TWI433885B - 光學膜 - Google Patents
光學膜 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI433885B TWI433885B TW098100472A TW98100472A TWI433885B TW I433885 B TWI433885 B TW I433885B TW 098100472 A TW098100472 A TW 098100472A TW 98100472 A TW98100472 A TW 98100472A TW I433885 B TWI433885 B TW I433885B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- optical film
- resin
- group
- acrylate
- meth
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
- B29C55/04—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets uniaxial, e.g. oblique
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L61/00—Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L61/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/03—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor characterised by the shape of the extruded material at extrusion
- B29C48/07—Flat, e.g. panels
- B29C48/08—Flat, e.g. panels flexible, e.g. films
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/005—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor characterised by the choice of materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
- B29C55/10—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial
- B29C55/12—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C08L33/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L35/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L35/02—Homopolymers or copolymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L45/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having no unsaturated aliphatic radicals in side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic or in a heterocyclic ring system; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L71/08—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
- C08L71/10—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
- C08L71/12—Polyphenylene oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G2650/28—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type
- C08G2650/56—Polyhydroxyethers, e.g. phenoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L53/00—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
本發明係關於一種用於透明產品用之樹脂組成物,其具有優異之耐熱性及透光性、低霧度及優異光學特性,且不易損壞,及具有優異之機械強度、降低漏光現象及優異之耐久性。
本申請案所主張之優先權係分別於2008年1月8日及2008年6月23日向韓國智慧財產局所提申之韓國專利申請案號10-2008-0002348及10-2008-0058907,其揭示皆併於此作為整體參考。
近來,隨著光學技術發展,使用各種方法之顯示技術,如電漿顯示器(PDP)、液晶顯示器(LCD)及其類似者,已取代習知布朗管(braun tube)崛起而進行販售。據此,用於顯示器之聚合物材料有更高之特性要求。舉例而言,於液晶顯示器中,根據朝向薄膜化、亮度及圖像區增大之發展,廣視角、高對比、避免圖像色調因視角及圖像顯示之均勻度而改變已被視為重要問題。
因此,各種聚合物膜如偏光膜、偏光板保護膜、延遲膜、塑膠基板、導光板及其類似者已被使用,且發展出液晶顯示器的各種液晶模態,如扭曲向列型(twisted nematic,TN)、超扭曲向列(super twisted nematic,STN)、垂直配向(vertical alignment,VA)、共面轉換(in-plane
switching,IPS)液晶單元。由於該些液晶單元具有所有本身固有之液晶配向,故可確保其本身之光學異向性,且為了補償其光學異向性,而提出使用因拉伸各種聚合物而具有延遲作用之薄膜的建議。
詳細地說,由於液晶顯示器係利用液晶分子之高雙折射性質及配向性,故其雙折射度會隨著視角而變化,俾使畫像之顏色及亮度改變。因此,必須依據液晶分子之種類進行延遲補償。舉例而言,由於大部份用於垂直配向之液晶分子具有大於液晶顯示器表面平均平面折射率(in-plane refractive index)之厚度折射率,故需要一種厚度折射率小於平均平面折射率之補償膜,以發揮補償作用。
此外,光無法穿透互相垂直之兩偏光板前側,但當角度傾斜時,兩偏光板之光軸不再互相垂直,因此會發生漏光現象。為補償該現象,需要一種具有平面延遲作用之補償膜。此外,使用液晶之顯示器需要厚度延遲補償及平面延遲補償,以擴展視角。
延遲補償膜之必要條件係便於控制雙折射度。然而,膜雙折射度係由材料之基本雙折射度及膜中聚合鏈之配向所形成。聚合鏈之配向大部份可藉由外部施力來達到或由材料本身性質造成,而藉由外力使分子配向之方法有,單軸或雙軸拉伸聚合物膜。
於相關領域中,需要發展一種可滿足上述所需特性之聚合物材料,以用於顯示器中。
本發明之一目的係在提供一種用於透品產品之樹脂組成物,其具有優異之光學特性及透光性,以及低霧度,且不易損壞,於拉伸及配向製程中,不像丙烯酸類膜一樣容易損壞,其具有優異之機械強度、加工性及耐久性(如耐熱性),且降低漏光現象,及具有不同平面延遲度及厚度延遲度。
本發明提供一種透明樹脂組成物,其包括(a)(甲基)丙烯酸酯類樹脂,其包含一種以上之(甲基)丙烯酸酯類衍生物;以及(b)芳香類樹脂,具有含羥基部之鏈節及芳香性基團。
此外,本發明提供一種光學膜之製法,其包括以下步驟:製備該樹脂組成物;以及使用該樹脂組成物,形成一薄膜。該製法更可包括單軸或雙軸拉伸該薄膜之步驟。
本發明之樹脂組成物可製成光學產品,其具有優異之光學特性及透光性,以及低霧度,且不易損壞,於拉伸或配向製程中,不像丙烯酸類膜一樣容易損壞,其具有優異之機械強度、加工性、耐久性及耐熱性,且使用本發明樹脂組成物所製得之光學膜可降低漏光現象,且其具有易於控制之平面延遲度及厚度延遲度。據此,該光學產品可應用於資訊技術裝置中,例如,為達不同目的之顯示器裝置及其類似者。
本發明之樹脂組成物包括(a)(甲基)丙烯酸酯類樹脂,其包含一種以上之(甲基)丙烯酸酯類衍生物;以及(b)芳香
類樹脂,具有含羥基部之鏈節及芳香性基團。本發明之樹脂組成物具有優異之透明度,且其透光度達70%或以上,較佳係達90%或以上。
於本發明中,該(甲基)丙烯酸酯類樹脂可使膜具有厚度折射率大於平均平面折射率之延遲特性,而具有含羥基部之鏈節及芳香性基團之芳香類樹脂,可提供厚度折射率小於平均平面折射率之延遲特性。
光學膜之延遲特性係依據組成物之每一組成份、是否進行拉伸、拉伸方向、拉伸比率、拉伸方法(如單軸或雙軸拉伸)而改變。據此,於本發明中,藉由控制組成物之每一組成份及拉伸方法,即可製得具有不同延遲特性之薄膜。因此,可製得具有優異光學特性之拉伸膜。此外,藉由控制組成物之每一組成份及拉伸方法,可製得具有殘留延遲性之光學膜。舉例參考,於本說明書中,平面延遲度(Rin)及厚度延遲度(Rth)係如以下方程式1及2所定義[方程式1]Rin=(nx-ny)×d
[方程式2]Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d
於方程式1及2中,nx為膜平面折射率中之最大折射率;ny為垂直於膜平面折射率之nx方向上之折射率;nz為膜厚度折射率;以及d為膜厚度。
此外,本發明之樹脂組成物可製得具有優異機械特性
之光學膜,其不像丙烯酸類膜一樣容易損壞。此外,(a)樹脂可提供優異之光學特性,且(b)樹脂可提供與包含(a)樹脂之化合物之優異溶混性。另外,藉由具有含羥基部之鏈節及芳香性基團之芳香類樹脂,使用本發明樹脂組成物所製成之光學膜可具有優異之機械特性,包括硬度(toughness)。
由於本發明之樹脂組成物可依據(b)樹脂之含量來控制光彈性係數,且外部應力所導致之延遲值變化小,故其可用於各種目的,尤其由於其具有優異之光學特性,故可應用於製作透明產品。
本發明之樹脂組成物更可包括(c)具有環狀部之環狀類單元。(c)單元可包含於(a)樹脂中,且可為不同於(a)樹脂或(b)樹脂之化合物。(c)單元可使膜具有優異之耐熱性。
本發明之光學膜可依據(甲基)丙烯酸酯類樹脂、具有含羥基部之鏈節及芳香性基團之芳香類樹脂、及具有環狀部之環狀類單元之含量,控制樹脂組成物之混溶性。
每一樹脂之含量並無特殊限制,可基於每一組成物所扮演之角色來決定每一組成物之含量,以達到所需之平面延遲度、厚度延遲度、光學特性、機械特性、透明度、可混溶度及其類似性質。舉例而言,(a)樹脂、(b)樹脂及(c)單元之含量可選擇於約0.1至99重量百分比之範圍中。具體而言,較佳為,(a)樹脂之含量範圍為約39至約98重量百分比,(b)樹脂之含量範圍為約0.5至約60重量百分比,而(c)單元之含量範圍為約0.5至約40重量百分比。
於本發明中,化合物(包括(a)樹脂、(b)樹脂或(c)單元)
可為均聚物或共聚物,且於不悖離本發明目的之範圍內,其更可包括共單體。共聚物可為無規共聚物或嵌段共聚物。
於本發明中,應瞭解的是,(a)樹脂可包括(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸酯衍生物。具體而言,甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸十二酯、甲基丙烯酸芐酯及其類似者,但不限於此,皆為(甲基)丙烯酸類單體。尤其是,最佳是使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)。
(甲基)丙烯酸類樹脂可為(甲基)丙烯酸類衍生物之均聚物或共聚物,且可為包含另一種共單體之共聚物。
於本發明中,包含(甲基)丙烯酸酯類單元及(c)具有環狀部之環狀類單元之共聚為可使用作為(a)樹脂。若(a)樹脂包含(c)單元,則(a)樹脂可包括包含至少兩種以上(甲基)丙烯酸酯類衍生物及丙烯酸類單元之共聚物。(甲基)丙烯酸酯類單元於共聚物(包括(甲基)丙烯酸類單元及具有環狀部之環狀類單元)中之含量範圍為約50至99重量百分比,較佳為約70至約98重量百分比,而具有環狀部之環狀類單元之含量範圍為約1至50重量百分比,較佳為約2至約30重量百分比。當具有環狀之環狀類單元含量為50重量百分比以下,則可使膜霧度降低。
共聚物(包括(甲基)丙烯酸類單元及具有環狀部之環狀類單元)中具有環狀部之環狀類單元,可改善膜之耐熱性,具有環狀之環狀類單元實例將於下闡述,不過最佳是具有環狀部之環狀類單元(包含於共聚物中,並與(甲基)丙烯酸
類單元連接),其為包含馬來醯亞胺部之馬來醯亞胺類單元。馬來醯亞胺類單元可包含環狀部,其係由N-環己基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺、N-甲基馬來醯亞胺、N-丁基馬來醯亞胺及其類似物衍生而得,但不限於此,而包含由N-環己基馬來醯亞胺衍生而得之環狀部尤佳。然而,上述實例僅是提供作為本發明之說明,其不侷限本發明之範疇。
共聚物(包含(甲基)丙烯酸酯類單元及具有環狀部之環狀類單元)可使用(甲基)丙烯酸類單體及環狀類單體,如馬來醯亞胺類單體,並藉由如本體聚合法、溶液聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法及其類似方法而製得。
於本發明中,以芳香類樹脂(具有含羥基部之鏈節及芳香性基團)之數目平均分子量範圍為1,500至2,000,000g/mol較佳。以芳香類樹脂較佳係包括苯氧類樹脂。在此,苯氧類樹脂包含其中至少一氧基與苯環鍵結之結構。舉例而言,(b)芳香類樹脂可包括一種以上如式1所示之單元。(b)芳香類樹脂包括5至10,000個式1所示之單元,較佳係5至7,000個式1所示之單元,更佳係5至5,000個式1所示之單元。若(b)芳香類樹脂中包括兩種以上如下式1所示之單元,則其可能為無規、交替或嵌段式之聚合型態。
[式1]
其中,X為包含至少一苯環之二價基,且R為具有1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷。
具體而言,較佳為,X為衍自下式2至4化合物之二價基,但不限於此。
R1為直鍵、具有1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷基、或具有3至20個碳原子之亞環烷基;R2及R3各自為氫、具有1至6個碳原子之直鏈或支鏈烷基、或具有2至6個碳原子之直鏈或支鏈烯基,且n及m各自為1至5之整數。
R4為氫、具有1至6個碳原子之直鏈或支鏈烷基、或具有2至6個碳原子之直鏈或支鏈烯基,且p為1至6之整數。
[式4]
R6及R7各自為直鍵、具有1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷基、或具有3至20個碳原子之亞環烷基;R5及R8各自為氫、具有1至6個碳原子之直鏈或支鏈烷基、或具有2至6個碳原子之直鏈或支鏈烯基,且q及r各自為1至5之整數。
式2至4所示之化合物詳細舉例如下化合物,但不限於此。
(b)該芳香類樹脂包括一種以上5至10,000個苯氧類單元為最佳,苯氧類單元係以下式5表示。
[式5]
其中,R9為直鍵、具有1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷基,且R10為直鍵、具有1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷基。
較佳為,式5係由下式6表示。
該芳香類樹脂之一端可為OH基。
於本發明中,(c)單元可改善該薄膜之耐熱性。(c)單元之含量範圍為約0.1至約99重量百分比,較佳為,約0.5至約40重量百分比。(c)單元之環狀部舉例包括馬來酸酐、馬來醯亞胺、戊二酸酐、戊二醯亞胺、內酯、以及內醯胺,但不限於此。
本發明具體實施例中,可使用1)含(甲基)丙烯酸酯類單元以及馬來醯亞胺類單元的共聚物、以及2)苯氧類(苯氧基為主體)樹脂,做為樹脂組成物的成分。其中,各成分的含量範圍較佳為1至99重量百分比。具體而言,1)共聚物的含量範圍較佳為約40至約90重量百分比,更佳為約75至約98重量百分比。2)樹脂的含量範圍較佳為約0.5至約
60重量百分比,更佳為約1至約30重量百分比。尤其,當含1)(甲基)丙烯酸酯類單元及馬來醯亞胺類單元之共聚物中,馬來醯亞胺類單體的含量為50重量百分比以下時,不論1)對2)成份的混合比,對於整體範圍其皆具有可混溶性,且上述組成物有利於使光學膜具有單一玻璃轉移溫度Tg。
使用本發明樹脂組成物製得的光學膜,其厚度範圍為5至500μm,更佳為5至300μm,但不限於此。光學膜的穿透度為90%以上,霧度為2.5%以下,較佳為1%以下,更佳為0.5%以下。本發明光學膜的玻璃轉移溫度較佳為100℃以上。
使用本發明樹脂組成物製備光學膜之方法包括以下步驟:製備該樹脂組成物;以及使用該樹脂組成物形成薄膜。製備光學膜之方法更可包括單軸或雙軸拉伸該薄膜之步驟。
樹脂組成物可藉由熔融及混煉上述成分來製造,而成分的熔融及混合,可使用擠壓機進行。
樹脂組成物更可包括一般常用的潤滑劑、抗氧化劑、UV穩定劑、熱穩定劑、以及類似成分。
在光學膜製造過程中,可使用本領域已知方法,詳而言之,可使用擠壓成形法。例如,在真空下乾燥樹脂組成物,且移除溶解的氧氣後,組成物由原料斗供應至單桿或雙桿擠壓器(以氮氣置換擠壓器),於高溫下熔融以獲得原料顆粒,於真空下乾燥所獲得的原料顆粒,由原料斗熔融至
已有氮氣置換的單桿擠壓器,穿過T型衣架式模具(coat hanger type of T-die)、覆鉻的鑄造輥、以及乾燥輥以製造薄膜。
本發明之光學膜可藉由單軸或雙軸拉伸而具有Rin>0且Rth>0之光學特性。
拉伸步驟可使用縱向(MD)拉伸或橫向(TD)拉伸中任一者,或縱向拉伸及橫向拉伸兩者來進行。當同時進行縱向拉伸及橫向拉伸時,其中任一者可先進行而後進行另一者,或者兩者同時進行。拉伸步驟可透過單一步驟或多重步驟達成,當進行縱向拉伸時,可使用不同速度的輥達成;而當進行橫向拉伸時,則可使用拉幅機(tenter)。若拉幅機的隔條起始角度為10度以下,可以抑制進行橫向拉伸時產生的彎曲現象,同時正常的控制光學軸的角度。若透過多重步驟執行橫向拉伸時,也可抑制彎曲現象(bowing phenomenon)。
當樹脂組成物的玻璃轉移溫度為Tg時,拉伸步驟可以在(Tg-20℃)至(Tg+30℃)的溫度範圍下進行。玻璃轉移溫度係指自樹脂組成物的儲存彈性開始減少且彈性損失開始大於儲存彈性的溫度,直至聚合物鏈排列鬆散且消失時的溫度。玻璃轉移溫度可由示差掃描熱析儀(differential scanning calorimeter,DSC)進行測量。
至於使用小型拉伸機器(Universal testing machine,Zwick Z010)時,拉伸速率在1至100mm/min的範圍較佳。若使用導向式的拉伸機器時,拉伸速率在0.1至2mm/min
的範圍較佳。此外,薄膜的拉伸程度,較佳為5至300%的拉伸比範圍。
拉伸可透過不同於薄膜形成的單獨步驟達成,或者透過同於薄膜形成中單一步驟達成。藉由上述方法,進行本發明光學膜之單軸或雙軸拉伸步驟,可使光學膜具有不同於拉伸步驟前之延遲特性。
透過適當地結合含羥基部之鏈節及芳香性基團之芳香類樹脂及(甲基)丙烯酸酯類樹脂的相互組成、縱向拉伸比、橫向拉伸比、拉伸溫度、以及拉伸率,可以輕易製造出能夠做為延遲膜的光學膜,以補償液晶顯示器視角。為了獲得物理特性均勻的光學膜,在拉伸前薄膜生材(raw cloth)的厚度差較佳為約薄膜厚度的3%。為使拉伸的薄膜具有所需的延遲性,在拉伸前薄膜生材的延遲性盡可能的越小越好,基於延遲基準(平面內雙折射差與薄膜厚度的乘積)較佳為5nm以下。為在MD或TD方面獲得均勻的延遲性,在拉伸前薄膜生材的延遲性差異較佳為5nm以下。
此外,因為經拉伸的薄膜韌性增加,所以可以有效補償(甲基)丙烯酸酯類薄膜容易破損的缺陷。
該透明膜可作為光學膜、偏光板之偏光保護膜、延遲膜極其類似者,但不限於此。
參考以下實施例,將更為詳述本發明。然而,本發明可以許多不同的方式具體實施,而非只限於以下實施例,
這些實施例僅為使本領域中通常知識者完全了解本發明的概念而已。
247.8克的甲基丙烯酸甲酯、24.8克的N-環己基馬來醯亞胺、以及295.8克的甲苯,置入體積1L的玻璃反應器中,通入氮氣15分鐘,以移除溶解的氧氣,把溫度維持於80℃。將1克的AIBN起始劑以及0.25克的1-辛基硫醇,溶解於197.2克的甲苯(A)及223.0克的甲基丙烯酸甲酯(B),待此溶液中溶解的氧氣移除後,把反應溶液滴入反應器4小時,且攪拌進行聚合反應。反應額外於80℃下進行2小時後,將反應溫度升至90℃,再反應8小時後,將0.13克溶於甲苯的AIBN加入,再額外進行反應10小時。
待反應完成後,單體的轉換率為85%,對於分子量而言,重量平均分子量(Mw)為97,000,而數目平均分子量(Mn)為46,000。元素分析結果顯示,最終聚合物中,N-環己基馬來醯亞胺的含量為6.5重量百分比。
272.6克的甲基丙烯酸甲酯、99.1克的N-環己基馬來醯亞胺、以及345.1克的甲苯,置入體積1L的淺床,通入氮氣15分鐘以移除溶解的氧氣,把溫度維持於80℃。將1克的AIBN起始劑以及0.25克的1-辛基硫醇,溶解於147.9克的甲
苯及123.9克的甲基丙烯酸甲酯,待此溶液中溶解的氧氣移除後,把反應溶液滴入反應器4小時,且攪拌進行聚合反應。反應額外於80℃下進行2小時後,將反應溫度升至90℃,再反應8小時後,將0.13克溶於甲苯的AIBN加入,再額外進行反應10小時。
待反應完成後,單體的轉換率為82%,對於分子量而言,重量平均分子量(Mw)為97,500,而數目平均分子量(Mn)為48,100。元素分析結果顯示,最終聚合物中,N-環己基馬來醯亞胺的含量為24重量百分比。
223.0克的甲基丙烯酸甲酯、198.2克的N-環己基馬來醯亞胺、以及419.0克的甲苯,置入體積1L的淺床,通入氮氣15分鐘以移除溶解的氧氣,把溫度維持於80℃。將1.13克的AIBN起始劑以及0.25克的1-辛基硫醇,溶解於74.0克的甲苯及74.3克的甲基丙烯酸甲酯,待此溶液中溶解的氧氣移除後,把反應溶液滴入反應器4小時,且攪拌進行聚合反應。反應額外於80℃下進行2小時後,將反應溫度升至90℃,再反應8小時後,將0.13克溶於甲苯的AIBN加入,再額外進行反應10小時。
待反應完成後,單體的轉換率為94%,對於分子量而言,重量平均分子量(Mw)為93,500,而數目平均分子量(Mn)為38,500。元素分析結果顯示,最終聚合物中,N-環己基馬來醯亞胺的含量為50重量百分比。
從原料斗將如下表1所述的樹脂組成物供應至經氮氣置換的擠壓器(尺寸為16 φ)中,於250℃熔融樹脂組成物,以獲得原料顆粒。於真空下乾燥所獲的原料顆粒,使用250℃的擠壓器熔融後,穿過T型衣架式模具(coat hanger type of T-die)、覆鉻的鑄造輥、以及乾燥輥,以製造厚度為80μm的薄膜,薄膜的物理特性描述於下表1。
使用由InChemRez® Co.,Ltd.製造的PKFE(Mw=60,000,Mn=16,000,Tg=98℃)做為苯氧類樹脂,使用製備例1的N-環己基馬來醯亞胺與甲基丙烯酸甲酯的共聚物(其中N-環己基馬來醯亞胺的聚合含量為6.5重量百分比),做為(甲基)丙烯酸酯類樹脂。
薄膜的玻璃轉移溫度(Tg),使用示差掃描熱析儀(DSC2010,由TA instrument,Co.,Ltd.製造)進行測量。在氮氣氣氛中,於10℃/min的加熱溫度下進行分析,決定所測得的玻璃轉移溫度,做為第二次掃描中熱容快速變動面積的中間溫度。
薄膜的透射度以及霧度,以JIS K 7105方法使用反射-透射儀(reflectance-transmittance meter,HR-100,Murakami color research Lab.)量測,以三次平均值獲得結果。透射度相當於總透射度Tt,其表示透射光線的總量;使用積分面積的5%量得擴散穿透比Td,以計算霧度(=Td/Tt×100)。
描繪漸增外力施加於張力系統中的薄膜、測量各個情況下的延遲性、以壓力vs延遲性作圖、以及估算斜率。
除了使用製備例2的N-環己基馬來醯亞胺與甲基丙烯酸甲酯的共聚物(Mw=97,500,Mn=48,100,Tg=138.3℃,其中N-環己基馬來醯亞胺的聚合含量為24重量百分比),且利用熱壓法進行製備之外,其餘使用實施例1至9的相同方法製造薄膜。薄膜之物理特性如下表2所示。
於擠壓器之機筒溫度為250℃下,進行顆粒之擠壓步驟,藉由熱壓法(240℃,250bar)製得薄膜。製得薄膜之物理特性如表2所示。其中,可觀得單一玻璃轉移溫度(Tg),且薄膜之透射度為90%以上,而霧度為0.5%以下。
除了使用製備例3的N-環己基馬來醯亞胺與甲基丙烯酸甲酯的共聚物(Mw=93,500,Mn=38,300,Tg=155.5℃,其中N-環己基馬來醯亞胺的聚合含量為50重量百分比),且利用熱壓法進行製備之外,其餘使用實施例1至9的相同方法製造薄膜。
於擠壓器之機筒溫度為240℃下,進行顆粒之擠壓步驟(於實施例13中,若於擠壓器之機筒溫度為250℃下進行顆粒之擠壓步驟,則顆粒將呈非透明狀)。藉由熱壓法(220至240℃,250bar),利用製得之顆粒製備薄膜。實施例12及13係於240℃及220℃的溫度範圍下進行熱壓法(於實施例13中,若熱壓溫度為240℃,則薄膜將呈非透明狀)。
製得薄膜之物理特性如下表3所示。其中,可觀得單一玻璃轉移溫度(Tg),且薄膜之透射度為90%以上,而霧度為0.5%以下。未測量光彈性係數。
除了使用製備例1的N-環己基馬來醯亞胺與甲基丙烯酸甲酯的共聚物(N-環己基馬來醯亞胺的聚合含量為6.5重量百分比)作為下表4之組成之外,其餘使用實施例1至9的相同方法製造薄膜。薄膜之物理特性如下表4所示。
上述實施例僅係為了方便說明而舉例而已,本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準,而非僅限於上述實施例。
Claims (13)
- 一種光學膜,包括一樹脂組成物,該樹脂組成物包括:(a)一(甲基)丙烯酸酯類樹脂,其包含一種以上之(甲基)丙烯酸酯類衍生物及一環狀類單元,該環狀類單元係衍生自N-環己基馬來醯亞胺;以及(b)一芳香類樹脂,具有一含羥基部之鏈節及一芳香性基團,其中該(甲基)丙烯酸酯類樹脂之該環狀類單元含量範圍為約1wt%至約50wt%,以及其中該光學膜之霧度係2.5%以下。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學膜,其中該樹脂組成物更包括:(c)一包含一環狀部之環狀類單元。
- 如申請專利範圍第2項所述之光學膜,其中,(c)該環狀類單元之該環狀部係選自馬來酸酐、馬來醯亞胺、戊二酸酐、戊二醯亞胺、內酯及內醯胺所組群組。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學膜,其中,該(甲基)丙烯酸酯類衍生物係選自由甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸十二酯、及甲基丙烯酸芐酯所組成之群組。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學膜,其中,該芳香類樹脂包含苯氧類樹脂。
- 如申請專利範圍第5項所述之光學膜,其中,該芳香類樹脂之數目平均分子量範圍為1,500至2,000,000g/mol。
- 如申請專利範圍第5項所述之光學膜,其中,該芳香類樹脂包含至少一種5至10,000個式1所示之單元:
- 如申請專利範圍第7項所述之光學膜,其中,X為二價基,其係選自由以下結構示式所組成之群組:
- 如申請專利範圍第5項所述之光學膜,其中,該芳香類樹脂包含5至10,000個式6所示之單元:[式6]
- 如申請專利範圍第1項所述之光學膜,其中,該樹脂組成物包括(甲基)丙烯酸酯類衍生物與N-環己基馬來醯亞胺之共聚物、及一芳香類樹脂,其包含5至10,000個下式6所示之單元:
- 如申請專利範圍第1項所述之光學膜,其中,該樹脂組成物具有單一玻璃轉移溫度。
- 一種光學膜之製備方法,該方法包括以下步驟:製備一樹脂組成物,該樹脂組成物包括:(a)一(甲基)丙烯酸酯類樹脂,其包含一種以上之(甲基)丙烯酸酯類衍生物及一環狀類單元,該環狀類單元係衍生自N-環己基馬來醯亞胺;以及(b)一芳香類樹脂,具有一含羥基部之鏈節及一芳香性基團,其中該(甲基)丙烯酸酯類樹脂之該環狀類單元含量範圍為約1wt%至約50wt%;以及使用該樹脂組成物形成該光學膜,其中該光學膜之霧度係2.5%以下。
- 如申請專利範圍第12項所述之光學膜之製備方法,更包括:單軸或雙軸拉伸該光學膜。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20080002348 | 2008-01-08 | ||
KR1020080058907A KR20090076753A (ko) | 2008-01-08 | 2008-06-23 | 투명한 수지 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200948885A TW200948885A (en) | 2009-12-01 |
TWI433885B true TWI433885B (zh) | 2014-04-11 |
Family
ID=41333814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW098100472A TWI433885B (zh) | 2008-01-08 | 2009-01-08 | 光學膜 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8513358B2 (zh) |
EP (1) | EP2233529B1 (zh) |
JP (1) | JP5312479B2 (zh) |
KR (2) | KR20090076753A (zh) |
CN (1) | CN101918489B (zh) |
TW (1) | TWI433885B (zh) |
WO (1) | WO2009088237A2 (zh) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090076753A (ko) * | 2008-01-08 | 2009-07-13 | 주식회사 엘지화학 | 투명한 수지 조성물 |
KR101270220B1 (ko) | 2011-04-13 | 2013-05-30 | 주식회사 엘지화학 | 광학 필름용 아크릴계 공중합체 수지의 제조방법 및 이를 이용한 광학필름의 제조방법 |
JP5190564B2 (ja) * | 2011-07-01 | 2013-04-24 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | アクリル系熱可塑性樹脂組成物及びその成形体 |
WO2014061149A1 (ja) * | 2012-10-19 | 2014-04-24 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | メタクリル系樹脂を含む車両部材用カバー |
WO2015109265A1 (en) | 2014-01-16 | 2015-07-23 | Calysta, Inc. | Microorganisms for the enhanced production of amino acids and related methods |
SG11201703788XA (en) * | 2014-11-14 | 2017-06-29 | Kuraray Co | Methacrylate resin composition and molded article |
CN107429024B (zh) * | 2015-01-23 | 2020-07-14 | 阿克隆聚合物系统有限公司 | 基于含氟聚合物的聚合物混合物,聚合物膜,以及偏振片保护膜 |
US10123330B2 (en) | 2015-07-01 | 2018-11-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods to enable efficient wideband operations in local area networks using OFDMA |
KR102581489B1 (ko) * | 2020-08-31 | 2023-09-21 | 롯데케미칼 주식회사 | 열가소성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 |
Family Cites Families (80)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US534868A (en) * | 1895-02-26 | James m | ||
US4419399A (en) | 1981-07-06 | 1983-12-06 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Transparent conductive film |
US4607079A (en) * | 1985-06-24 | 1986-08-19 | General Electric Company | Blend of polycarbonate, acrylate elastomeric copolymer and a phenoxy resin |
US4727117A (en) | 1985-08-27 | 1988-02-23 | Rohm And Haas Company | Imide polymers |
US5004777A (en) | 1985-08-27 | 1991-04-02 | Rohm And Haas Company | Imide polymers |
JPS63122746A (ja) | 1986-11-12 | 1988-05-26 | Sumitomo Naugatuck Co Ltd | 耐熱性共重合体組成物 |
US5049313A (en) * | 1989-09-05 | 1991-09-17 | Advanced Products Inc. | Thermoset polymer thick film compositions and their use as electrical circuitry |
JP3118246B2 (ja) * | 1990-10-11 | 2000-12-18 | 綜研化学株式会社 | 熱硬化型接着剤 |
US5200492A (en) | 1990-10-29 | 1993-04-06 | Kuraray Co., Ltd. | Polymer blends |
NL9002345A (nl) | 1990-10-29 | 1992-05-18 | Stamicarbon | Polymeersamenstelling. |
US5244862A (en) | 1992-07-31 | 1993-09-14 | Bailey David B | Thermal dye transfer receiving element with modified bisphenol-A epichlorohydrin polymer dye-image receiving layer |
US5344868A (en) | 1993-03-23 | 1994-09-06 | Rohm And Haas Company | Polyglutarimide/glass fiber combinations |
JPH07157632A (ja) * | 1993-12-03 | 1995-06-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | フェノール樹脂組成物 |
JPH07233227A (ja) * | 1994-02-23 | 1995-09-05 | Dainippon Ink & Chem Inc | 光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法 |
WO1995033223A1 (en) | 1994-05-27 | 1995-12-07 | The University Of Akron | Non-birefringent optical adhesives and films |
DE4444378A1 (de) | 1994-12-14 | 1996-06-20 | Basf Ag | Thermoplastische Formmassen auf der Basis von teilaromatischen Polyamiden und Polymethacrylimiden |
JPH08248202A (ja) | 1995-03-08 | 1996-09-27 | Seizo Miyata | 光学補償用フイルム、その製造方法およびそれを用いた液晶ディスプレー |
JPH09152501A (ja) | 1995-09-27 | 1997-06-10 | Fuji Xerox Co Ltd | 光学素子およびその製造方法、並びに光学素子用高分子液晶組成物 |
JPH1030048A (ja) * | 1996-07-15 | 1998-02-03 | Toshiba Chem Corp | フェノール樹脂成形材料およびその成形品 |
US6080833A (en) | 1996-07-31 | 2000-06-27 | Mitsui Chemicals, Inc. | Low-birefringent organic optical component and a spirobiindan polymer |
JP3695024B2 (ja) | 1996-11-14 | 2005-09-14 | Jsr株式会社 | 半導体デバイス製造用感放射線性樹脂組成物 |
US6197898B1 (en) | 1997-11-18 | 2001-03-06 | General Electric Company | Melt-mixing thermoplastic and epoxy resin above Tg or Tm of thermoplastic with curing agent |
JP2000256635A (ja) * | 1999-03-09 | 2000-09-19 | Hitachi Chem Co Ltd | アクリル樹脂を用いた接着剤層付き基材及び接着フィルム |
JP2001220515A (ja) | 2000-02-08 | 2001-08-14 | Kawamura Inst Of Chem Res | 共連続構造を有する樹脂複合体及びその製造方法 |
CA2375620C (en) | 2000-03-29 | 2005-11-15 | Teijin Limited | Protecting film for optical recording medium and optical recording medium |
JP3560532B2 (ja) | 2000-05-02 | 2004-09-02 | 株式会社巴川製紙所 | ディスプレイ用帯電防止フィルム |
JP3679976B2 (ja) | 2000-05-31 | 2005-08-03 | 株式会社巴川製紙所 | ディスプレイ用貼着フィルム |
JP3890972B2 (ja) | 2000-12-26 | 2007-03-07 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | セルロースエステルフィルム、それを用いる偏光板用保護フィルム及び偏光板 |
JP2002243943A (ja) | 2001-02-21 | 2002-08-28 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 偏光子保護フィルム |
US20030215736A1 (en) | 2002-01-09 | 2003-11-20 | Oberlander Joseph E. | Negative-working photoimageable bottom antireflective coating |
US6887729B2 (en) | 2002-01-14 | 2005-05-03 | Reveo, Inc. | Twisted nematic micropolarizer and its method of manufacturing |
CN1316305C (zh) | 2002-02-19 | 2007-05-16 | 日东电工株式会社 | 倾斜的光学补偿薄膜、其生产方法以及包括所述薄膜的液晶显示器 |
JP3917089B2 (ja) | 2002-02-19 | 2007-05-23 | 日東電工株式会社 | 傾斜光学補償フィルムの製造方法 |
KR100446664B1 (ko) | 2002-02-20 | 2004-09-04 | 주식회사 엘지화학 | 아크릴계 점착제 조성물 |
US20050129895A1 (en) * | 2002-05-27 | 2005-06-16 | Ajinomoto Co., Inc. | Adhesive film and prepreg |
JP2004045893A (ja) | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 透明フィルム、偏光子保護フィルム、および偏光板 |
US7428029B2 (en) | 2002-07-30 | 2008-09-23 | Nitto Denko Corporation | Optical film and its manufacturing method |
JP2004269842A (ja) | 2002-09-30 | 2004-09-30 | Tosoh Corp | 透明耐熱樹脂光学材料及びフィルム |
JP2004204208A (ja) | 2002-11-01 | 2004-07-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 非複屈折性光学用樹脂組成物及び本樹脂組成物を用いた光学用素子 |
KR100519516B1 (ko) | 2002-11-25 | 2005-10-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | 유기 반사방지막 중합체, 이의 제조 방법과 상기 중합체를포함하는 유기 반사 방지막 조성물 |
EP1574882B1 (en) | 2002-12-20 | 2013-01-23 | Teijin Limited | Transparent conductive laminate, touch panel and liquid crystal display unit with touch panel |
KR100523083B1 (ko) | 2003-01-14 | 2005-10-20 | 주식회사 니드필 | 저비중, 중굴절률 광학 렌즈용 수지 조성물 및 그를이용하여 제조한 광학렌즈 |
JP4117231B2 (ja) | 2003-08-05 | 2008-07-16 | Hoya株式会社 | プラスチックレンズ及びその製造方法 |
JP4679808B2 (ja) | 2003-08-26 | 2011-05-11 | Jsr株式会社 | 位相差膜形成用組成物 |
KR100551736B1 (ko) | 2003-08-29 | 2006-02-13 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 절연성글라스기판의 습식각 장치 및 이를 이용한 습식식각방법 |
JP4369194B2 (ja) | 2003-09-30 | 2009-11-18 | Hoya株式会社 | プラスチックレンズ及びその製造方法 |
KR100570211B1 (ko) | 2003-12-24 | 2006-04-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 유기 반사방지막용 가교제 중합체, 이를 포함하는 유기반사 방지막 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 패턴형성 방법 |
WO2005080458A1 (ja) | 2004-02-25 | 2005-09-01 | Kansai Paint Co., Ltd. | 光導波路用硬化性樹脂組成物、光導波路用硬化性ドライフィルム、光導波路及び光導波路用コア部分の形成方法 |
JP2005266464A (ja) | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Teijin Ltd | 偏光子保護フィルム、偏光板および液晶表示素子 |
JP2007263987A (ja) | 2004-03-26 | 2007-10-11 | Teijin Ltd | 偏光板用保護フィルム |
US20060252234A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-11-09 | Lintec Corporation | Hardenable pressure sensitive adhesive sheet for dicing/die-bonding and method for manufacturing semiconductor device |
JP5335175B2 (ja) | 2004-09-15 | 2013-11-06 | 三星ディスプレイ株式會社 | インク組成物及び前記インク組成物を含むカラーフィルター |
JP3985969B2 (ja) | 2004-09-29 | 2007-10-03 | 日東電工株式会社 | 液晶パネル及び液晶表示装置 |
US7486442B2 (en) | 2004-09-30 | 2009-02-03 | Industrial Technology Research Institute | Polarizer protective film, polarizing plate, and visual display |
ATE553157T1 (de) | 2004-10-07 | 2012-04-15 | Hitachi Chemical Co Ltd | Harzzusammensetzung für optisches material, harzfilm für optisches material und lichtwellenleiter damit |
US7329465B2 (en) | 2004-10-29 | 2008-02-12 | 3M Innovative Properties Company | Optical films incorporating cyclic olefin copolymers |
CN101087846B (zh) | 2004-12-27 | 2010-09-29 | Jsr株式会社 | 热塑性树脂组合物、光学膜以及拉伸膜 |
JP4618675B2 (ja) | 2005-02-08 | 2011-01-26 | 日東電工株式会社 | 位相差フィルム、偏光素子、液晶パネルおよび液晶表示装置 |
WO2006112207A1 (ja) | 2005-03-31 | 2006-10-26 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | 偏光子保護フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
JP4802707B2 (ja) * | 2005-05-17 | 2011-10-26 | 住友化学株式会社 | 光制御膜 |
US20060293463A1 (en) * | 2005-06-28 | 2006-12-28 | General Electric Company | Compositions for brightness enhancing films |
KR100708994B1 (ko) | 2005-07-01 | 2007-04-18 | 주식회사 엘지화학 | 버티컬 얼라인먼트 액정표시장치용 이축 보상필름 |
JP2007016080A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | 活性エネルギー線硬化性組成物、該組成物からなるフィルム及び該フィルムを用いて形成された光ディスク |
JP2007046044A (ja) | 2005-07-15 | 2007-02-22 | Toray Ind Inc | 熱可塑性樹脂組成物、成形品およびフィルム |
JP2007031537A (ja) | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 延伸フィルムおよび延伸フィルムを用いた偏光板 |
CN101253429B (zh) | 2005-08-30 | 2011-11-09 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 偏振片及使用该偏振片的液晶显示装置 |
EP1933181A4 (en) | 2005-09-14 | 2009-12-30 | Nitto Denko Corp | POLARIZATION PLATE WITH OPTICAL COMPENSATION LAYER, LIQUID CRYSTAL VISOR WITH POLARIZATION PLATE WITH OPTICAL COMPENSATION LAYER AND IMAGE DISPLAY DEVICE |
EP1932879B1 (en) * | 2005-10-07 | 2012-01-11 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Resin composition for optical material |
JP2007169583A (ja) | 2005-10-24 | 2007-07-05 | Hitachi Chem Co Ltd | フィルター用樹脂組成物、及びこれを用いた特定波長吸収フィルター |
JP5288150B2 (ja) | 2005-10-24 | 2013-09-11 | 株式会社スリーボンド | 有機el素子封止用熱硬化型組成物 |
WO2007061041A1 (ja) | 2005-11-28 | 2007-05-31 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 光学フィルム |
JP2007169586A (ja) | 2005-11-28 | 2007-07-05 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 光学材料用樹脂組成物 |
KR20070113749A (ko) | 2006-05-26 | 2007-11-29 | 주식회사 엘지화학 | 투명성 및 내열성이 우수한 광학 이방성 필름 및 이를포함하는 액정 디스플레이 장치 |
JP2007321108A (ja) | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Fujifilm Corp | 高分子組成物、位相差板、偏光板、液晶表示装置 |
JPWO2008001855A1 (ja) | 2006-06-30 | 2009-11-26 | 三菱樹脂株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物、該組成物からなる透明フィルム、及び該フィルムが使用された光ディスク |
KR100787037B1 (ko) * | 2006-09-28 | 2007-12-21 | 주식회사 큐엔탑 | 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트 및 이를포함하는 광경화형 수지 조성물 및 이로부터 제조된광학필름 |
KR20090076754A (ko) * | 2008-01-08 | 2009-07-13 | 주식회사 엘지화학 | 광학 필름, 위상차 필름, 보호 필름 및 이들을 포함하는액정 표시 장치 |
KR20090076753A (ko) * | 2008-01-08 | 2009-07-13 | 주식회사 엘지화학 | 투명한 수지 조성물 |
KR101105424B1 (ko) | 2008-04-30 | 2012-01-17 | 주식회사 엘지화학 | 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름 |
KR101091534B1 (ko) | 2008-04-30 | 2011-12-13 | 주식회사 엘지화학 | 광학 필름 및 이를 포함하는 정보전자 장치 |
-
2008
- 2008-06-23 KR KR1020080058907A patent/KR20090076753A/ko unknown
-
2009
- 2009-01-07 US US12/319,469 patent/US8513358B2/en active Active
- 2009-01-08 JP JP2010542167A patent/JP5312479B2/ja active Active
- 2009-01-08 KR KR1020090001499A patent/KR101123007B1/ko active IP Right Grant
- 2009-01-08 EP EP09700848.6A patent/EP2233529B1/en active Active
- 2009-01-08 WO PCT/KR2009/000103 patent/WO2009088237A2/ko active Application Filing
- 2009-01-08 CN CN2009801018527A patent/CN101918489B/zh active Active
- 2009-01-08 TW TW098100472A patent/TWI433885B/zh active
-
2013
- 2013-07-15 US US13/942,002 patent/US9168694B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8513358B2 (en) | 2013-08-20 |
KR101123007B1 (ko) | 2012-03-12 |
JP2011511101A (ja) | 2011-04-07 |
JP5312479B2 (ja) | 2013-10-09 |
CN101918489B (zh) | 2013-05-15 |
US20090192267A1 (en) | 2009-07-30 |
EP2233529A2 (en) | 2010-09-29 |
WO2009088237A2 (ko) | 2009-07-16 |
WO2009088237A3 (ko) | 2009-10-15 |
KR20090076833A (ko) | 2009-07-13 |
CN101918489A (zh) | 2010-12-15 |
KR20090076753A (ko) | 2009-07-13 |
EP2233529B1 (en) | 2014-08-06 |
TW200948885A (en) | 2009-12-01 |
US20140024782A1 (en) | 2014-01-23 |
EP2233529A4 (en) | 2011-04-20 |
US9168694B2 (en) | 2015-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI397552B (zh) | 光學膜及包含其之資訊科技裝置 | |
TWI433885B (zh) | 光學膜 | |
KR101105424B1 (ko) | 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름 | |
CN102272640B (zh) | 光学膜和包括该光学膜的液晶显示器 | |
TWI412550B (zh) | 光學膜及包含其之資訊技術裝置 | |
JP6006026B2 (ja) | アクリル系熱可塑性樹脂、及びその成形体 | |
CN101796086A (zh) | 热塑性共聚树脂及其光学成形体 | |
JP5630852B2 (ja) | アクリル系共重合体を含む光学フィルム | |
JP2009227868A (ja) | 樹脂組成物およびフィルム | |
JP2015205997A (ja) | アクリル系共重合体、光学フィルム、偏光板および液晶表示装置 | |
TW202231746A (zh) | 基於苯乙烯氟聚合物及丙烯酸共聚物之光學膜 | |
CN103214775A (zh) | 用于光学膜的树脂组合物、偏光器保护膜和包括该偏光器保护膜的液晶显示器 | |
KR101440978B1 (ko) | 광학 필름의 제조방법 |