必要に応じて内部ハードコート層や他の構成層について、成分、膜質、膜厚および抵抗値などの特性を調整することで、用途に合わせた遠赤外線反射率を設計することができる。遠赤外線反射積層体の遠赤外線反射率は、60%以上であることが好ましく、70%以上がより好ましく、80%以上がさらに好ましい。
本発明の遠赤外線反射積層体は、基材、遠赤外線反射層、表面ハードコート層、および、必要に応じて内部ハードコート層や他の構成層について、成分、膜質および膜厚を調整することで、用途に合わせた可視光透過率を設計することができる。遠赤外線反射積層体の可視光透過率は40%以上が好ましく、50%以上がより好ましく、60%以上がさらに好ましい。
本発明の遠赤外線反射積層体は、表面ハードコート層[C]に、前記の極性基を有する架橋樹脂を含むことにより、表面ハードコート層[C]の厚みが0.4〜2.0μmと、比較的薄い場合であっても、高い耐表面擦過性を有することができる。
本発明の遠赤外線反射積層体は、遠赤外線反射性能と耐表面擦過性に優れた特性を生かし、建築物や乗り物などの窓から流出入する熱エネルギー遮断による冷暖房効果の向上、植物育成用のケースやハウスにおける熱環境保持性の向上、冷凍冷蔵ショーケースにおける保冷効果向上、および、高低温作業時に監視窓から流出入する熱輻射の低減などの用途に利用できる。また、本発明の遠赤外線反射積層体を壁や天井などの内装材や家具、家電製品などの表面に使用することで、遠赤外線の放射によって空間内から流出する熱エネルギーを低減することに利用することができる。本発明の遠赤外線反射積層体は、電磁波遮蔽性能を有することから、電磁波シールド材としての効果も有する。また、樹脂フィルム基板を用いた遠赤外線反射積層体は、粘着剤などを用いてガラス板などに貼り合わせて使用することで、ガラス板などが破損した場合の飛散防止やガラス板などを保護して破損を低減する効果も有する。樹脂フィルム基板が紫外線により劣化するのを防ぐためには、樹脂フィルム基板表面や粘着剤などの接着層に紫外線吸収剤を付与しておくことが好ましい。
(遠赤外線反射率)
50mm角の遠赤外線反射積層体サンプルの片端部を、7.5mm幅×50mm長にカットした両面テープ((株)ニトムズ製PROSELF(登録商標)No.539R)を用いて、50mm角の3mm厚ガラス板に、シワや弛みが発生しないように固定して評価サンプル片を作成した。評価サンプル片について、下記の装置および測定条件により、積層体表面側(表面ハードコート層側)から入光して、波長5〜25μmの光線の分光反射率を測定し、JIS R 3106(1998)に準拠して283Kの熱放射に対する反射率を求めた。なお、評価サンプル片表面の遠赤外線反射積層体が部分的にたるんでいたりして正確な面が出ていない位置では測定値が低く出るので、1つの評価サンプル片の中で測定位置を少しずつ動かして測定し、最も大きな値をその評価サンプル片の遠赤外線反射率(%)とした。
・測定装置:(株)島津製作所製 IRPrestige−21
・正反射測定ユニット:SRM−8000A
・波数範囲:400〜2000cm−1
・測定モード:%Transmittance
・アボダイズ係数:Happ−Genzel
・積算回数:10
・分解:4.0
・測定n数:評価サンプル5個のうち最大値と最小値のものを除いた3個の平均値を使用。
50mm角の遠赤外線反射積層体サンプルの片端部を、7.5mm幅×50mm長にカットした両面テープ((株)ニトムズ製PROSELF(登録商標)No.539R)を用いて、50mm角の3mm厚ガラス板に、シワや弛みが発生しないように固定して評価サンプル片を作成した。評価サンプル片中央部について、下記の装置および測定条件により、ガラス側(積層体表面側(表面ハードコート層側)の逆面)から入光して、波長380〜780nmの分光透過率を測定し、JIS R 3106(1998)に準拠して可視光透過率(%)を求めた。
・測定装置:(株)島津製作所製 UV−3150
・波長範囲:380〜780nm
・スリット幅:(20)
・スキャンスピード:高速
・サンプリング:1nm
・グレーティング:720nm
・測定n数:評価サンプル5個のうち最大値と最小値のものを除いた3個の平均値を使用。
50mm角の遠赤外線反射積層体サンプルを、7.5mm幅×50mm長にカットした両面テープ((株)ニトムズ製PROSELF(登録商標) No.539R)を用いて、50mm角の3mm厚ガラス板に、遠赤外線反射積層体サンプル表面にシワや弛みが発生しないように擦過方向と平行な両端部を固定して表面擦過試験用評価サンプル片とした。以下の装置および条件でスチールウールを固定した摩擦子を用いて積層体表面側(ハードコート層1側)を擦過した後、サンプル中央部20mm角部分の表面を目視観察した。
・擦過装置:(株)大栄科学精器製作所製 RT−200
・擦過速度:10
・擦過回数:100往復
・荷重:500g
・摩擦子:30mm(幅方向)×10mm(摩擦方向)
・スチールウール:日本スチールウール(株)製 ボンスター(登録商標) No.0000
・測定n数:評価サンプル5個のうち最大値と最小値のものを除いた3個の平均値を使用。
三菱化学アナリテック(株)製 ロレスタ(登録商標)EP MCP−T360型(4端子4探針法定電流印加方式)を用いて、遠赤外線反射層の表面抵抗(Ω/□)を測定した。
以下の方法で、遠赤外線反射積層体のサンプルを調製し、SEM観察を行い、サンプルのハードコート層厚みを算出した。
1.サンプル調製
(i)断面面出し
・日本ミクロトーム研究所製「ロータリミクロトーム RMS」で切削
・切削刃 スチール製レザー刃(フェザー製片刃)
・スチール製レザー刃切削角度 3度
・切削量 30μm
(ii)スパッタ処理
(株)エイコー・エンジニアリング社製「イオンコーターIB−3型」でスパッタ処理を行った。
・スパッタ金属 Pt 85質量%+Pd 15質量%
・スパッタ条件 2mA 5分間
・スパッタ膜厚 約10nm
2.SEM観察
(株)トプコン社製 走査型電子顕微鏡「ABT−32」を使用した。
(i)使用観察条件
・加速電圧 15KV
・スポットサイズレベル 6
・ワーキングディスタンス 20mm
・観察角度 0度(対断面90度)
・観察倍率 20000倍。
(ii)厚み算出
・SEM像上で測定した厚みと観察倍率から計算した。
・なお、計算に当たっては、標準資料としてGratingSpace 500×500mμ(Oken製)を測定した結果を用いて誤差補正を行った。
1.測定法
下記の装置および測定条件により、測定サンプルからの反射光の偏光状態の変化を測定し、光学定数を計算により求めた。計算は、試料で測定されたΔ(位相差)とψ(振幅反射率)のスペクトルを計算モデルから算出された(Δ、ψ)と比較し、測定値(Δ、ψ)に近づくように誘電関数を変化させてフィッティングしていく。ここで示されたフィッティング結果は、測定値と理論値がベストフィット(平均二乗誤差が最小に収束)した結果である。
2.装置
・高速分光エリプソメーター
・M−2000(J.A.Woollam 社製)
・回転補償子型(RCE: Rotating Compensator Ellipsometer)
・300mm R−Theta ステージ
3.測定条件
・入射角:65 度、70 度、75 度
・測定波長: 195nm〜1680nm
・解析ソフト:WVASE32
・ビーム径:1×2mm 程度
・測定n数:1。
1.測定法
下記の装置および測定条件により、遠赤外線反射積層体サンプルの表面ハードコート層を測定し、厚み方向のP[31(P)]プロファイルおよびC[13(C)]プロファイルを取得し、厚み方向の各点にて、31(P)の強度値を13(C)の強度値で除して規格化強度[P/C]を求めた。
(i)単層構成の場合、ハードコート層[C]の中心部±50nmの範囲における規格化強度値[P/C]の平均値を求めた。
(ii)多層構成または(iii)傾斜構成の場合、[P/C](C1)および、[P/C](C2)は、以下のように求めた。
[P/C](C1):遠赤外線反射層[B]との境界から0〜200nmの領域における規格化強度値[P/C]の最大値を[P/C](C1)とした。
[P/C](C2):遠赤外線反射層[B]の反対側の面(遠赤外線反射積層体の表面)から100nmの位置における規格化強度値[P/C]を[P/C](C2)とした。
2.装置
セクター磁場型二次イオン質量分析装置
3.測定条件
・一次イオンには14.5kVの加速電圧で加速したCs+イオンを使用した。
・分析時には、試料の帯電補償のためE−gunを使用し、試料台オフセット電位は0Vとした。
・二次イオンの検出にはEM(Electron Multiplier)を使用し、負イオンにてm/z=31(P), 13(C)を検出した。
・質量分解能には2000以上(31(SiH)と31(P)、13(CH)と13(C)が十分分離可能であること)が必要である。
・CとPの積算時間は同一とする。
・測定n数:1。
実施例および比較例で得られたサンプルについて、上記のとおりにして遠赤外線反射率、耐表面擦過性および可視光透過率を測定し、以下の判定基準により、性能を判定した。
・遠赤外線反射率
A:80%以上
B:60%以上80%未満
C:60%未満
・耐表面擦過性
A:擦過回数100往復時に2mm幅以上の目視キズがなく、目視キズ0〜5本/10mm
B:擦過回数100往復時に2mm幅以上の目視キズがなく、目視キズ6〜10本/10mm
C:擦過回数100往復時に2mm幅以上の目視キズがあるか、または、目視キズ11本/10mm以上
・可視光透過率
A:60%以上
B:40%以上60%未満
C:40%未満
・総合判定1
遠赤外線反射率および耐表面擦過性の判定において以下の基準で判定した。
A:すべての判定がA
B:判定にBを1つ含み、残りはA
C:判定にBを2つ以上含む、もしくはCを含む
・総合判定2
総合判定1および可視光透過率の判定において以下の基準で判定し、A〜Cを合格とした。
A:すべての判定がA
B:判定にBを1つ含み、残りは全てA
C:総合判定1がB以上であり、判定にBを2つ以上含む、もしくはCを含む。
D:総合判定1がCであり、可視光透過率の判定がAである。
E:総合判定1がCであり、可視光透過率の判定がB以下である。
基板上に内部ハードコート層として予めアクリル系ハードコート(膜厚3.3μm)を有するPETフィルム(東レフィルム加工(株)製タフトップ(登録商標)C0T0(100μm厚))を使用した。
Agを95〜100質量%含有する金属の単層構造の遠赤外線反射層を形成する際の搬送速度を0.8m/minとした以外は実施例1と同様にしてサンプルを得た。結果を表1および表3に示す。
遠赤外線反射層として、Agを95〜100質量%含有する金属の層、および、金属酸化物を含み屈折率が1.5〜3である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例1と同様にしてサンプルを得た。
到達圧力:2E−3Pa、Ag合金ターゲット(76mm×330mm×2枚:Ag−0.2質量%Nd−1質量%Au)、搬送速度:3.5m/min、スパッタガス:Ar、スパッタ圧力:9.5E−2Pa、投入電力:LF電源(40kHz)1.0kwにて金属層をスパッタ加工にて形成した後、到達圧力:2E−3Pa以下、ITOターゲット(127mm×386mm×1枚:90質量%In2O3−10質量%SnO2)、搬送速度:0.9m/min、スパッタガス:Ar−3体積%O2、スパッタ圧力:9.5E−2Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)2.5kwにてITO層をスパッタ加工にて形成した。結果を表1および表3に示す。
表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体(共栄社化学(株)製ライトエステルP−2M)を固形分中5質量%となるよう混合した以外は実施例3と同様にしてサンプルを得た。結果を表1および表3に示す。遠赤外線反射率が88%、耐表面擦過性では5本/10mm、可視光透過率が66%であり、総合判定1はA、総合判定2もAであった。
表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体(共栄社化学(株)製ライトエステルP−2M)を固形分中10質量%となるよう混合した以外は実施例3と同様にしてサンプルを得た。結果を表1および表3に示す。
表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体(共栄社化学(株)製ライトエステルP−2M)を固形分中2質量%となるよう混合し、希釈溶媒としてメチルエチルケトンを用いて固形分濃度0.75質量%に希釈して塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター(番手No.10)を用いて、遠赤外線反射層上に塗布し、80℃で3分乾燥した。次に、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体(共栄社化学(株)製ライトエステルP−2M)を添加せずにアクリル系ハードコート剤(JSR(株)製オプスター(登録商標)Z7535)を希釈溶媒としてメチルエチルケトンを用いて固形分濃度6.75質量%に希釈して塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター(番手No.10)を用いて、前記塗膜上に塗布し、80℃で3分乾燥した。続いて、UV(水銀ランプ使用、1200mJ/cm2)を照射し、塗膜を架橋させて、積層構造からなる表面ハードコート層を形成させた。表面ハードコート層の形成を以上のようにした以外は実施例3と同様にしてサンプルを得た。結果を表1および表3に示す。遠赤外線反射率が85%、耐表面擦過性では2本/10mm、可視光透過率が67%であり、総合判定1はA、総合判定2もAであった。
表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体(共栄社化学(株)製ライトエステルP−2M)を固形分中、2質量%ではなく10質量%となるよう混合した以外は実施例6と同様にしてサンプルを得た。結果を表1および表3に示す。遠赤外線反射率が85%、耐表面擦過性では1本/10mm、可視光透過率が68%であり、総合判定1はA、総合判定2もAであった。
表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体(共栄社化学(株)製ライトエステルP−2M)を固形分中、2質量%ではなく20質量%となるよう混合した以外は実施例6と同様にしてサンプルを得た。結果を表1および表3に示す。遠赤外線反射率が85%、耐表面擦過性では4本/10mm、可視光透過率が68%であり、総合判定1はA、総合判定2もAであった。
[実施例9]
遠赤外線反射層として、Agを95〜100質量%含有する金属の層と金属酸化物を含み屈折率が1.5〜3である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例1と同様にしてサンプルを得た。
第1層:到達圧力:2E−3Pa以下、Tiターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:0.2m/min、スパッタガス:Ar−35体積% O2、スパッタ圧力:0.3Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)9.5kwにてTiO2層をスパッタ加工にて形成した。
第2層:到達圧力:2E−3Pa以下、Ag合金ターゲット(76mm×330mm×2枚:Ag−0.2質量%Nd−1質量%Au)、搬送速度:3.5m/min、スパッタガス:Ar、スパッタ圧力:9.5E−2Pa、投入電力:LF電源(40kHz)1.0kwにて金属層をスパッタ加工にて形成した。
第3層:到達圧力:2E−3Pa以下、Tiターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:5.0m/min、スパッタガス:Ar、スパッタ圧力:0.2Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)4.3 kwにてTi層をスパッタ加工にて形成した。
第4層:到達圧力:2E−3Pa以下、Tiターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:0.2m/min、スパッタガス:Ar−35体積% O2、スパッタ圧力:0.3Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)9.5kwにてTiO2層をスパッタ加工にて形成した。
[実施例10]
遠赤外線反射層としてAgを95〜100質量%含有する金属の層と金属酸化物を含み屈折率が1.5〜3である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例1と同様にしてサンプルを得た。
第1層:到達圧力:2E−3Pa以下、Tiターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:0.2m/min、スパッタガス:Ar−35体積% O2、スパッタ圧力:0.3Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)9.5kwにてTiO2層をスパッタ加工にて形成した。
第2層:到達圧力:2E−3Pa以下、Ag合金ターゲット(76mm×330mm×2枚:Ag−0.2質量%Nd−1質量%Au)、搬送速度:3.5m/min、スパッタガス:Ar、スパッタ圧力:9.5E−2Pa、投入電力:LF電源(40kHz)1.0kwにて金属層をスパッタ加工にて形成した。
第3層:到達圧力:2E−3Pa以下、Tiターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:5.0m/min、スパッタガス:Ar、スパッタ圧力:0.2Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)1.7 kwにてTi層をスパッタ加工にて形成した。
第4層:到達圧力:2E−3Pa以下、Tiターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:0.2m/min、スパッタガス:Ar−35体積% O2、スパッタ圧力:0.3Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)9.5kwにてTiO2層をスパッタ加工にて形成した。
[実施例11]
遠赤外線反射層としてAgを95〜100質量%含有する金属の層と金属酸化物を含み屈折率が1.5〜3である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例1と同様にしてサンプルを得た。
第1層:到達圧力:2E−3Pa以下、Nbターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:0.3m/min、スパッタガス:Ar−30体積% O2、スパッタ圧力:0.3Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)5kwにてNb2O5層をスパッタ加工にて形成した。
第2層:到達圧力:2E−3Pa以下、Ag合金ターゲット(76mm×330mm×2枚:Ag−0.2質量%Nd−1質量%Au)、搬送速度:3.5m/min、スパッタガス:Ar、スパッタ圧力:9.5E−2Pa、投入電力:LF電源(40kHz)1.0kwにて金属層をスパッタ加工にて形成した。
第3層:到達圧力:2E−3Pa以下、Nbターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:5.0m/min、スパッタガス:Ar、スパッタ圧力:0.1Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)2.3kwにてNb層をスパッタ加工にて形成した。
第4層:到達圧力:2E−3Pa以下、Nbターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:0.3m/min、スパッタガス:Ar−30体積% O2、スパッタ圧力:0.3Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)5kwにてNb2O5層をスパッタ加工にて形成した。
[実施例12]
遠赤外線反射層としてAgを95〜100質量%含有する金属の層と金属酸化物を含み屈折率が1.5〜3である高屈折率層とからなる多層構造の遠赤外線反射層を以下のように形成した他は実施例1と同様にしてサンプルを得た。
第1層:到達圧力:2E−3Pa以下、Nbターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:0.3m/min、スパッタガス:Ar−30体積% O2、スパッタ圧力:0.3Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)5kwにてNb2O5層をスパッタ加工にて形成した。
第2層:到達圧力:2E−3Pa以下、Ag合金ターゲット(76mm×330mm×2枚:Ag−0.2質量%Nd−1質量%Au)、搬送速度:3.5m/min、スパッタガス:Ar、スパッタ圧力:9.5E−2Pa、投入電力:LF電源(40kHz)1.0kwにて金属層をスパッタ加工にて形成した。
第3層:到達圧力:2E−3Pa以下、Nbターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:5.0m/min、スパッタガス:Ar、スパッタ圧力:0.1Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)0.9kwにてNb層をスパッタ加工にて形成した。
第4層:到達圧力:2E−3Pa以下、Nbターゲット(127mm×386mm×1枚)、搬送速度:0.3m/min、スパッタガス:Ar−30体積% O2、スパッタ圧力:0.3Pa、投入電力:DCパルス(50kHz)5kwにてNb2O5層をスパッタ加工にて形成した。
ポリオレフィン系樹脂を表層に有している帝人デュポンフィルム(株)製レフテル(登録商標)ZC05G(基板(PETフィルム)/金属層と誘電体層(酸化チタン)からなる遠赤外線反射層/OPPフィルム)を比較例1のサンプルとした。結果を表2および表3に示す。遠赤外線反射率が81%、耐表面擦過性では11本/10mm以上の無数のキズが観察され、可視光透過率が66%であり、総合判定1はC、総合判定2はDであった。
表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体(共栄社化学(株)製ライトエステルP−2M)を添加しない他は実施例1と同様にしてサンプルを得た。結果を表2および表3に示す。
表面ハードコート層の形成工程において、アクリル系ハードコート剤としてJSR(株)製オプスターZ7535を用い、希釈溶媒としてメチルエチルケトンを用いて固形分濃度20質量%に希釈したものを塗液とし、該塗液をバーコーター(番手No.12)を用いて塗布する他は実施例1と同様にしてサンプルを得た。結果を表2および表3に示す。
表面ハードコート層の形成工程において、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体(共栄社化学(株)製ライトエステルP−2M)を添加しない他は実施例3と同様にしてサンプルを得た。結果を表2および表3に示す。
表面ハードコート層の形成工程において、アクリル系ハードコート剤としてJSR(株)製オプスターZ7535に、リン酸基を含むメタクリル酸誘導体(共栄社化学(株)製ライトエステルP−2M)を固形分中2質量%となるよう混合し、希釈溶媒としてメチルエチルケトンを用いて固形分濃度1.9質量%に希釈して塗液を得た。得られた塗液を、バーコーター(番手No.10)を用いて塗布する他は実施例3と同様にしてサンプルを得た。結果を表2および表3に示す。
2:遠赤外線反射層[B]
3:内部ハードコート層[D]
4:基板[A]
Claims (6)
- 以下の[A]〜[C]の層が、この順で配された遠赤外線反射積層体;
[A]基板;
[B]次の[B1]または[B2]の構造を有する遠赤外線反射層;
[B1]銀を95〜100質量%含有する金属の単層構造;
[B2]銀を95〜100質量%含有する金属の層と金属酸化物および/または金属窒化物を含み、屈折率が1.5〜3である層とからなる多層構造;
[C]リン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群より選ばれる1種以上の極性基を有する架橋樹脂を含み、かつ、厚みが0.4〜2.0μmである表面ハードコート層。 - 基板、金属層および表面ハードコート層が、この順で配された遠赤外線反射積層体であって、該金属層が銀を95〜100質量%含有し、該表面ハードコート層の厚みが0.4〜2.0μmであり、かつ、該遠赤外線反射積層体の遠赤外線反射率が60%以上、かつ、耐表面擦過性が10本/10mm以下である遠赤外線反射積層体。
- 前記[C]層において、前記極性基がリン酸基を含む請求項1または2に記載の遠赤外線反射積層体。
- 前記[A]層と、前記[B]層との間に以下の[D]層が配されている請求項1〜3のいずれかに記載の遠赤外線反射積層体;
[D]架橋樹脂からなり、厚みが0.2〜10.0μmである内部ハードコート層。 - 前記[C]層が、多層構成または組成が厚み方向に連続的に変化する傾斜構成であり、
前記[C]層において、前記[C]層と前記[B]層との境界から0〜200nmの範囲の領域[C1]におけるセクター磁場型二次イオン質量分析装置にて得た規格化強度値[P/C](C1)が0.01〜30である請求項1〜4のいずれかに記載の遠赤外線反射積層体。 - 前記[C]層において、前記[B]層とは反対側の表面から0〜200nmの範囲の領域[C2]におけるセクター磁場型二次イオン質量分析装置にて得た規格化強度値[P/C](C2)が、前記規格化強度値[P/C](C1)の10%以下である請求項5に記載の遠赤外線反射積層体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012503142A JP5729376B2 (ja) | 2011-01-13 | 2012-01-11 | 遠赤外線反射積層体 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011004505 | 2011-01-13 | ||
JP2011004505 | 2011-01-13 | ||
JP2011169865 | 2011-08-03 | ||
JP2011169865 | 2011-08-03 | ||
PCT/JP2012/050372 WO2012096304A1 (ja) | 2011-01-13 | 2012-01-11 | 遠赤外線反射積層体 |
JP2012503142A JP5729376B2 (ja) | 2011-01-13 | 2012-01-11 | 遠赤外線反射積層体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012096304A1 true JPWO2012096304A1 (ja) | 2014-06-09 |
JP5729376B2 JP5729376B2 (ja) | 2015-06-03 |
Family
ID=46507198
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012503142A Active JP5729376B2 (ja) | 2011-01-13 | 2012-01-11 | 遠赤外線反射積層体 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130279000A1 (ja) |
EP (1) | EP2666628A4 (ja) |
JP (1) | JP5729376B2 (ja) |
KR (1) | KR20140005225A (ja) |
CN (1) | CN103313850B (ja) |
TW (1) | TWI517971B (ja) |
WO (1) | WO2012096304A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014167162A (ja) * | 2013-01-31 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 赤外線反射フィルムの製造方法 |
JP6370347B2 (ja) * | 2013-01-31 | 2018-08-08 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
JP6000991B2 (ja) * | 2013-01-31 | 2016-10-05 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
JP2015171815A (ja) * | 2014-02-19 | 2015-10-01 | 東レ株式会社 | 多層積層体 |
DE202014101393U1 (de) * | 2014-03-25 | 2014-04-03 | Webasto SE | Verkleidungselement eines Fahrzeugdachs mit Glasträger |
JP6012666B2 (ja) * | 2014-06-20 | 2016-10-25 | 尾池工業株式会社 | 積層フィルムおよび該フィルムを用いた窓ガラス |
JP6386278B2 (ja) | 2014-07-09 | 2018-09-05 | マクセルホールディングス株式会社 | 透明遮熱断熱部材及びその製造方法 |
DE102014213917B4 (de) | 2014-07-17 | 2023-08-31 | Contitech Luftfedersysteme Gmbh | Schutzschicht für ein Elastomerprodukt zum frequenzselektiven Reflektieren elektromagnetischer Strahlung |
JP2016038420A (ja) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射基板 |
JP6423198B2 (ja) * | 2014-08-05 | 2018-11-14 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
KR20160115849A (ko) | 2015-03-27 | 2016-10-06 | 히다치 막셀 가부시키가이샤 | 투명 스크린 기능을 구비한 투명 차열 부재 |
CN108353523B (zh) * | 2015-11-25 | 2020-02-25 | 株式会社巴川制纸所 | 匹配型电磁波吸收体 |
JP2019505468A (ja) * | 2015-12-29 | 2019-02-28 | コーニング インコーポレイテッド | 積層板構造における湾曲を低下させる非対称製造方法 |
US10845665B1 (en) | 2016-02-01 | 2020-11-24 | Apple Inc. | Devices with guest-host liquid crystal modulators |
TWI706169B (zh) * | 2019-08-15 | 2020-10-01 | 晶瑞光電股份有限公司 | 紅外帶通濾波結構及應用該結構之紅外帶通濾波器 |
CN111763919B (zh) * | 2020-09-03 | 2020-11-24 | 宁波瑞凌新能源科技有限公司 | 反射膜及其制备方法和应用 |
CN113347864B (zh) * | 2021-08-06 | 2021-11-12 | 成都立鑫新技术科技有限公司 | 一种防止红外激光信息泄露及电磁信息泄露的防护膜 |
US11780209B2 (en) | 2021-11-24 | 2023-10-10 | Eenotech, Inc. | Wallpaper and method for manufacturing same |
WO2023245179A1 (en) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | Geobull Llc | Self-contained assistive modular planters |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4822120A (en) * | 1974-08-16 | 1989-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
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-
2012
- 2012-01-11 US US13/978,241 patent/US20130279000A1/en not_active Abandoned
- 2012-01-11 WO PCT/JP2012/050372 patent/WO2012096304A1/ja active Application Filing
- 2012-01-11 CN CN201280005387.9A patent/CN103313850B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-01-11 EP EP12733865.5A patent/EP2666628A4/en not_active Withdrawn
- 2012-01-11 JP JP2012503142A patent/JP5729376B2/ja active Active
- 2012-01-11 KR KR1020137020186A patent/KR20140005225A/ko active IP Right Grant
- 2012-01-12 TW TW101101267A patent/TWI517971B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012096304A1 (ja) | 2012-07-19 |
CN103313850A (zh) | 2013-09-18 |
CN103313850B (zh) | 2015-01-28 |
US20130279000A1 (en) | 2013-10-24 |
KR20140005225A (ko) | 2014-01-14 |
EP2666628A4 (en) | 2016-05-25 |
TW201236863A (en) | 2012-09-16 |
TWI517971B (zh) | 2016-01-21 |
JP5729376B2 (ja) | 2015-06-03 |
EP2666628A1 (en) | 2013-11-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A621 | Written request for application examination |
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A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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