JP6303559B2 - 積層フィルムおよびその製造方法 - Google Patents
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(I)基材の少なくとも片面に、1層以上の熱線反射層、金属酸化物薄膜(1)およびハードコート層を前記基材の側からこの順に積層した積層フィルムであって、前記熱線反射層が金属酸化物薄膜(2)、金属薄膜および金属酸化物薄膜(3)を前記基材の側からこの順に積層したものであり、前記金属酸化物薄膜(3)の酸素含有率が前記金属酸化物薄膜(1)および前記金属酸化物薄膜(2)の酸素含有率よりも低い積層フィルム、
(II)前記金属酸化物薄膜(1)および/または前記金属酸化物薄膜(2)の主成分が錫であり、さらに、前記金属酸化物薄膜(1)および/または前記金属酸化物薄膜(2)が亜鉛を前記金属酸化物薄膜(1)および/または前記金属酸化物薄膜(2)の全金属成分を100重量%とした場合に5〜40重量%含む(1)の積層フィルム。
(III)前記金属酸化物薄膜(3)が、錫および/または亜鉛を含む(2)の積層フィルム、
(IV)JISK5600に準じたクロスカット法による密着性試験において、層間剥離が生じない(1)〜(3)のいずれかの積層フィルム、
(V)基材の片面に、1層以上の熱線反射層、金属酸化物薄膜(1)およびハードコート層を前記基材の側からこの順に積層されており、前記1層以上の熱線反射層、前記金属酸化物薄膜(1)および前記ハードコート層が積層された面の反対側の面に粘着層が積層されており前記ハードコート層の面から測定した波長5.5〜50μmの遠赤外線反射率が85%以上であり、可視光透過率が70%以上である(1)〜(4)のいずれかの積層フィルム、
(VI)請求項1〜5のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法であり、前記金属酸化物薄膜(1)、前記金属酸化物薄膜(2)および前記金属酸化物薄膜(3)が気相成長法で成膜されて得られるものであって、前記金属酸化物薄膜(1)および前記金属酸化物薄膜(2)の成膜時の導入ガスが酸素を体積ベースの流量率で5%を超えて含み、前記金属酸化物薄膜(3)の成膜時の導入ガスが酸素を体積ベースの流量率で2%以上5%以下含む積層フィルムの製造方法。
(1)積層フィルムを50mm角正方形にカットする。
(2)前記(1)項でカットしたフィルムのハードコート層を形成した面と反対面に粘着層を形成する。
(3)次に、(2)項で形成した粘着層を介して、3mm厚のフロートガラスに貼合する。
(1)規格:JIS A5759−2008に準拠した。
(2)測定方法:
i)サンシャインウェザーメーター(スガ試験機株式会社製:型番S80)を用い、試験体のガラス面側から紫外線を照射する。なお、照射条件はJIS A5759の表10記載のとおりとし(ブラックパネル温度63℃、相対湿度50%、放射強度255W/m2、120分照射中に18分間散水)、照射時間は1000時間とする。
(3)判定基準:
「○」:ハードコート層の剥離およびクラック無し。
「×」:ハードコート層の剥離またはクラック有り。
(1)規格:JIS R3106−1998に準拠
(2)測定方法:
i)分光測光器(株式会社島津製作所製:型番IR Prestige−21)、正反射測定ユニット(株式会社島津製作所製:型番SRM−8000A)を用い、評価用試験体の波長5〜25μmの分光反射率を測定する。なお、標準板にはAl蒸着鏡を用いる。
ii)前記分光反射率からJIS本文付表3に記載の番号λ1(波長5.5μm)〜λ30(波長50μm)の選定波長における分光反射率を抽出する。なお、λ25(波長25.2μm)〜λ30(波長50μm)の反射率はλ24(波長23.3μm)の値を用いる。
iii)抽出した分光反射率にそれぞれJIS本文付表3に記載のAl蒸着鏡の標準反射率を乗じ、λ1〜λ30の選定波長における評価試験体の反射率とする。
iV)前記反射率の平均値を遠赤外線反射率とする。
(3)測定条件:波長範囲「5〜25μm」アボダイス係数「Happ−Genzel」、積算回数「20回」、分解能「4.0cm−1」。
(1)規格:JIS R3106−1998に準拠
(2)測定方法:
i)分光測光器(株式会社島津製作所製:型番UV−3150)を用い、評価用試験体の波長400〜780nmの分光透過率を10nm間隔で測定する。ii)前記透過率にJIS本文付表1に記載の重価係数を乗じた後、平均値を算出し可視光透過率(%)とした。
(3)測定条件:波長範囲「400〜780nm」、スキャンスピード「高速」、
分解能力「10nm」。
(1)規格:JIS K5600−5−6−1999に準拠
(2)測定方法:
i)クロスカット用間隔スペーサー(コーテック株式会社製:型番CROSS CUT GUIDE1.0)、カッターナイフを用い、評価用試験体にタテ方向6回、ヨコ方向6回の切り込みを1mm間隔で入れる(本操作により、5×5=25マスの格子が作製される)。ii)i)で作製した格子上に透明感圧付着テープ(日東電工株式会社製:型番31B)を圧着し、圧着したテープを約60度の方向に引き剥がす。
(3)判定基準
「○」:25マス全ての格子で剥離無し。
「×」:25マス中1マス以上の格子が剥離が発生。
50μm厚のPETフィルムの基材の片面にアクリル系ハードコート剤「”レイクイーン”(登録商標。以下同じ)5105(三菱レイヨン株式会社製)」を塗布し、乾燥した後にUV照射して厚さ3μm厚のアンダーコート層を形成した。次に当該アンダーコート層を形成した基材のアンダーコート層上に、金属組成が錫:亜鉛=65重量%:35重量%のスパッタリングターゲット材を用いて厚さ40nmの金属酸化物薄膜(2)を製膜した(スパッタガスは、アルゴンの流量率が90%、酸素の流量率が10%であった。)。続いて、金属酸化物薄膜(2)上に、銀中に金を3重量%含有するスパッタリングターゲット材を用いて厚さ16nmの金属薄膜を製膜した(スパッタリングガスはアルゴン=100%)。さらに、金属酸化物薄膜(2)と同一のスパッタリングターゲット材を用いて厚さ2nmの金属酸化物薄膜(3)を成膜し(スパッタガスは、アルゴンの流量率が98%、酸素の流量率が2%であった。)、金属薄膜をマスキングした。次に、金属酸化物薄膜(3)上に金属酸化物薄膜(2)と同一のスパッタリングターゲット材を用いて厚さ50nmの金属酸化物薄膜(1)を成膜し(スパッタガスは、アルゴンの流量率が90%、酸素の流量率が10%であった。)、アンダーコート層を形成した基材のアンダーコート層上にPETフィルム側から金属酸化物薄膜(2)/金属薄膜/金属酸化物薄膜(3)/金属酸化物薄膜(1)からなる熱線反射を形成した。
金属酸化物薄膜(3)の厚さを4nmに変更したことを除き実施例1と同様の方法で積層フィルムを得た。
金属酸化物薄膜(3)の厚さを4nm、金属酸化物薄膜(3)成膜時のスパッタリングガスをアルゴン:酸素=96%:4%に変更したことを除き実施例1と同様の方法で積層フィルムを得た。
金属酸化物薄膜(3)の厚さを6nm、金属酸化物薄膜(3)成膜時のスパッタリングガスをアルゴン:酸素=96%:4%に変更したことを除き実施例1と同様の方法で積層フィルムを得た。
金属酸化物薄膜(3)の厚さを8nm、金属酸化物薄膜(3)成膜時のスパッタリングガスをアルゴン:酸素=96%:4%に変更したことを除き実施例1と同様の方法で積層フィルムを得た。
金属酸化物薄膜(3)の厚さを4nm、金属酸化物薄膜(3)成膜時のスパッタリングガスをアルゴン:酸素=95%:5%に変更したことを除き実施例1と同様の方法で積層フィルムを得た。
金属酸化物薄膜(3)の厚さを1nmに変更したことを除き実施例1と同様の方法で積層フィルムを得た。
Claims (4)
- 基材の少なくとも片面に、1層以上の熱線反射層、金属酸化物薄膜(1)およびハードコート層が前記基材の側からこの順に積層された積層フィルムであって、前記熱線反射層が金属酸化物薄膜(2)、銀を主成分とする金属薄膜および金属酸化物薄膜(3)を前記基材の側からこの順に積層されたものであり、前記金属酸化物薄膜(3)の酸素含有率が前記金属酸化物薄膜(1)および前記金属酸化物薄膜(2)のいずれの酸素含有率よりも低く、
前記金属酸化物薄膜(1)および前記金属酸化物薄膜(2)の主成分が錫であり、さらに、前記金属酸化物薄膜(1)および前記金属酸化物薄膜(2)が亜鉛を前記金属酸化物薄膜(1)および前記金属酸化物薄膜(2)の全金属成分を100重量%とした場合に5〜40重量%含み、
前記金属酸化物薄膜(3)が、錫および亜鉛を含む積層フィルム。 - JISK5600に準じたクロスカット法による密着性試験において、層間剥離が生じない請求項1に記載の積層フィルム。
- 基材の片面に、1層以上の熱線反射層、金属酸化物薄膜(1)およびハードコート層を前記基材の側からこの順に積層されており、前記1層以上の熱線反射層、前記金属酸化物薄膜(1)および前記ハードコート層が積層された面の反対側の面に粘着層が積層されており前記ハードコート層の面から測定した波長5.5〜50μmの遠赤外線反射率が85%以上であり、可視光透過率が70%以上である請求項1または2に記載の積層フィルム。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法であり、
前記金属酸化物薄膜(1)、前記金属酸化物薄膜(2)および前記金属酸化物薄膜(3)が気相成長法で成膜されて得られるものであって、前記金属酸化物薄膜(1)および前記金属酸化物薄膜(2)の成膜時の導入ガスは酸素を体積ベースの流量率で5%を超えて含むものであり、前記金属酸化物薄膜(3)の成膜時の導入ガスは酸素を体積ベースの流量率で2%以上5%以下含むものである積層フィルムの製造方法。
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