TWI445113B - A substrate detection mechanism and a substrate storage container - Google Patents

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TWI445113B
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Noboru Hayakawa
Seiji Okabe
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Description

基板檢測機構及基板收容容器
本發明是關於在以支撐構件支撐用以製造以液晶顯示裝置(LCD)為代表之平面顯示器(FPD)之玻璃基板等之基板的狀態下所收容之容器中，檢測出其中有無基板之基板檢測機構及具備有該基板檢測機構之基板收容容器。
在製造以液晶顯示器(LCD)為代表之平面顯示器(FPD)的過程中，使用多數具備有在真空下對基板施予蝕刻、灰化、成膜等之特定處理之真空處理裝置，所謂的多腔室型之真空處理系統。
如此之真空處理系統，具有設置有搬運基板之搬運室，和設置在該周圍之多數製程腔室，藉由搬運室內之搬運臂，被處理基板被搬入至各製程腔室內，並且處理完之基板自各真空處理裝置之製程腔室被搬出。然後，搬運室連接有負載室，於大氣側之基板搬入搬出時，能使製程腔室及搬運室維持真空狀態，處理多數基板。如此之多腔室型之處理系統例如揭示於專利文獻1。
於如此之處理系統中，搬運室中，確認於在搬運臂上正常支撐玻璃基板之後，求出玻璃基板搬運至製程腔室，因此安裝有檢測在搬運室有無玻璃基板。作為該種基板檢測技術是如專利文獻2或專利文獻3所示般，在基板之上方設置光感測器，接收自光感測器射出光束時之反射光而 檢測出有無基板。
〔專利文獻〕日本特開平11-340208
〔專利文獻〕日本特開平7-183361號公報
〔專利文獻3〕日本特開平10-64971號公報
於將如此技術適用於搬運室之時，雖然在搬運室之天井部安裝光感測器，但是通常為了維修搬運室之天井部為開啟之構造，難以執行安定之檢測，有光感測器之位置精度低之虞。
另外，雖然在搬運室中，在對應於玻璃基板之四角落的位置設置光感測器，與有無玻璃基板之同時檢測出玻璃基板有無欠缺或支撐狀態，但是被處理之基板之厚度並非一定，因隨著基板厚度之不同，在搬運室內支撐玻璃基板之時的基板之撓曲不同，故自光感測器所射出之光由玻璃基板反射之時，該反射光之方向變化，產生無法正常檢測之情形。
本發明是鑑於如此之情事所創作出者，其目的為提供可以以安定高精度檢測出有無被支撐構件所支撐之基板的基板檢測機構。再者，其目的為提供即使被支撐構件所支撐之基板之撓曲量變化，亦可以確實容易檢測出有無基板之基板檢測機構。並且，其目的為提供具備有如此基板檢測機構之基板收容容器。
為了解決上述課題，本發明之第1觀點是提供一種基板檢測機構，其檢測出在以支撐構件支撐基板之狀態下所收容之容器中有無基板，該基板檢測機構之特徵為：具有以可因應基板之撓曲量而自由調節角度之方式被安裝在上述容器之底部的光感測器，藉由接收自該光感測器所射出之光的反射光，檢測出有無基板。
本發明之第2觀點是提供一種基板檢測機構，其檢測出在以支撐構件支撐基板之狀態下所收容之容器中有無基板，該基板檢測機構之特徵為：具備：被設置成可自由調節角度，向容器內射出光，且接收反射光之光感測器，和使上述光感測器之角度予以變化之致動器，因應被上述支撐構件所支撐之基板的撓曲量，藉由上述致動器使上述光感測器之角度變化。
本發明之第3觀點是提供一種基板檢測機構，其檢測出在以支撐構件支撐基板之狀態下所收容之容器中有無基板，該基板檢測機構之特徵為：具備：被設置成可自由調節角度，向容器內射出光，且接收反射光之光感測器；使上述光感測器之角度變化的致動器；和因應被上述支撐構件所支撐之基板的撓曲量而控制藉由上述致動器所進行之上述光感測器之角度的控制部。
在上述第3觀點中，上述控制部可以事先記憶有基板厚度和撓曲量之關係，根據上述關係控制成上述光感測器 成為對應於被上述支撐構件所支撐之基板的角度。
在上述第2、第3觀點中，上述光感測器可以被設置於上述容器之底部。
在上述第1至3之觀點中，基板可以構成矩形狀，上述光感測器設置在對應於上述基板之四角落的位置。再者，上述支撐構件即使為基板搬運用之基板支撐臂亦可。
本發明之第4觀點是提供一種基板收容容器，具備：收容基板之容器本體；在上述容器本體內支撐基板之支撐構件；和檢測出有無被上述支撐構件所支撐支基板的基板檢測機構，該基板收容容器之特徵為：上述基板檢測機構具有以可因應基板之撓曲量而自由調節角度之方式被安裝在上述容器之底部的光感測器，藉由接收自該光感測器所射出之光的反射光，檢測出有無基板。
本發明之第5觀點是提供一種基板收容容器，具備：收容基板之容器本體；在上述容器本體內支撐基板之支撐構件；和檢測出有無被上述支撐構件所支撐支基板的基板檢測機構，該基板收容容器之特徵為：上述基板檢測機構具備：被安裝成可自由調節角度，向容器內射出光，且接收反射光之光感測器，和使上述光感測器之角度予以變化之致動器，因應被上述支撐構件所支撐之基板的撓曲量，藉由上述致動器使上述光感測器之角度變化。
本發明之第6觀點是提供一種基板收容容器，具備：收容基板之容器本體；在上述容器本體內支撐基板之支撐構件；和檢測出有無被上述支撐構件所支撐支基板的基板 檢測機構，該基板收容容器之特徵為：上述基板檢測機構具備：被安裝成可自由調節角度，向容器內射出光，且接收反射光之光感測器；使上述光感測器之角度變化的致動器；和因應被上述支撐構件所支撐之基板的撓曲量而控制藉由上述致動器所進行之上述光感測器之角度的控制部。
上述第6觀點中，上述控制部是可以事先記憶有基板厚度和撓曲量之關係，根據上述關係控制成上述光感測器成為對應於被上述支撐構件所支撐之基板的角度。
上述第5、6觀點中，上述光感測器可以設為被設置於上述容器之底部的構成。
在上述第4至6之觀點中，基板可以構成矩形狀，上述光感測器設置在對應於上述基板之四角落的位置。再者，可以又具備有：被設置於上述容器本體，連接有對基板施予特定處理之處理容器的連接部；和被設置在上述容器本體內，將基板搬運至上述處理容器之搬運機構，上述支撐構件為上述搬運機構之基板支撐臂。
若藉由本發明，因在以支撐構件支撐基板之狀態下所收容之容器之底部安裝光感測器而構成基板檢測機構，故即使於在容器之上部設置蓋體之時，不需考慮光感測器隨著蓋體之開關而產生位置偏移等，可以執行安定檢測。
再者，因具備有將光射出至容器內，接收反射光之光感測器，和使上述光感測器之角度變化之致動器，因應被 支撐構件支撐之基板的撓曲量，藉由上述致動器使上述光感測器之角度予以變化，故即使處理撓曲不同之基板時，由於因應該撓曲量之變化藉由以致動器變更光感測器之角度的簡易操作，可以接收來自基板之反射光，故可以確實並且容易檢測有無基板。
 〔用以發明之最佳形態〕
以下，一面參照附件圖面，一面針對本發明之最佳形態予以說明。在此，以為本發明之基板處理裝置之一實施形態，搭載有對FPD用之玻璃基板G執行電漿蝕刻之電漿蝕刻裝置的多腔室型之電漿蝕刻系統為例予以說明。在此，FPD是表示液晶顯示器(LCD)、電激發光(Electro Luminescence：EL)顯示器、電漿顯示器面板(PDP)等。
第1圖是概略性表示多腔室型之電漿蝕刻系統之斜視圖，第2圖為概略性表示該內部之水平剖面圖。
該電漿蝕刻系統1在該中央部連貫設置有搬運室20和負載鎖定室30。在搬運室20之周圍連接有執行電漿蝕刻之3個處理室10。
在搬運室20和負載鎖定室30之間、搬運室20和各處理室10之間，及連通負載鎖定室30和外側之大氣環境之開口部，各插入有構成以氣密方式密封該些之間並能夠開關之閘閥22。
在負載鎖定室30之外側，設置有兩個匣盒指示器 41，在該上載置有各構成矩形狀之基板G之玻璃基板G之匣盒40。該些匣盒40是該一方可以收容未處理基板，另一方可以收容處理完之基板。該些匣盒40成為能夠藉由升降機構40升降。
在該些兩個匣盒40之間，於支撐台44上設置有搬運機構43，該搬運機構43具備有被設置成上下兩段之摘取器45、46，以及支撐成能與該些一體性進出退避及旋轉之基座47。
搬運室20是與處理室10相同同樣保持於特定之減壓環境，其中具有所設置之搬運裝置50(參照第2圖)。然後，藉由該搬運裝置50，在負載鎖定室30及3個處理室10之間搬運玻璃基板G。針對搬運裝置50於後說明。
負載鎖定室30是與執行電漿蝕刻之各處理室10及搬運室20相同能夠保持特定減壓環境。再者，負載鎖定室30為用以在大氣環境下之匣盒40和減壓環境之處理室10之間執行玻璃基板G之接收，在重複大氣環境和減壓環境之關係上，極力將該內容積構成小。並且，負載鎖定室30是上下兩段設置基板收容部31(在第2圖中僅圖式上段)，在各基板收容部31內設置有執行用以支撐玻璃基板G之緩衝器和玻璃基板G之定位的定位器33。
如第2圖所示般，電漿蝕刻系統1之各構成部為藉由為具備有微處理器之製程控制器60而被控制之構成。在該製程控制器60連接有工程管理者用以管理電漿蝕刻系統1之指令之輸入操作等之鍵盤，或由將電漿蝕刻系統1 之動作狀況予以可視化而顯示之顯示器等所構成之使用者介面61。再者，製程控制器60連接有用以製程控制器60之控制實現在電漿蝕刻系統1所實行之各種處理之控制程式(軟體)或儲存記錄處理條件等之處理程式之記憶部62。然後，因應所需，以來自使用者介面61之指示自記憶部叫出任意處理程式而使製程控制器60實行，在製程控制器60之控制下，執行電漿蝕刻系統1中之所欲處理。上述控制程式或處理條件資料等之處理程式可以利用能夠電腦讀取之記憶媒體，例如利用儲存於CD-ROM、硬碟、軟碟、快閃記憶體等之狀態者。
接著，針對搬運室20予以詳細說明。第3圖為搬運室20之垂直剖面圖，第4圖為該水平剖面圖。該搬運室20具有搬運室本體102。該搬運室本體102被成形由表面被耐酸鋁處理(陽極氧化處理)之鋁所構成之有底角筒形狀，並且上部開口。搬運是本體102之上部之開口藉由蓋體103被關閉，依此，搬運室本體102內部成為密閉空間。蓋體103於搬運室本體102內之搬運裝置50等之維修時被打開。蓋體103設置有用以監視搬運室本體102之內部狀況之多數窗部104。
在搬運室本體102之4個側壁各設置有3個處理室10和能夠連通於負載鎖定室30之開口部121，該開口部121是藉由上述閘閥22能夠開關。
再者，在搬運室本體102之底壁102a，於被設置在搬運室本體102內之上述搬運裝置50在於主位置時，於對 應於被搬運裝置50保持之玻璃基板G之四角落的位置，設置有4個窗部105。在窗部105嵌入有石英等之透光性構件105a，在該透光性構件105a之外側部份，藉由托架106及安裝構件107光感測器被安裝成角度調節自如，自光感測器108朝向玻璃基板G之角落部射出光。然後，於搬運裝置510在正常狀態下支撐玻璃基板G之時，自4個光感測器108之發光部所射出之光藉由玻璃基板反射，藉由受光部檢測出該反射光。因此，判斷出於4個光感測器108檢測出反射光時，玻璃基板G在正常狀態下被支撐。相反，為於至少1個光感測器108不檢測出反射光時，於玻璃基板G不存在時，在正常狀態下不被支撐時，及有欠缺玻璃基板G之時中之任一者。並且，在蓋體103之背面側，設置有用以使來自光感測器108之光予以亂反射之反射板125，於於玻璃基板G不存在於搬運室本體102內之時等，來自光感測器108之光自基板存在預定位置又前進時，極力減少被射入至受光部之反射光。
參照第5圖之放大圖說明光感測器108之安裝狀態。安裝構件107為彈簧材，具有被固定於托架106之底部的固定器107a，和自固定部107a彎曲至上方，在前端部安裝光感測器108之安裝部107b。在窗部1058之托架106和相反側部份設置有致動器109，自致動器109延伸之變位棒110接觸於光感測器108。然後，記由致動器109使變位棒110突出，使光感測器108變位，依此光感測器108之角度變化。再者，當藉由致動器109使變位棒110 退入時，光感測器108藉由由彈簧材所構成之安裝構件107之彈簧例追隨著變位棒而變位。依此，可以配合玻璃基板G之撓曲而使光感測器108之角度變化。並且，光感測器108之角度調整因必須微細調整，故當作致動器109則以壓電致動器為佳。當然亦可適用使用汽缸機構或馬達者。
藉由致動器109之光感測器108之控制如第3圖所示般，藉由控制部130執行。控制部130是連接於製程控制器60，藉由製程控制器60之指令，執行光感測器108之角度控制。此時，於玻璃基板G之大小為相同時，因撓曲量由於玻璃基板G之厚度幾乎僅由一種含義性來決定，故事先使玻璃基板G之厚度和撓曲量之關係記憶於記憶部131，自記憶於記憶部131之資訊，選擇對應於實際支撐之玻璃基板G之厚度的撓曲量，根據該資訊自動性控制光感測器108之角度。
再者，雖然若干控制系統為複雜，但是因應玻璃基板G之撓曲量亦可自動調諧光感測器108之角度。
搬運裝置50是被安裝在設置在搬運室本體102之下方的無圖式之旋轉機構之軸51，具有被設置成可旋轉之基座構件52、可對基座構作52直線性滑動之滑動構件53、和設置成能對滑動構件53在與滑動構件53之滑動方向相同方向滑動之基板支撐臂54。即是，搬運裝置50具有直動臂機構。滑動構件53對基座構件52之滑動是藉由滑動機構56而執行，滑動構件對基板支撐臂54之滑動是藉由 滑動機構57而執行。滑動機構56具有沿著滑動構件53之長邊方向而設置之導軌56a，和被設置在基座構件52，能夠嵌合於滑動於導軌56a之導軌構件56b。再者，滑動機構57具有沿著滑動構件53之長邊方向而設置之導軌57a，和安裝於基板支撐臂54，嵌合成能夠滑動於導軌57a之引導構件57b。然後，滑動機構56、57是藉由無圖式之驅動馬達和皮帶機構等，使滑動構件53及基板支撐臂54滑動。
接著，針對如此構成之電漿蝕刻系統1中之處理動作予以說明。首先，使搬運機構43之兩個摘取器45、46中之一者進退驅動，自收容有未處理基板之一方的匣盒將玻璃基板G搬入致負載鎖定室30。
於摘取器45、46退避後，關閉負載鎖定室30之大氣側之閘閥22。之後，排氣負載鎖定室30內，使內部減壓致特定真空度。於完成抽真空後，藉由定位器33推壓基板，執行玻璃基板G之定位。
於如此定位之後，打開搬運室20和負載室30之間之閘閥22，接收藉由搬運室本體102內之搬運裝置50被收容至負載鎖定室30之玻璃基板G。具體而言，搬運裝置50之基板支撐臂54成為支撐玻璃基板G之狀態。
然後，搬運裝置50是在搬運室本體102內成為第2圖所示之主位置，在該狀態下，藉由被設置在搬運室本體102之底壁之光感測器108，檢測玻璃基板是否存在於基板支撐臂54上，及玻璃基板G之位置偏移或是否有無欠 缺。
在搬運室本體102中，執行如此之玻璃基板G之檢測，在玻璃基板G為正常之狀態下，若檢測出被支撐臂54支撐之情形，搬運機構50則將玻璃基板G搬運至任一處理室10，其中執行玻璃基板G之蝕刻處理。另外，於玻璃基板G之狀態有異常時，停止處理。
於蝕刻處理後，藉由搬運機構50之基板支撐臂54，接收蝕刻處理後之玻璃基板G，搬運至負載鎖定室30。在處理完之玻璃基板G被搬入至負載鎖定室30之狀態下，使負載鎖定室30回至大氣狀態，藉由摘取器45、46中之任一者將玻璃基板從負載鎖定室30搬運至玻璃基板。然後，僅對匣盒40內之晶圓數量重複以上之順序，完成處理。
在以上之處理中，對於檢測在搬運室20中有無基板G，是如上述般，若藉由以往之技術，雖然在搬運室20之天井部安裝光感測器，但是搬運室20具有以蓋體103開關腔室102之上部開口之構造，不得不在開關之蓋體103安裝光感測器。因此，難以執行安定之檢測，具有光感測器之位置精度變低之虞。
對此，本實施形態中，因在搬運本體102之底部設置有光感測器108，故隨著蓋體之開關產生光感測器之位置偏移，可以執行安定之檢測。
另外，因玻璃基板G一邊為1m以上之大型，故被搬運裝置50之基板支撐臂54所支撐之狀態是如第6圖所示 般，產生撓曲。然後，該撓曲量於玻璃基板G之大小相同時藉由厚度產生變化，當厚度變薄時，撓曲變大，從第6圖之位置移行至B之位置。以往因光感測器固定被設置，故於玻璃基板G位於A之位置時，以接收到反射光之方式，定位光感測器時，對位於B位置之玻璃基板不接收反射光，產生無法檢測玻璃基板G之事態。然後，當對應於如此之事態時，必須依處理之玻璃基板之厚度不同調整光感測器之安裝位置或角度，極為繁雜。
對此，本發明即使於處理撓曲不同之玻璃基板G時，藉由因應該撓曲量之變化藉由致動器109變更光感測器108之角度之簡易操作，可以接收來自玻璃基板G之反射光，故可以確實並且檢測有無玻璃基板G等。
此時，上述般之撓曲量，因於玻璃基板G之大小相同時，由於玻璃基板G之厚度幾乎僅由一種含義性來決定，故事先使玻璃基板G之厚度和撓曲量之關係記憶於記憶部131，自記憶於記憶部131之資訊，選擇對應於實際支撐之玻璃基板G之厚度的撓曲量，根據該資訊自動性控制光感測器108之角度。
例如，第7圖所示般，於將基板支撐臂(間距710mm)插入至1300×1500(mm)之玻璃基板之短邊側時，玻璃基板端部之撓曲量是厚度0.7mm為8mm左右，厚度0.5mm則為16mm，可以正常接受反射光之光感測器之角度差為2°。因此，對每使用如此關係之基板之厚度予以表格化事先記憶於記憶部131，依此能夠對應於處理任 何基板之時。再者，玻璃基板之撓曲量因也藉由玻璃基板之種類變化，故因應玻璃基板之種類之撓曲量之關係也事先記憶於記憶部131，能夠對應於處理不同種類之玻璃基板之情形。
並且，本發明並不限定於上述實施形態，亦可作各種變形。例如上述實施形態中，雖然表示檢測出被搬運室20之基板支撐臂54上所支撐之基板的例，但是若為在基板產生撓曲之態樣下支撐之時，則並不限定於此，例如即使為單支撐基板之支撐台亦可。因此，即使在負載鎖定室30中，若基板支撐形態為產生撓曲者，亦可適用。再者，本實施形態中雖然表示電漿上述蝕刻系統適用本發明之時，但是若為收容基板而支撐之容器時亦可以適用。並且，上述實施形態中，雖然舉出對應於基板之四角落而設置4個光感測器108之例，但是若為1個以上即可。
再者，上述實施形態中，雖然藉由控制部130，因應基板之撓曲自動性使光感測器之角度變化，但是並不限定於此。
並且，上述實施形態中，雖然使用FPD用玻璃基板之例當作基板，但是並不限定於此若為撓曲成為問題之基板亦可適用。
〔產業上之利用可行性〕
本發明是針對具有撓曲問題之大型基板，在容器內產生撓曲之形態下支撐基板，檢測有無該基板。
1‧‧‧電漿蝕刻
10‧‧‧處理室
20‧‧‧搬運室
22‧‧‧閘閥
30‧‧‧負載鎖定室
50‧‧‧搬運裝置
54‧‧‧基板支撐臂(支撐構件)
60‧‧‧製程控制器
102‧‧‧搬運室本體
102a‧‧‧底壁
108‧‧‧光感測器
109‧‧‧致動器
130‧‧‧控制部
131‧‧‧記憶部
G‧‧‧玻璃基板
第1圖是概略性表示具備有本發明之一實施形態的搬運室之多腔室型之電漿蝕刻系統之斜視圖。
第2圖為概略性表示第1圖之電漿蝕刻系統之內部的水平剖面圖。
第3圖為表示本發明之一實施形態所涉及之搬運室之垂直面圖。
第4圖為表示本發明之一實施形態所示搬運室之水平剖面圖。
第5圖為表示搬運室中之光感測器之安裝狀態的放大圖。
第6圖為表示玻璃基板之撓曲大小不同所導致自光感測器所射出之光之反射方向偏移的圖式。
第7圖為使用本發明實際控制光感測器之角度之例的模式圖。
20‧‧‧搬運室
22‧‧‧閘閥
50‧‧‧搬運裝置
54‧‧‧基板支撐臂(支撐構件)
60‧‧‧製程控制器
102‧‧‧搬運室本體
102a‧‧‧底壁
108‧‧‧光感測器
109‧‧‧致動器
130‧‧‧控制部
131‧‧‧記憶部
G‧‧‧玻璃基板

Claims (14)

  1. 一種基板檢測機構，其檢測出在以支撐構件支撐基板之狀態下所收容之容器中有無基板，該基板檢測機構之特徵為：具有以可因應基板之撓曲量而自由調節角度之方式被安裝在上述容器之底部的光感測器，藉由接收自該光感測器所射出之光的反射光，檢測出有無基板。
  2. 一種基板檢測機構，其檢測出在以支撐構件支撐基板之狀態下所收容之容器中有無基板，該基板檢測機構之特徵為：具備：被設置成可自由調節角度，向容器內射出光，且接收反射光之光感測器，和使上述光感測器之角度予以變化之致動器，因應被上述支撐構件所支撐之基板的撓曲量，藉由上述致動器使上述光感測器之角度變化。
  3. 一種基板檢測機構，其檢測出在以支撐構件支撐基板之狀態下所收容之容器中有無基板，該基板檢測機構之特徵為：具備：被設置成可自由調節角度，向容器內射出光，且接收反射光之光感測器；使上述光感測器之角度變化的致動器；和因應被上述支撐構件所支撐之基板的撓曲量而控制藉 由上述致動器所進行之上述光感測器之角度的控制部。
  4. 如申請專利範圍第3項所記載之基板檢測機構，其中，上述控制部事先記憶有基板厚度和撓曲量之關係，根據上述關係控制成上述光感測器之角度成為對應於被上述支撐構件所支撐之基板的角度。
  5. 如申請專利範圍第2至4項中之任一項所記載之基板檢測機構，其中，上述光感測器是被設置於上述容器之底部。
  6. 如申請專利範圍第1至4項中之任一項所記載之基板檢測機構，其中，基板構成矩形狀，上述光感測器設置在對應於上述基板之四角落的位置。
  7. 如申請專利範圍第1至4項中之任一項所記載之基板檢測機構，其中，上述支撐構件為基板搬運用之基板支撐臂。
  8. 一種基板收容容器，具備：收容基板之容器本體；在上述容器本體內支撐基板之支撐構件；和檢測出有無被上述支撐構件所支撐之基板的基板檢測機構，該基板收容容器之特徵為：上述基板檢測機構具有以可因應基板之撓曲量而自由調節角度之方式被安裝在上述容器之底部的光感測器，藉由接收自該光感測器所射出之光的反射光，檢測出有無基板。
  9. 一種基板收容容器，具備： 收容基板之容器本體；在上述容器本體內支撐基板之支撐構件；和檢測出有無被上述支撐構件所支撐之基板的基板檢測機構，該基板收容容器之特徵為：上述基板檢測機構具備：被安裝成可自由調節角度，向容器內射出光，且接收反射光之光感測器，和使上述光感測器之角度予以變化之致動器，因應被上述支撐構件所支撐之基板的撓曲量，藉由上述致動器使上述光感測器之角度變化。
  10. 一種基板收容容器，具備：收容基板之容器本體；在上述容器本體內支撐基板之支撐構件；和檢測出有無被上述支撐構件所支撐支基板的基板檢測機構，該基板收容容器之特徵為：上述基板檢測機構具備：被安裝成可自由調節角度，向容器內射出光，且接收反射光之光感測器；使上述光感測器之角度變化的致動器；和因應被上述支撐構件所支撐之基板的撓曲量而控制藉由上述致動器所進行之上述光感測器之角度的控制部。
  11. 如申請專利範圍第10項所記載之基板收容容器，其中，上述控制部事先記憶有基板厚度和撓曲量之關係，根據上述關係控制成上述光感測器之角度成為對應於 被上述支撐構件所支撐之基板的角度。
  12. 如申請專利範圍第9至11項中之任一項所記載之基板收容容器，其中，上述光感測器是被設置於上述容器之底部。
  13. 如申請專利範圍第8至11項中之任一項所記載之基板收容容器，其中，基板構成矩形狀，上述光感測器設置在對應於上述基板之四角落的位置。
  14. 如申請專利範圍第8至11項中之任一項所記載之基板收容容器，其中，又具備有：被設置於上述容器本體，連接有對基板施予特定處理之處理容器的連接部；和被設置在上述容器本體內，將基板搬運至上述處理容器之搬運機構，上述支撐構件為上述搬運機構之基板支撐臂。
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