KR100787037B1 - 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트 및 이를포함하는 광경화형 수지 조성물 및 이로부터 제조된광학필름 - Google Patents

고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트 및 이를포함하는 광경화형 수지 조성물 및 이로부터 제조된광학필름 Download PDF

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Abstract

본 발명은 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트 및 이를 이용한 광경화형 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 광학필름에 관한 것으로서, 높은 굴절율을 갖고 각종 기재에 접착력이 우수하고 내마모성이 우수한 아크릴레이트 및 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트는, 분자 중에 1개 이상의 아크릴레이트기 또는 메타아크레이트기를 갖고, 한 분자 이상의 나프탈렌을 함유하는 나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물과; 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트 화합물;을 반응시켜 분자 내에 나프탈렌 구조를 갖는 것을 특징으로 하여 이루어진다.
본 발명의 구성에 따르면, 종래의 할로겐화 변성 아크릴레이트나 플루오렌 아크릴레이트 대신에 새로운 높은 굴절율을 갖고 각종 기재에 접착력이 우수하고 광학특성이 우수한 아크릴레이트 및 조성물을 제공하는 것이 가능하게 된다.
고굴절율, 나프탈렌, 아크릴레이트, 광경화형, 조성물

Description

고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트 및 이를 포함하는 광경화형 수지 조성물 및 이로부터 제조된 광학필름{Naphthalene Modified Acrylate having High Refractive Index and Photocurable Resin Composition containing the same and Optical Film made by using the same}
본 발명은 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트 및 이를 이용한 광경화형 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 광학필름에 관한 것으로서, 높은 굴절율을 갖고 각종 기재에 접착력이 우수하고 내마모성이 우수한 아크릴레이트 및 수지 조성물에 관한 것이다.
고굴절율의 아크릴레이트 수지를 이용하여 광학 제품, 즉 광학 렌즈, 광학 필름, 및 광 미디어 등에 사용이 가능하다. 특히, 광학필름은 액정디스플레이나 플라즈마 디스플레이 패널과 같은 디스플레이제품에 사용이 가능하고 그 중에서도 액정 디스플레이 후면에 배치되는 백라이트 유니트의 휘도를 향상시킬 목적으로 사용된다.
예를들어 대한민국 공개특허 특2001-0012340과 대한민국 공개특허 10-2005- 0010760 에 고굴절율을 갖는 브롬화 단량체를 포함하는 중합성 조성물로 제조된 광학 제품을 제공 한다.
그러나, 브롬이나 염소와 같은 할로겐 화합물은 굴절율은 높일수 있으나 경화 후에 필름의 황변이 심하고 이러한 황변은 필름의 성능을 저하시키고 심한 경우에는 디스플레이 색상에도 영향을 주게된다.
또한, 대한민국 등록 특허 10-0544824에서 플루오렌 아크릴레이트를 이용한 이용한 프리즘필름용 수지조성물이 제안되었다.
그러나, 여기서 제안된 플루오렌 아크릴레이트를 이용한 프리즘 필름은 휘도 향상용 필름에서 요구하는 내마모성이나 경도, 강인성, 접착성 등이 부족하여 사용상에 많은 한계가 있어왔다.
굴절율이 높은 아크릴레이트 수지는 광학 제품, 즉 광학 렌즈, 광학 필름, 및 광 미디어 등에 사용이 가능하다. 특히, 광학필름은 액정디스플레이나 플라즈마 디스플레이 패널과 같은 디스플레이제품에 사용이 가능하고 그 중에서도 액정 디스플레이 후면에 배치되는 백라이트 유니트의 휘도를 향상시킬 목적으로 사용되나, 종래의 개시된 아크릴레이트 수지는 굴절율이 낮아 광학필름에 사용되기 어려운 한계를 가지고 있다.
상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 종래의 할로겐화 변성 아크릴레이트나 플루오렌 아크릴레이트 대신에 새로운 높은 굴절율을 갖고 각 종 기재에 접착력이 우수하고 광학특성이 우수한 나프탈렌 변성 아크릴레이트 및 광경화형 수지 조성물을 제공함에 있다.
상술한 바의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트는, 분자 중에 1개 이상의 아크릴레이트기 또는 메타아크레이트기를 갖고, 한 분자 이상의 나프탈렌을 함유하는 나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물과; 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트 화합물;을 반응시켜 분자 내에 나프탈렌 구조를 갖는 것을 특징으로 하여 이루어진다.
여기서, 상기 나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물은 분자량이 200 내지 3000 인 것이 바람직하다.
여기서, 상기 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트 화합물로는, 아크릴산, 메타아크릴산, 아크릴산 다이머 또는 락톤 변성 아크릴산에서 선택되거나, 카르복시산 무수물과 하이드록시 아크릴레이트와 반응하여 생성되는 하프에스터 아크릴레이트로 선택되는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 하프에스터 아크릴레이트의 카르복시산 무수물로는, 무수프탈산, 무수말레인산, 헥사하이드로 무수프탈산 등의 2 염기성 카르복실산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 4,5-무수디메톡시프탈산, 3,6-무수디하이드록시프탈산, 3,6-디하이드록시-4-메틸무수프탈산, 3,6-디메톡시-4,5-메틸렌 디하이드록시 무수프탈산, 3,4-디메틸 무수프탈산, 3,6-디메틸 무수프탈산, 4,5-디메 틸 무수프탈산, 3-메틸 무수프탈산, 4-메틸 무수프탈산, 3-메톡시 무수프탈산, 4-메톡시프탈산, 3-메톡시-4,6-디메틸 무수프탈산, 4-이소프로필-3,5,6-트리메톡시 무수프탈산, 4-하이드록시 무수프탈산, 3-하이드록시-4-메톡시 무수프탈산, 3-하이드록시-5-메톡시 무수프탈산, 6-하이드록시-4-메톡시-3-메틸 무수프탈산, 6-이소부틸-3,4-디메틸 무수프탈산, 3-프로필 무수프탈산, 트리멜리틱산무수물, 파이로멜리틱산무수물, 2,3,3`,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-벤조페논테트라 카르복실산 이무수물, 비스(3,4-디카르복실페닐)에테르 이무수물, 비스(3,4-디카르목실페닐)메탄 이무수물, 메틸-3,6-엔도 메틸렌테트라하이드로 무수프탈산, 3,6-엔도 메틸렌테트라 하이드로 무수프탈산 등의 무수프탈산 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 하프에스터 아크릴레이트의 하이드록시 아크릴레이트로는, 하이드록시 에틸 아크릴레이트, 하이드록시프로필 아크릴레이트, 하이드록시 부틸 아크릴레이트, 카프로락톤 변성 하이드록시 아크릴레이트, 글리세롤 디아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 디메틸올프로판 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타아크릴레이트, 솔비톨 펜타아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트를 포함하는 광경화형 수지 조성물은, 상술한 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트 수 지와; 분자 중에 1개 이상의 비닐 또는 아크릴레이트기 또는 메타아크레이트기를 갖는 반응성 단량체와; 광중합 개시제;를 포함하여 형성된다.
여기서, 상기 광경화형 수지 조성물의 반응 촉매는, 트리에틸 아민, 벤질디메틸 아민, 벤질트리메틸 암모늄 클로라이드, 벤질 트리에틸 암모늄 클로라이드, 테트라 메틸 암모늄 클로라이트, 테트라 부틸 암모늄 클로라이드, 테트라 에틸 암모늄 클로라이드, 테트라 에틸 암모늄 브로마이드, 테트라 부틸 암모늄 브로마이드로 이루어진 군에서 선택되는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 반응성 단량체는, 1 관능기를 가진 단량체로써, 엔-비닐 카프로락탐, 아크릴로일 몰포린, 벤질 아크릴레이트,디사이클로펜타디엔 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 페녹시 에틸 아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 테트라 에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 헥사에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트 및 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되고, 2 관능기를 가진 단량체로는, 네오펜틸 아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디 아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디 아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아뉴레이트 디아크릴레이트, 디메틸올 트리 사이클로 데칸 디아크릴레이트 및 에틸렌 옥사이드 부가형 비스 페놀 A 디아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되고, 3 관능기 이상을 가진 단량체로는, 에틸렌 옥사이드 3몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(아크릴로옥시에틸)이소시아뉴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레 이트 및 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 광중합 개시제는, 벤조페논 및 그 유도체, 벤조인, 벤조인 알킬 에테르 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐케톤, 디에톡시아세토페논, 포스핀 옥사이드 계, 아미노 아세토페논계, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로파-1-논, 2-벤질-2-디메틸아미드-1-(4-몰포리나페닐)-부타난으로 이루어진 군에서 선택되는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트를 포함하는 광학 필름은, 투명기재필름과; 상기 투명기재필름의 일면에 프리즘층을 형성하는 광학필름용 조성물;로 제조되는 것을 특징으로 하여 이루어진다.
이하, 본 발명에 따른 나프탈렌 변성 아크릴레이트를 설명한다.
본 발명의 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트는 나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물에 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트를 반응시킨 화합물로 구성된다.
좀 더 자세하게는, 나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물은 나프탈렌 구조에 말단에 에폭시기를 가지고 있고 분자량이 통상 200 내지는 3000 이내로 조절하는 것이 바람직하다.
분자량이 200 이하이면 경화도막이 깨어지기 쉽고, 3000 이상이면 경화속도가 느리고 표면 경도가 낮고 굴절율의 조절이 용이하지 않아 사용상에 어려움이 있다.
나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물로는 나프탈렌 디올 디글리시딜 에테르, 나프탈렌 트리올 트리 글리시딜 에테르, 나프탈렌 테트라올 테트라 글리시딜 에테르, 나프탈렌 펜타올 펜타 글리시딜 에테르, 나프탈렌 헥사올 헥사 글리시딜 에테르, 나프탈렌 디메틸올 디글리시딜 에테르, 나프탈렌 트리메틸올 트리 글리시딜 에테르, 나프탈렌 테트라메틸올 테트라 글리시딜 에테르, 나프탈렌 펜타메틸올 펜타 글리시딜 에테르, 나프탈렌 헥사메틸올 헥사 글리시딜 에테르, 나프탈렌 프로필 디올 디글리시딜 에테르, 나프탈렌 프로필 트리올 트리 글리시딜 에테르, 나프탈렌 프로필 테트라올 테트라 글리시딜 에테르, 나프탈렌 프로필 펜타올 펜타 글리시딜 에테르, 나프탈렌 프로필 헥사올 헥사 글리시딜 에테르, 나프탈렌 부틸 디올 디글리시딜 에테르, 나프탈렌 부틸 트리올 트리 글리시딜 에테르, 나프탈렌 부틸 테트라올 테트라 글리시딜 에테르, 나프탈렌 부틸 펜타올 펜타 글리시딜 에테르, 나프탈렌 부틸 헥사올 헥사 글리시딜 에테르 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 것으로 사용하는 것이 가능하다.
카르복시산을 함유하는 아크릴레이트로는, 아크릴산, 메타아크릴산, 아크릴산 다이머, 락톤 변성 아크릴산에서 선택되어지거나, 카르복시산 무수물과 하이드록시 아크릴레이트와 반응하여 생성되는 하프에스터 아크릴레이트를 선택하는 것이 바람직하다.
여기서, 하프에스터 아크릴레이트의 카르복시산 무수물로는 무수프탈산, 무수말레인산, 헥사하이드로 무수프탈산 등의 2 염기성 카르복실산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 4,5-무수디메톡시프탈산, 3,6-무수디하이드록시프탈산, 3,6-디하이드록시-4-메틸무수프탈산, 3,6-디메톡시-4,5-메틸렌 디하이드록시 무수프탈산, 3,4-디메틸 무수프탈산, 3,6-디메틸 무수프탈산, 4,5-디메틸 무수프탈산, 3-메틸 무수프탈산, 4-메틸 무수프탈산, 3-메톡시 무수프탈산, 4-메톡시프탈산, 3-메톡시-4,6-디메틸 무수프탈산, 4-이소프로필-3,5,6-트리메톡시 무수프탈산, 4-하이드록시 무수프탈산, 3-하이드록시-4-메톡시 무수프탈산, 3-하이드록시-5-메톡시 무수프탈산, 6-하이드록시-4-메톡시-3-메틸 무수프탈산, 6-이소부틸-3,4-디메틸 무수프탈산, 3-프로필 무수프탈산, 트리멜리틱산무수물, 파이로멜리틱산무수물, 2,3,3`,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-벤조페논테트라 카르복실산 이무수물, 비스(3,4-디카르복실페닐)에테르 이무수물, 비스(3,4-디카르목실페닐)메탄 이무수물, 메틸-3,6-엔도 메틸렌테트라하이드로 무수프탈산, 3,6-엔도 메틸렌테트라 하이드로 무수프탈산 등의 무수프탈산 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 하이드록시 아크릴레이트로는, 하이드록시 에틸 아크릴레이트, 하이드록시프로필 아크릴레이트, 하이드록시 부틸 아크릴레이트, 카프로락톤 변성 하이드록시 아크릴레이트, 글리세롤 디아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 디메틸올프로판 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타아크릴레이트, 솔비톨 펜타아크릴레이트 등으로 이루어진 군에서 선택되는 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
상술한 반응에서 중합금지제는 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 터셔리부틸카테콜, 파라-벤조퀴논, 하이드로퀴논, 페노치아진, 부틸레이티드하이드록시톨루엔, 파이로갈롤, 모노터셔리-부틸하이드로퀴논, 디터셔리부틸하이드로퀴논 등을 사용하며, 반응물 총중량을 기준으로 0.001 내지 1.0중량%를 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 각각의 반응에서 다양한 촉매나 첨가제를 사용하는데 이것은 아래 반응의 종류에 따라 다르므로 각각의 반응에서 자세히 설명한다.
이하, 본 발명에 따른 나프탈렌 변성 아크릴레이트 수지, 이를 포함한 조성물 등을 실시예와 함께 보다 구체적으로 설명한다.
먼저, 나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물에 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트를 반응시켜 나프탈렌 변성 아크릴레이트를 합성하는 방법은 다음과 같다.
나프탈렌 변성 폴리에폭시 1당량을 기준으로 카르복시산을 함유하는 아크릴 레이트 1당량과 함께 중합금지제 및 촉매를 반응기에 넣고 교반하면서 60℃로 승온하여 1시간 유지시킨다.
반응이 안정되면 70℃, 80℃, 90℃에서 각각 1시간씩 유지하면서 서서히 반응을 시키고 최종 100℃에서 약 24시간 반응시킨다.
반응의 종말점은 에폭시 당량이나 산가를 측정하여 구할 수 있고 매시간마다 측정하여 반응의 완결을 확인할 수 있고 반응이 완료된 후에는 60℃로 냉각하여 여과 후 포장한다.
여기서, 촉매로는 트리에틸 아민, 벤질디메틸 아민, 벤질트리메틸 암모늄 클로라이드, 벤질 트리에틸 암모늄 클로라이드, 테트라 메틸 암모늄 클로라이트, 테트라 부틸 암모늄 클로라이드, 테트라 에틸 암모늄 클로라이드, 테트라 에틸 암모늄 브로마이드, 테트라 부틸 암모늄 브로마이드 등을 사용하며, 반응물 총중량을 기준으로 0.01 내지 1.0 중량%를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 나프탈렌 변성 아크릴레이트 수지의 생성예를 구체적인 실시예를 통해 더욱 상세하게 설명한다.
<나프탈렌 변성 아크릴레이트 생성예 1>
4구 플라스크에 용매로 톨루엔 163.2g과 분자량 약 400의 나프탈렌 디올 디글리시딜 에테르 400g, 아크릴 산 144 g 및 중합금지제로 하이드로퀴논 1.0g과 촉매로 디메틸 벤질아민 0.2 g을 투입하고, 교반하면서 서서히 60℃까지 승온시켰다.
온도가 일정하게 되면 1시간 유지시킨 후 70℃, 80℃, 90℃로 승온하여 각각 1시간씩 유지한다.
이어서, 다시 100℃로 승온하여 이 온도에서 20시간 반응시켰다.
반응이 종결된 후 진공 감압하여 70℃에서 톨루엔을 완전 증류시켰다.
투명한 액체의 중합생성물 520g이 얻어졌으며, 이때의 굴절율은 1.6530이었다.
<나프탈렌 변성 아크릴레이트 생성예 2>
4구 플라스크에 용매로 톨루엔 208.2g과 분자량 약 550의 나프탈렌 트리올트리 글리시딜 에테르 550g, 아크릴 산 144 g 및 중합금지제로 하이드로퀴논 1.0g과 촉매로 디메틸 벤질아민 0.2 g을 투입하고, 교반하면서 서서히 60℃까지 승온시켰다.
온도가 일정하게 되면 1시간 유지 시킨 후 70℃, 80℃, 90℃로 승온하여 각각 1시간씩 유지한다.
이어서, 다시 100℃로 승온하여 이 온도에서 20시간 반응시켰다.
반응이 종결된 후 진공 감압하여 70℃에서 톨루엔을 완전 증류시켰다.
투명한 액체의 중합생성물 670g이 얻어졌으며, 이때의 굴절율은 1.6490이었다.
<나프탈렌 변성 아크릴레이트 생성예 3>
4구 플라스크에 용매로 톨루엔 248.4g과 분자량 약 400의 나프탈렌 디올 디글리시딜 에테르 400g, 무수말레인산과 하이드록시 에틸 아크릴레이트의 반응생성물인 하프에스터 아크릴레이트 428 g 및 중합금지제로 하이드로퀴논 2.0g과 촉매로 디메틸 벤질아민 0.4 g을 투입하고, 교반하면서 서서히 60℃까지 승온시켰다.
온도가 일정하게 되면 1시간 유지 시킨 후 70℃, 80℃, 90℃로 승온하여 각 각 1시간씩 유지한다.
이어서, 다시 100℃로 승온하여 이 온도에서 20시간 반응시켰다.
반응이 종결된 후 진공 감압하여 70℃에서 톨루엔을 완전 증류시켰다.
투명한 액체의 중합생성물 800g이 얻어졌으며, 이때의 굴절율은 1.6435이었다.
<나프탈렌 변성 아크릴레이트 생성예 4>
4구 플라스크에 용매로 톨루엔 293.4g과 분자량 약 550의 나프탈렌 디올 디글리시딜 에테르 400g, 무수말레인산과 하이드록시 에틸 아크릴레이트의 반응생성물인 하프에스터 아크릴레이트 428 g 및 중합금지제로 하이드로퀴논 2.0g과 촉매로 디메틸 벤질아민 0.4 g을 투입하고, 교반하면서 서서히 60℃까지 승온시켰다.
온도가 일정하게 되면 1시간 유지 시킨 후 70℃, 80℃, 90℃로 승온하여 각각 1시간씩 유지한다.
이어서, 다시 100℃로 승온하여 이 온도에서 20시간 반응시켰다.
반응이 종결된 후 진공감압하여 70℃에서 톨루엔을 완전 증류시켰다.
투명한 액체의 중합생성물 948 g이 얻어졌으며, 이때의 굴절율은 1.6383이었다.
이어서, 상술한 반응에서 얻어진 나프탈렌 변성 아크릴레이트 수지에 반응성 단량체 및 광중합 개시제를 합성하여 이루어지는 광경화형 수지 조성물에 대하여 살펴본다.
상술한 반응에서 제조된 나프탈렌 변성 아크릴레이트에 반응성 아크릴레이트 모노머 및 광중합 개시제를 혼합하여 광경화형 수지 조성물을 제조한다.
이 때 사용되는 나프탈렌 변성 아크릴레이트는 10 내지 80 중량%, 바람직하기로는 20 내지 70 중량%를 사용한다.
반응성 아크릴레이트 또는 비닐 단량체로는, 분자 중에 1개 이상의 아크릴레이트 또는 비닐기를 가진 단량체를 사용한다.
반응성 아크릴레이트 또는 비닐 단량체는, 1 관능기를 가진 모노머로써, 엔-비닐 카프로 락탐, 아크릴로일 몰포린, 페녹시 에틸 아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 테트라 에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 헥사에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 디사이클로 펜타디엔 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트 및 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택하고, 2 관능기를 가진 모노머로는 트리프로필렌글리콜 디 아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디 아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아뉴레이트 디아크릴레이트, 디메틸올 트리 사이클로 데칸 디아크릴레이트 및 에틸렌 옥사이드 부가형 비스 페놀 A 디아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되고, 3 관능기 이상을 가진 모노머로는 에틸렌 옥사이드 3몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(아크릴로옥시에틸)이소시아뉴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 화합물을 사용한다.
여기서, 반응성 아크릴레이트 단량체의 양은 5 내지 70 중량%, 바람직하게는 10 내지 60 중량%를 사용한다.
또한, 광경화형 수지 조성물을 제조할 때 사용되는 광중합 개시제로는 벤조페논 및 그 유도체, 벤조인, 벤조인 알킬 에테르 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐케톤, 디에톡시아세토페논, 포스핀 옥사이드 계, 아미노 아세토페논계, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로파-1-논, 2-벤질-2-디메틸아미드-1-(4-몰포리나페닐)-부타난으로 이루어진 군에서 선택되는 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 그 사용량은 0.5 내지 15 중량%, 바람직하게는 1 내지 10 중량%를 사용한다.
또한, 상술한 광경화형 수지 조성물을 투명기재필름(PET 필름)의 코팅된 코팅면과 접촉시킨 상태에서 투명기재필름 쪽으로 자외선을 조사하여 프레임에 코팅된 조성물을 광경화시키고, 투명기재필름에 접착되어 경화된 코팅층을 분리하여 투명기재필름의 일면에 프리즘층이 형성된 프리즘 필름을 제조한다.
상술한 나프탈렌 변성 아크릴레이트 생성예 1 내지 4에서 얻은 나프탈렌 변성 아크릴레이트에 반응성 아크릴레이트 또는 비닐 단량체 및 광중합 개시제를 첨가하고 그 특성를 살펴보았다.
[표 1]은 본 발명에 따른 생성예 1 내지 4에서 얻은 나프탈렌 변성 아크릴레이트을 각각 sample-A 내지 sample-D로 나타내고, 비교 대상인 타사의 브롬계 고굴절 아크릴레이트을 sample-E로 나타내고, 각각 반응성 단량체(엔-비닐 카프로락탐, 디사이클로펜타디엔 아크릴레이트, 아크릴로일 몰포린)와 광중합 개시제(1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐 케톤)을 첨가한 샘플 배합비를 나타낸 것이다.
[표 2]는 [표 1]의 샘플들을 자외선램프로 경화시킨 후 물성을 평가하여 그 결과를 개시한 것이다.
실 시 예 비교예
Sample-A Sample-B Sample-C Sample-D Sample-E
배 합 비 (중 량 부) 실시예 1의 화합물 100
실시예 2의 화합물 100
실시예 3의 화합물 100
실시예 4의 화합물 100
RDX-51027(주1) 100
엔-비닐 카프로락탐(주2) 20 20 20 20 20
디사이클로펜타디엔 아크릴레이트(주2) 20 20 20 20 20
아크릴로일 몰포린(주2) 10 10 10 10 10
TPO(주3) 3 3 3 3 3
Irgacure-184(주4) 3 3 3 3 3
(주1) 미국 싸이텍사의 브롬계 고굴절 아크릴레이트
(주2) 반응성 아크릴레이트 또는 비닐 단량체
(주3) 광개시제:2,4,6-트리메틸 벤조일 포스핀 옥사이드
(주4) 광개시제: 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐 케톤
실 시 예 비교예
Sample-A Sample-B Sample-C Sample-D Sample-E
굴절율(25도) 1.6530 1.6490 1.6435 1.6383 1.5972
경화성(mJ/cm2) 200 200 200 250 250
연필경도 3H 3H 2H 2H F
부착성 100/100 100/100 100/100 100/100 90/100
내마모성(mg) 19 22 27 35 68
[표 2]에 개시된 바와 같이, 본 발명에 따른 비스플루오렌 변성 우레탄 아크릴레이트(sample-A 내지 sample-D)의 특성이 비교 대상인 타사의 브롬계 고굴절 아크릴레이트(sample-E) 보다 굴절율, 경화성, 연필경도, 부착성 및 내마모성에서 우수한 특성을 나타내고 있다.
참고로, [표 2]에 개시된 특성치에 대한 물성 시험 방법은 다음을 기준으로 하여 시험한 결과이다.
(1) 굴절율: 굴절율은 아타고사의 아베 굴절계인 아타고 3T를 사용하여 눈금이 일치하는 값을 소수점 넷째자리까지 읽는다.
(2) 경화성 : 200 × 200 mm의 PET 시트 두께 20 마이크론으로 코팅한 후 120W의 고압 수은등으로 된 자외선 경화 장치로 경화시키는데 필요한 에너지를 계산한다.
(3) 연필경도: 연필경도는 연필 끝 선단을 샌드 페이퍼 400번으로 평탄하고 모서리가 예리해지도록 하여 45도 경사를 주고 1Kg하중을 시험면에 가하고 연필심의 방향으로 약 3mm/sec속도로 길이 약 20mm의 긁기의 위치를 변화 하면서 5회 실시하여 시험면에 부착된 연필의 흑연을 고무 지우개 또는 가제로 닦아내어 시험면의 홈 상태를 조사한다. 이 경우 부드러운 연필부터 5회 실시하여 3회이상 긁힘이 없어야 하며 실시길이는 30mm이며 각 회 줄의 시작점에서 10mm는 판정에서 제외한다. 연필의 경도는 6B,　5B, 4B, 3B, 2B, B, HB, F, H, 2H, 3H, 4H, 5H, 6H의 순으로 가면 갈수록 점점 더 경도가 높다.
(4) 부착성: 부착성은 PET필름의 코팅한 면에 줄간격 1.5mm로 11줄씩 가로줄과 세로줄을 그어서 칸의 수가 100칸이 되게 한 다음, 3M사의 셀로테이프 600번을 붙였다가 바로 떼어내서 100칸중 남아 있는 칸의 수를 센다(ASTM D3359).
(5) 내마모성(mg) : Taber사의 Taber abraser를 사용하여 abrading wheel에 500 g의 하중을 가하고 100 cycle을 회전시켜서 마모가 되어 감소한 무게(mg)를 측정하여 마모된 정도를 측정한다.숫자가 낮을수록 감소한 무게한 작은만큼 내마모성이 우수하다고 볼 수 있다.
이러한 결과에 따라 본 발명에 따른 나플탈렌 변성 아크릴레이트 수지는 기존의 아크릴레이트 수지보다 굴절율이 월등히 높고 각종 기재에 대한 접착력이 우수하고 내마모성이 매우 우수하여 광학필름, 카메라, 복사기 ,프린터 등에 사용되는 산업용 광학렌즈, 안경재료용 광학 렌즈 및 기타 광학재료에 이용될 수 있을 것이다.
상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
상술한 본 발명의 구성에 따른 본 발명의 나프탈렌 변성 아크릴레이트 및 광경화형 수지 조성물은 종래의 것 보다 굴절율이 높고 각종 기재에 대한 접착력이 우수하고 경도가 높고 내마모성이 매우 우수한 특성을 갖는다.
또한, 본 발명의 나프탈렌 변성 아크릴레이트 및 광경화형 수지 조성물을 이용하여 제조된 광학 필름은, 카메라, 복사기 ,프린터 등에 사용되는 산업용 광학렌즈, 안경재료용 광학 렌즈 및 기타 광학재료에도 이용이 가능하고 플라스틱 하드 코팅재료 및 각종 코팅재료로도 충분히 이용이 가능하다.

Claims (10)

  1. 분자 중에 1개 이상의 아크릴레이트기 또는 메타아크레이트기를 갖고, 한 분자 이상의 나프탈렌을 함유하는 나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물과;
    카르복시산을 함유하는 아크릴레이트 화합물;을 반응시켜 분자 내에 나프탈렌 구조를 갖는, 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물은 분자량이 200 내지 3000 인, 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트 화합물로는,
    아크릴산, 메타아크릴산, 아크릴산 다이머 또는 락톤 변성 아크릴산에서 선택되거나,
    카르복시산 무수물과 하이드록시 아크릴레이트와 반응하여 생성되는 하프에스터 아크릴레이트로 선택되는, 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 하프에스터 아크릴레이트의 카르복시산 무수물로는,
    무수프탈산, 무수말레인산, 헥사하이드로 무수프탈산 등의 2 염기성 카르복실산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 4,5-무수디메톡시프탈산, 3,6-무수디하이드록시프탈산, 3,6-디하이드록시-4-메틸무수프탈산, 3,6-디메톡시-4,5-메틸렌 디하이드록시 무수프탈산, 3,4-디메틸 무수프탈산, 3,6-디메틸 무수프탈산, 4,5-디메틸 무수프탈산, 3-메틸 무수프탈산, 4-메틸 무수프탈산, 3-메톡시 무수프탈산, 4-메톡시프탈산, 3-메톡시-4,6-디메틸 무수프탈산, 4-이소프로필-3,5,6-트리메톡시 무수프탈산, 4-하이드록시 무수프탈산, 3-하이드록시-4-메톡시 무수프탈산, 3-하이드록시-5-메톡시 무수프탈산, 6-하이드록시-4-메톡시-3-메틸 무수프탈산, 6-이소부틸-3,4-디메틸 무수프탈산, 3-프로필 무수프탈산, 트리멜리틱산무수물, 파이로멜리틱산무수물, 2,3,3`,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-벤조페논테트라 카르복실산 이무수물, 비스(3,4-디카르복실페닐)에테르 이무수물, 비스(3,4-디카르목실페닐)메탄 이무수물, 메틸-3,6-엔도 메틸렌테트라하이드로 무수프탈산, 3,6-엔도 메틸렌테트라 하이드로 무수프탈산 등의 무수프탈산 유도체로 이루어진 군에서 선택되는, 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 하프에스터 아크릴레이트의 하이드록시 아크릴레이트로는,
    하이드록시 에틸 아크릴레이트, 하이드록시프로필 아크릴레이트, 하이드록시 부틸 아크릴레이트, 카프로락톤 변성 하이드록시 아크릴레이트, 글리세롤 디아크릴 레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 디메틸올프로판 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타아크릴레이트, 솔비톨 펜타아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는, 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트.
  6. 분자 중에 1개 이상의 아크릴레이트기 또는 메타아크레이트기를 갖고, 한 분자 이상의 나프탈렌을 함유하는 나프탈렌 변성 폴리에폭시 화합물과, 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트 화합물을 반응시켜 분자 내에 나프탈렌 구조를 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트와;
    분자 중에 1개 이상의 비닐 또는 아크릴레이트기 또는 메타아크레이트기를 갖는 반응성 단량체와;
    광중합 개시제;를 포함하는, 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트를 포함하는 광경화형 수지 조성물.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 광경화형 수지 조성물의 반응 촉매는,
    트리에틸 아민, 벤질디메틸 아민, 벤질트리메틸 암모늄 클로라이드, 벤질 트리에틸 암모늄 클로라이드, 테트라 메틸 암모늄 클로라이트, 테트라 부틸 암모늄 클로라이드, 테트라 에틸 암모늄 클로라이드, 테트라 에틸 암모늄 브로마이드, 테트라 부틸 암모늄 브로마이드로 이루어진 군에서 선택되는, 고굴절율을 갖는 나프 탈렌 변성 아크릴레이트를 포함하는 광경화형 수지 조성물.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 반응성 단량체는,
    1 관능기를 가진 단량체로써, 엔-비닐 카프로락탐, 아크릴로일 몰포린, 벤질 아크릴레이트,디사이클로펜타디엔 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 페녹시 에틸 아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 테트라 에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 헥사에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트 및 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되고,
    2 관능기를 가진 단량체로는, 네오펜틸 아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디 아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디 아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아뉴레이트 디아크릴레이트, 디메틸올 트리 사이클로 데칸 디아크릴레이트 및 에틸렌 옥사이드 부가형 비스 페놀 A 디아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되고,
    3 관능기 이상을 가진 단량체로는, 에틸렌 옥사이드 3몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(아크릴로옥시에틸)이소시아뉴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는, 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트를 포함하는 광경화형 수지 조성물.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 광중합 개시제는,
    벤조페논 및 그 유도체, 벤조인, 벤조인 알킬 에테르 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐케톤, 디에톡시아세토페논, 포스핀 옥사이드 계, 아미노 아세토페논계, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로파-1-논, 2-벤질-2-디메틸아미드-1-(4-몰포리나페닐)-부타난으로 이루어진 군에서 선택되는, 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트를 포함하는 광경화형 수지 조성물.
  10. 투명기재필름과;
    상기 투명기재필름의 일면에 프리즘층을 형성하는 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항의 광경화형 수지 조성물;로 제조되는, 고굴절율을 갖는 나프탈렌 변성 아크릴레이트를 포함하는 광학 필름.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN114479033A (zh) * 2020-10-26 2022-05-13 中国石油化工股份有限公司 一种可交联聚己内酯及其制备方法与应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0680761A (ja) * 1992-09-01 1994-03-22 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd エポキシ樹脂の（メタ）アクリレート化合物の製造方法及び該化合物を含有するホトソルダーレジスト樹脂組成物
JPH11263749A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Tokuyama Corp （メタ）アクリレート誘導体
JP2002138131A (ja) * 2000-11-01 2002-05-14 Japan U-Pica Co Ltd エポキシ（メタ）アクリレート及び該エポキシ（メタ）アクリレートを用いた樹脂組成物並びにこれらの硬化物
KR20040099333A (ko) * 2002-03-18 2004-11-26 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 수지조성물 및 광학소자

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0680761A (ja) * 1992-09-01 1994-03-22 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd エポキシ樹脂の（メタ）アクリレート化合物の製造方法及び該化合物を含有するホトソルダーレジスト樹脂組成物
JPH11263749A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Tokuyama Corp （メタ）アクリレート誘導体
JP2002138131A (ja) * 2000-11-01 2002-05-14 Japan U-Pica Co Ltd エポキシ（メタ）アクリレート及び該エポキシ（メタ）アクリレートを用いた樹脂組成物並びにこれらの硬化物
KR20040099333A (ko) * 2002-03-18 2004-11-26 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 수지조성물 및 광학소자

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009088237A3 (ko) * 2008-01-08 2009-10-15 주식회사 엘지화학 투명한 수지 조성물
CN114479033A (zh) * 2020-10-26 2022-05-13 中国石油化工股份有限公司 一种可交联聚己内酯及其制备方法与应用

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