TWI460047B - Sliding table and XY direction movable sliding table - Google Patents

Description

滑動台及XY方向可動滑動台

本發明是有關於印刷基板、半導體、液晶、太陽能電池面板、生物相關(bio-related)領域的空氣軸承與線型馬達(linear motor)、使用位置檢測裝置(直線比例尺)之精密定位用的滑動台及XY方向可動滑動台。

組合空氣軸承與線型馬達的滑動台，從完全非接觸，且不會發生因移動的摩擦熱和空氣軸承的平均化效果來看，姿態精度非常穩定，必須以測微計(micrometer)單位來加工具有能達成精密定位(超微米)之優點的反面、形成為軸承的零件，且具有材料亦受限於高價位者的缺點。

使用習知之空氣軸承的滑動台，是如第47的重量平衡型者。第47圖是習知重量平衡型滑動台的剖面圖，在第47圖中，1’為定盤，2’為導軌，3為空氣墊(air pad)，4’是滑塊，5為無鐵心線型馬達(coreless Linear Motor)。來自上面的重量與往下的空氣噴出利用空氣壓力取得平衡，橫向因空氣壓力彼此的反彈而被中央約束，搭載未受磁力(magnetic force)影響的無鐵心線型馬達5，取得重量平衡。

可是，如第47圖的習知之重量平衡型滑動台，由於構造簡單因此具有能廉價製作的優點，但由於上下方向未 被約束，因此上下方向的移動精度(垂直真直度、俯仰(pitching)等)變差。

又，由於軸承部發生因加速、減速時之姿態變動的接觸等，因此具有無法縮短加速、減速時間且移動接觸延長的問題。實際使用的事例中，採用不易發生此種問題且大型平面而重心低、重量重的滑塊，引導部因泛用的空氣墊被約束在橫向。

此方式尤其是被使用在液晶製造裝置等，但小型化的實用化很難，具有變重無法動作的問題，還有無法急加速、減速的問題。

由於縱向的滑動高度與運送驅動高度產生距離，因此在加速、減速時產生扭力，影響俯仰方向，也會發生重複精度和無效運動(lost motion)變得愈來愈差，或者縱向側的空氣墊干擾定盤等的事故。

設計上由空氣軸承使磁性的吸引力受到不良影響的觀點來看，必須使用無電磁吸引力的雙面磁石且高價的無鐵心線型馬達，位置檢測裝置(直線比例尺)的設置場所亦在軌道和滑塊的外側和下側等，易引起阿貝誤差(Abbe error)(檢測位置和精度需要位置之不同的誤差)的影響，具有定位精度、重複精度變差的問題。

又，於第47圖(b)以放大圖表示第47圖(a)的空氣墊附近，由於空氣墊3利用有頭螺釘4p與滑塊4’結合，因此有頭螺釘4p的球面的頭4q是推壓空氣墊3的部分，空氣墊3具有齒隙和剛性下降等的問題，希望為不使 用空氣墊3的方式。

又，對於使用習知的空氣軸承的滑動台，如第48圖~第50圖的空氣約束(air restraint)型者亦為公知。第48圖~第50圖是習知裝置的各種空氣約束(air restraint)型滑動台的各個剖面圖，在第48圖~第50圖中，1’為定盤，2’為導軌，4’滑塊，5為無鐵心線型馬達，6為空氣噴出部。反正就是不使用空氣墊，在滑塊4’開設形成空氣通路的孔，從滑塊直接往引導面噴出空氣。又，上下橫向因空氣壓力彼此的反彈而中央被約束，搭載不受磁力影響的無鐵心線型馬達，產生空氣約束。

如第48圖~第50的習知空氣約束(air restraint)型滑動台，由於上下及橫向被約束因此幾乎不會發生移動時以及加速、減速時的姿態變動，移動精度也變良好，移動節奏也可縮短，也能小型化(100mm平方左右)。但是，因為需要以微米單位(數微米)來管理空氣隙，所以有利用微米單位來組合加工導軌部與滑動部之尺寸關係精度的必要性(4方向的組合精度需要以數微米單位)，零件單價變昂貴，有無法同時大量生產同類物品的問題。

又，由於在第48圖的滑動台中，縱向的滑動高度與運送驅動高度產生距離，因此在加速、減速時發生扭力，影響俯仰方向，也會發生重複精度和無效運動(lost motion)變得愈來愈差，或者縱向側的滑動干擾縱向側之導軌等的事故。

又，由於在第49圖及第50圖的滑動台中，橫向的滑 動位置與運送驅動位置產生距離，因此在加速、減速時發生扭力，影響偏向方向，也會發生重複精度和無效運動(lost motion)變得愈來愈差，或者橫向側的滑動幹擾橫向側之導軌等的事故。設計上由空氣軸承使磁性的吸引力受到不良影響的觀點來看，必須使用無電磁吸引力的雙面磁石且高價的無鐵心線型馬達，位置檢測裝置(直線比例尺)的設置場所亦在外側和下側等，易引起阿貝誤差(Abbe error)(檢測位置和精度需要位置之不同的誤差)的影響，具有定位精度、重複精度變差的問題。

又，習知混合型滑動台，如第51圖者為公知(參照日本專利文獻1)。第51圖是習知混合型滑動台的俯視圖，於第51圖中，1’為定盤，2’為導軌，4為滑塊，6為空氣噴出部，7為線型馬達磁石部(固定部)，8為線型馬達線圈部(可動部)。上下方向是利用作用於馬達線圈部的馬達鐵芯(圖未示)與馬達磁石之間的電磁引力與空氣壓力的平衡來約束，橫向是因空氣壓力彼此的反彈被中央約束。

〔專利文獻1〕日本實開平7-44457號公報

如第50圖的混合滑動台型，雖然能稍微解決上述兩類方式的問題，但用於約束橫向滑軌以及縱向的滑軌為一體，需要精度加工，尤其由於橫向的滑軌兩側面的平行度需要以5μm以下來加工，因此滑軌的製作費用愈來愈貴，或者對應較長的行程(1m以上)、較長的寬度(500mm以上)等很困難。

雖然能以單軸降低高度，但並非普通單體加以使用，必須固定在定盤等。此情形下，那部分高度變高，在組裝於XY的情形下，單純需要2倍的高度，實務上沒有優點。

第52圖是通過第51的滑塊4’之中央的寬度方向的線之E-E箭頭標示剖面圖。於圖中，1’為定盤，2’為導軌，4’為滑塊，6為空氣管，6u為下麵空氣噴出部，6s為橫面空氣噴出部，7為線型馬達磁石部(固定部)，7a為磁鐵(magnet)，8為線型馬達線圈部(附可動部核心或附鐵軛)，9為直線比例尺(9H為頭部、9S為比例尺)。滑塊4’是由上部平坦部4f與腳部4k的兩部件所成，兩者利用螺釘4c結合。

該滑動台係讓電磁吸引力(在第52圖箭頭方向)作用在磁鐵7a與線型馬達線圈部8之間。然後，在滑塊4’係各自從上部平坦部4f對下部面噴出空氣的下麵空氣噴出部6u與從腳部4k向著導軌2’噴出橫面空氣的橫面空氣噴出部6s噴出空氣。利用來自下部面空氣噴出部6u的空氣噴出舉起滑塊4’的浮力(flotage)起作用，在該浮力與施加於滑塊4’的重力以及電磁吸引力之和產生均衡的垂直方向的位置浮起來。又，由於各自利用來自滑塊4’之腳部4k的兩空氣噴出部6s的空氣噴出，讓力朝離開導軌2’的方向起作用，因此會讓滑塊4’位於其兩個力產生均衡的水平方向的位置。

如此一來，該電磁吸引力係朝箭頭F3的方向施加在 第53圖之滑塊4’的上部平端部的中央。又，因為各自利用滑塊4’的兩空氣噴出部6s的空氣噴出，讓力朝離開導軌2’的方向起作用，所以該力會朝箭頭F1、F2的方向施加。

可是，檢討如第52圖的滑動台時，注意具有以下的問題1~5。

〈問題1〉

雖然滑塊4’是利用加工性佳、強韌的花崗石和陶瓷所製成，但花崗石和陶瓷具有壓縮強而彎曲方向弱的缺點。因而，在腳部4k，係一方利用螺釘固定，力F2作用於另一方，所以具有彎曲力作用於腳部4k，第53圖所示之×部(接合部與螺合部)B斷裂之虞。又，由於利用電磁吸引力與空氣反彈的平衡進行上下方向的約束，因此如第53圖的變形及應力，經常使滑塊受到負擔，損失精度的再現性，還有滑動台本身被破壞的危險性。

於是，為了不讓此種狀態發生，有必要提高強度，這麼做的話，與其朝實行小型化的方向反其道而行，倒不如讓滑動台本身變大。

〈問題2〉

在寬度方向剖面為U字形的導軌2’，因為以U字形腳部的上部面為上下方向的滑動面，所以必須同時高精度地加工該腳部上部面與U字形底面(安裝面)的平行度與腳部上部面的平面度。又，因為以U字形腳部的側面為橫向的滑動面，所以縱使是U字形導件之腳部間的平行度也需要高精度地加工。做成U字形的導軌2’是利用花崗石和陶瓷所製成，為了提高其加工精度(加工至誤差5μm左右)，具有以誤差5μm左右來加工較長的長條物(1m以上的物體)，需要時間與成本的缺點。

〈問題3〉

急速的加速、減速時，會發生縱向側的滑塊幹擾、接觸到縱向側之導軌等的事故。因而為了不引起幹擾、接觸事故，不做急速的加速、減速控制，就會有成為無法急速的加速、減速控制之滑塊的缺點。

〈問題4〉

又，具有檢測位置檢測裝置(直線比例尺)之訊號的定位精度、重複精度差的問題。

〈問題5〉

因為從兩側之滑塊的腳部4k的橫面空氣噴出部6s噴出的空氣之壓力，作用成將做成U字形之導軌的腳部朝內側彎曲，所以具有U字形的腳部朝內側變形的問題。 腳部變形的話，導件之橫面間的平行度惡化，滑塊的腳部與導軌的腳部接觸，具有引導面受損的情形。

為了解決上述問題，本發明為如下所構成。

本案記載的滑動台的發明，為對應第1圖者，係具備：定盤、和舖設在前述定盤上的線型馬達磁石部、和在前述定盤之上隔著前述線型馬達磁石部互相平行固定的2根導軌、和設置在前述線型馬達磁石部之上方與前述2根導軌之間的空間，對行進方向以直角的斷面形成U字形的滑塊、和在前述滑塊之U字形的開口內與前述線型馬達磁石部隔著空隙面對配置的線型馬達線圈部的滑動台，其特徵為：在前述側壁設有從構成前述滑塊之前述U字形的側壁向著下部面的前述定盤直接噴出空氣以及向著橫面噴出空氣的空氣噴出部，利用從前述空氣噴出部向著下部面噴出之空氣的浮上力和前述線型馬達磁石部以及前述線型馬達線圈間的電磁吸引力及重力產生平衡而浮起，且形成藉由前述馬達磁石部及前述線型馬達線圈間的驅動力被驅動。

還有，本案記載的發明，為對應第3圖者，針對上述記載的滑動台，其中，具備：挖掘有長溝的定盤、和舖設在前述長溝內的線型馬達磁石部、和在前述定盤之上隔著前述長溝互相平行固定的2根導軌、和設置在前述長溝之上方與前述2根導軌之間的空間，對行進方向以直角的斷 面形成U字形的滑塊、和在前述滑塊之U字形的開口內與前述線型馬達磁石部隔著空隙面對配置的線型馬達線圈部；在前述側壁設有從構成前述滑塊之前述U字形的側壁向著下部面的前述定盤直接噴出空氣以及向著橫面噴出空氣的空氣噴出部，利用從前述空氣噴出部向著下部面噴出之空氣的浮上力和前述線型馬達磁石部以及前述線型馬達線圈間的電磁吸引力及重力產生平衡而浮起，且形成藉由前述馬達磁石部及前述線型馬達線圈間的驅動力被驅動。

還有，本案記載的發明，為對應第3圖者，針對上述記載的滑動台，其中，具備：挖掘有長溝的定盤、和舖設在前述長溝內的線型馬達磁石部、和在前述定盤之上隔著前述長溝互相平行固定的2根導軌、和設置在前述長溝之上方與前述2根導軌之間的空間，對行進方向以直角的斷面形成U字形的滑塊、和在前述滑塊之U字形的開口內與前述線型馬達磁石部隔著空隙面對配置的線型馬達線圈部；在前述側壁設有從構成前述滑塊之前述U字形的側壁向著下部面的前述定盤直接噴出空氣以及向著橫面噴出空氣的空氣噴出部，形成使得利用從前述空氣噴出部向著下部面噴出之空氣的浮上力和前述線型馬達磁石部以及前述線型馬達線圈間的電磁吸引力及重力產生平衡的浮上面與藉由前述馬達磁石部及前述線型馬達線圈間的驅動力的驅動面一致。

還有，本案記載的發明為對應第4圖者，針對上述記 載的滑動台，其中，在前述滑塊的行進方向前端側及後端側，連結構成前述U字形的側壁間。

還有，本案記載的發明為對應第2圖者，針對上述記載的滑動台，其中，在構成前述U字形之側壁的前述滑塊的行進方向於複數處設置前述空氣噴出部。

還有，本案記載的發明為對應第6圖者，針對上述記載的滑動台，其中，在前述滑塊的角部的外側及內側形成圓角。

還有，本案記載的發明為對應第7圖者，針對上述記載的滑動台，其中，在與構成前述U字形之側壁的前述滑塊的行進方向呈直角的方向於複數處設置前述空氣噴出部。

還有，本案記載的發明為對應第8圖及第9圖者，針對上述記載的滑動台，其中，在前述定盤互相平行地挖掘複數排前述長溝，分別在前述各長溝內舖設前述線型馬達磁石部，且將分別與前述各線型馬達磁石部隔著間隔面對配置的各線型馬達線圈部保持在滑塊的前述U字形開口內，且將前述下部面的空氣噴出部設置在前述滑塊的各線型馬達線圈部間。

還有，本案記載的發明為對應第9圖者，針對上述記載的滑動台，其中，前述長溝的複數排為兩排或三排。

還有，本案記載的發明為對應第10圖者，針對上述記載的滑動台，其中，代替前述滑塊，使用由：在下方安裝前述線型馬達線圈部與構成前述滑塊的前述U字形的 側壁部的金屬板所成的滑塊。

還有，本案記載的發明為對應第10圖者，針對上述記載的滑動台，其中，在前述金屬板具備冷卻媒體用孔。

還有，本案記載的XY方向可動滑動台的發明為對應第13圖者，其特徵為：使用上述記載的第1滑動台、和上述記載的第2滑動台，以前述第1滑動台的滑塊作為前述第2滑動台的定盤，且以前述第1滑動台的滑塊之移動方向與前述第2滑動台的滑塊之移動方向為正交的方式，在前述第1滑動台之上載置前述第2滑動台。

還有，本案記載的發明為對應第14圖者，針對上述記載的滑動台，其中，雙驅動前述第2滑動台。

還有，本案記載的發明為對應第15圖者，針對上述記載的滑動台，其中，離開前述滑塊來固定設置在前述滑塊之上的上基板，在前述上基板與前述滑塊之間的空間內，且在前述滑塊之上的前述線型馬達線圈之正上部位設置直線比例尺頭，另一方面，在前述上基板與前述滑塊之間的空間內，將直線比例尺刻度部自前述直線比例尺頭及其他的移動的構件浮上而固定。

還有，本案記載的發明為對應第15圖者，針對上述記載的滑動台，其中，將限制開關安裝在前述上基板與前述滑塊之間的空間內。

還有，本案記載的發明為對應第17圖者，針對上述記載的滑動台，其中，在寬度方向斷面呈U字形來形成安裝前述直線比例尺的刻度部的安裝基板。

還有，本案記載的發明為對應第18圖者，針對上述記載的XY方向可動滑動台，其中，在前述第2滑動台的定盤挖掘延伸於前述第2滑動台之滑塊的移動方向的長孔，在前述長孔內收納平面二維直線比例尺頭，將前述平面二維直線比例頭的端部固定在前述滑塊，在前述第1滑動台的定盤配置平面二維直線比例尺。

還有，本案記載的發明為對應第20圖者，針對上述記載的XY方向可動滑動台，其中，將前述平面二維直線比例尺頭配置在兩個正方形的對角位置，且將前述平面二維直線比例尺，複數片平面狀地配置在前述第1滑動台的定盤。

還有，本案記載的發明為對應第21圖者，針對上述記載的滑動台，其中，在前述滑塊與前述兩列的導軌之間以及前述滑塊與前述定盤之間，分別將低摩擦係數且堅固材料的物品張貼在前述前滑動側、前述導軌側和前述定盤側，前述低摩擦係數之材質物品就能彼此接觸。

還有，本案記載的發明為對應第21圖者，針對上述記載的滑動台，其中，前述低摩擦係數之材質物品為碳纖維、陶瓷、石英、瑪瑙之任一種。

還有，本案記載的發明為對應第22圖者，針對上述記載的滑動台，其中，以一體形成前述定盤與前述2根導軌，且分別在前述定盤之下部面配置位準調整螺栓，在前述定盤之側面配置位置限制螺栓。

還有，本案記載的滑動台的發明為對應第25圖者， 其特徵為：將上述記載的滑動台，以複數台平行地排列在製罐架台上，在前述滑動台的上部設置工件吸附基板，利用前述位準調整螺栓就能進行位準調整。

還有，本案記載的高架型的XY方向可動滑動台的發明為對應第28圖者，其特徵為：將上述記載的滑動台，2式互相平行地排列在製罐架台上的兩端，在上部橫向設置前述滑動台。

還有，本案記載的發明為對應第31圖者，針對上述記載的滑動台，其中，前述導軌對行進方向以直角的斷面觀看形成羅馬字的「I」字形，在前述導軌的上部面中央具有設置前述線型馬達磁石部的溝，在該溝的兩上部面，前述滑塊是自前述下部面空氣噴出部噴出空氣，且利用前述線型馬達磁石部與前述線型馬達線圈部的電磁吸引的平衡來移行，以圍繞前述導軌上側兩側面的方式，前述滑塊自前述橫面空氣噴出部邊噴出空氣邊移行。

還有，本案記載的發明為對應第42圖者，針對上述記載的滑動台，其中，在前述導軌的端部下端的凸緣部固定著母螺紋套筒，前述位準調整螺栓是以螺合在該母螺紋套筒的螺栓固定式位準調整螺栓、和通過形成在該螺栓固定式位準調整栓的中心軸，穿通到貫通的貫通孔的固定螺栓所構成。

藉由本案記載的發明，直接將目前僅進行載置構件的 載置台(工作台)之作用的定盤的上部面，作為滑動面做有效利用為本發明的出發點。因此，導軌並非如習知之第52圖的導軌2’的U字形的複雜形狀，因為只要固定長條的棒即可，所以當製作時只是僅正確地做出定盤與滑塊相對之面的直角度的加工即可。對此，因為第52圖的導軌2’，是以U字形腳部的上部面作為滑動面，所以除了該滑動面的平面度外，縱使有關U字形腳部間的平行度也要求表面精度。因而，雖然導軌2’只能儘量製作維持表面精度之1m等級長度的長條物，但因為本發明的導軌是很簡單的形狀，所以能得到整個長度6m~7m且高精度的長條物，所以可適用於大型的液晶面板的製造裝置。

又，由於能省略第52圖之導軌2’的厚度量D，因此能降低長度。

還有，藉由本案的發明，除了上述記載的效果外，進而能更進一步地降低線型馬達磁石部的高度量。

還有，藉由本案記載的發明，因為馬達的驅動面與滑塊的浮上(滑動)面略一致，所以沒有偏位距離，就能防止滑動台的滑塊與下部滑動面接觸，縱使增大加速、減速依然沒有滑動台與滑動面摩擦之虞，完成耐高加速、減速的滑動台。

又，因為只能降低導軌2’之U字形的上下方向之厚度份長度，所以有助於小型化。

進而，導軌2只要固定長棒即可，因而每當製作時，只要正確做出面對定盤1與滑塊4之面的直角度，就能省 略做出第52圖之導軌2’的U字形之精度的加工，所以加工變容易。

又，因為挖溝構造，電磁吸引力的應力不會直接影響到滑塊4，所以滑塊本體並未變形，精度的穩定性和再現性也很良好。

還有，藉由本案記載的發明，因為滑塊不必跨置在導軌之上，所以滑塊只要在中央部挖出僅收納線型馬達線圈的直方體部分即可，由於能設置連繫兩腳部且將行進方向之前端的左右兩腳部彼此連結的連結部分、將同一行進方向之後端的左右兩腳部彼此連結的連結部分，因此滑塊之兩側腳部不會變形。

又，安裝相同大小的線型馬達線圈，因為未跨置在導軌所以變小型，因而材料也少，因為將其餘之材料的一部分充當增加滑塊之上部的厚度，縱使力作為於滑塊的上部，厚度依然很充分，所以並沒有朝下側大為凹陷的情形。

還有，藉由本案記載的發明，就能得到安裝的浮力。

像這樣在角部的內側與外側施行圓角，應力不會集中在角部，所以應力增強，滑塊的角部變得難以破裂。

還有，藉由本案的發明，簡單地就能實現寬度廣、大面積的滑動台。

還有，藉由本案的發明，以設置複數個線型馬達的方式，變成可以製作出任意驅動力的滑動台；更進一步，以隔著相互的間隔設置2根線型馬達的方式讓用以可以兩側 驅動，可以相對於偏向(yawing)方向而強化，更可以提升兩側的線型馬達、進行利用直線比例尺所致的同步控制下的偏向、橫真直度的精度。

還有，藉由本案記載的發明，不會因兩線型馬達驅動引起偏向，而且在不正常停止的情形下，只對中央的線型馬達施以不正常停止的話，因為施加煞車的是中央部，所以滑塊不會朝左右震動地停止。

還有，藉由本案記載的發明，如此一來，因為金屬板彎曲強，所以縱使金屬板僅中央部彎曲變形依然沒有破裂，而且由於電磁吸引力的影響只作用於上部面的連結基板，因此只對滑塊(石製)施加壓縮方向的力，因為石材壓縮強，所以石材未變形，精度的穩定性和再現性也很良好。

採用金屬板，不僅達到精度提昇，滑動台高度也沒有滑塊上部厚壁部位的部份，就能變得更低。

還有，藉由本案記載的發明，因為就能夠在所連結的金屬基板簡單地形成冷卻媒體用孔，所以水和空氣在此流動，就能阻斷線型馬達線圈部的發熱。

還有，藉由本案記載的發明，如此一來，就可得到能將長度降至比重疊的高度還低的XY滑動台。

還有，藉由本案記載的發明，如此一來，高度減低，且因為使得有關X軸及Y軸同時雙驅動，所以在兩側提高移動精度，就能讓橫向的移動精度(偏向、水平真直度)變佳，因此X軸及Y軸能同時高精度的移動。

還有，藉由本案記載的發明，因為在將檢測頭相對於測定物的滑塊4配置在未偏移的同一軸線上，所以縱使滑塊4引起偏向，由於中央部依然未受到偏向的影響，因此測定精度提昇。

還有，藉由本案記載的發明，因為能將用來防止越程(over travel)等的限制開關，有效利用滑塊與上基板之間的空間而安裝於此，所以未突出於裝置的外部，就沒有破損等之虞。

還有，藉由本案記載的發明，雖然因為直線比例尺安裝基板係細長的長條狀且向下方安裝，所以受到重力的影響而容易變形，但因為形成斷面U字形，所以對變形而言變強。

還有，藉由本案記載的發明，使X軸滑塊於X方向移動的話，二維直線比例尺頭會在挖空內移動，於X方向讀取平面二維直線比例尺，而且使Y軸滑塊移動的話，因為X軸滑塊也會移動，所以被安裝在X軸滑塊之下方的二維直線比例尺頭會移動，藉此就能於Y方向讀取平面二維直線比例尺，此結果，變成二維直線比例尺頭可於XY方向讀取平面二維直線比例尺。

還有，藉由本案記載的發明，2個二維直線比例尺頭之中必定有一個頭會讀出二維直線比例尺，縱使在X方向及Y方向設置任意長度的二維直線比例尺，二維直線比例尺頭依然能確實地讀出比例尺。

還有，藉由本案記載的發明，因為滑塊能在定盤的表 面以間隙大致為零來移動，所以能進行精密的控制。

還有，藉由本案記載的發明，因為可得到低摩擦係數且堅固的材質者，所以耐久性良好，而且因為滑塊能在定盤的表面以間隙大致為零來移動，所以能進行精密的控制。

還有，藉由本案記載的發明，因為是一體化組合定盤與導軌的構造，在定盤軌的下部面配置位準調整螺栓與在側面配置位置限制螺栓，所以對因定盤軌的自重及負荷荷重引起的縱向之彎曲等，來調整設置在下部面的位準調整螺栓，藉此，縱使下部面不是呈現平面度的石定盤等、未呈現精度的製罐架台等的情形下，依然能設置，移行的真直度也能調整到3~10μm左右，同樣地橫向的精度也利用位置限制螺栓來調整定盤軌，移行的真直度也能調整到3~10μm左右。

還有，藉由本案記載的發明，因為將滑動台複數台平行地排列在定盤上，在上部設置工件(work)吸附基板，所以能進行大型平面面板顯示器(FPD)工件的運送。

還有，藉由本案記載的發明，因為將滑動台2式平行排列在製罐架台上的兩端，進行位準調整，所以在上部橫向設置同一本實施例的滑動台，藉此就能構成對應大型FPD工件之高架(gantry)構造的滑動台。

還有，藉由本案記載的發明，由於是定盤與導軌做成一體型的羅馬字的「I」字形形狀的導軌，因此本體的剛性也很強，由在下部配置螺栓固定式位準調整螺栓，因此 對因定盤軌的自重及負荷荷重引起的縱向之彎曲等，來調整設置在下部面的位準調整螺栓，藉此，縱使下部面不是呈現平面度的石定盤等、未呈現精度的製罐架台等的情形下，依然能設置，移行的真直度也能調整到3~10μm左右，同樣地橫向的精度也利用位置限制螺栓來調整定盤軌，移行的真直度也能調整到3~10μm左右。

還有，藉由本案記載的發明，因為利用接著固定在定盤軌的母螺紋套筒來推拉調整設置在公螺紋的螺栓固定式位準調整螺栓，在決定高度的時候，利用固定螺栓固定至機材，藉此，縱使下部面不是呈現平面度的石定盤等、未呈現精度的製罐架台等的情形下，依然能設置滑動台，移行的真直度也可調整到3μm~10μm左右。因而，縱使成為基準的下部，製罐架台等之精度不佳的情形下，10m以上的長度者依然能進行高精度的運送定位。

又，如果與習知裝置比對來討論，做成上述構造，就會產生如下的效果。

對以往之重量平衡型的課題，由於上下方向受到約束，因此上下方向的移動精度(垂直真空度、俯仰等)變佳。

因為加速、減速時之姿態變動少所以不會發生軸承部的接觸等，可縮短加速、減速時間，且能提高移動接觸。

因為小型化所以能實用化，縱使變重依然能動作，而且也能急加速、減速。

由於縱向的滑動高度與運送驅動高度未產生距離，因 此在加速、減速時不會產生扭力，俯仰方向未受影響，重複精度和無效運動(lost motion)變佳，且縱向側的滑動台不會干擾定盤。

不必使用兩面磁石且高價的無鐵心線型馬達，因為使用單面磁石的線型馬達所以很便宜。

位置檢測裝置(直線比例尺)的設置場所不是在外側和下側等，是設置在如後述的第14圖、第17圖的位置，藉此，就沒有阿貝誤差(檢測位置和精度需要位置不同的誤差)的影響，定位精度、重複精度變佳。

對習知的空氣約束型的課題，因為不需要以微米單位來管理空氣隙，所以並無利用微米單位來組合加工導軌部與滑動部之尺寸關係精度的必要性，零件單價變便宜，能同時大量生產同類物品。

由於縱向的滑動高度與運送驅動高度未產生距離，因此在加速、減速時不會產生扭力，俯仰方向未受影響，重複精度和無效運動(lost motion)變佳，且縱向側的滑動台不會干擾縱向側的導軌。

由於橫向的滑動位置與運送驅動位置未產生距離，因此在加速、減速時不會產生扭力，偏向方向未受影響，重複精度和無效運動(lost motion)變佳，且橫向側的滑動台不會干擾橫向側的導軌。

不必使用兩面磁石且高價的無鐵心線型馬達，因為使用單面磁石的線型馬達所以很便宜。

又，如果與日本實開平第7-4457號公報記載的「滑 動裝置」比對的話，對混合型的課題，由於下部面使用定盤那樣的物品，因此不需要特性的加工，用來約束橫向的導軌為一體者，沒有精度加工的必要，且不必以5μm以下來加工所對應的兩側面的平行度，因為只要呈現平面度即可，所以導軌的製作費用愈來愈便宜，或者能對應較長的行程(3m以上)、較長的寬度(2m以上)等。

更能以單軸來降低高度，由於使用定盤上部面，因此變更低。

又，組裝於XY的情形下，不單是2倍的高度，組合的高度可更低，具有實務上的優點。

由於縱向的滑動高度與運送驅動高度未產生距離，因此在加速、減速時不會產生扭力，俯仰方向未受影響，重複精度和無效運動(lost motion)變佳，且縱向側的滑動台不會干擾縱向側的導軌。

又，雖為利用電磁吸引力與空氣反彈的平衡進行上下方向的約束，但變形及應力不會使滑塊受到負擔，即沒有損失精度的再現性，或滑動台本身被破壞的危險性。

又，由於未發生此種的狀態，就沒有必要進行強度提昇，因此能小型化。

〔用以實施發明的最佳形態〕

以下，針對本發明的實施形態參照圖做說明。

〔實施例1〕

第1圖是有關本發明之實施例的滑動台之縱剖面圖。

於第1圖中，1為定盤，2為導軌，4為滑塊，6為空氣噴出部，7為線型馬達磁石部(固定部)，7a(第1圖)為磁鐵，8為線型馬達線圈部(附可動部核心或附鐵軛)，9(第1圖)為直線比例尺部(9H為直線比例尺頭部、9S為直線比例尺(刻度部))。

比較實施例1(第1圖)的導軌2與公知例(第52圖)的導軌2’的話，由於公知例(第52圖)的導軌2’是很複雜的形狀，因此對照欲做出平坦度5μm之較高的精度，就只能盡量製作出1m等級長的長條物(因而限制了半導體製造裝置的用途)，因為實施例1的導軌2是很簡單的形狀，所以能涉及6m~7m長的物品，得到高精度的長條物(因而，可適用於大型的液晶面板之製造裝置)。是一種只要將2根由長棒製成的導軌2、2以互相平行的方式利用螺釘31固定在定盤1之上的簡單構造。

因為定盤1的面原本就進行拋光加工所以成為平滑面，因形成與導軌2’之U字形的腳部上部面同一程度的平面度(平滑面)，所以使用定盤1的面沒有問題。

定盤1之上方與2列導軌2、2之間的空間設置有滑塊4。該滑塊4對行進方向以直角的剖面觀看形成上下相反的U字形，在該倒U字形的開口內配備線型馬達線圈部8。線型馬達磁石部7與線型馬達線圈部8係互相隔著空隙面對面配置，利用線型馬達線圈部8之內部(圖未 示)的鐵心(core)在線型馬達磁石部7與線型馬達線圈部8之間產生電磁吸引力。

在構成滑塊4之倒U字形的兩側壁4s、4s，係設有向下麵噴出空氣的下麵空氣噴出部6u、和向著橫向的外側對滑塊4的外側噴出空氣的橫面空氣噴出部6s的空氣管6。

從下麵空氣噴出部6u向下麵噴出的空氣碰觸到定盤1，藉此在滑塊4產生浮上力。滑塊4係利用線型馬達磁石部7與線型馬達線圈8間的電磁吸引力以及重力和前述浮上力，在取得平衡的位置浮起來。在實施例1中，自定盤面起5μm~10數μm的距離成為浮上面。

又，從橫面空氣噴出部6s朝橫面之外側噴出的空氣碰觸到2側的導軌2，其結果會在中央保持平衡。

又，利用從側壁朝橫向外周噴出的空氣的壓力，作用從導軌2朝內側推壓側壁的力。與第53圖所說明之情形同樣地利用電磁吸引力而產生讓滑塊的側壁打開到外側的力，但如上述，由於從橫面空氣噴出部被噴出的空氣的壓力，會造成讓側壁返回內側的力，因此調整壓力具有減低側壁變形的效果。

在不調整空氣壓力的情形下，如後述的第4圖(a)所示，只要在滑塊4的U字形的開口部的側壁附加補強肋的部分即可。

又，如後述的第4圖(b)，在滑塊4的側壁保留補強肋6r的部分，來加工開口部6k的話，縱使增加了因電 磁吸引力而朝外打開側壁的力，依然具有因補強肋6r而抑制側壁變形(如第53圖的變形)的效果。

又，在線型馬達磁石部7及線型馬達線圈部8間產生驅動力，利用該驅動力讓滑塊4在移行方向驅動。線型馬達線圈部8的下端形成驅動面。

又，因為只能降低導軌2’(第52圖)之U字形的上下方向的厚度量D長度，所以有助於小型化。

進而，實施例1的導軌2只要固定長棒即可，因而每當製作時，只要正確做出面對定盤1與滑塊4之面的直角度，就能省略做出第52圖之導軌2’的U字形之精度的加工，所以加工變容易。

又，擴大設計實施例1的導軌2之寬度的話，由於能利用從滑塊側壁之橫面空氣噴出部噴出的空氣之壓力減少導件變形的量，因此能解決習知技術(第52圖)的問題點5。

因而，形成導軌2能涉及6m~7m物體長度，獲得高精度的長狀物，就能適用於大型的液晶面板的製造裝置。

因為利用導軌來約束滑塊之橫向的位置，且利用定盤來約束滑塊之縱向的位置，所以具有能單獨調整橫向移行的精度與縱向移行的精度之效果。

〔實施例2〕

第2圖及第3圖是說明有關本發明之實施例2的滑動台之圖，第2圖係於第3圖之B-B剖面箭頭方向觀看滑動 台的橫剖面的圖，第3圖係於第2圖之A-A剖面箭頭方向觀看滑動台的縱剖面的圖。

於第2圖及第3圖中，有關與第1圖相同的符號省略說明。

在實施例2的定盤1挖設長溝1a(第3圖)，在該長溝1a內舖設上在上部具備磁鐵7a的線型馬達磁石部7。此時，磁鐵7a的上部面形成與定盤1之表面大致同一平面。因為定盤1的面原本就進行拋光加工所以為平滑面，因形成與導軌2’之U字形的腳部上部面同一程度的平面度(平滑面)，所以使用定盤1的面沒有問題。

又，2根導軌2、2是固定成互相隔著長溝1a而平行。

又，擴大設計導軌2之寬度的話，由於能利用從滑塊側壁之橫面空氣噴出部噴出的空氣之壓力減少導件變形的量，因此能解決習知技術(第52圖)的問題點5。

定盤1之上方與2列導軌2、2之間的空間設置有滑塊4。該滑塊4對行進方向以直角的剖面觀看形成上下相反的U字形，在該倒U字形的開口內配備線型馬達線圈部8。線型馬達磁石部7與線型馬達線圈部8係互相隔著空隙面對面配置，利用線型馬達線圈部8之內部(圖未示)的鐵心(core)在線型馬達磁石部7與線型馬達線圈部8之間產生電磁吸引力。

又，在滑塊4與實施例1相同在側壁保留補強肋6r的部分，來加工開口部6k的話，縱使增加了因電磁吸引 力而朝外打開側壁的力，依然可獲得因補強肋6r而抑制側壁變形(如第53圖的變形)的效果。

如此一來，在實施例2，因為線型馬達的驅動面(線型馬達線圈8的下端)與滑動台的浮上(滑動)面(自定盤面起數10μm上)略為一致，所以沒有偏位距離，不會在第52圖的滑動台所發生的滑塊4’與導軌2’的接觸。

在此，有關偏位距離不變的話，滑塊與導軌就不接觸的理由，依據本申請人瞭解的理由做說明。

回到公知例的第52圖。在第52圖以距離t所示的是滑塊4’的驅動面之L1與滑塊4’的滑動面之L2之間的偏位距離。由於該距離t越增加，在加速、減速時以滑塊4’的上部支撐的狀態(浮上)下，在滑塊4’的下部往前加速(或減速)的扭力越增加，因此滑塊4’的行進方向前端與後端於上下方向大幅擺動(俯仰(pitching))，其結果發生滑塊4’的行進方向前端與後端接觸到導軌2’上部等之虞。可是，因此該距離t為零(第3圖)的話，滑塊4的驅動面與浮上(滑動)面一致，所以在加上滑塊4的加速(或減速)的力的面內浮上、滑動、移動，滑塊4的行進方向前端與後端就不會在上下方向擺動，其結果就沒有滑塊4的行進方向前端和後端與定盤1接觸等之虞。

如此一來，由於具有在第52圖所示的偏位距離t，在縱向的滑動高度與運送驅動高度會有距離，因此在加速、減速時產生扭力，俯仰方向受影響，處於重複精度和無效運動變差的情況，或者在急速的加速、減速時也會發生縱 向側的滑塊幹擾、接觸到縱向側之導軌等的事故。因而相反的，為了不引起幹擾、接觸事故，就不能急速的加速、減速控制，雖具有形成不能急速的加速、減速控制的滑動台之缺點，但該些缺點能經由實施例2解決。因而藉由實施例2的話，縱使增大加速、減速依然沒有滑動塊與滑動面摩擦之虞，完成耐高加速、減速的滑動台。

又，因為挖溝構造，電磁吸引力的應力不會直接影響到滑塊4，所以滑塊本體並未變形，精度的穩定性和再現性也很良好。

〔實施例3〕

第4圖是說明有關本發明之實施例3的滑塊的圖，第4圖(a)是其概念立體圖，(b)是上下慢慢返回滑塊的立體圖。第5圖是第4圖(a)的滑塊圖之C-C箭頭剖面圖。

由於習知的滑塊4’是應用於第52圖之滑動台的滑塊，為跨置在導軌2’之上前進的型式，因此構造上滑塊4’之兩腳部4’、4’的行進方向的前端以及後端彼此無法閉合，形成開口。因而利用空氣噴出的反彈力F1、F2朝箭頭方向作用於滑塊4’的話，如第53圖，產生使滑塊4’之兩側的腳部4k、4k朝外側打開的力，張開來。防止這個需要增加壁厚，反而與小型化、低成本化、輕量化的需求背道而馳。

又，如第53圖，電磁吸引力朝箭頭方向F3作用的 話，滑塊4’之上部的厚度不足的話，如第53圖變成朝下側凹陷。防止這個同樣需要增加壁厚，與小型化、低成本化、輕量化的需求背道而馳。

對此，由於第4圖(a)的滑塊4，係利用第2圖及第3圖的滑塊，進入到2根導軌2之間的型式，因此滑塊4不必跨置在導軌2之上，因而滑塊4只要在中央部挖出僅收納線型馬達線圈部8的直方體部分即可，就能如以斜線4X所示地設置連繫兩腳部且將行進方向之前端的左右兩腳部彼此連結的連結部分、將同一行進方向之後端的左右兩腳部彼此連結的連結部分，藉此，因此縱使箭頭方向的電磁吸引力作用於滑塊4，依然能藉由行進方向之前端的連結部分及後端的連結部分，阻止兩側的腳部張開，所以如第5圖滑塊4之兩側的腳部不會彎曲。

第4圖(b)是上下慢慢返回滑塊的圖。圖中，為朝上取出線型馬達的線圈部8的狀態，在側壁保持補強肋6r的部分，來加工開口部6k。縱使加上利用電磁吸引力將側壁往外張開的力，依然具有抑制側壁變形(如第53圖的變形)的效果。

又，安裝相同大小的線型馬達線圈8，由於第52圖之滑塊4’跨置在導軌2之上因此變大型，雖然因此也需要較多材料，但因為第2圖的滑塊4並未跨置在導軌所以變小型，因此材料也少，因為將其餘之材料的一部分充當增加滑塊4之上部的厚度，縱使電磁吸引力朝箭頭方向F3作用，滑塊4之上部的厚度依然很充分，所以如第5 圖所示，並沒有大量朝下側凹陷的情形。

〔實施例4〕

第6圖是有關實施例4的滑動台之剖面圖。

第6圖與實施例2(第3圖)不同的是滑塊的形狀。雖然第6圖的滑塊41是與第3圖的滑塊4相同做倒U字形，但不同的是對第3圖之滑塊4的倒U字形的角係內側或外側都是直角而言，第6圖的滑塊41的U字形的角係內側或外側都是避免應力的圓角(R)形狀。像這樣在角部的內側與外側施行圓角，應力不會集中在角部，所以應力增強，滑塊41的角部更難破裂。

〔實施例5〕

第7圖是有關實施例5的滑動台之剖面圖。

由於有關實施例2(第3圖)的滑動台，係為僅將長棒的導軌2以2根螺釘固定在定盤1之上的兩側之構造，雖然簡單地就能對應寬幅、大面積的需求，但實施例5也能對應大面積之滑動的需求。第7圖的滑動台是配合此需求，在中央設置線型馬達(線型馬達磁石部7與線型馬達線圈部8)，在兩側設置導軌2、2，為了增加浮上力，將複數個空氣噴出口61、62設置在滑塊42的U字形兩端下部面，簡單地就能實現寬幅、大面積的滑動台。

因為與第3圖相同的符號為相同機能的構件，所以說明省說明。

〔實施例6〕

第8圖是有關實施例6的滑動台之剖面圖。

藉由實施例5(第7圖)的話，雖然能簡單地製作幅度寬、深度也長的滑動台，但驅動力比實施例5之滑動台倍增的是有關實施例6的滑動台。有關實施例6的滑動台，如第8圖，設置複數個線型馬達51、52，就能製作任意之驅動力的滑動台。

於第8圖中，將2個線型馬達51、52設置在滑塊43與定盤1的兩側，藉此驅動力就能增加2倍。

進而，在如實施例5(第7圖)的中央利用一台線型馬達之驅動的話，雖然對行進方向而言易於朝左右廻旋(偏向)，但由於互相隔著間隔設置2台線型馬達，且兩側的直線比例尺，例如安裝在導軌2、2的側面部或上部面，就能兩側驅動，所以對偏向方向增強，進行利用兩側的線型馬達、直線比例尺的同步控制，就能更加提昇偏向、水平真直度的精度，通常3秒、3μm的就能達到1秒以下、1μm以下。

〔實施例7〕

第9圖是有關實施例7的滑動台之剖面圖。

討論到第9圖之滑動台的話，組合第3圖的滑動台與第8圖的滑動台，就能得到增強驅動力的滑動台。而且效果不僅於此，可得到預期的效果。亦即，依據實施例7， 就能克服第3圖的滑動台與第8圖的滑動台之各自具有的弱點。

雖然第3圖的滑動台具有的弱點是偏向，但如第8圖利用兩線型馬達驅動就能解決弱點。

又，雖然第8圖的兩線型馬達驅動具有的弱點是不正常止的情形下，對兩線型馬達施以制動，但因為兩線型馬達的制動之效能實際上難以完全相同，所以兩線型馬達的制動之效能不同的情形下，滑塊會左右震動。雖然其理由是因為不正常停止馬達的情形下，通常施以動力煞車(dynamic brake)，但因動力煞車只是讓馬達繞線產生阻力、短路，所以引起每個馬達之阻力的誤差，在停止馬達的時間出現誤差。

可是，在第9圖的滑動台增加不正常停止的情形下，兩側的線型馬達成為空轉(Free run)(因馬達移轉時的摩擦阻力的自然停止)狀態，只對中央的線型馬達施以動力煞車的話，因為施加煞車的是中央部，所以滑塊44會不朝左右震動的停止。

又，也能設置超過三個的線型馬達，藉此就能產生必要的大推力。

〔實施例8〕

第10圖~第12圖是說明有關實施例8的滑動台的圖，第10圖是滑動台的剖面圖，第11圖是有關實施例8之滑塊的概念立體圖，第12圖是第11圖之滑塊的B-B剖 面端視圖。

於第10圖~第12圖中，雖然有關實施例8的滑塊45，原理上是與實施例2(第3圖)之滑動台的滑塊4同樣的構造，但是完全去掉放入第3圖的滑塊4的線型馬達線圈部8之部分的上部的厚壁部位，只保留收納空氣噴出部6之兩腳部的構造是有關實施例8之滑塊45的特徵。而且，在左右的兩滑塊45、45的上部設置以金屬板(鋼、不鏽鋼等)製成的連結基板10，且於此設置線型馬達線圈部8。

進而，因為保有連結基板10為金屬板的優勢，能將冷卻媒體用孔11簡單地形成在連結基板10的內部，所以由於藉此能利用冷卻媒體用孔11除去來自線圈的熱能，因此能完全阻斷對上部的熱影響。

如此一來，因為縱使第12圖所示的電磁吸引力作用於金屬板10，金屬板10彎曲依然很強，所以縱使金屬板10如圖般僅中央部彎曲變形依然沒有破裂(對此，第5圖之石製滑塊4的中央部彎曲稍微減弱，因此稍微增厚，如已述)。又，由於電磁吸引力的影響只作用於上部面的連結基板，因此只對滑塊45(石製)施加壓縮方向的力，因為石材壓縮強，所以石材未變形，精度的穩定性和再現性也很良好。

如此一來，採用以金屬板製成的連結基板10，不僅達到精度提昇，滑動台高度也沒有第3圖之滑塊4上部厚壁部位的部份，就能變得更低。亦即，因為連結基板10 為金屬板，所以並不需要在第5圖所需要之石製滑塊4的厚度，能更加降低滑動台的高度，在本實施例中，自定盤起的高度為50mm。亦即，第3圖的滑動台，自定盤起的高度為70mm。對此，習知例的第52圖的滑動台也達到100mm。

又，對連結基板10的冷卻媒體用孔11流入水或空氣，來冷卻線型馬達線圈部8的發熱，就能同時阻斷對其他部分的熱傳導。

〔實施例9〕

第13圖是有關實施例9的滑動台之3面圖。

有關實施例9的滑動台的構造，係在有關實施例6的雙驅動的滑動台(第8圖)之上放置實施例8(第10圖)的金屬板滑動台，構成可於X-Y方向移動的XY滑動台。

於圖中，1為定盤，6為空氣噴出部，10為連結基板，12為Y軸導軌，13為Y軸滑塊，14為Y軸線型馬達磁石部(固定部)，15為Y軸線型馬達線圈部，16為Y軸直線比例尺，17為X軸導軌，18為X軸滑塊，19為X軸線型馬達磁石部(固定部)，20為X軸線型馬達線圈部，21為X軸直線比例尺，31為固定螺釘。

在該實施例9，不單是在實施例6的滑動台之上重疊實施例8的滑動台，還共用實施例6的滑動台的滑塊43(第8圖)與實施例8的滑動台的定盤1(第10圖)， 並在實施例6的滑動台的滑塊43之上部挖掘溝而重疊的為特徵，如此一來，就可得到能將長度降至比重疊的高度還低的XY滑動台。

再者，在第13圖中，X軸或Y軸的導軌，如第46圖(後述)般安裝使用固定螺釘的位置限制螺栓37a，就能減低導件的應變，提高X軸或Y軸的移行精度。

Y軸滑塊13與實施例1相同在側壁保留補強肋6r的部分，來加工開口部6k的話，縱使增加了因電磁吸引力而朝外打開側壁的力，依然可獲得因補強肋6r而抑制側壁變形(如第53圖的變形)的效果。

X軸滑塊18也是使用能實現實施例1者，其情形與實施例1相同，在側壁保留補強肋6r之部分的話，就會抑制側壁變形。

〔實施例10〕

第14圖是有關實施例10的滑動台之3面圖。

有關實施例10的滑動台的構造，係在有關實施例6的雙驅動的滑動台(第8圖)之上放置實施例8(第10圖)的金屬板滑動台，再加上實施例6之雙驅動之特徵的發明。

如此一來，與實施例9相同，高度減低，且因為使得有關X軸及Y軸同時雙驅動，所以在兩側提高移動精度，就能讓橫向的移動精度(偏向、水平真直度)變佳，因此X軸及Y軸能同時高精度的移動。

再者，在第14圖中，X軸或Y軸的導軌，如第46圖(後述)般安裝使用固定螺釘的位置限制螺栓37a，就能減低導件的應變，提高X軸或Y軸的移行精度。

〔實施例11〕

第15圖是有關實施例11的滑動台之縱剖面圖。

於圖中，1為定盤，40為導軌，4為滑塊，6為空噴出部，8為線型馬達線圈部，9為直線比例尺部，9B為安裝基板，9H為直線比例尺頭，9S為直線比例尺(刻度部)。22為用來安裝玻璃製直線比例尺的安裝基板，23為空間基板，24為上基板，25為限制感測器，26為電纜支架，31為固定螺釘。

驅動部分基本上是與實施例2(第3圖)同樣的構造，不同的是位置檢測裝置(直線比例尺)的配置位置。於實施例2中，當滑塊4朝行進方向左右震動(偏向的)時，雖然在位置檢測裝置(直線比例尺)的輸出產生誤差，但其原因是將直線比例尺9安裝在滑塊4之一側面。亦即，因為當滑塊4朝行進方向左右震動(偏向的)時，由於位置檢測裝置與滑塊的位置不一致，因此產生檢測誤差，所以在實施例11，將位置檢測裝置(直線比例尺)9配置在滑塊4的中央，藉此解決該誤差。具體的配置構造，為了確保將直線比例尺9配置在滑塊4之中央的空間，在滑塊4之上將2根空間基板23、23固定在自中央部互相分開的位置，在此上面安裝上基板24。

又，直線比例尺安裝基板22，係在能成為滑塊4與2根空間基板23和上基板24之間的中央空間內配置直線比例尺。

第16圖是實施例11之直線比例尺部9附近的部分剖面立體圖。

如第16圖所示，用來安裝直線比例尺(刻度部)9S的直線比例尺安裝基板22，係具有長及滑塊4之移動範圍的行進方向之兩端部的長度的長條狀的棒狀體，該直線比例尺安裝基板22，係貫通可在滑塊4與2根空間基板23和上基板24之間的中央空間內，固定於立設在行進方向之兩端部的安裝構件22H之上。而且，直線比例尺(刻度部)9S是利用雙面膠帶或接著劑、螺釘等固定在直線比例尺安裝基板22的下部面。如此一來，縱使滑塊4在移動範圍縱橫地移動，直線比例尺(刻度部)9S依然以非接觸滑塊4狀態不動。

一方面，為了讀出該直線比例尺9S的刻度，直線比例尺頭9H在頭安裝基板9B的正上方，靠近直線比例尺9S的下方利用螺釘固定。如此一來，滑塊4在移動範圍縱橫地移動的話，因為直線比例尺頭9H也與滑塊4一起移動，所以直線比例尺頭9H就能讀出不動的直線比例尺9S的刻度。像這樣，因為在將檢測頭9H相對於測定物的滑塊4配置在未偏移的同一軸線上，所以縱使滑塊4引起偏向，由於中央部依然未受到偏向的影響，因此測定精度提昇(阿貝原理)。藉由實施例11的話，因為完成考慮 到阿貝原理的位置檢測裝置，所以因滑動台之姿勢誤差的定位精度及重複定位精度最優。又，因為由於直線比例尺9H至上基板24的距離很近，因此俯仰方向的誤差也少，所以測定精度也會提昇。

再者，雖然用來防止越程(over travel)等的限制開關25，以往是突出設置在裝置的橫側，但在實施例11中，因為能有效利用結果上所產生的滑塊4與空間基板23之外側與上基板24之間的空間而安裝於此，所以未突出於裝置的外部，就沒有破損等之虞。

如此一來，縱使滑塊4在移動範圍縱橫地移動，直線比例尺(刻度部)9S依然以非接觸滑塊4狀態不動。

進而，因為直線比例尺(刻度部)9S被固定在直線比例尺安裝基板22的下部面，所以直線比例尺安裝基板22作為蓋體之功能的緣故，從上降落到直線比例尺(刻度部)9S的灰、塵埃、垃圾等變得難以附著。

〔實施例12〕

第17圖是有關實施例12的滑動台之縱剖面圖。

於圖中，22’是供安裝玻璃製直線比例尺的安裝基板，其他的與第15圖相同。有關實施例12的滑動台與有關實施例11的滑動台不同的為一點，是供安裝玻璃製直線比例尺的安裝基板22’的形狀。因為直線比例尺安裝基板22(第15圖)係細長的長條狀且向下方安裝，所以將受到重力的影響而容易變形的，利用直線比例尺安裝基板 22，從寬幅方向兩端朝下方形成突出部，形成斷面U字形，所以對變形而言變強。

又，雖然基本上是與上述實施例12同樣的構造，但定盤1縮小成為小型，整合成模組。

進而，因為直線比例尺(刻度部)9S係用直線比例尺安裝基板22’覆蓋，所以從上降落的灰、塵埃、垃圾等更難以附著在直線比例尺(刻度部)9S。又，因為比例尺頭9H亦在直線比例尺安裝基板22’之下移行，所以灰、塵埃、垃圾等也難以附著在比例尺頭9H。

〔實施例13〕

第18圖是有關實施例13的滑動台之3面圖。該滑動台，係有關滑塊部分是與第14圖的實施例10相同，不同點在於將平面二次直線比例尺27配置在下部之點。如第18圖，雙驅動因為擴大幅度，加長深度，完成XY滑動台構造，所以可在中央之空白的空間設置平面二維直線比例尺27。於是，實施例5的XY滑動台的構造，在中央空白的空間(定盤1的面)配置可在平面XY方向檢測的平面二維直線比例尺27，一方面，在Y軸滑塊13設置凹陷13H，並以在該凹陷13H內插入平面二維直線比例尺頭29的狀態，安裝在X軸滑塊18的下方。

第19圖是應用於實施例13的平面XY直線比例尺的俯視圖。於圖中，27為平面二維直線比例尺，28是担持平面二維直線比例尺27的平面二維直線比例尺玻璃，29 是讀取平面二維直線比例尺27的平面二維直線比例尺頭。

於是，使X軸滑塊18於X方向移動的話，平面二維直線比例尺頭29會在挖空13H內移動，於X方向讀取平面二維直線比例尺27。又，使Y軸滑塊13在圖面於上下方向移動的話，因為X軸滑塊18也會移動，所以被安裝在X軸滑塊18之下方的平面二維直線比例尺頭28也於上下方向移動，藉此於Y方向讀取平面二維直線比例尺27。此結果，變成平面二維直線比例尺頭29可於XY方向讀取平面二維直線比例尺27。

〔實施例14〕

第20圖是有關實施例14的平面XY直線比例尺的俯視圖。市售的平面XY直線比尺的有效行程(stroke)，如第19圖所示，由於為68mm平方，因此欲檢測更寬範圍的情形，如實施例14(第20圖)般，平面二維直線比例尺27為複數片(圖為四片)，於上下左右方向互相隔著預定間隔t配置。

一方面，為了讀出隔著間隔t平面排列的複數片平面二維直線比例尺27，在正方形的對角線方向傾斜排列2個平面二維直線比例尺頭29，配置形成可切換該兩者進行位置檢測而成的平面二維直線比例尺頭29的比例尺頭30。該平面二維直線比例尺29的比例尺頭30，可在第20圖中以正方形30R所示的範圍內移動。而且，預定間隔 t，係形成稍微比鄰接的平面二維直線比例尺27、27的端部彼此傾斜地2個排列在前述對角線方向的平面二維直線比例尺頭29、29間之X方向、Y方向的間隔還短，當平面二維直線比例尺頭29、29由平面二維直線比例尺27往相鄰的平面二維直線比例尺27移動時，平面二維直線比例尺頭29、29必定會重疊(overlap)。

藉由像這樣，平面二維直線比例尺頭29的比例尺頭30在正方形30R內移動的話，2個平面二維直線比例尺頭29、29之中必定有一個頭會讀出平面二維直線比例尺28，於是只要正常切換到正常讀出平面二維直線比例尺28的比例尺頭這方即可。正常切換到2個平面二維直線比例尺頭29、29之中進行正常檢測的比例尺頭，將利用一次元方向配置的2個直線比例尺頭的公知切換技術，各自應用於X方向、Y方向就能簡單地實現。再者，因為公知的切換技術例如記載於日本特開2005-308592號公報，所以使用此技術即可。

〔實施例15〕

第21圖是有關實施例15的滑動台之剖面圖。

於圖中，在下部為定盤1，將2根導軌2共同螺固在兩側，其間有滑塊4。在定盤1的上部面及兩側的導軌2之內面，藉由實施例15貼合著接觸導軌32，在其相對之面的滑動面，同樣藉由實施例15設置著接觸滑塊33。因為其他的構造與實施例4(第6圖)相同，所以說明省 略。

因為應用於實施例2~13的滑塊4是石材或陶瓷製，所以與導軌2接觸的話，有產生粉塵之虞。於是為了不產生粉塵，在實施例2~13，互相自定盤1的上部面及兩側的導軌2起離開5μm左右。

然而，滑塊4從上部面浮上的話，會在上下方向及移動方向產生微振動。

在第48圖~第50圖的習知裝置中，通常空氣軸承是利用往上方向的氣壓與往下方向的氣壓產生平衡而浮上，並且雖然在第52圖之習知裝置及本發明之滑動台，利用電磁吸引力與氣壓產生平衡而浮上，但實際上會因氣壓的脈動產生約0.1μm~0.3μm左右的上下振動。因此，滑動台本體也會不小心地在上下方向振動。

可是，可藉由實施例15現實浮上量零(因為以顯微鏡觀看的話，表面產生凹凸，所以凸與凸接觸，除此之外的部分係以空氣浮上的狀態)，微妙地接觸，藉此變成不會上下微振動。

又，縱使有關移動方向發生接觸，依然具有抑制以往20~30nm之振動的效果。

接觸導軌32是張貼碳纖維等之低摩擦係數且堅固的材質物品，接觸滑塊33是張貼薄的石英、瑪瑙等之相同的低摩擦係數且堅固的材質物品，使其「微妙地接觸」是假設碳纖維的表面為絨毛狀，且在瑪瑙接觸或不接觸包含在該絨毛間之空氣層的狀態下，接觸滑塊33沿著接觸導 軌32移動。

以上，藉由本發明的話，就能確實以簡單的構造完全解決公知之滑動台具有的4個問題。

(1)滑塊易變形，具有損害精度的再現性，又有破壞滑動台本身的危險性。

(2)幅度方向剖面為U字形的導軌由於提高加工精度(加工至誤差5μm左右)，因此需要時間和成本。

(3)在急速的加速、減速時，會發生滑塊干擾、接觸到導軌等的事故。因而為了不引起干擾、接觸事故，形成不會急速的加速、減速控制的滑動台。

(4)檢測位置檢測裝置(直線比例尺)之訊號的定位精度、重複精度差。

〔實施例16〕

第22圖是有關本發明之實施例16的滑動台的縱剖面圖，第23圖是有關本發明之實施例16的滑動台的變形例的縱剖面圖，第24圖是第22圖之滑動台的3面圖，(a)為俯視圖，(b)為側視圖，(c)為前視圖。

於第22圖及第24圖中，35為製罐架台，36為位準調整螺栓，37為位置限制螺栓，34為定盤軌，4為滑塊，6s為橫面空氣噴出部，6u為下部面空氣噴出部，7為線型馬達磁石部(固定部)，8為線型馬達線圈部(可動部)，9為直線比例尺部，24為上基板，26為電纜支架。定盤軌34的材料，是尺寸變化少、接觸時不會發生 返回的黑花崗石或陶瓷材、碳纖維等，一般驅動部及導件的構造與實施例1同樣。

又，在滑塊4與實施例1相同在側壁保留補強肋6r的部分，來加工開口部6k的話，縱使增加了因電磁吸引力而朝外打開側壁的力，依然可獲得因補強肋6r而抑制側壁變形(如第53圖的變形)的效果。

在定盤軌上方的導件部分的外側的缺口部分，安裝直線比例尺部9，且將直線比例尺的頭部利用滑塊4的側面與頭安裝台9k結合(第22圖)。因此，具有將直線比例尺收納到定盤軌34的橫幅內的效果。

又，在定盤軌34之導件部分的上部面，可在與上基板24的下部面之間的空間，安裝帶式的直線比例尺9aS(第23圖)。在定盤軌34的導件部分的上部面安裝直線比例尺部的帶式比例尺9aS(第23圖)，在上基板的下部面利用頭安裝零件9k，安裝直線比例尺的頭9aH(第23圖)。

由於直線比例尺部的頭9aH與滑塊4之上部面的高度比直線比例尺9的情形短，因此具有俯仰方向的測定精度提高(阿貝的原理)的效果。

實施例16(第22圖、第24圖)的定盤軌34，係一體化組合實施例1的定盤1與導軌2的構造，在定盤34的下部面配置位準調整螺栓36與在側面配置位置限制螺栓37，變得特別長，比較實施例16與公知例(第52圖)的話，因為只在公知例(第52圖)之呈U字形的導 軌部的構造之情形下，將此設置在裝置等的情形下導軌就那樣使用加工精度，所以只能儘量製作到1m等線的長度，其設置場所也只能使用設置在上部面平面度為10μm以下的石定盤等之上(固定在平面度不佳的面的話，本體彎曲成為不能使用物品的狀態。因而，與液晶用途相比，限定小行程之半導體製造裝置的用途)。

對此，在將實施例16的定盤與導軌一體成型的定盤軌34的下部面配置位準調整螺栓36與在側面配置位置限制螺栓37的本發明，由於將定盤與導軌一體化，因此與公知例(第52圖)相比，導件的變形少。又，對因自重及負荷荷重引起的縱向之彎曲等，來調整設置在下部面的位準調整螺栓36，藉此，縱使下部面不是呈現平面度的石定盤等、未呈現精度的製罐架台35等的情形下，依然能設置滑動台，移行的真直度也能調整到3~10μm左右，同樣地橫向的精度也利用位置限制螺栓37來調整定盤軌34，移行的真直度也能調整到3~10μm左右。

此為藉由定盤與導軌一體化的效果。因為形成一體，所以利用螺栓來微調整定盤的話，導件部分也會變化。

又，可在線型馬達線圈部的上部面部分(與磁石面相反方向)隔著冷卻板81安裝在滑塊(第23圖)。在冷卻板81開孔，水冷或空冷也就很容易實現。

藉由以上，縱使成為基準的下部，製罐架台等之精度不佳的情形下，10m以上的長度者依然能進行高精度的運送定位。

而且，實施例16(第22圖)，相對於在公知例(第52圖)為驅動動力發生位置的線型馬達磁石部7與線型馬達線圈部8之間和滑塊4的移行引導面產生偏移距離，而使驅動動力發生位置的線型馬達磁石部7與線型馬達線圈部8之間和滑塊4的移行引導面一致，因為偏移距離幾乎為零，所以不會發明俯仰方向扭力，加減速時的俯仰誤差變少，就能更快進行加減速，藉此就能高精度、高速運送。

又，實施例16，由於也能進行如下的應用，因此能充分應用於進行大型化之FPD(平面顯示器)用或太陽能電池面板用的製造、檢查裝置，進行滑動台的標準化，也可達成降低成本。

(1)如第25圖，將本實施例16的滑動台複數台平行地排列在定盤1上，在上部設置工件(work)吸附基板38，藉此就能進行大型FPD工件和太陽能電池面板的運送。

(2)如第26圖，將本實施例16的滑動台複數台平行地排列在製罐架台35上，進行位準調整的同時，在上部設置工件吸附基板38，藉此就能進行大型FPD工件和太陽能電池面板的運送。此種的構造在公知例(第52圖)無法實現。

在公知例中，形成長行程的話，由於呈U字形的導件在應變的狀態下被固定在製罐架台，因此滑塊的移行精度依然很差，以複數個滑塊來結合驅動工件吸附基板。各 滑塊之移行的誤差，是通過工件吸附基板，在各線型馬達間相互作用，馬達動作產生異常。

在本發明中，因為能利用位置限制螺栓與位準調整螺栓來修正定盤軌的應變，提昇滑塊的移行精度，所以能減低滑塊間之移行的誤差，讓各線型馬達正常動作。

(3)如第27圖，將本實施例16的滑動台，2式平行地排列在定盤1上的兩端，在上部橫向或向下(第44圖)設置同一本實施例16的滑動台，藉此就能構成對應大型FPD工件之高架(gantry)構造的滑動台。

在本發明中，因為空氣浮上力與產生平衡的馬達之電磁吸引力比滑塊的荷重還要十分(例如10倍)的大，所以縱使將滑動台向下安裝，依然不會有滑動掉落等的缺點。

(4)如第28圖，將本實施例16的滑動台，2式平行地排列在製罐架台35上的兩端，進行位準調整，在上部橫向或向下(第44圖)設置同一本實施例16的滑動台，藉此就能構成對應大型FPD工件和太陽能電池面板之高架(gantry)構造的滑動台。此種的構造在公知例(第52圖)無法實現。

(5)依第29圖，於第28圖，設置複數個對應橫向設置同一本實施例16的滑動台的大型FPD工件和太陽能電池面板的高架構造之可移動滑動台的滑塊4，就能同時進行多項工作。

(6)按照第30圖，因上部的荷重和發生推力的關係 產生不足的情形等，對上部的運送物施加平均的荷重時，在行進方向之同一導軌2上，具有複數個線型馬達圈線部(可動子)8以及滑塊4、上基板24，進行同步運轉，因荷重和發生推力的關係產生不足的情形，就能進行欲對上部的運送物施加平均的荷重時之對應。此種的構造在公知例(第52圖)無法實現。

再者，第24圖、第27圖、第28圖、第29圖、第30圖的線型馬達線圈部(可動子)8和上基板24，實際在圖面上隱藏，但表現本發明之特徵的關係上圖示。

〔實施例17〕

第31圖是有關本發明之實施例17的滑動台之縱剖面圖。第32圖是有關本發明之實施例17的滑動台之3面圖。

於第31圖及第32圖中，35為製罐架台，40為螺栓固定式位準調整螺栓，39為定盤軌，4為滑塊，6s為橫面空氣噴出部，6u為下部面空氣噴出部，7為線型馬達磁石部(固定部)，8為線型馬達線圈部(可動部)，9為直線比例尺部，26為電纜支架。定盤軌39的材料，是尺寸變化少、接觸時不會發生返回的黑花崗石或陶瓷材、碳纖維等，一般驅動部的構造與實施例1同樣。

實施例17(第31圖、第32圖)的定盤軌39，係在定盤之上方的兩側面分別一體化組合實施例1(第1圖)所示的導軌的構造，定盤軌之上方的兩側面成為引導面。 定盤軌39是對行進方向以直角的斷面觀看形成羅馬字的「I」字形之形狀，由於增加兩側面的寬度方向與上下方向的厚度，因此縱使是10m等級的長條物依然能將兩側面之引導面間的平行度以5μm左右的精度進行研磨加工。

而且與實施例1(第1圖)同樣地，在定盤軌39的上部面中央部分安裝線型馬達磁石部7(第33圖)。或者，與實施例2(第2圖、第3圖)同樣地，在定盤軌39的上部面中央部分具有設置線型馬達磁石部7的溝槽，可安裝線型馬達磁石部7(第34圖)。

滑塊4與實施例1(第1圖)和實施例2(第2圖、第3圖)同樣地，對行進方向而言，以直角的斷面觀看形成倒U字形，在該倒U字形的開口內具備線型馬達線圈部8(第33圖、第34圖)。

又，在滑塊4與實施例1相同在側壁保留補強肋6r的部分，來加工開口部6k的話，縱使增加了因電磁吸引力而朝外打開側壁的力，依然可獲得因補強肋6r而抑制側壁變形(如第53圖的變形)的效果。

滑塊4的橫幅比定盤軌39之引導部的橫幅寬，將橫滑塊4a以螺栓分別螺固在兩側面的下部，緊密配置在定盤軌39的上方。針對第31圖的滑塊4與橫滑塊一體，在第33圖與第34圖中，以另一體來構成安裝橫滑塊4a。

滑塊4係利用從下部面空氣噴出部6u(第31圖、第32圖、第34圖)噴出空氣，與線型馬達磁石部7和線型 馬達線圈部8的電磁吸引的平衡而移行，以圍繞定盤軌39之上側兩側面的形式，從橫滑塊4a的橫面空氣噴出部6s(第31圖、第32圖、第34圖)邊噴出空氣邊移行的構造。

又，藉由從橫滑塊4a之橫面空氣噴出部6s噴出的空氣，使力施加於將定盤軌39的上側兩側面從兩側往內側壓線的方向。由圖(第31圖、第33圖、第34圖)即可明白，定盤軌具有足夠的厚度，由於花崗石等對壓縮力而言變形少，因此上側兩側面的引導面具有幾乎不變形的效果。

此如上述成為可將約束滑塊之橫向運動的導件構成在定盤的上側兩側面。在第52的習知技術中，與本發明同樣地，雖然往內側噴出橫出空氣，但由於U字形的導軌具有朝內側變形的問題(問題5)，因此想法本質上與本發明相異。

實施例39(第22圖、第24圖)的定盤軌39，係一體化組合實施例1的定盤1與導軌2的構造，在定盤34的下部面配置位準調整螺栓40與在側面配置位置限制螺栓37，變得特別長，比較實施例17與公知例(第52圖)的話，因為公知例(第52圖)之呈U字形的導軌部的構造之情形，將此設置在裝置等的情形下導軌就那樣使用加工精度，所以只能儘量製作到1m等線的長度，其設置場所也只能使用設置在上部面平面度為10μm以下的石定盤等之上(固定在平面度不佳的面的話，本體彎曲成 為不能使用物品的狀態。因而，與液晶用途相比，限定在小行程之半導體製造裝置的用途)。

對此，因為本發明如詳細圖的第43圖，實施例17的定盤與導軌形成一體型，對行進方向以直角的斷面觀看形成「I」字形的構造的定盤軌39，所以本體的剛性也很強，由於在下部配置螺栓固定式位準調整螺栓40與位準調整螺栓36、在側面使用固定螺釘的位置限制螺栓37a，因此對因自重及負荷荷重的縱向的彎曲等而言，為高剛性。進而，利用接著固定在定盤軌39的母螺紋套筒43(第42圖)來推拉調整設置在下部的公螺紋的螺栓固定式位準調整螺栓40，在決定高度的時候，利用固定螺栓42(第42圖)固定至機材，藉此，縱使下部面不是呈現平面度的石定盤等、未呈現精度之製罐架台35等的情形下，依然能設置滑動台，移行的真直度也可調整到3μm~10μm左右。

同樣地，橫向的精度也以定盤軌39之下部的位置限制螺栓37a來調整，可將移動的精度調整到3μm~10μm左右。

又，與第23圖所說明的同樣地，可在第31圖至第34圖的線型馬達線圈部的上部面部分(與磁石面相反方向)隔著冷卻板安裝在滑塊。在冷卻板開孔，水冷或空冷也就很容易實現。

藉由以上，縱使成為基準的下部，製罐架台等之精度不佳的情形下，10m以上的長度者依然能進行高精度的運 送定位。

再者，承載在滑塊4的負荷荷重太大，只用螺栓固定式調整螺栓40(第31圖)，無法支撐的情形下，在製罐架台35安裝位準調整螺栓36(第33圖、第34圖)，將定盤軌的下部向上推，就能分擔施加於螺栓固定式位準調整螺栓40的荷重，還能增加負荷荷重。

而且，實施例17(第31圖)，相對於在公知例(第52圖)為驅動動力發生位置的線型馬達磁石部7與線型馬達線圈部8之間和滑塊4的移行引導面產生偏移距離，而使驅動動力發生位置的線型馬達磁石部7與線型馬達線圈部8之間和滑塊4的移行引導面一致，因為偏移距離幾乎為零(第31圖、第33圖、第34圖)，所以不會發明俯仰方向扭力，加減速時的俯仰誤差變少，就能更快進行加減速，藉此就能高精度、高速運送。

在橫滑塊4a(第33圖、第34圖)的上方，在面向定盤軌39(第35圖)之面導面的橫滑塊4a的部位，製造缺口空間，就能安裝帶式的直線比例尺9a。

在此如側面圖的第35圖所示，在定盤軌39的引導面上部面安裝直線比例尺部的帶式比例尺9aS，在滑塊4a之側面中央部的缺口部，以頭安裝零件來安裝直線比例尺的頭9aH。

由於直線比例尺部的頭9aH與滑塊4a之上部面的高度比直線比例尺9的情形短，因此具有俯仰方向的測定精度提高(阿貝的原理)的效果(第33圖、第34圖)。

又，實施例17，由於也能進行如下的應用，因此能充分應用於進行大型化之FPD用或太陽能電池面板用的製造、檢查裝置，進行滑動台的標準化，也可達成降低成本。

(1)如第36圖，將本實施例17的滑動台複數台平行地排列在定盤1上，在上部設置工件吸附基板38，藉此就能進行大型FPD工件的運送。

(2)如第37圖，將本實施例17的滑動台複數台平行地排列在製罐架台35上，進行位準調整，藉此在上部設置工件吸附基板38，藉此就能進行大型FPD工件和太陽能電池面板的運送。此種的構造在公知例(第52圖)無法實現。

在本發明中，因為能利用位置限制螺栓與位準調整螺栓來修正定盤軌的應變，提昇滑塊的移行精度，所以能減低滑塊間之移行的誤差，讓各線型馬達正常動作。

(3)如第38圖，將本實施例16的滑動台，2式平行地排列在定盤1上的兩端，在上部橫向或向下(第44圖)設置前實施例16的滑動台，藉此就能構成對應大型FPD工件之高架(gantry)構造的滑動台。

(4)如第39圖，將本實施例17的滑動台，2式平行地排列在製罐架台35上的兩端，在上部橫向或向下(第44圖)設置前實施例16的滑動台，藉此就能構成對應大型FPD工件之高架(gantry)構造的滑動台。此種的構造在公知例(第52圖)無法實現。

(5)依第40圖，在上記(4)的第39圖的上部，設置複數個對應橫向或向下(第44圖)設置同一本實施例26的滑動台的大型FPD工件的高架構造的滑塊之可動的滑塊4(在第40圖中，表示上基板24)，就能同時進行多項工作。

(6)如第41圖，本實施例17的滑動台的定盤軌39為橫向，其中央以支柱41來支撐，滑塊4為橫向，設置在兩側，哪一個滑塊4都能獨立動作，縱使是一根定盤軌39也能兩面使用。又，在如上述(5)的複數個滑塊之情形下，可配置其兩倍數的滑塊4。

(7)與上述實施例16之(6)同樣地，按照第30圖，因上部的荷重和發生推力的關係產生不足的情形等，對上部的運送物施加平均的荷重時，在行進方向之同一導軌2上，具有複數個線型馬達圈線部(可動子)8以及滑塊4、上基板24，進行同步運轉，因荷重和發生推力的關係產生不足的情形，就能進行欲對上部的運送物施加平均的荷重時之對應。此種的構造在公知例(第52圖)無法實現。

再者，第32圖、第38圖、第39圖、第40圖的線型馬達線圈部(可動子)8，實際在圖面上隱藏，但表現本發明之特徵的關係上圖示。

〈定盤軌的上下方向調整機構〉

第42圖是有關形成能於上下方向調整定盤軌的本發 明之實施例17的滑動台之第31圖的A部的放大詳細圖，(a)是表示使滑塊上昇的中途，(b)是表示使其上昇到最大的狀態，(c)是表示使其固定的狀態。

於圖中，35是製罐架台，39是定盤軌，40是螺栓固定式位準調整螺栓，42是固定螺栓，43是連接固定在定盤軌39的母螺紋套筒，44是螺孔。在定盤軌39的端部下端的凸緣部連接固定著母螺紋套筒43。又，在製罐架台35之上設置定盤軌39之情形的母螺紋套筒43之位置在製罐架台35上的部分，形成有螺孔44。於是，以讓螺栓固定式位準調整螺栓40螺合於母螺紋套筒43的狀態，將定盤軌39設置在製罐架台35之上，使固定螺栓42貫通至螺栓固定式位準調整螺栓40之中，與製罐架台35的螺孔44定位之後，使固定螺栓42立設於螺孔44。

〈定盤軌的上下方向調整操作〉

其次，有關調整此種狀態之定盤軌39的上下方向的高度之操作，使用第42圖做說明。在定盤軌39的端部下端的凸緣部連接固定著母螺紋套筒43。

首先，在尚未調整定盤軌39之高度的狀態的圖(a)中，使螺栓固定式位準調整螺栓40利用扳手正轉或反轉，將定盤軌39的高度調整到所希望的高度。圖(b)是表示將定盤軌39調整到最高的情形。調整到預定高度的話，將固定螺栓42埋入到螺栓固定式位準調整螺栓40及螺孔44，固定螺栓42是螺固螺栓固定式位準調整螺栓 40，讓螺栓固定式位準調整螺栓40固定。

藉此完成定盤軌39的高度調整操作。

〈定盤軌的橫向調整機構與負載分享(load-share)機構〉

第43圖係除了第42圖說明的上下方向調整機構(40、42)之外，具備形成亦可於橫向(在圖的左右)調整定盤軌的橫向調整機構。橫向調整機構具體上是在導軌安裝使用固定螺釘的位置限制螺栓37a，利用位置限制螺栓37a來推壓導軌矯正導件的應變(參照第46圖)。

除此之外，只用螺栓固定式位準調整螺栓40來負擔定盤軌的荷重，將第22圖所用的位準調整螺栓36應用於製罐架台35，也讓位準調整螺栓36分擔定盤軌的荷重(第33、34、43圖)。

第45圖是作為能筆直地強制利用本發明之縱向的真直度之說明用所示的側面圖，將定盤軌39之彎曲的狀態(圖a)，利用螺栓固定式位準調整螺栓40(40C、40S)，在圖中，調整中央的螺栓固定式位準調整螺栓40C使定盤軌39上昇，調整兩端的螺栓固定式位準調整螺栓40S使定盤軌39下降，最後就能筆直地(圖b)強制縱向的真直度。

又，第46圖是作為能筆直地強制利用本發明之橫向的真直度之說明用所示的俯視圖，將定盤軌39之彎曲的狀態(圖a)，利用位置限制螺栓37a，如圖地進行調 整，使定盤軌39移位，最後就能筆直地(圖b)強制橫向的真直度。

1‧‧‧定盤

1a‧‧‧長溝

2‧‧‧導軌

3‧‧‧空氣墊

4‧‧‧滑塊

4s‧‧‧滑塊側壁

5‧‧‧無鐵心線型馬達(coreless Linear Motor)

6‧‧‧空氣管

6k‧‧‧開口部

6r‧‧‧補強肋

6s‧‧‧橫面空氣噴出部

6u‧‧‧下部面空氣噴出部

7‧‧‧線型馬達磁石部(固定部)

7a‧‧‧磁鐵(magnet)

8‧‧‧線型馬達線圈部(可動部)

9‧‧‧直線比例尺部

9B‧‧‧安裝基板

9H‧‧‧直線比例尺頭部

9S‧‧‧直線比例尺(刻度部)

10‧‧‧連結基板

11‧‧‧冷卻媒體用孔(水冷或空冷)

12‧‧‧Y軸導軌

13‧‧‧Y軸滑塊

14‧‧‧Y軸線型馬達磁石部(固定部)

15‧‧‧Y軸線型馬達線圈部(可動部)

16‧‧‧Y軸直線比例尺

17‧‧‧X軸導軌

18‧‧‧X軸滑塊

19‧‧‧X軸線型馬達磁石部(固定部)

20‧‧‧X軸線型馬達線圈部(可動部)

21‧‧‧X軸直線比例尺

22‧‧‧玻璃製直線比例尺的安裝基板

22H‧‧‧安裝基板安裝構件

23‧‧‧空間基板

24‧‧‧上基板

25‧‧‧限制感測器

26‧‧‧電纜支架

27‧‧‧平面二次直線比例尺

28‧‧‧平面二維直線比例尺玻璃

29‧‧‧平面二維直線比例尺頭

30‧‧‧平面二維直線比例尺29的比例尺頭

31‧‧‧固定螺釘

32‧‧‧接觸導軌

33‧‧‧接觸滑塊

34‧‧‧定盤軌

35‧‧‧製罐架台

36‧‧‧位準調整螺栓

37、37a‧‧‧位置限制螺栓

38‧‧‧工件吸附基板

39‧‧‧定盤軌

40‧‧‧螺栓固定式位準調整螺栓

41‧‧‧支柱

42‧‧‧固定螺栓

43‧‧‧母螺紋套筒(接著固定在39)

44‧‧‧螺孔

81‧‧‧冷卻板

第1圖是有關本發明之實施例1的滑動台之縱剖面圖。

第2圖是於第3圖之B-B剖面端視方向觀看有關實施例2之滑動台的橫剖面的圖。

第3圖是於第2圖之A-A剖面端視方向觀看有關實施例2之滑動台的縱剖面的圖。

第4圖是說明有關本發明之實施例3的滑塊的圖，第4圖(a)是其概念立體圖，(b)是為了說明滑塊之補強肋，將滑塊上下顛倒的立體圖。

第5圖是第4圖(a)的滑塊圖之C-C端視剖面圖。

第6圖是有關實施例4的滑動台之剖面圖。

第7圖是有關實施例5的滑動台之剖面圖。

第8圖是有關實施例6的滑動台之剖面圖。

第9圖是有關實施例7的滑動台之剖面圖。

第10圖是說明有關實施例8的滑動台的圖，為滑動台的剖面圖。

第11圖是有關實施例8的滑塊之概念立體圖。

第12圖是第11圖滑塊之B-B剖面端視圖。

第13圖是有關實施例9的滑動台之3面圖。

第14圖是有關實施例10的滑動台之3面圖。

第15圖是有關實施例11的滑動台之縱剖面圖。

第16圖是實施例11之直線比例尺9附近的部分剖面立體圖。

第17圖是有關實施例12的滑動台之縱剖面圖。

第18圖是有關實施例13的滑動台之3面圖。

第19圖是應用於實施例13的平面XY直線比例尺的俯視圖。

第20圖是有關實施例14的平面XY直線比例尺的俯視圖。

第21圖是有關實施例15的滑動台之剖面圖。

第22圖是有關本發明之實施例16的滑動台之縱剖面圖。

第23圖是有關本發明之實施例16的滑動台之變形例(附冷卻板)的縱剖面圖。

第24圖是有關本發明之實施例16的滑動台之3面圖。

第25圖是有關本發明之實施例16的滑動台應用例(1)之縱剖面圖。

第26圖是有關本發明之實施例16的滑動台應用例(2)之縱剖面圖。

第27圖是有關本發明之實施例16的滑動台應用例(3)之縱剖面圖。

第28圖是有關本發明之實施例16的滑動台應用例(4)之縱剖面圖。

第29圖是有關本發明之實施例16的滑動台應用例(5)之縱剖面圖。

第30圖是有關本發明之實施例16的滑動台應用例(6)之俯視圖。

第31圖是有關本發明之實施例17的滑動台之縱剖面圖。

第32圖是有關本發明之實施例17的滑動台之3面圖。

第33圖是在定盤軌之上部面中央部分安裝直線馬達磁石部的實施例。

第34圖是與實施例2(第2圖、第3圖)同樣地，在定盤軌的上部面中央部具有設置直線馬達磁石部之溝的實施例。

第35圖是在定盤軌的引導面上部面安裝直線比例尺部的帶式比例尺之實施例的側視圖。

第36圖是有關本發明之實施例17的滑動台應用例(1)之縱剖面圖。

第37圖是有關本發明之實施例17的滑動台應用例(2)之縱剖面圖。

第38圖是有關本發明之實施例17的滑動台應用例(3)之縱剖面圖。

第39圖是有關本發明之實施例17的滑動台應用例(4)之縱剖面圖。

第40圖是有關本發明之實施例17的滑動台應用例 (5)之縱剖面圖。

第41圖是有關本發明之實施例17的滑動台應用例(6)之縱剖面圖。

第42圖是有關本發明之實施例17的滑動台之第31圖的A部的放大詳細圖，(a)是表示使滑塊上昇的中途，(b)是表示使其上昇到最大的狀態，(c)是表示使其固定的狀態。

第43圖是進一步在第42圖的上下方向調整機構追加定盤軌的橫向調整機構與負載分享(load-share)機構的剖面圖。

第44圖是向下設置本實施例16的滑動台，藉此構成對應大型FPD工件的高架構造的滑動台的實施例。

第45圖是能將定盤軌之彎曲的狀態，利用螺栓固定式位準調整螺栓，筆直地強制縱向之真直度的說明用的側面圖。

第46圖是能將定盤軌之彎曲的狀態，利用螺栓固定式位準調整螺栓，筆直地強制縱向之真直度的說明用的俯視圖。

第47圖是習知的重量平衡型滑動台的剖面圖，(a)是整體圖，(b)是空氣墊附近的放大圖。

第48圖是習知的空氣約束型滑動台1的剖面圖。

第49圖是習知的空氣約束型滑動台2的剖面圖。

第50圖是習知的空氣約束型滑動台3的剖面圖。

第51圖是習知的混合型滑動台的俯視圖。

第52圖是習知的混合型滑動台的剖面圖。

第53圖是習知的混合型滑動台的滑塊變形圖。

1‧‧‧定盤

4‧‧‧滑塊

6‧‧‧空氣管

7‧‧‧線型馬達磁石部

8‧‧‧線型馬達線圈部

9‧‧‧位置檢測裝置

9B‧‧‧安裝基板

9H‧‧‧頭部

9S‧‧‧比例尺

22‧‧‧安裝基板

23‧‧‧空間基板

24‧‧‧上基板

25‧‧‧限制感測器

26‧‧‧電纜支架

31‧‧‧固定螺釘

40‧‧‧螺栓固定式位準調整螺栓

Claims (14)

1. 一種滑動台，係具備：定盤、和舖設在前述定盤上的線型馬達磁石部、和在前述定盤之上隔著前述線型馬達磁石部互相平行固定的2根導軌、和設置在前述線型馬達磁石部之上方與前述2根導軌之間的空間而相對於行進方向為直角的斷面所形成U字形的滑塊、和在前述滑塊之U字形的開口內與前述線型馬達磁石部隔著空隙面對配置的線型馬達線圈部；在前述側壁設有從構成前述滑塊之前述U字形的側壁向著下部面的前述定盤直接噴出空氣以及向著橫面噴出空氣的空氣噴出部，利用從前述空氣噴出部向著下部面噴出之空氣的浮力和前述線型馬達磁石部以及前述線型馬達線圈間的電磁吸引力及重力產生平衡而浮起，且形成藉由前述馬達磁石部及前述線型馬達線圈間的驅動力而被驅動；其特徵為：把前述定盤與前述2根導軌予以形成為一體，且分別在前述定盤的下部面配置位準調整螺栓，在前述定盤的側面配置位置限制螺栓。
2. 如申請專利範圍第1項所記載的滑動台，其中，前述導軌相對於行進方向以直角的斷面觀看形成羅馬字的「I」字形，在前述導軌的上部面中央具有設置前述線型馬達磁石部的溝，在該溝的兩上部面，前述滑塊是自前述下部面空氣噴出部噴出空氣，且利用前述線型馬達磁石部與前述線型馬達線圈部的電磁吸引的平衡來移行，以 圍繞前述導軌上側兩側面的方式，前述滑塊自前述橫面空氣噴出部一邊噴出空氣一邊移行。
3. 如申請專利範圍第2項所記載的滑動台，其中，在前述導軌的端部下端的凸緣部固定著母螺紋套筒，前述位準調整螺栓是以螺合在該母螺紋套筒的螺栓固定式位準調整螺栓、和通過形成在該螺栓固定式位準調整栓的中心軸，穿通到貫通的貫通孔的固定螺栓所構成。
4. 一種高架型的XY方向可動滑動台，係把申請專利範圍第1項記載的滑動台，2式互相平行地排列在製罐架台上的兩端，在上部橫向設置前述滑動台。
5. 一種XY方向可動滑動台，係具備第1滑動台、與第2滑動台；該第1滑動台為一種滑動台，該滑動台具備：挖掘有相互平行之複數列個長溝的定盤、和分別舖設在前述各個長溝內的線型馬達磁石部、和在前述定盤之上隔著前述線型馬達磁石部及前述長溝互相平行固定的2根導軌、和設置在前述線型馬達磁石部及前述長溝之上方與前述2根導軌之間的空間而相對於行進方向為直角的斷面所形成U字形的滑塊、和在前述滑塊之U字形的開口內分別與前述各個線型馬達磁石部隔著空隙面對配置的線型馬達線圈部；其中，在前述側壁設有從構成前述滑塊之前述U字形的側壁向著下部面的前述定盤直接噴出空氣以及向著橫面噴出空氣的空氣噴出部，前述下部面的空氣噴出部設在前述滑 塊之各個線型馬達線圈部間，利用從前述空氣噴出部向著下部面噴出之空氣的浮力和前述線型馬達磁石部以及前述線型馬達線圈間的電磁吸引力及重力產生平衡而浮起，且形成藉由前述馬達磁石部及前述線型馬達線圈間的驅動力而被驅動；該第2滑動台係具備：定盤、和舖設在前述定盤上的線型馬達磁石部、和在前述定盤之上隔著前述線型馬達磁石部互相平行固定的2根導軌、和設置在前述線型馬達磁石部之上方與前述2根導軌之間的空間而相對於行進方向為直角的斷面所形成U字形的滑塊、和在前述滑塊之U字形的開口內與前述線型馬達磁石部隔著空隙面對配置的線型馬達線圈部；前述滑塊是利用在下方安裝前述線型馬達線圈部與構成前述滑塊的前述U字形的側壁部的金屬板所構成；其中，在前述側壁設有從構成前述滑塊之前述U字形的側壁向著下部面的前述定盤直接噴出空氣以及向著橫面噴出空氣的空氣噴出部，利用從前述空氣噴出部向著下部面噴出之空氣的浮力和前述線型馬達磁石部以及前述線型馬達線圈間的電磁吸引力及重力產生平衡而浮起，且利用前述馬達磁石部及前述線型馬達線圈間的驅動力而被驅動；以前述第1滑動台的滑塊作為前述第2滑動台的定盤，且以前述第1滑動台的滑塊之移動方向與前述第2滑動台的滑塊之移動方向為正交的方式，在前述第1滑動台之上載置前述第2滑動台並雙驅動前述第2滑動台；其特 徵為：在前述第2滑動台的定盤挖掘延伸於前述第2滑動台之滑塊的移動方向的長孔，在前述長孔內收納平面二維直線比例尺頭，將前述平面二維直線比例頭的端部固定在前述滑塊，在前述第1滑動台的定盤配置平面二維直線比例尺。
6. 如申請專利範圍第5項所記載的XY方向可動滑動台，其中，在前述第1滑動台中，形成使得利用從前述空氣噴出部向著下部面噴出之空氣的浮力和前述線型馬達磁石部以及前述線型馬達線圈間的電磁吸引力及重力所產生平衡之浮上面、與藉由前述馬達磁石部及前述線型馬達線圈間的驅動力的驅動面一致。
7. 如申請專利範圍第5項所記載的XY方向可動滑動台，其中，在前述第1滑動台中，以前述滑塊的行進方向前端側及後端側，將構成前述U字形的側壁間加以連結。
8. 如申請專利範圍第5項所記載的XY方向可動滑動台，其中，在前述第1滑動台中，在構成前述U字形之側壁的前述滑塊的行進方向於複數處設置前述空氣噴出部。
9. 如申請專利範圍第5項所記載的XY方向可動滑動台，其中，在前述第1滑動台中，在與構成前述U字形之側壁 的前述滑塊的行進方向呈直角的方向於複數處設置前述空氣噴出部。
10. 如申請專利範圍第5項所記載的XY方向可動滑動台，其中，前述長溝的複數排為兩排或三排。
11. 如申請專利範圍第5項所記載的XY方向可動滑動台，其中，在前述金屬板具備冷卻媒體用孔。
12. 如申請專利範圍第5項所記載的XY方向可動滑動台，其中，將前述平面二維直線比例尺頭配置在兩個正方形的對角位置，且將前述平面二維直線比例尺，複數片平面狀地配置在前述第1滑動台的定盤。
13. 如申請專利範圍第5項所記載的XY方向可動滑動台，其中，在前述第1滑動台中，在前述滑塊與前述兩列的導軌之間以及前述滑塊與前述定盤之間，分別將低摩擦係數且堅固材料的物品張貼在前述前滑動側、前述導軌側和前述定盤側，前述低摩擦係數之材質物品可以彼此接觸。
14. 如申請專利範圍第13項所記載的XY方向可動滑動台，其中，前述低摩擦係數之材質物品為碳纖維、陶瓷、石英、瑪瑙之任一種。