JPH08248202A - 光学補償用フイルム、その製造方法およびそれを用いた液晶ディスプレー - Google Patents
光学補償用フイルム、その製造方法およびそれを用いた液晶ディスプレーInfo
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- JPH08248202A JPH08248202A JP7048403A JP4840395A JPH08248202A JP H08248202 A JPH08248202 A JP H08248202A JP 7048403 A JP7048403 A JP 7048403A JP 4840395 A JP4840395 A JP 4840395A JP H08248202 A JPH08248202 A JP H08248202A
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- film
- optical compensation
- refractive index
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- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 視野角依存性の小さい液晶ディスプレー用の
光学補償フイルムおよびその製造法を提供する。 【構成】 該光学補償フイルムは、フェノキシ樹脂の側
鎖にアリールウレタン基を導入した特定のポリマーから
得られたフイルムであり、フイルム面に対する垂直方向
の屈折率(nz )が高められたフイルムである。これら
は、該ポリマーをキャスト製膜して得られ、光学補償フ
イルムが位相差補償用フイルムの場合には該フイルムを
一軸延伸して得られる。また、未延あるいは延伸フイル
ムを用いて、フイルム面に垂直方向の屈折率が面内進相
軸方向のそれより高いフイルムを得ることができる。そ
の場合、アリールウレタン基がニトロ基の様な電子吸引
基を導入したポリマーで効果的に(nz )を高めること
が出来る。
光学補償フイルムおよびその製造法を提供する。 【構成】 該光学補償フイルムは、フェノキシ樹脂の側
鎖にアリールウレタン基を導入した特定のポリマーから
得られたフイルムであり、フイルム面に対する垂直方向
の屈折率(nz )が高められたフイルムである。これら
は、該ポリマーをキャスト製膜して得られ、光学補償フ
イルムが位相差補償用フイルムの場合には該フイルムを
一軸延伸して得られる。また、未延あるいは延伸フイル
ムを用いて、フイルム面に垂直方向の屈折率が面内進相
軸方向のそれより高いフイルムを得ることができる。そ
の場合、アリールウレタン基がニトロ基の様な電子吸引
基を導入したポリマーで効果的に(nz )を高めること
が出来る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フイルム面に対して垂
直方向の屈折率(nz )が高められた新規な光学補償用
フイルムとその製造法に関するものである。さらには、
この光学補償用フイルムを位相板に用いた視覚依存性が
改善された液晶ディスプレーに関するものである。
直方向の屈折率(nz )が高められた新規な光学補償用
フイルムとその製造法に関するものである。さらには、
この光学補償用フイルムを位相板に用いた視覚依存性が
改善された液晶ディスプレーに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレーは著しい技術的
進歩を遂げ、社会のすみずみにまで浸透しつつある。そ
のうち、STN型液晶ディスプレーおよびTN型液晶デ
ィスプレーの進歩が著しく、これらの液晶ディスプレー
では配向高分子からなる光学補償用フイルムが重要な役
割を果たしている。すなわち、液晶ディスプレーにおい
ては、画像の視認性を向上させるために液晶層と偏光板
との間に光学補償用フイルムが積層されている。例え
ば、STN型液晶ディスプレーにおいて、光学補償用フ
イルムは、液晶層を透過した楕円偏光を直線偏光に変換
する位相差補償の役割を担っている。
進歩を遂げ、社会のすみずみにまで浸透しつつある。そ
のうち、STN型液晶ディスプレーおよびTN型液晶デ
ィスプレーの進歩が著しく、これらの液晶ディスプレー
では配向高分子からなる光学補償用フイルムが重要な役
割を果たしている。すなわち、液晶ディスプレーにおい
ては、画像の視認性を向上させるために液晶層と偏光板
との間に光学補償用フイルムが積層されている。例え
ば、STN型液晶ディスプレーにおいて、光学補償用フ
イルムは、液晶層を透過した楕円偏光を直線偏光に変換
する位相差補償の役割を担っている。
【0003】そして、かかる光学補償用フイルムとして
は、主としてビスフェノールA系ポリカーボネートの一
軸延伸フイルムが用いられ実用化されている。その理由
は、(1)透明性が高い、(2)高い屈折率異方性を示
す、(3)耐熱性が高い、など光学補償用フイルムに要
求される必要条件を満たしているためである。しかしな
がら、このポリカーボネートフイルムを用いても、画像
を斜め方向から見た場合には補償効果が十分に発揮され
ず、視野角依存性の問題が解決されていない。その主な
原因は、製膜過程や一軸延伸により、ポリカーボネート
分子が面配向して、フイルム面に対して垂直方向の屈折
率(nz )がフイルム面内の進相軸方向の屈折率より低
くなるためである。特にこの傾向は、一軸延伸で顕著に
現れる。
は、主としてビスフェノールA系ポリカーボネートの一
軸延伸フイルムが用いられ実用化されている。その理由
は、(1)透明性が高い、(2)高い屈折率異方性を示
す、(3)耐熱性が高い、など光学補償用フイルムに要
求される必要条件を満たしているためである。しかしな
がら、このポリカーボネートフイルムを用いても、画像
を斜め方向から見た場合には補償効果が十分に発揮され
ず、視野角依存性の問題が解決されていない。その主な
原因は、製膜過程や一軸延伸により、ポリカーボネート
分子が面配向して、フイルム面に対して垂直方向の屈折
率(nz )がフイルム面内の進相軸方向の屈折率より低
くなるためである。特にこの傾向は、一軸延伸で顕著に
現れる。
【0004】このような問題を解決するためにはフイル
ム面に垂直方向の屈折率(nz )をフイルム面内の進相
軸方向の屈折率より高くするとよいことが原理的には知
られている。そして、この目的を達成する手段として、
延伸方向の屈折率(nx )がそれと直交する方向の屈折
率(ny )より高い正の副屈折率を有するフイルムに、
延伸方向の屈折率(nx )がそれと直交する方向の屈折
率(ny )より低い負の複屈折率を有するフイルムを貼
り合わせる方法が多数提案されている(例えば、特開平
3―24502号、特開平3―85519号、特開平3
―109508号、特開平4―42202号、特開平4
―56802号など)。
ム面に垂直方向の屈折率(nz )をフイルム面内の進相
軸方向の屈折率より高くするとよいことが原理的には知
られている。そして、この目的を達成する手段として、
延伸方向の屈折率(nx )がそれと直交する方向の屈折
率(ny )より高い正の副屈折率を有するフイルムに、
延伸方向の屈折率(nx )がそれと直交する方向の屈折
率(ny )より低い負の複屈折率を有するフイルムを貼
り合わせる方法が多数提案されている(例えば、特開平
3―24502号、特開平3―85519号、特開平3
―109508号、特開平4―42202号、特開平4
―56802号など)。
【0005】しかしながら、これらの方法は、工程が二
倍になるため、生産性が低下しコストが増大するだけで
なく、透過率の減少に伴う光損失、積層に伴う光軸合わ
せの問題、接着の問題など様々な問題を内抱する。その
ため、単層フイルムでこのような特性を発現するものが
要望されているが、未だ効果的なものは実現されていな
い。
倍になるため、生産性が低下しコストが増大するだけで
なく、透過率の減少に伴う光損失、積層に伴う光軸合わ
せの問題、接着の問題など様々な問題を内抱する。その
ため、単層フイルムでこのような特性を発現するものが
要望されているが、未だ効果的なものは実現されていな
い。
【0006】一方、TN型液晶ディスプレーにおいて
は、面内は等方性であって、垂直方向の屈折率(nz )
が低いかあるいは高いフイルム、すなわち(nz )>
(na )=(nb )(なお、未延伸フイルムでは、(n
a )および(nb )はフイルム面内で直交する任意の二
つの軸方向の屈折率と定義する。)、あるいは(nz )
<(na )=(nb )である複屈折率フイルムが光学補
償用フイルムとして要望されている。
は、面内は等方性であって、垂直方向の屈折率(nz )
が低いかあるいは高いフイルム、すなわち(nz )>
(na )=(nb )(なお、未延伸フイルムでは、(n
a )および(nb )はフイルム面内で直交する任意の二
つの軸方向の屈折率と定義する。)、あるいは(nz )
<(na )=(nb )である複屈折率フイルムが光学補
償用フイルムとして要望されている。
【0007】ポリカーボネートフイルムの場合は、通常
の溶液キャスト法で製膜すると製膜時に不可避的に生ず
る面配向のために、後者の(nz )<(na )=
(nb )の複屈折特性を示すフイルムは得られるが、前
者の(nz )>(na )=(nb )の複屈折特性を示す
フイルムは得られない。
の溶液キャスト法で製膜すると製膜時に不可避的に生ず
る面配向のために、後者の(nz )<(na )=
(nb )の複屈折特性を示すフイルムは得られるが、前
者の(nz )>(na )=(nb )の複屈折特性を示す
フイルムは得られない。
【0008】このような事情で、STN型ディスプレー
分野でもTN型液晶ティスプレー分野でも、フイルム面
に垂直方向の屈折率(nz )が高められた優れた光学特
性を有する光学補償用フイルムは実現されていない。
分野でもTN型液晶ティスプレー分野でも、フイルム面
に垂直方向の屈折率(nz )が高められた優れた光学特
性を有する光学補償用フイルムは実現されていない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、単層でフイルム面に対して垂直方向の屈折率
(nz )を高めることのできる新規な光学補償用フイル
ムを提供することにある。本発明の他の目的は、このフ
イルムを用いてフイルム面に対し垂直方向の屈折率(n
z)が高められた液晶ディスプレー用として好適な新規
な光学補償用フイルムを提供することにある。本発明の
さらに他の目的は、かかるフイルムを工業的に製造する
方法を提供することにある。
は、単層でフイルム面に対して垂直方向の屈折率
(nz )を高めることのできる新規な光学補償用フイル
ムを提供することにある。本発明の他の目的は、このフ
イルムを用いてフイルム面に対し垂直方向の屈折率(n
z)が高められた液晶ディスプレー用として好適な新規
な光学補償用フイルムを提供することにある。本発明の
さらに他の目的は、かかるフイルムを工業的に製造する
方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、正負の複
屈折性を示すフイルムを積層する代わりに単層で同様の
効果を発現する光学補償用フイルムを実現すべく鋭意研
究の結果、高い正の複屈折性を示す高分子重合体の側鎖
に高い屈折率を示す側鎖基を導入した特殊なポリマーか
らなるフイルムにあっては、一軸延伸の際に主鎖を面配
向させると共に側鎖基をフイルム面に垂直方向に配向さ
せることにより、面配向に伴う(nz )の低下を側鎖に
よって補うことが出来ると考えた。そして、この着想を
もとにさらに研究を重ね、フェノキシ樹脂に側鎖として
アリールウレタンを導入させることによって、実際に高
い(nz )/(ny )比のフイルムが得られることを見
い出した。
屈折性を示すフイルムを積層する代わりに単層で同様の
効果を発現する光学補償用フイルムを実現すべく鋭意研
究の結果、高い正の複屈折性を示す高分子重合体の側鎖
に高い屈折率を示す側鎖基を導入した特殊なポリマーか
らなるフイルムにあっては、一軸延伸の際に主鎖を面配
向させると共に側鎖基をフイルム面に垂直方向に配向さ
せることにより、面配向に伴う(nz )の低下を側鎖に
よって補うことが出来ると考えた。そして、この着想を
もとにさらに研究を重ね、フェノキシ樹脂に側鎖として
アリールウレタンを導入させることによって、実際に高
い(nz )/(ny )比のフイルムが得られることを見
い出した。
【0011】さらに、この系において(nz )/
(ny )をより効果的に高める方法についても鋭意研究
の結果、アリール基にニトロ基のような高い電子吸引基
を導入すると、電界印加により(nz )/(ny )が効
果的に増大することを併せて見い出した。
(ny )をより効果的に高める方法についても鋭意研究
の結果、アリール基にニトロ基のような高い電子吸引基
を導入すると、電界印加により(nz )/(ny )が効
果的に増大することを併せて見い出した。
【0012】本発明は、かかる新知見に基づきなされた
もので、下記式(1)で示される繰返し単位100〜1
0モル%と下記式(2)で示される繰返し単位0〜90
モル%とからなるフイルム形成性ポリマーを主成分とす
ることを特徴とする新規な光学補償用フイルムである。
もので、下記式(1)で示される繰返し単位100〜1
0モル%と下記式(2)で示される繰返し単位0〜90
モル%とからなるフイルム形成性ポリマーを主成分とす
ることを特徴とする新規な光学補償用フイルムである。
【0013】
【化2】
【0014】(上記式(1)(2)中、Arは炭素数6
〜15の1価の芳香族基であり、該芳香族基の水素の一
部または全部が炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン
基、ニトロ基またはニトリル基によって置換されていて
もよい。また、X1 、X2 、X3、X4 はそれぞれ水素
原子またはハロゲン基であり、これらは互いに同一でも
相異なるものでもよい。) かかるフイルムの中でも、上記式(1)中のArが0.
2以上のハメットのσ値を有する置換基を含むフェニル
基であるポリマーからなるものが、電界印加により(n
z )/(ny )が効果的に増大するので、特に好適であ
る。
〜15の1価の芳香族基であり、該芳香族基の水素の一
部または全部が炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン
基、ニトロ基またはニトリル基によって置換されていて
もよい。また、X1 、X2 、X3、X4 はそれぞれ水素
原子またはハロゲン基であり、これらは互いに同一でも
相異なるものでもよい。) かかるフイルムの中でも、上記式(1)中のArが0.
2以上のハメットのσ値を有する置換基を含むフェニル
基であるポリマーからなるものが、電界印加により(n
z )/(ny )が効果的に増大するので、特に好適であ
る。
【0015】また、このような本発明のフイルムの典型
的な態様においては、該フイルム面に垂直方向の屈折率
(nz )が高められているという光学的特性を有する。
的な態様においては、該フイルム面に垂直方向の屈折率
(nz )が高められているという光学的特性を有する。
【0016】本発明のフイルムは、未延伸フイルムでも
延伸フイルムでもよいが、未延伸フイルムにおいては、
該フイルムの面内で直交する任意の二つの軸方向の屈折
率(na )および(nb )が実質的に等しく、かつ、該
フイルム面に垂直方向の屈折率(nz )が上記(na )
および(nb )のいずれよりも高いという特徴を有す
る。
延伸フイルムでもよいが、未延伸フイルムにおいては、
該フイルムの面内で直交する任意の二つの軸方向の屈折
率(na )および(nb )が実質的に等しく、かつ、該
フイルム面に垂直方向の屈折率(nz )が上記(na )
および(nb )のいずれよりも高いという特徴を有す
る。
【0017】また、本発明のフイルムは、一軸延伸され
たフイルムであることもでき、この場合は、該フイルム
面に対して垂直方向の屈折率(nz )のフイルム面内で
延伸軸に直交する軸方向の屈折率(ny )に対する比、
すなわち(nz )/(ny )が、0.998〜1.00
4であることが好ましく、特に、該フイルム面に対して
垂直軸(z軸)と延伸軸(x軸)の作る面内でz軸から
30°傾けた方向から光を入射した場合のリタデーショ
ン(R30)のz軸方向から入射した場合のリタデーショ
ン(R0 )に対する比、すなわちR30/R0 が、0.9
3〜1.07である光学補償用フイルムが好ましい。
たフイルムであることもでき、この場合は、該フイルム
面に対して垂直方向の屈折率(nz )のフイルム面内で
延伸軸に直交する軸方向の屈折率(ny )に対する比、
すなわち(nz )/(ny )が、0.998〜1.00
4であることが好ましく、特に、該フイルム面に対して
垂直軸(z軸)と延伸軸(x軸)の作る面内でz軸から
30°傾けた方向から光を入射した場合のリタデーショ
ン(R30)のz軸方向から入射した場合のリタデーショ
ン(R0 )に対する比、すなわちR30/R0 が、0.9
3〜1.07である光学補償用フイルムが好ましい。
【0018】かかる光学補償用フイルムは、上記のポリ
マーを主成分とするフイルムを成形し、これを一軸延伸
するか、あるいは、未延伸フイルムまたは一軸延伸した
フイルムに、該フイルムの面に対し垂直方向に電界を印
加することによって、効率的に製造される。この際、未
延伸フイルムの面に対し、垂直方向に電界を印加しなが
ら一軸延伸することも可能である。
マーを主成分とするフイルムを成形し、これを一軸延伸
するか、あるいは、未延伸フイルムまたは一軸延伸した
フイルムに、該フイルムの面に対し垂直方向に電界を印
加することによって、効率的に製造される。この際、未
延伸フイルムの面に対し、垂直方向に電界を印加しなが
ら一軸延伸することも可能である。
【0019】以下、本発明の光学補償用フイルムについ
て詳述する。
て詳述する。
【0020】本発明のフイルムを構成するポリマーは、
実質的に下記式(1)の繰返し単位のみからなるか、ま
たは、下記式(1)の繰返し単位と下記式(2)の繰返
し単位とからなり、かつ、下記式(1)の繰返し単位を
10モル%以上含むポリマーである。
実質的に下記式(1)の繰返し単位のみからなるか、ま
たは、下記式(1)の繰返し単位と下記式(2)の繰返
し単位とからなり、かつ、下記式(1)の繰返し単位を
10モル%以上含むポリマーである。
【0021】
【化3】
【0022】上記のポリマーは、フェノキシ樹脂と置換
または非置換のアリールイソシアネートとの高分子付加
反応により容易に得られる。そのため、このポリマーで
はアリールウレタンが導入されている繰り返し単位
(1)と導入されていない繰り返し単位(2)とは統計
的に(ランダムに)分布している。骨格のフェニレン基
の置換基X1 〜X4 はそれぞれ水素原子および/または
ハロゲン基である。このハロゲン基としてはBr原子が
入手の容易さおよび耐熱性の観点から好ましい。
または非置換のアリールイソシアネートとの高分子付加
反応により容易に得られる。そのため、このポリマーで
はアリールウレタンが導入されている繰り返し単位
(1)と導入されていない繰り返し単位(2)とは統計
的に(ランダムに)分布している。骨格のフェニレン基
の置換基X1 〜X4 はそれぞれ水素原子および/または
ハロゲン基である。このハロゲン基としてはBr原子が
入手の容易さおよび耐熱性の観点から好ましい。
【0023】フェノキシ樹脂は主鎖にフェニレン基を有
するポリマーであるため、典型的な正の複屈折率を示
す。フェノキシ樹脂としては、分子量10,000〜5
00,000、好ましくは20,000〜200,00
0のものが用いられる。これより分子量が小さいと得ら
れたフイルムの力学強度が低いため好ましくなく、これ
より大きいと製膜時の溶液粘度が高くなるため、好まし
くない。
するポリマーであるため、典型的な正の複屈折率を示
す。フェノキシ樹脂としては、分子量10,000〜5
00,000、好ましくは20,000〜200,00
0のものが用いられる。これより分子量が小さいと得ら
れたフイルムの力学強度が低いため好ましくなく、これ
より大きいと製膜時の溶液粘度が高くなるため、好まし
くない。
【0024】上記式(1)の如く導入されるアリールウ
レタンにおけるArは、置換または非置換の炭素数6〜
15の1価の芳香族(アリール)基である。好適な芳香
族基(Ar)としては、フェニル基、ナフチル基、ビフ
ェニル基が挙げられる。これらは、単独でもよいし2種
以上併用してもよい。また、芳香核の置換基(X1 〜X
4 )としては、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン
基、ニトロ基、ニトリル基などが例示される。これらの
中も、ハロゲン基、ニトロ基、ニトリル基などのハメッ
トのσ値が0.2以上のものが好ましい。その理由は、
ポリマーに結合するウレタン結合が電子供与性であるた
めに、電子吸引性の置換基と協同して大きい双極子を作
るためであり、電界配向しやすくなるためである。ま
た、双極子能率を大きくする観点からは、置換位置がウ
レタン結合位置から見て遠くに位置するものが効果的で
ある。これらの組合せを勘案した好適な具体例として
は、フェニル基、p―ニトロフェニル基、3,5―ジニ
トロフェニル基、p―クロロフェニル基、p―ブロモフ
ェニル基、4―ニトロナフチル基、4′―ニトロビフェ
ニル基などが挙げられる。特に、p―ニトロフェニル基
は、原料イソシアネートの入手の容易さ、ニトロ基の高
い電子吸引性に基づく大きい双極子能率、ニトロ基の電
子吸引効果に基づくイソシアネートの高い反応性、導入
に伴う耐熱性の向上などの観点から最も好ましい。
レタンにおけるArは、置換または非置換の炭素数6〜
15の1価の芳香族(アリール)基である。好適な芳香
族基(Ar)としては、フェニル基、ナフチル基、ビフ
ェニル基が挙げられる。これらは、単独でもよいし2種
以上併用してもよい。また、芳香核の置換基(X1 〜X
4 )としては、炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン
基、ニトロ基、ニトリル基などが例示される。これらの
中も、ハロゲン基、ニトロ基、ニトリル基などのハメッ
トのσ値が0.2以上のものが好ましい。その理由は、
ポリマーに結合するウレタン結合が電子供与性であるた
めに、電子吸引性の置換基と協同して大きい双極子を作
るためであり、電界配向しやすくなるためである。ま
た、双極子能率を大きくする観点からは、置換位置がウ
レタン結合位置から見て遠くに位置するものが効果的で
ある。これらの組合せを勘案した好適な具体例として
は、フェニル基、p―ニトロフェニル基、3,5―ジニ
トロフェニル基、p―クロロフェニル基、p―ブロモフ
ェニル基、4―ニトロナフチル基、4′―ニトロビフェ
ニル基などが挙げられる。特に、p―ニトロフェニル基
は、原料イソシアネートの入手の容易さ、ニトロ基の高
い電子吸引性に基づく大きい双極子能率、ニトロ基の電
子吸引効果に基づくイソシアネートの高い反応性、導入
に伴う耐熱性の向上などの観点から最も好ましい。
【0025】上記フェノキシ樹脂における(アリール)
ウレタン導入率は10〜100モル%(0.1〜1.
0)、好ましくは20〜100モル%(0.2〜1.
0)とする。それ以下では、得られるフイルムのフイル
ム面に垂直方向の屈折率(nz )を高める効果が十分に
発現しないばかりか、耐熱性(Tg)の点でも十分でな
いため、好ましくない。
ウレタン導入率は10〜100モル%(0.1〜1.
0)、好ましくは20〜100モル%(0.2〜1.
0)とする。それ以下では、得られるフイルムのフイル
ム面に垂直方向の屈折率(nz )を高める効果が十分に
発現しないばかりか、耐熱性(Tg)の点でも十分でな
いため、好ましくない。
【0026】本発明においては、上記のポリマーに、光
学補償用フイルムとしての諸物性を損ねない範囲で可塑
剤などの添加剤を加えてもよい。可塑剤の具体例として
は、ジエチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジオ
クチルアジペート等のエステル系可塑剤、トリクレジル
ホスフェート、トリエチルホスフェート等のリン酸エス
テル系可塑剤などが挙げられる。可塑剤の添加量は一般
に2〜20重量%、好ましくは5〜15重量%の範囲で
ある。
学補償用フイルムとしての諸物性を損ねない範囲で可塑
剤などの添加剤を加えてもよい。可塑剤の具体例として
は、ジエチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジオ
クチルアジペート等のエステル系可塑剤、トリクレジル
ホスフェート、トリエチルホスフェート等のリン酸エス
テル系可塑剤などが挙げられる。可塑剤の添加量は一般
に2〜20重量%、好ましくは5〜15重量%の範囲で
ある。
【0027】本発明の光学補償用フイルムの厚さは通常
10〜300μm、好ましくは20〜200μmの範囲
が適当である。厚さが小さすぎると光学的均質性が得難
いばかりか、高いリタデーション(Re=Δn・d、た
だしΔnは複屈折率、dはフイルム厚)を取り得ないた
め好ましくない。また、厚さが過大になると乾燥が十分
行えないなどの製膜上の欠点が生じるため好ましくな
い。
10〜300μm、好ましくは20〜200μmの範囲
が適当である。厚さが小さすぎると光学的均質性が得難
いばかりか、高いリタデーション(Re=Δn・d、た
だしΔnは複屈折率、dはフイルム厚)を取り得ないた
め好ましくない。また、厚さが過大になると乾燥が十分
行えないなどの製膜上の欠点が生じるため好ましくな
い。
【0028】本発明に係る光学補償用フイルムは、ST
N型液晶ディスプレーの補償用に用いる位相差フイルム
とTN型液晶ティスプレーに用いる補償フイルムとに大
別され、前者の場合は一軸延伸フイルムが用いられ、ま
た、後者の場合は未延伸フイルムが用いられる。
N型液晶ディスプレーの補償用に用いる位相差フイルム
とTN型液晶ティスプレーに用いる補償フイルムとに大
別され、前者の場合は一軸延伸フイルムが用いられ、ま
た、後者の場合は未延伸フイルムが用いられる。
【0029】前者の光学補償用フイルムとしては、該フ
イルム面に対する垂直方向の屈折率(nz )のフイルム
面内で延伸軸に直交する軸方向の屈折率(ny )に対す
る比、すなわち(nz )/(ny )、が0.998〜
1.004、好ましくは0.999〜1.003の範囲
内のものが用いられる。この範囲外では、いずれの場合
も、液晶ディスプレーに使用したときの視野角依存性が
大きくなるので好ましくない。
イルム面に対する垂直方向の屈折率(nz )のフイルム
面内で延伸軸に直交する軸方向の屈折率(ny )に対す
る比、すなわち(nz )/(ny )、が0.998〜
1.004、好ましくは0.999〜1.003の範囲
内のものが用いられる。この範囲外では、いずれの場合
も、液晶ディスプレーに使用したときの視野角依存性が
大きくなるので好ましくない。
【0030】本発明に係る光学補償用一軸延伸フイルム
のフイルム面に対する垂直方向からの入射光に対するリ
タデーション(R0 )は、300〜700nm、好まし
くは350〜650nmの範囲が好ましい。この値は、
複屈折率Δnとフイルム厚dとの積であるので、複屈折
率の大きさとフイルム厚との両方で制御可能である。ま
た、該フイルム面に対する垂直軸(z軸)と延伸軸の作
る面内でz軸から30°傾けた方向から光を入射した場
合のリタデーション(R30)のz軸方向から入射した場
合のリタデーション(R0 )に対する比(R30/R0 )
は、0.93〜1.07の範囲が好ましく、特に0.9
5〜1.05の範囲が好ましい。この値から外れると、
液晶ディスプレーに使用したときの視野角依存性が大き
くなり、好ましくない。
のフイルム面に対する垂直方向からの入射光に対するリ
タデーション(R0 )は、300〜700nm、好まし
くは350〜650nmの範囲が好ましい。この値は、
複屈折率Δnとフイルム厚dとの積であるので、複屈折
率の大きさとフイルム厚との両方で制御可能である。ま
た、該フイルム面に対する垂直軸(z軸)と延伸軸の作
る面内でz軸から30°傾けた方向から光を入射した場
合のリタデーション(R30)のz軸方向から入射した場
合のリタデーション(R0 )に対する比(R30/R0 )
は、0.93〜1.07の範囲が好ましく、特に0.9
5〜1.05の範囲が好ましい。この値から外れると、
液晶ディスプレーに使用したときの視野角依存性が大き
くなり、好ましくない。
【0031】次に、上述の如き本発明の光学補償用フイ
ルムを工業的に製造する方法について詳述する。
ルムを工業的に製造する方法について詳述する。
【0032】本発明の光学補償用フイルムは、上述した
特殊なポリマーを成形して所定のフイルム状とすること
(本発明では「製膜」という)により製造される。
特殊なポリマーを成形して所定のフイルム状とすること
(本発明では「製膜」という)により製造される。
【0033】上記ポリマーから製膜する方法は特に限定
はないが、通常は、良好な光学特性のフイルムを得るた
め溶液製膜法が採用される。ポリマーを溶解する溶媒と
しては、得られたポリマーを溶解し得る溶媒であれば特
に限定はないが、1,4―ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等の環状エーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル類、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジメトキシエタ
ン、酢酸メトキシエチル等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等の非プロトン系極性溶媒な
どが挙げられる。乾燥の容易さを考慮すると沸点が15
0℃以下、好ましくは120℃以下の溶媒が好ましい。
これらの溶媒は単独で用いてもよいし、2種類以上の混
合溶媒として用いてもよい。
はないが、通常は、良好な光学特性のフイルムを得るた
め溶液製膜法が採用される。ポリマーを溶解する溶媒と
しては、得られたポリマーを溶解し得る溶媒であれば特
に限定はないが、1,4―ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等の環状エーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル類、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジメトキシエタ
ン、酢酸メトキシエチル等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等の非プロトン系極性溶媒な
どが挙げられる。乾燥の容易さを考慮すると沸点が15
0℃以下、好ましくは120℃以下の溶媒が好ましい。
これらの溶媒は単独で用いてもよいし、2種類以上の混
合溶媒として用いてもよい。
【0034】溶液中のポリマー濃度は、通常、5〜35
重量%、好ましくは10〜30重量%の範囲として製膜
が行われる。ポリマー濃度が35重量%を超えると溶液
粘度が高すぎて製膜が困難であり、5重量%未満では溶
液粘度が低すぎて均一製膜が困難になるばかりでなく、
5重量%未満では高希釈による経済的損失も好ましくな
い理由の一つである。このポリマー溶液から製膜する代
表的な方法として、ドクターナイフによるキャスト法、
流延法、ダイから溶液を押し出すキャスト法などが挙げ
られる。
重量%、好ましくは10〜30重量%の範囲として製膜
が行われる。ポリマー濃度が35重量%を超えると溶液
粘度が高すぎて製膜が困難であり、5重量%未満では溶
液粘度が低すぎて均一製膜が困難になるばかりでなく、
5重量%未満では高希釈による経済的損失も好ましくな
い理由の一つである。このポリマー溶液から製膜する代
表的な方法として、ドクターナイフによるキャスト法、
流延法、ダイから溶液を押し出すキャスト法などが挙げ
られる。
【0035】キャストされたフイルムの乾燥温度は、溶
媒の蒸発速度、発泡、柚肌、しわなどのフイルムの表面
性、フイルムの熱安定性を勘案して適宜選択すればよ
い。一般には、低温から逐次的または連続的に昇温して
乾燥することが好ましい。初期段階から高温に曝すと発
泡が起こりやすく、好ましくない。基板などの支持体上
で最後まで乾燥する方式の場合は、ポリマーや溶媒の分
解しない温度範囲であれば特に問題はない。しかし、乾
燥途中で支持体から剥離して乾燥する方法、例えばピン
テンター方式やロール懸垂方式の場合は、乾燥に伴う熱
変形温度を勘案して、それ以下で乾燥温度を選択するの
が好ましい。そして、最終温度はフイルムのガラス転移
温度(Tg)に応じ、(Tg−50℃)〜Tg、好まし
くは(Tg−30℃)〜(Tg−5℃)の範囲が用いら
れる。それ未満の温度では乾燥速度が著しく長くなり、
それより高い高温では好ましくないフイルムの歪が生じ
やすくなるため、いずれも好ましくない。
媒の蒸発速度、発泡、柚肌、しわなどのフイルムの表面
性、フイルムの熱安定性を勘案して適宜選択すればよ
い。一般には、低温から逐次的または連続的に昇温して
乾燥することが好ましい。初期段階から高温に曝すと発
泡が起こりやすく、好ましくない。基板などの支持体上
で最後まで乾燥する方式の場合は、ポリマーや溶媒の分
解しない温度範囲であれば特に問題はない。しかし、乾
燥途中で支持体から剥離して乾燥する方法、例えばピン
テンター方式やロール懸垂方式の場合は、乾燥に伴う熱
変形温度を勘案して、それ以下で乾燥温度を選択するの
が好ましい。そして、最終温度はフイルムのガラス転移
温度(Tg)に応じ、(Tg−50℃)〜Tg、好まし
くは(Tg−30℃)〜(Tg−5℃)の範囲が用いら
れる。それ未満の温度では乾燥速度が著しく長くなり、
それより高い高温では好ましくないフイルムの歪が生じ
やすくなるため、いずれも好ましくない。
【0036】STNディスプレーに用いる光学補償フイ
ルムは、一軸延伸フイルムが用いられる。一軸延伸に
は、縦一軸延伸法、テンター横一軸延伸法、ロール延伸
法などが用いられる。延伸温度は、フイルムのTgに依
存し、一般には(Tg−50)℃以上(Tg+50)℃
以下、好ましくは(Tg−30)℃以上(Tg+30)
℃以下の範囲が用いられる。それを越えるとポリマー鎖
の配向緩和が起こり、延伸効果が著しく減じるために好
ましくない。一方、それ未満ではポリマーの分子運動が
凍結されているために均一配向が困難になり好ましくな
い。また、延伸倍率は、目的とするフイルムのリタデー
ションの大きさに応じて適宜選択すればよい。
ルムは、一軸延伸フイルムが用いられる。一軸延伸に
は、縦一軸延伸法、テンター横一軸延伸法、ロール延伸
法などが用いられる。延伸温度は、フイルムのTgに依
存し、一般には(Tg−50)℃以上(Tg+50)℃
以下、好ましくは(Tg−30)℃以上(Tg+30)
℃以下の範囲が用いられる。それを越えるとポリマー鎖
の配向緩和が起こり、延伸効果が著しく減じるために好
ましくない。一方、それ未満ではポリマーの分子運動が
凍結されているために均一配向が困難になり好ましくな
い。また、延伸倍率は、目的とするフイルムのリタデー
ションの大きさに応じて適宜選択すればよい。
【0037】上記のポリマーからなるフイルムは、延伸
方向の屈折率(nx )が直交方向の屈折率(ny )ある
いは(nz )より高い正の複屈折特性を示す。しかも、
フイルム面に垂直方向の屈折率(nz )を面内で延伸方
向に直交する方向の屈折率(ny )より高めることも可
能である。
方向の屈折率(nx )が直交方向の屈折率(ny )ある
いは(nz )より高い正の複屈折特性を示す。しかも、
フイルム面に垂直方向の屈折率(nz )を面内で延伸方
向に直交する方向の屈折率(ny )より高めることも可
能である。
【0038】本発明方法では、前記キャストフイルムの
フイルム面と垂直方向の屈折率(n z )を効率よく高め
たり、より高い(nz )を得るための手段として、電界
印加法を採用することができる。電界印加法としてはフ
イルムに直流電界を印加する方法、例えば、コロナ放電
法、直接印加法が挙げられる。コロナ放電法とは、一般
に平板上下部電極上にフイルムを密着させ、フイルム上
空間を隔てて針電極を配置し、針電極と平板電極間に高
電圧を印加することによりコロナ放電を発生し、該フイ
ルムを帯電させる方法である。印加する電圧範囲は1〜
20KV、好ましくは5〜15KVである。印加電圧が
これ未満では効果が十分発現し難く、これを越えると絶
縁破壊を起こすので好ましくない。また、直接印加する
方法としては、二枚の電極間にフイルムを配置し、両電
極間に高電圧を印加する方法がある。印加する電圧は2
0〜150V/μm、好適には40〜120V/μmで
ある。印加電圧がこれ未満では効果が十分でなく、これ
を越えると絶縁破壊を起こしやすいので好ましくない。
フイルム面と垂直方向の屈折率(n z )を効率よく高め
たり、より高い(nz )を得るための手段として、電界
印加法を採用することができる。電界印加法としてはフ
イルムに直流電界を印加する方法、例えば、コロナ放電
法、直接印加法が挙げられる。コロナ放電法とは、一般
に平板上下部電極上にフイルムを密着させ、フイルム上
空間を隔てて針電極を配置し、針電極と平板電極間に高
電圧を印加することによりコロナ放電を発生し、該フイ
ルムを帯電させる方法である。印加する電圧範囲は1〜
20KV、好ましくは5〜15KVである。印加電圧が
これ未満では効果が十分発現し難く、これを越えると絶
縁破壊を起こすので好ましくない。また、直接印加する
方法としては、二枚の電極間にフイルムを配置し、両電
極間に高電圧を印加する方法がある。印加する電圧は2
0〜150V/μm、好適には40〜120V/μmで
ある。印加電圧がこれ未満では効果が十分でなく、これ
を越えると絶縁破壊を起こしやすいので好ましくない。
【0039】これらの電界印加はフイルムを加熱状態で
行うのが好ましい。その温度は、使用するフイルムのT
gに依存し、一般には(Tg−50)℃以上(Tg+5
0)℃以下、好ましくは(Tg−30)℃以上(Tg+
30)℃以下の温度範囲が用いられる。それ未満の温度
ではポリマーの分子運動が凍結されてるために均一配向
が困難になりやすく、好ましくない。また、それを越え
ると配向緩和が起こるために好ましくない。電荷印加す
るフイルムは未延伸フイルムでも延伸フイルムでもよ
い。
行うのが好ましい。その温度は、使用するフイルムのT
gに依存し、一般には(Tg−50)℃以上(Tg+5
0)℃以下、好ましくは(Tg−30)℃以上(Tg+
30)℃以下の温度範囲が用いられる。それ未満の温度
ではポリマーの分子運動が凍結されてるために均一配向
が困難になりやすく、好ましくない。また、それを越え
ると配向緩和が起こるために好ましくない。電荷印加す
るフイルムは未延伸フイルムでも延伸フイルムでもよ
い。
【0040】また、本発明方法では一軸延伸配向と電界
配向とを同時に行うことができる。すなわち、フイルム
を一軸延伸することにより延伸軸方向に配向を生じさ
せ、それと同時にフイルム面と直交する方向に電界配向
をさせる方法である。一軸延伸と電界配向を逐次的に行
うと、電界配向時に加熱により一軸延伸配向の配向緩和
が起こるために、一軸延伸と電界配向とを同時に行う方
法がより効果的である。
配向とを同時に行うことができる。すなわち、フイルム
を一軸延伸することにより延伸軸方向に配向を生じさ
せ、それと同時にフイルム面と直交する方向に電界配向
をさせる方法である。一軸延伸と電界配向を逐次的に行
うと、電界配向時に加熱により一軸延伸配向の配向緩和
が起こるために、一軸延伸と電界配向とを同時に行う方
法がより効果的である。
【0041】以上の如き本発明に係る新規な光学補償フ
イルムは、その光学特性により、液晶ディスプレーの位
相差板として好適に使用される。
イルムは、その光学特性により、液晶ディスプレーの位
相差板として好適に使用される。
【0042】すなわち、液晶パネルは、例えば、図1に
示すような構成を有し、透明な基板3、6の間に液晶相
5が介在し液晶相5の端部は適当な封止材4によって封
止されている。そして、基板3、6の上下に偏光板1、
7が配置されるが、この基板3と偏光板1との間に位相
差板2が設けられている。
示すような構成を有し、透明な基板3、6の間に液晶相
5が介在し液晶相5の端部は適当な封止材4によって封
止されている。そして、基板3、6の上下に偏光板1、
7が配置されるが、この基板3と偏光板1との間に位相
差板2が設けられている。
【0043】本発明の光学補償用フイルムは、上記構成
の液晶パネルにおいて、位相差板2として用いることに
より、画像の視認性とくに視野用依存性を大巾に改善す
ることができる。
の液晶パネルにおいて、位相差板2として用いることに
より、画像の視認性とくに視野用依存性を大巾に改善す
ることができる。
【0044】ただし、本発明の光学補償用フイルムは、
図1の如き積層構造以外の液晶ディスプレーにおいても
位相板として有効に使用することができる。
図1の如き積層構造以外の液晶ディスプレーにおいても
位相板として有効に使用することができる。
【0045】
【発明の効果】本発明の光学補償用フイルムは、フイル
ム面に垂直方向の屈折率(nz )が高められたフイルム
となる。また、一軸延伸により(nz )が高められた位
相差補償用フイルムが得られ、電界配向によりさらに効
果的に(nz )を高めることができる。そのために、液
晶ディスプレーに使用したときの視野角依存性が改良さ
れた単層の光学補償フイルムが得られる。
ム面に垂直方向の屈折率(nz )が高められたフイルム
となる。また、一軸延伸により(nz )が高められた位
相差補償用フイルムが得られ、電界配向によりさらに効
果的に(nz )を高めることができる。そのために、液
晶ディスプレーに使用したときの視野角依存性が改良さ
れた単層の光学補償フイルムが得られる。
【0046】
【実施例】以下に、実施例および比較例により本発明を
詳述する。但し、本発明はこれらによって限定されるも
のではない。
詳述する。但し、本発明はこれらによって限定されるも
のではない。
【0047】[参考例]本例では、本発明のフイルム製
造に用いられる上記式(1)の繰り返し単位から主とし
てなるポリマーの合成について、側鎖にp―ニトロフェ
ニルウレタンを導入したポリマーを例にとり説明する。
造に用いられる上記式(1)の繰り返し単位から主とし
てなるポリマーの合成について、側鎖にp―ニトロフェ
ニルウレタンを導入したポリマーを例にとり説明する。
【0048】分子量7.5×104 のフェノキシ樹脂2
84重量部、p―ニトロフェニルイソシアネート98.
4重量部、触媒としてジラウリン酸ジブチル錫4重量部
を、1140重量部のテトラヒドロフラン中に添加して
混合し、得られた混合物を窒素気流中、還流下で9時間
加熱攪拌した。得られた溶液を大量のメタノール(沈殿
溶媒)に激しく攪拌しながら添加し、生成沈殿を濾別・
洗浄・乾燥してポリマーを採取した。
84重量部、p―ニトロフェニルイソシアネート98.
4重量部、触媒としてジラウリン酸ジブチル錫4重量部
を、1140重量部のテトラヒドロフラン中に添加して
混合し、得られた混合物を窒素気流中、還流下で9時間
加熱攪拌した。得られた溶液を大量のメタノール(沈殿
溶媒)に激しく攪拌しながら添加し、生成沈殿を濾別・
洗浄・乾燥してポリマーを採取した。
【0049】このポリマーは、赤外線吸収スペクトルに
おいて1740cm-1にウレタン結合に基づく吸収が認
められ、p―ニトロフェニルウレタン基が導入されてい
ることが明らかになった。また、d6 ―DMSO中で測
定した 1H―NMRスペクトルにおいても、δ7.75
および8.2ppmにp―ニトロフェニルウレタンのピ
ークが認められた。このピーク強度と、主鎖骨格に含ま
れる4,4′―イソプロピレンビスフェノール(ビスフ
ェノール―A)由来のピーク(δ6.8および7.1p
pm)のピーク強度比から、p―ニトロフェニルウレタ
ン導入率50モル%のポリマーが得られたことが確認さ
れた。このポリマーのDSCから求めたガラス転移温度
(Tg)は、117℃であり、原料のフェノキシ樹脂
(97℃)より著しく高い耐熱性を示した。
おいて1740cm-1にウレタン結合に基づく吸収が認
められ、p―ニトロフェニルウレタン基が導入されてい
ることが明らかになった。また、d6 ―DMSO中で測
定した 1H―NMRスペクトルにおいても、δ7.75
および8.2ppmにp―ニトロフェニルウレタンのピ
ークが認められた。このピーク強度と、主鎖骨格に含ま
れる4,4′―イソプロピレンビスフェノール(ビスフ
ェノール―A)由来のピーク(δ6.8および7.1p
pm)のピーク強度比から、p―ニトロフェニルウレタ
ン導入率50モル%のポリマーが得られたことが確認さ
れた。このポリマーのDSCから求めたガラス転移温度
(Tg)は、117℃であり、原料のフェノキシ樹脂
(97℃)より著しく高い耐熱性を示した。
【0050】[実施例1]参考例により製造したp―ニ
トロフェニルウレタンを50モル%導入したポリマー
(上記式(1)におけるAr=p―C6 H4 ―、以下こ
のポリマーをP0.50と略す。なお添え字は導入率を示
す。)を、1,4―ジオキサンに溶解して25(重量)
%溶液を得た。この溶液をガラス基板上にキャストし
て、50℃で1時間、70℃で3時間、次いで100℃
で10時間、加熱乾燥して透明フイルムを得た。
トロフェニルウレタンを50モル%導入したポリマー
(上記式(1)におけるAr=p―C6 H4 ―、以下こ
のポリマーをP0.50と略す。なお添え字は導入率を示
す。)を、1,4―ジオキサンに溶解して25(重量)
%溶液を得た。この溶液をガラス基板上にキャストし
て、50℃で1時間、70℃で3時間、次いで100℃
で10時間、加熱乾燥して透明フイルムを得た。
【0051】このフイルムを、107℃で延伸倍率1.
65倍に一軸延伸し、フイルム厚(膜厚)55μmの透
明延伸フイルムを得た。得られたフイルムの屈折率は
(nx)=1.6181、(ny )=1.6091、
(nz )=1.6094であった。すなわち、(nz )
/(ny )=1.000であり、(nz )が高められた
フイルムが得られた。得られたフイルムの、フイルム面
に対して垂直方向からの入射光に対するリタデーション
(R0 )は、495nmであった。また、垂直方向の軸
(z軸)と延伸方向の軸(x軸)が作る面でz軸から3
0°傾斜した方向からの入射光に対するリタデーション
(R30)は、471nmであった。リタデーションの視
野角依存値(R30/R0 )は0.952であり、視野角
依存特性は低く、良好な結果を示した。
65倍に一軸延伸し、フイルム厚(膜厚)55μmの透
明延伸フイルムを得た。得られたフイルムの屈折率は
(nx)=1.6181、(ny )=1.6091、
(nz )=1.6094であった。すなわち、(nz )
/(ny )=1.000であり、(nz )が高められた
フイルムが得られた。得られたフイルムの、フイルム面
に対して垂直方向からの入射光に対するリタデーション
(R0 )は、495nmであった。また、垂直方向の軸
(z軸)と延伸方向の軸(x軸)が作る面でz軸から3
0°傾斜した方向からの入射光に対するリタデーション
(R30)は、471nmであった。リタデーションの視
野角依存値(R30/R0 )は0.952であり、視野角
依存特性は低く、良好な結果を示した。
【0052】[比較例1]実施例1において用いたP
0.50に代えて、原料に用いたフェノキシ樹脂(分子量
7.5×104 )を用いて、実施例1と同様の方法で延
伸倍率1.65倍、厚さ33μmの一軸延伸フイルムを
作製した。得られた未変性フェノキシ樹脂フイルムの屈
折率は、(nx )=1.6085、(ny )=1.59
63、(nz )=1.5923であった。すなわち、
(nz )/(ny )=0.997であり実施例1の延伸
フイルムに比べて低い値を示した。また、R0 =403
nmに対して、R30が359nmであり、視野角依存値
R30/R0 も0.891と低い値を示した。すなわち、
本例の延伸フイルムは実施例1の延伸フイルムに比べて
高い視野角依存特性を示した。
0.50に代えて、原料に用いたフェノキシ樹脂(分子量
7.5×104 )を用いて、実施例1と同様の方法で延
伸倍率1.65倍、厚さ33μmの一軸延伸フイルムを
作製した。得られた未変性フェノキシ樹脂フイルムの屈
折率は、(nx )=1.6085、(ny )=1.59
63、(nz )=1.5923であった。すなわち、
(nz )/(ny )=0.997であり実施例1の延伸
フイルムに比べて低い値を示した。また、R0 =403
nmに対して、R30が359nmであり、視野角依存値
R30/R0 も0.891と低い値を示した。すなわち、
本例の延伸フイルムは実施例1の延伸フイルムに比べて
高い視野角依存特性を示した。
【0053】[実施例2〜4]参考例に準じて、それぞ
れp―ニトロフェニルウレタン28モル%および71モ
ル%を導入したポリマーP0.28およびP0.71を合成し
た。次いで、これらと実施例1と同じポリマーP0.50と
からそれぞれ一軸延伸フイルムを作成し、光学特性を調
べた。
れp―ニトロフェニルウレタン28モル%および71モ
ル%を導入したポリマーP0.28およびP0.71を合成し
た。次いで、これらと実施例1と同じポリマーP0.50と
からそれぞれ一軸延伸フイルムを作成し、光学特性を調
べた。
【0054】それらの結果をまとめて表1に示す。表1
から明らかなように、いずれの場合も、(nz )/(n
y )は高く、かつR30/R0 も理想値(1.000)に
近い値を示した。すなわち、視野角依存性は低く、良好
な結果を示した。
から明らかなように、いずれの場合も、(nz )/(n
y )は高く、かつR30/R0 も理想値(1.000)に
近い値を示した。すなわち、視野角依存性は低く、良好
な結果を示した。
【0055】[比較例2〜3]比較例1で用いたフェノ
キシ樹脂について、延伸倍率を変えて一軸延伸したフイ
ルムについて、光学特性を調べた。その結果を表1に併
記する。表1から明らかなように、未変性フェノキシ樹
脂フイルムの場合は、いずれも低い(nz )/(ny )
値と、低い視野角依存特性しか得られなかった。
キシ樹脂について、延伸倍率を変えて一軸延伸したフイ
ルムについて、光学特性を調べた。その結果を表1に併
記する。表1から明らかなように、未変性フェノキシ樹
脂フイルムの場合は、いずれも低い(nz )/(ny )
値と、低い視野角依存特性しか得られなかった。
【0056】
【表1】
【0057】[実施例5]実施例1で得られた一軸延伸
フイルムを107℃で60V/μmの直接印加法により
電界を2時間印加して厚さ65μmのフイルムを作製し
た。得られたフイルムの屈折率は、(nx )=1.61
60、(ny )=1.6080、(nz )=1.612
6であり、(nz )/(ny )=1.003であった。
また、R0=520に対して、R30=524であり、視
野角依存値R30/R10も1.008であり、理想値(=
1.000)に近い値を示した。
フイルムを107℃で60V/μmの直接印加法により
電界を2時間印加して厚さ65μmのフイルムを作製し
た。得られたフイルムの屈折率は、(nx )=1.61
60、(ny )=1.6080、(nz )=1.612
6であり、(nz )/(ny )=1.003であった。
また、R0=520に対して、R30=524であり、視
野角依存値R30/R10も1.008であり、理想値(=
1.000)に近い値を示した。
【0058】[比較例4]比較例1で得られたフェノキ
シ樹脂一軸延伸フイルムを実施例5に準じて電界印加を
実施した。しかしながら、(nz )/(ny )比の変化
も視野角依存値の変化も認められなかった。すなわち、
比較例1の一軸延伸フイルムでは電界印加の効果は認め
られなかった。
シ樹脂一軸延伸フイルムを実施例5に準じて電界印加を
実施した。しかしながら、(nz )/(ny )比の変化
も視野角依存値の変化も認められなかった。すなわち、
比較例1の一軸延伸フイルムでは電界印加の効果は認め
られなかった。
【0059】[実施例6〜8]実施例1と同様のP0.50
および、それに代えてP0.28およびP0.71を用いた一軸
延伸フイルムについて、条件を変更して実施例5と同様
の電界印加を行い、その効果を調べた。それらの結果を
表2に示す。表2から明らかなように、いずれの場合も
高い(nz )/(ny )比を示し、視野角依存値も理想
値(=1.000)に近い値を示した。
および、それに代えてP0.28およびP0.71を用いた一軸
延伸フイルムについて、条件を変更して実施例5と同様
の電界印加を行い、その効果を調べた。それらの結果を
表2に示す。表2から明らかなように、いずれの場合も
高い(nz )/(ny )比を示し、視野角依存値も理想
値(=1.000)に近い値を示した。
【0060】
【表2】
【0061】[実施例9]P0.28を用いて、実施例1に
準じて厚さ73μmの未延伸フイルムを作製した。この
フイルムを120℃で十分にアニーリングして、実質的
に光学等方性のフイルムを得た。このフイルムの屈折率
は(nx )=(ny )=(nz )=1.6074であっ
た。得られたフイルムを、115℃で80V/μmの電
界を1時間印加した。得られたフイルムの屈折率は(n
x )=(ny )=1.6071、(nz )=1.608
0であり、フイルム面に垂直方向の屈折率が面内の屈折
率より高いフイルムが得られた。
準じて厚さ73μmの未延伸フイルムを作製した。この
フイルムを120℃で十分にアニーリングして、実質的
に光学等方性のフイルムを得た。このフイルムの屈折率
は(nx )=(ny )=(nz )=1.6074であっ
た。得られたフイルムを、115℃で80V/μmの電
界を1時間印加した。得られたフイルムの屈折率は(n
x )=(ny )=1.6071、(nz )=1.608
0であり、フイルム面に垂直方向の屈折率が面内の屈折
率より高いフイルムが得られた。
【0062】[比較例5]比較例1に用いたポリマー
(未変性フェノキシ樹脂)を用いて、実施例9に準じ
て、59μmの光学等方性フイルムを作製した。このフ
イルムの光学特性は(nx )=(ny )=(nz )=
1.5986であった。このフイルムを実施例9に準じ
て電界印加したが、屈折率変化は全く認められなかっ
た。
(未変性フェノキシ樹脂)を用いて、実施例9に準じ
て、59μmの光学等方性フイルムを作製した。このフ
イルムの光学特性は(nx )=(ny )=(nz )=
1.5986であった。このフイルムを実施例9に準じ
て電界印加したが、屈折率変化は全く認められなかっ
た。
【0063】[実施例10]P0.71を用い、実施例9に
準じて、厚さ69μmの光学等方性フイルムを作製し
た。この光学特性は(nx )=(ny )=(nz )=
1.6169であった。このフイルムを、117℃で6
0V/μmの電界を2時間印加した。得られたフイルム
の屈折率は(nx )=(ny )=1.6165、
(nz )=1.6176であり、フイルム面に垂直方向
の屈折率が面内の屈折率より高いフイルムが得られた。
準じて、厚さ69μmの光学等方性フイルムを作製し
た。この光学特性は(nx )=(ny )=(nz )=
1.6169であった。このフイルムを、117℃で6
0V/μmの電界を2時間印加した。得られたフイルム
の屈折率は(nx )=(ny )=1.6165、
(nz )=1.6176であり、フイルム面に垂直方向
の屈折率が面内の屈折率より高いフイルムが得られた。
【0064】[実施例11]参考例のポリマー
(P0.50)においてp―ニトロフェニルウレタンの代わ
りにフェニルウレタンを52モル%導入したポリマー
(P52)を用いて製膜し、1.50倍に延伸して厚さ6
7μmのフイルムを得た。このフイルムの(nz )/
(ny )は0.999であり(nz )が高められたフイ
ルムが得られた。このフイルムのリタデーションの視野
角依存値(R30/R0 )は0.948であり、小さい視
野角依存特性を示した。
(P0.50)においてp―ニトロフェニルウレタンの代わ
りにフェニルウレタンを52モル%導入したポリマー
(P52)を用いて製膜し、1.50倍に延伸して厚さ6
7μmのフイルムを得た。このフイルムの(nz )/
(ny )は0.999であり(nz )が高められたフイ
ルムが得られた。このフイルムのリタデーションの視野
角依存値(R30/R0 )は0.948であり、小さい視
野角依存特性を示した。
【0065】[実施例12]参考例1のポリマー(P
0.50)においてp―ニトロフェニルウレタン50モル%
を導入する代わりに、p―ニトロフェニルウレタン28
モル%と4―(4′―ニトロフェニル)フェニルウレタ
ン23モル%とを導入したポリマーを用い、実施例1に
準じて厚さ57μmのフイルムをキャストした。このフ
イルムを、132℃で75V/μmの電界を印加しなが
ら1.40倍に加熱延伸した。得られたフイルムの(n
z )/(ny )は1.001であり、(nz )が高めら
れたフイルムが得られた。このフイルムのリタデーショ
ンの視野角依存値(R30/R0 )は1.003であり、
ほぼ理想的(1.000)な値が得られた。
0.50)においてp―ニトロフェニルウレタン50モル%
を導入する代わりに、p―ニトロフェニルウレタン28
モル%と4―(4′―ニトロフェニル)フェニルウレタ
ン23モル%とを導入したポリマーを用い、実施例1に
準じて厚さ57μmのフイルムをキャストした。このフ
イルムを、132℃で75V/μmの電界を印加しなが
ら1.40倍に加熱延伸した。得られたフイルムの(n
z )/(ny )は1.001であり、(nz )が高めら
れたフイルムが得られた。このフイルムのリタデーショ
ンの視野角依存値(R30/R0 )は1.003であり、
ほぼ理想的(1.000)な値が得られた。
【0066】[実施例13]実施例5で得られた一軸延
伸フイルムを位相差板として図1に示すように液晶セル
の片側に適用し、白黒ディスプレーの液晶パネルを作成
した。得られた液晶パネルの駆動状態と非駆動状態にお
けるコントラスト比は12:1であった。そして、正面
から見た場合も、斜め30°から見た場合も黄色味や青
味がかった着色は認められなかった。また、斜め30°
から見てもコントラストの低下は認められなかった。
伸フイルムを位相差板として図1に示すように液晶セル
の片側に適用し、白黒ディスプレーの液晶パネルを作成
した。得られた液晶パネルの駆動状態と非駆動状態にお
けるコントラスト比は12:1であった。そして、正面
から見た場合も、斜め30°から見た場合も黄色味や青
味がかった着色は認められなかった。また、斜め30°
から見てもコントラストの低下は認められなかった。
【図1】本発明の光学補償用フイルムを位相差板に用い
た液晶パネルの断面図を示す。
た液晶パネルの断面図を示す。
1,7:偏光板 2 :位相差板 3,6:基板 4 :封止材 5 :液晶層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G02F 1/1335 G02F 1/1335 // C08J 5/18 CEZ C08J 5/18 CEZ B29K 71:00 (72)発明者 岩田 薫 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内
Claims (10)
- 【請求項1】 下記式(1)で示される繰返し単位10
0〜10モル%と下記式(2)で示される繰返し単位0
〜90モル%とからなるフイルム形成性ポリマーを主成
分とすることを特徴とする光学補償用フイルム。 【化1】 [上記式(1)(2)中、Arは炭素数6〜15の1価
の芳香族基であり、該芳香族基の水素の一部または全部
が炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン基、ニトロ基ま
たはニトリル基によって置換されていてもよい。また、
X1 、X2 、X3、X4 はそれぞれ水素原子またはハロ
ゲン基であり、これらは互いに同一でも相異なるもので
もよい。] - 【請求項2】 上記式(1)中のArが0.2以上のハ
メットのσ値を有する置換基を含むフェニル基であるこ
とを特徴とする請求項1記載の光学補償用フイルム。 - 【請求項3】 請求項1または請求項2記載の光学補償
用フイルムであって、フイルム面に垂直方向の屈折率
(nz )が高められていることを特徴とする光学補償用
フイルム。 - 【請求項4】 請求項1〜請求項3のいずれかに記載の
光学補償用フイルムであって、該フイルムが未延伸フイ
ルムであり、かつ該フイルムの面内で直交する任意の二
つの軸方向の屈折率(na )および(nb )が実質的に
等しく、かつ該フイルム面に垂直方向の屈折率(nz )
が上記二つの軸方向の屈折率(na )および(nb )の
いずれよりも高いことを特徴とする光学補償用フイル
ム。 - 【請求項5】 請求項1〜請求項3項のいずれかに記載
の光学補償用フイルムであって、該フイルムが、一軸延
伸されており、かつ、該フイルムの面に垂直方向の屈折
率(nz )のフイルム面内で延伸軸に直交する軸方向の
屈折率(ny)に対する比(nz )/(ny )が0.9
98〜1.004であることを特徴とする光学補償用フ
イルム。 - 【請求項6】 請求項5項記載の光学補償用フイルムで
あって、該フイルム面に対して垂直軸(z軸)と延伸軸
(x軸)の作る面内でz軸から30°傾けた方向から光
を入射した場合のリタデーション(R30)のz軸方向か
ら入射した場合のリタデーション(R0 )に対する比
(R30/R0 )が0.93〜1.07であることを特徴
とする光学補償用フイルム。 - 【請求項7】 請求項1または請求項2記載のポリマー
を主成分とするフイルムを成形し、これを一軸延伸する
ことを特徴とする光学補償用フイルムの製造方法。 - 【請求項8】 請求項1または請求項2項記載のポリマ
ーを主成分とする未延伸または延伸フイルムの面に対
し、垂直方向に電界を印加することを特徴とする光学補
償用フイルムの製造方法。 - 【請求項9】 請求項1または請求項2項記載のポリマ
ーを主成分とする未延伸フイルムの面に対し、垂直方向
に電界を印加しながら一軸延伸することを特徴とする光
学補償用フイルムの製造方法。 - 【請求項10】 請求項1〜請求項6項に記載の光学補
償用フイルムを位相板として用いたことを特徴とする液
晶ディスプレー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7048403A JPH08248202A (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 光学補償用フイルム、その製造方法およびそれを用いた液晶ディスプレー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7048403A JPH08248202A (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 光学補償用フイルム、その製造方法およびそれを用いた液晶ディスプレー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08248202A true JPH08248202A (ja) | 1996-09-27 |
Family
ID=12802345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7048403A Pending JPH08248202A (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 光学補償用フイルム、その製造方法およびそれを用いた液晶ディスプレー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08248202A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7428029B2 (en) | 2002-07-30 | 2008-09-23 | Nitto Denko Corporation | Optical film and its manufacturing method |
JP2011509435A (ja) * | 2008-01-08 | 2011-03-24 | エルジー・ケム・リミテッド | 光学フィルムおよびこれを含む情報電子装置 |
US8344083B2 (en) | 2008-04-30 | 2013-01-01 | Lg Chem, Ltd. | Resin composition and optical films formed by using the same |
US8513358B2 (en) | 2008-01-08 | 2013-08-20 | Lg Chem, Ltd. | Composition of (Meth)acrylate resin and hydroxy group-containing aromatic resin |
US8613986B2 (en) | 2008-04-30 | 2013-12-24 | Lg Chem, Ltd. | Optical film and information technology apparatus comprising the same |
-
1995
- 1995-03-08 JP JP7048403A patent/JPH08248202A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7428029B2 (en) | 2002-07-30 | 2008-09-23 | Nitto Denko Corporation | Optical film and its manufacturing method |
JP2011509435A (ja) * | 2008-01-08 | 2011-03-24 | エルジー・ケム・リミテッド | 光学フィルムおよびこれを含む情報電子装置 |
US8293841B2 (en) | 2008-01-08 | 2012-10-23 | Lg Chem, Ltd. | Optical film and information technology apparatus comprising the same |
US8513358B2 (en) | 2008-01-08 | 2013-08-20 | Lg Chem, Ltd. | Composition of (Meth)acrylate resin and hydroxy group-containing aromatic resin |
US8512825B2 (en) | 2008-01-08 | 2013-08-20 | Lg Chem, Ltd. | Optical film and information technology apparatus comprising the same |
US9168694B2 (en) | 2008-01-08 | 2015-10-27 | Lg Chem, Ltd. | Transparent resin composition |
US8344083B2 (en) | 2008-04-30 | 2013-01-01 | Lg Chem, Ltd. | Resin composition and optical films formed by using the same |
US8613986B2 (en) | 2008-04-30 | 2013-12-24 | Lg Chem, Ltd. | Optical film and information technology apparatus comprising the same |
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