TWI412567B - 導電性高分子溶液、導電性塗膜及輸入裝置 - Google Patents

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Description

導電性高分子溶液、導電性塗膜及輸入裝置
本發明是有關含有π共軛系導電性高分子的導電性高分子溶液及導電性塗膜。同時，是有關觸控面板等輸入裝置。
本申請案主張2008年9月22日提出申請的日本專利申請案2008-242792號之優先權，並在本申請案中援用其內容。
觸控面板是設置在影像顯示裝置上的輸入裝置，至少與影像顯示裝置重疊的部份為透明。
至於觸控面板，例如已知有阻抗膜式觸控面板。至於阻抗膜式觸控面板中，透明導電膜在透明基材的單面所形成之固定電極片及可動電極片，是以透明導電膜相對的方式配置。至於電極片的透明導電膜，已廣泛使用銦摻雜的氧化錫膜(以下，稱為ITO膜)。
ITO膜在透明基材的單面所形成的片(以下，稱為ITO膜形成片)，由於其可撓性低、易於固定，故適於作為影像顯示裝置側的固定電極片。不過，在使用作為觸控面板的輸入者側之可動電極片時，則有重複撓曲時的耐久性低之問題。
而且，至於觸控面板的輸入者側之可動電極片，在透明基材的單面，係使用含有π共軛系導電性高分子的透明導電性膜所形成之具有可撓性片(以下，稱為形成導電性高分子膜形成片)。
至於導電性高分子膜形成片，例如已揭示在專利文獻1中，其是在透明基材上具有由含有π共軛系導電性高分子與水溶性環氧單體的組成物所形成之透明導電膜者。
然而，專利文獻1中的組成物除了保存安定性低之外，且由該組成物所得的塗膜有耐水性低的問題。
[先前技術文獻]
[專利文獻]日本特開2005-146259號公報
本發明是有鑑於前述問題而達成的發明，其目的是提供除了保存安定性高之外，可形成高耐水性的導電性薄膜之導電性高分子溶液。同時，是以提供耐水性優異的輸入裝置為目的。
本發明具有以下的組成。
[1]一種導電性高分子溶液，其特徵為：含有π共軛系導電性高分子、聚陰離子、具有氧雜環丁烷環的化合物與溶劑，在使π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計為100質量%時，具有氧雜環丁烷環的化合物之含量為1至500質量%。
[2]如[1]項的導電性高分子溶液，其特徵為含有具有羧基的化合物。
[3]如[1]或[2]項的導電性高分子溶液，其特徵為含有可產生路易斯酸的陽離子產生化合物。
[4]如[1]至[3]項中的任一項之導電性高分子溶液，其特徵為含有導電性化合物。
[5]如[1]至[4]項中的任一項之導電性高分子溶液，其特徵為含有選自含氮芳香族環化合物、具有2個以上羥基的化合物、具有2個以上羧基的化合物、具有1個以上羥基及1個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種高導電化劑。
[6]一種導電性塗膜，其特徵為塗布[1]至[5]項中的任一項之導電性高分子溶液而形成。
[7]一種輸入裝置，其特徵為具備[6]項的導電性塗膜。
本發明的導電性高分子溶液，除了保存安定性高之外，可形成高耐水性的導電性塗膜。
本發明的輸入裝置之耐水性優異。
 ＜導電性高分子溶液＞
本發明的導電性高分子溶液，是含有π共軛系導電性高分子、聚陰離子、具有氧雜環丁烷環的化合物(以下稱為氧雜環丁烷化合物)與溶劑之溶液。
(π共軛系導電性高分子)
至於π共軛系導電性高分子，只要主鏈是以π共軛系構成的有機高分子，即無特別的限制，可舉例如聚吡咯類、聚噻吩類、多炔類、聚伸苯類、聚伸苯伸乙烯類、聚苯胺類、多并苯類、聚噻吩伸乙烯類及此等之共聚合物等。就空氣中的安定性而言，是以聚吡咯類、聚噻吩類及聚苯胺類為佳。
π共軛系導電性高分子即使在無取代時，也可獲得充分的導電性、對黏合劑樹脂的相溶性，但是為能更加提高導電性及相溶性時，宜在π共軛系導電性高分子中導入烷基、羧基、磺酸基、烷氧基、羥基等官能基。
至於π共軛系導電性高分子的具體例，可舉出聚吡咯、聚(N-甲基吡咯)、聚(3-甲基吡咯)、聚(3-乙基吡咯)、聚(3-正-丙基吡咯)、聚(3-丁基吡咯)、聚(3-辛基吡咯)、聚(3-癸基吡咯)、聚(3-十二基吡咯)、聚(3,4-二甲基吡咯)、聚(3,4-二丁基吡咯)、聚(3-羧基吡咯)、聚(3-甲基-4-羧基吡咯)、聚(3-甲基-4-羧基乙基吡咯)、聚(3-甲基-4-羧基丁基吡咯)、聚(3-羥基吡咯)、聚(3-甲氧基吡咯)、聚(3-乙氧基吡咯)、聚(3-丁氧基吡咯)、聚(3-甲基-4-己氧基吡咯)、聚噻吩、聚(3-甲基噻吩)、聚(3-乙基噻吩)、聚(3-丙基噻吩)、聚(3-丁基噻吩)、聚(3-己基噻吩)、聚(3-庚基噻吩)、聚(3-辛基噻吩)、聚(3-癸基噻吩)、聚(3-十二基噻吩)、聚(3-十八基噻吩)、聚(3-溴噻吩)、聚(3-氯噻吩)、聚(3-碘噻吩)、聚(3-氰基噻吩)、聚(3-苯基噻吩)、聚(3,4-二甲基噻吩)、聚(3,4-二丁基噻吩)、聚(3-羥基噻吩)、聚(3-甲氧基噻吩)、聚(3-乙氧基噻吩)、聚(3-丁氧基噻吩)、聚(3-己氧基噻吩)、聚(3-庚氧基噻吩)、聚(3-辛氧基噻吩)、聚(3-癸氧基噻吩)、聚(3-十二氧基噻吩)、聚(3-十八氧基噻吩)、聚(3-甲基-4-甲氧基噻吩)、聚(3,4-伸乙二氧基噻吩)、聚(3-甲基-4-乙氧基噻吩)、聚(3-羧基噻吩)、聚(3-甲基-4-羧基噻吩)、聚(3-甲基-4-羧基乙基噻吩)、聚(3-甲基-4-羧基丁基噻吩)、聚苯胺、聚(2-甲基苯胺)、聚(3-異丁基苯胺)、聚(2-苯胺磺酸)、聚(3-苯胺磺酸)等。就導電性、耐熱性而言，其中是以聚(3,4-伸乙二氧基噻吩)為佳。
[聚陰離子]
至於聚陰離子，例如為取代或未取代的聚伸烷、取代或未取代的聚伸烯、取代或未取代的聚醯亞胺、取代或未取代的聚醯胺、取代或未取代的聚酯，可舉出只由具有陰離子基的構成單位所成的聚合物、具有陰離子基的構成單位與不具陰離子基的構成單位所成的聚合物。
聚伸烷是指主鏈為亞甲基的重複所構成之高分子。
聚伸烯是指由主鏈含有一個不飽和雙鍵(乙烯基)的構成單位所成之高分子。
至於聚醯亞胺，可舉例如由焦苯六甲酸二酐、聯苯四羧酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、2,2’-[4,4’-二(二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐等酸酐，與氧二胺、對伸苯二胺、間伸苯二胺、二苯甲酮二胺等二胺形成的聚醯亞胺。
至於聚醯胺，可舉例如聚醯胺6、聚醯胺6,6、聚醯胺6,10等。
至於聚酯，可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等。
上述聚陰離子具有取代基時，該取代基可舉出烷基、羥基、胺基、羧基、氰基、苯基、酚基、酯基、烷氧基等。在考量對於有機溶劑的溶解性、耐熱性及對於樹脂的相溶性等時，則宜為烷基、羥基、酚基、酯基。
至於烷基，可舉例如甲基、乙基、丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基、癸基、十二基等烷基，與環丙基、環戊基及環己基等環烷基。
至於羥基，可舉出在聚陰離子的主鏈直接或介入其他的官能基而結合的羥基。至於其他的官能基，可舉出碳數1至7的烷基、碳數2至7的烯基、醯胺基、醯亞胺基等。羥基是取代在此等官能基的末端或其中。
至於胺基，可舉出在聚陰離子的主鏈直接或介入其他的官能基而結合的胺基。至於其他的官能基，可舉出碳數1至7的烷基、碳數2至7的烯基、醯胺基、醯亞胺基等。胺基是取代在此等官能基的末端或其中。
至於酚基，可舉出在聚陰離子的主鏈直接或介入其他的官能基而結合成的酚基。至於其他的官能基，可舉出碳數1至7的烷基、碳數2至7的烯基、醯胺基、醯亞胺基等。酚基是取代在此等官能基的末端或其中。
至於具有取代基的聚伸烷之例，可舉出聚伸乙烷、聚伸丙烷、聚伸丁烷、聚伸戊烷、聚伸己烷、聚乙烯醇、聚乙烯酚、聚(3,3,3-三氟伸丙烷)、聚丙烯腈、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯等例。
至於聚伸烯之具體例，可舉出含有選自伸丙烯、1-甲基伸丙烯、1-丁基伸丙烯、1-癸基伸丙烯、1-氰基伸丙烯、1-苯基伸丙烯、1-羥基伸丙烯、1-伸丁烯、1-甲基-1-伸丁烯、1-乙基-1-伸丁烯、1-辛基-1-伸丁烯、1-十五基-1-伸丁烯、2-甲基-1-伸丁烯、2-乙基-1-伸丁烯、2-丁基-1-伸丁烯、2-己基-1-伸丁烯、2-辛基-1-伸丁烯、2-癸基-1-伸丁烯、2-十二基-1-伸丁烯、2-苯基-1-伸丁烯、2-伸丁烯、1-甲基-2-伸丁烯、1-乙基-2-伸丁烯、1-辛基-2-伸丁烯、1-十五基-2-伸丁烯、2-甲基-2-伸丁烯、2-乙基-2-伸丁烯、2-丁基-2-伸丁烯、2-己基-2-伸丁烯、2-辛基-2-伸丁烯、2-癸基-2-伸丁烯、2-十二基-2-伸丁烯、2-苯基-2-伸丁烯、2-伸丙烯苯基-2-伸丁烯、3-甲基-2-伸丁烯、3-乙基-2-伸丁烯、3-丁基-2-伸丁烯、3-己基-2-伸丁烯、3-辛基-2-伸丁烯、3-癸基-2-伸丁烯、3-十二基-2-伸丁烯、3-苯基-2-伸丁烯、3-伸丙烯苯基-2-伸丁烯、2-伸戊烯、4-丙基-2-伸戊烯、4-丁基-2-伸戊烯、4-己基-2-伸戊烯、4-氰基-2-伸戊烯、3-甲基-2-伸戊烯、4-乙基-2-伸戊烯、3-苯基-2-伸戊烯、4-羥基-2-伸戊烯、伸己烯等的一種以上之構成單位的聚合物。
至於聚陰離子的陰離子基，可舉出-O-SO3-X+、-SO3-X+、-COO-X+(各式中的X+是表示氫離子、鹼金屬離子。)
即，聚陰離子是含有磺酸基及/或羧基的高分子酸。就對於π共軛系導電性高分子的摻雜效果而言，此等基中 是以-SO3-X+、-COO-X+為佳。
同時，此陰離子基宜在聚陰離子的主鏈以相鄰或一定間隔的配置。
就溶劑溶解性及導電性而言，上述聚陰離子之中，宜為聚異戊二烯磺酸、含有聚異戊二烯磺酸的共聚合物、聚甲基丙烯酸磺乙酯、含有聚甲基丙烯酸磺乙酯的共聚合物、聚(4-甲基丙烯酸磺丁酯)、含有聚(4-甲基丙烯酸磺丁酯)的共聚合物、聚甲基丙烯氧基苯磺酸、含有聚甲基丙烯氧基苯磺酸的共聚合物、聚苯乙烯磺酸、含有聚苯乙烯磺酸的共聚合物。
聚陰離子的聚合度，是以單體單位在10至100,000個的範圍為佳，就溶劑溶解性及導電性而言，是以50至10,000個的範圍較佳。
相對於1莫耳的π共軛系導電性高分子，聚陰離子的含量宜為0.1至10莫耳的範圍，並以1至7莫耳的範圍較佳。如聚陰離子的含量少於0.1莫耳時，將使對π共軛系導電性高分子的摻雜效果變弱，以致導電性不足。此外，對於溶劑的分散性及溶解性變低，而不易獲得均勻的分散液。另外，如聚陰離子的含量大於10莫耳時，將使π共軛系導電性高分子的含量變少，也同樣不易獲得充分的導電性。
聚陰離子是配位在π共軛系導電性高分子。因此，π共軛系導電性高分子與聚陰離子形成複合物。
π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計含量為0.05至5.0質量%，並以0.1至4.0質量%為佳。如π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計含量未達0.05質量%時，將不易獲得充分的導電性，如超過5.0質量%時，則不能獲得均勻的導電性塗膜。
(氧雜環丁烷化合物)
至於氧雜環丁烷化合物的具體例，可舉例如伸二甲苯基(xylylene)雙氧雜環丁烷、3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷、4,4’-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基甲基氧甲基)聯苯、1,4-雙{[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基]甲基}苯、二{1-乙基(3-氧雜環丁烷基)甲基醚、1,6-雙{(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基}己烷、9,9-雙{2-甲基-4-[2-(3-氧雜環丁烷基)]丁氧基苯基}芴、9,9-雙{4-{2-[2-(3-氧雜環丁烷基)]丁氧基}乙氧基苯基}芴等具有二官能的氧雜環丁烷環之化合物、氧雜環丁烷化酚醛樹脂等多官能氧雜環丁烷化合物、3-乙基-3-(羥基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-苯氧基甲基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯基氧甲基)氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-2-苯基氧雜環丁烷等具有單官能的氧雜環丁烷環之化合物。
相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計為100質量%時，氧雜環丁烷化合物的含量為1至500質量%，並以10至400質量%為佳。如氧雜環丁烷化合物的含量未達1質量%時，由導電性高分子溶液所得導電性塗膜的耐水性不足，如超過500質量%時，由導電性高分子溶液所得導電性塗膜中的π共軛系導電性高分子之含量變少，而不能獲得充分的導電性。
(氧雜環丁烷化合物用硬化劑)
在導電性高分子溶液中，宜含有氧雜環丁烷化合物用硬化劑，以更加提高由前述導電性高分子溶液所得導電性塗膜的耐水性。
至於氧雜環丁烷化合物用硬化劑，可舉例如胺系硬化劑、酸或酸酐系硬化劑、鹼性活性氫化合物、咪唑類、聚硫醇系硬化劑、異氰酸酯系硬化劑等。
至於胺系硬化劑，可舉出乙二胺、二乙三胺、三乙四胺等脂肪族聚胺，異佛酮二胺、1,3-雙胺基甲基環己烷等脂環族聚胺，二胺基二苯基甲烷、二胺基二苯基碸等芳香族聚胺，直鏈狀二胺、四甲基胍、三乙醇胺、六氫吡啶、吡啶、苯甲基二甲基胺等二級胺類或三級胺類、使聚二酸與二乙三胺、三乙四胺等聚胺反應而得的聚醯胺胺等。
至於酸或酸酐系硬化劑，可舉例如己二酸、壬二酸、苯六甲酸、焦苯六甲酸、癸烷二羧酸等聚羧酸，苯二甲酸酐、苯六甲酸酐、焦苯六甲酸酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸酐等芳香族酸酐，順丁烯二酸酐、琥珀酸酐、四氫苯二甲酸酐、甲基四氫苯二甲酸酐等環狀脂肪族酸酐、聚己二酸酐、聚壬二酸酐、聚癸二酸酐、十二烷基琥珀酸酐、聚(乙基)十八烷二酸酐等脂肪族酸酐等。
至於活性氫化合物，可舉例如有機酸二水合物等。
至於咪唑類，可舉例如2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-十七烷基咪唑等。
至於聚硫醇系硬化劑，可舉例如季戊四醇四硫代甘醇酸酯、二季戊四醇六硫代甘醇酸酯等硫代甘醇酸的酯類等。
至於異氰酸酯系硬化劑，可舉例如六亞甲基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等異氰酸酯化合物，異氰酸基與酚、醇、己內脂等反應的封端異氰酸酯化合物等。
氧雜環丁烷化合物為100質量%時，氧雜環丁烷化合物用硬化劑的含量宜為0.1至1,000質量%，並以1至800質量%較佳。氧雜環丁烷化合物用硬化劑的含量只要在0.1質量%以上，即可使氧雜環丁烷化合物充分硬化；只要氧雜環丁烷化合物用硬化劑的含量在1,000質量%以下，即可使由導電性高分子溶液形成的導電性塗膜充分發揮出氧雜環丁烷樹脂的特性。
(陽離子產生化合物)
就使氧雜環丁烷化合物迅速且充分硬化而言，導電性高分子溶液中宜含有陽離子產生化合物。
陽離子產生化合物是可產生路易斯酸的化合物。具體上，可舉出光陽離子起始劑、熱陽離子起始劑等。也可同時使用光陽離子起始劑與熱陽離子起始劑。
至於光陽離子起始劑，可舉例如路易斯酸的重氮鎓鹽、路易斯酸的碘鎓鹽、路易斯酸的硫鎓鹽等。此等鹽是由陽離子部份為芳香族重氮鎓、芳香族碘鎓、芳香族硫鎓等，陰離子部份為四氟化硼(BF4-)、六氟化磷(PF6-)、六氟化銻(SbF6-)、[BX4]-(但是，X是經2個以上的氟或三氟甲基所取代的苯基。)等構成的鎓鹽。
至於其具體例，可舉出四氟化硼的苯基重氮鎓鹽、六氟化磷的二苯基碘鎓鹽、六氟化銻的二苯基碘鎓鹽、六氟化砷的三-4-甲基苯基硫鎓鹽、四氟化銻的三-4-甲基苯基硫鎓鹽、肆(五氟苯基)硼的二苯基碘鎓鹽、乙醯丙酮鋁鹽與鄰硝基苯甲基矽烷基醚混合物、苯基硫吡啉鎓鹽、六氟化磷丙二烯-鐵錯合物等。
至於光陽離子起始劑的市售品，可舉出CD-1012(Sartomer公司製)、PCI-019、PCI-021(日本化藥社製)、Optomer-SP-150、Optomer-SP-170(ADEKA公司製)、UVI-6990(Dow Chemical公司製)、CPI-100P、CPI-100A(San-Apro公司製)、TEPBI-S(日本觸媒社製)、WPI-031、WPI-054、WPI-113、WPI-116、WPI-170(和光純藥工業社製)、IRGACURE250(Ciba Specialty Chemicals公司製)等。
可單獨使用一種光陽離子起始劑，也可同時使用二種以上。
就安定性、硬化性而言，至於光陽離子起始劑，是以陰離子部位為六氟化磷，而陽離子部位為硫鎓鹽者較佳。
至於熱陽離子起始劑，可舉例如Adekaopton CP-66、CP-77(ADEKA公司製)、San-Aid SI-60L、SI-80L、SI-100L、SI-110L、SI-180L(三新化學社製)、CI-2920、CI-2921、CI-2946、CI-2639、CI-2624、CI-2064(日本曹達社製)、FC-520(3M公司製)等。
可單獨使用一種熱陽離子起始劑，也可同時使用二種以上。
氧雜環丁烷化合物為100質量%時，陽離子產生劑的含量宜為0.1至1,000質量%，並以1至800質量%較佳。陽離子產生劑的含量只要在0.1質量%以上，即可使氧雜環丁烷化合物迅速且充分的硬化。然而，即使含有超過1,000質量%的陽離子產生劑，因其效果已達飽和，故也無助益。
(導電性化合物)
導電性高分子溶液宜含有導電性化合物，因可藉以減少相對於ITO等異導體的接觸阻抗。
至於導電性化合物，可舉例如金屬粒子、鹵化銀、碳、導電性金屬氧化物。同時，在與還原劑共存時，金屬離子亦為導電性化合物。此等化合物形成導電性塗膜時，可因還原劑而使金屬離子形成金屬粒子。
[金屬粒子]
至於構成金屬粒子的金屬種，可舉例如銅、銀、鈀、鎳、鋁、金、鉑、銦、鉛、鐵、鈷、鋅、錫、鎵等。可單獨使用一種此等金屬，也可同時使用二種以上。
金屬粒子可以是平均粒徑為1nm以上且未達100nm的粒子(金屬奈米粒子)，也可以是平均粒徑為100nm以上10μm以下的一般金屬粒子。
如金屬粒子為金屬奈米粒子時，至於金屬，可適用選自銀、金、鎳、銅、鉑、鈀、銦所形成群組中的一種以上之金屬。
如金屬粒子的平均粒徑未達1nm時，則前述金屬粒子 的調製為困難，如超過10μm時，則導電性高分子溶液中的金屬粒子之分散性有降低的傾向。
相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計為100質量%，金屬粒子的含量宜為0.01質量%以上且未達5.0質量%，並以0.05至4.0質量%較佳。如金屬粒子的含量未達0.01質量%時，因不能充分降低異導體接觸中的接觸阻抗，而致作用不良，如金屬粒子的含量為5.0質量%以上時，則由前述導電性分子溶液所形成的導電性塗膜之透明性變低。
(鹵化銀)
至於鹵化銀，可舉例如溴化銀、氯化銀、碘化銀、氟化銀等。此等鹵化銀可單獨使用一種，也可同時使用二種以上。
在考量價格、反應性、還原時所產生鹵化物的氧化能力時，在鹵化銀之中，是以溴化銀、氯化銀、碘化銀為佳。
相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計為100質量%，構成鹵化銀的銀含量宜為0.001至50質量%，並以0.005至40質量%較佳，而以0.01至30質量%為特佳。如構成鹵化銀的銀含量未達0.001質量%時，因不能充分降低異導體接觸中的接觸阻抗，而致作用不良，如含量超過50質量%時，則由前述導電性分子溶液所形成的導電性塗膜之透明性變低。
(碳)
至於碳，可舉例如爐黑、乙炔黑、槽黑等碳黑，奈米 碳管等，但就導電性而言，則以爐黑為佳。
由於碳黑是為提高對水的分散性，故宜為表面存在羧基而親水化者。
由於碳黑具有碳架構，故在濕熱環境下的安定性優異。並且，為使其紫外線吸收能力優異，故可使塗膜因含有碳黑而防止紫外線劣化。
碳黑的平均粒徑宜為0.01至0.5μm。碳黑的平均粒徑只要在0.01μm以上，即可使其處理性優異；碳黑的平均粒徑只要在0.5μm以下，即可易於提高碳黑的分散性。
至於奈米碳管，可舉例如單層奈米碳管、使數層奈米碳管為同心圓狀的重疊成多層奈米碳管、使此等成為圈狀者，或封閉奈米碳管的一方端部之奈米碳管、杯形狀者等。在此等碳管之中，是以單層奈米碳管為佳。
在使奈米碳管含在導電性高分子溶液中時，宜使其與界面活性劑共存，以提高分散性。就使分散性特別優異而言，界面活性劑宜為十二基苯磺酸鈉。
至於奈米碳管的製造方法，可舉出二氧化碳的接觸氫還原、電弧放電法、雷射蒸發法、化學蒸鍍法、氣相成長法、應用鐵觸媒使一氧化碳在高溫高壓下氣相成長的HiPco法等。
另外，就導電性而言，宜使奈米碳管經精製而高純度化。至於精製的方法，可舉例如清洗法、離心分離法、過濾法、氧化法、層析法等。
相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計為 100質量%，碳的含量宜為0.01至10質量%，並以0.01至8.0質量%較佳，而以0.01至5.0質量%為特佳。如碳的含量未達0.01質量%時，因不能充分降低異導體接觸中的接觸阻抗，而致作用不良，如含量超過10質量%時，則由前述導電性分子溶液形成的導電性塗膜之透明性變低。
[導電性金屬氧化物粒子]
至於導電性金屬氧化物粒子的成分，可舉例如氧化鍚、或在氧化鍚中摻雜一種以上選自銻、鋅、氟所成群組之元素者，氧化銦、或在氧化銦上摻雜一種以上選自錫、鋅、碲、銀、鎵、鋯、鉿、鎂所成群組之元素者，五氧化銻、氧化鋅、或在氧化鋅中摻雜一種以上選自鋁、鎵、銦、硼、氟、錳所成群組之元素者。
在此等導電性金屬氧化物粒子之中，就可容易地使導電性提高而言，其宜為一種以上選自氧化鍚、氧化銦、五氧化銻、氧化鋅所成群組之金屬氧化物。
導電性金屬氧化物粒子的平均粒徑宜為0.01至20μm。金屬氧化物粒子的平均粒徑只要在0.01μm以上，則處理性優異，只要在20μm以下，即可容易提高導電性金屬氧化物粒子的分散性。
相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計為100質量%，導電性金屬氧化物粒子的含量宜為0.01至50質量%，並以0.02至40質量%較佳，而以0.05至30質量%為特佳。如導電性金屬氧化物粒子的含量未達0.01質量%時，因不能充分降低異導體接觸中的接觸阻抗，而致作用 不良，如含量超過50質量%時，則由前述導電性分子溶液形成的導電性塗膜之透明性變低。
(金屬離子)
本發明中可形成金屬離子之金屬，為選自鎳、銅、銀、金、鉑、鈀所成群組之一種以上的金屬。
例如，將金屬鹽溶解於水中即可形成金屬離子。此時，金屬鹽可舉例如硝酸銀、硫酸銀、醋酸銀、亞硝酸銀、亞硫酸銀、氯酸銀、過氯酸銀、對-甲苯磺酸銀、2-甲基己酸銀、乳酸銀、甲烷磺酸銀、水楊酸銀、二十二酸銀、硬脂酸銀、油酸銀、月桂酸銀、己酸銀、肉豆蒄酸銀、棕櫚酸銀、順丁烯二酸銀、反丁烯二酸銀、酒石酸銀、吉草酸銀、糠酸銀、亞麻酸、酪酸銀、樟腦酸銀、苯甲酸銀、3,5-二氫苯甲酸銀、鄰-甲基苯甲酸銀、間-甲基苯甲酸銀、對-甲基苯甲酸銀、2,4-二氯苯甲酸銀、乙醯胺苯甲酸銀、對-苯基苯甲酸銀、沒食子酸銀、鞣酸銀(或單寧酸銀)、苯二甲酸銀、對苯二甲酸銀、苯基醋酸銀、焦苯六甲酸銀、古味酸銀、3-羧基甲基-4-甲基-噻唑啉-2-硫酮的銀鹽等，氯化金酸、氯化金鉀、氯化金鈉等，氯化鉑酸、氯化鉑、氯化鉑酸鉀等，硝酸鈀、醋酸鈀、氯化鈀、硫酸鈀等、氯化銅、醋酸銅、硫酸銅等，氯化鎳、硝酸鎳、過氯酸鎳、硫酸鎳、磷酸鎳、醋酸鎳、乳酸鎳、草酸鎳、酒石酸鎳、檸檬酸鎳等。此等金屬鹽可單獨使用一種，也可同時使用二種以上。在價格、反應性的考量時，前述金屬鹽之中，是以硝酸銀、硫酸銀、醋酸銀、對-甲苯磺酸銀等為佳。
相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計為100質量%，金屬離子的含量宜為0.001至50質量%，並以0.005至40質量%較佳，而以0.01至30質量%為特佳。如金屬離子的含量未達0.001質量%時，將因不能充分降低異導體接觸中的接觸阻抗，而致作用不良，如其含量超過50質量%時，則由前述導電性分子溶液形成的導電性塗膜之透明性變低。
(還原劑)
還原劑是使前述金屬離子還原成金屬的藥劑。
至於還原劑並無特別的限制，可舉例如胺化合物(例如，二甲基胺基乙醇、甲基二乙醇胺、三乙醇胺、1-酚-3-唑啉、聯胺等)、氫化合物(例如，硼氫化鈉、硼氫化鋰、碘化氫、氫氣等)、氧化物(例如，一氧化碳、亞硫酸等)、低原子價金屬鹽(例如，硫酸亞鐵、氧化鐵、反丁烯二酸鐵、乳酸鐵、草酸鐵、硫化鐵、醋酸錫、氯化錫、二磷酸錫、草酸錫、氧化錫、硫酸錫等)、酚系化合物(例如，氫醌、沒食子酚、鞣質(或單寧)、鞣酸(或單寧酸)等)、糖類(例如，D-葡萄糖等)、維生素類(例如，抗壞血酸等)、羥系化合物(例如，乙二醇等)、苯并三唑系化合物(例如，2-(2’-二羥基-4’-間-辛氧基苯基苯并三唑等)、二苯甲酮系化合物(例如，2,2’-二羥基二苯甲酮、2,4-二羥基二苯甲酮、2,4’-二羥基二苯甲酮、4,4’-二羥基二苯甲酮、2,4,4’-三羥基二苯甲酮、3,4,5-三羥基二苯甲酮、2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,3’,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,2’-二羥基-4-甲氧基-二苯甲酮、2,3,3’,4,4’,5’-六羥基二苯甲酮、2-羥基二苯甲酮、4-羥基二苯甲酮、2-羥基苯乙酮、4-羥基苯乙酮、3,4,5-三羥基苯乙酮、2-羥基苯甲醛、4-羥基苯甲醛、3,4,5-三羥基苯甲醛、2-羥基苯甲酸、4-羥基苯甲酸、3,4,5-三羥基苯甲酸、2-羥基苯甲酸甲酯、4-羥基苯甲酸甲酯、3,4,5-三羥基苯甲酸甲酯、4-羥基苯甲酸苯酯、2-羥基苯甲醯胺、3-乙醯胺酚、4-乙醯胺酚、N-苯基苯甲醯胺、羥基苯基甲基丙烯醯胺、羥基苯基二乙基醯胺、4-羥基苯甲醯胺、3,4,5-三羥基苯甲醯胺等)，水楊酸酯系化合物等(水楊酸對-第三丁基苯基酯、水楊酸等)、醯胺化合物(例如，甲醛等)。此等還原劑可單獨使用一種，也可同時使用二種以上。就提高對導電性高分子塗料的溶解性、溶液安定性、還原性、以及π共軛系導電性高分子與聚陰離子的耐光性而言，前述還原劑之中，是以酚系化合物、糖類、維生素類、二苯甲酮系化合物、羥基系化合物、水楊酸酯系化合物為佳，並以二苯甲酮系化合物較佳。
還原劑的含量宜為所還原金屬離子的需要量之0.1質量%以上。如未達該量時，可能有還原不足之虞。同時，還原劑的含量宜為可還原金屬離子的需要量之1,000質量%以下。如含量超過1,000質量%時，並不會改變金屬離子的還原性，而無助益。
(溶劑)
在溶劑上並無特別的限制，可舉例如水，甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇類，碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯等碳酸酯化合物，甲酚、酚、二甲酚等酚類，丙酮、甲基乙基酮等酮類，己烷、苯、甲苯等烴類，二噁烷、2-甲基四氫呋喃、二乙基醚等醚類化合物，乙腈、戊二腈、甲氧乙腈、丙腈、苯甲腈等腈化合物，N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基-2-四氫吡咯酮、六亞甲基磺酸基三醯胺、1,3-二甲基-2-咪唑啉、二甲基咪唑啉、醋酸乙酯、二甲基亞碸、環丁碸、二苯基磺酸等。此等溶劑可單獨使用，可作成二種以上的混合物，也可作成與其他有機溶劑的混合物。
就處理性而言，前述溶劑之中是以水、醇類為佳。
(高導電化劑)
高導電化劑是可提高由導電性高分子溶液形成的導電性塗膜之導電性的成分。
具體上，高導電化劑是選自由含氮芳香族環式化合物、具有二個以上羥基的化合物、具有二個以上羧基的化合物、具有一個以上羥基及一個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種的化合物。
[含氮芳香族環式化合物]
在含氮芳香族環式化合物上，可舉例如含有一個氮原子的吡啶類及其衍生物、含有二個氮原子的咪唑類及其衍生物、嘧啶類及其衍生物、吡嗪類及其衍生物、含有三個氮原子的三嗪類及其衍生物等。就溶劑溶解性等觀點而言，是以吡啶類及其衍生物、咪唑類及其衍生物、嘧啶類及其衍生物為佳。
至於吡啶類及其衍生物的具體例，可舉出吡啶、2-甲基吡啶、3-甲基吡啶、4-甲基吡啶、4-乙基吡啶、N-乙烯基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3-氰基-5-甲基吡啶、2-吡啶羧酸、6-甲基-2-吡啶羧酸、4-吡啶甲醛、4-胺基吡啶、2,3-二胺基吡啶、2,6-二胺基吡啶、2,6-二胺基-4-甲基吡啶、4-羥基吡啶、4-吡啶甲醇、2,6-二羥基吡啶、2,6-吡啶二甲醇、6-羥基菸鹼酸甲酯、2-羥基-5-吡啶甲醇、6-羥基菸鹼酸乙酯、4-吡啶甲醇、4-吡啶乙醇、2-苯基吡啶、3-甲基喹啉、3-乙基喹啉、羥基喹啉、2,3-環戊基吡啶、2,3-環己基吡啶、1,2-二(4-吡啶基)乙烷、1,2-二(4-吡啶基)丙烷、2-吡啶甲醛、2-吡啶羧酸、2-吡啶甲腈、2,3-吡啶二羧酸、2,4-吡啶二羧酸、2,5-吡啶二羧酸、2,6-吡啶二羧酸、3-吡啶磺酸等。
至於咪唑類及其衍生物的具體例，可舉出咪唑、2-甲基咪唑、2-丙基咪唑、2-十一烷基咪唑、2-苯基咪唑、N-甲基咪唑、N-乙烯基咪唑、N-丙烯基咪唑、1-(2-羥基乙基)咪唑(N-羥乙基咪唑)、2-乙基-4-甲基咪唑、1,2-二甲基咪唑、1-苯甲基-2-甲基咪唑、1-苯甲基-2-苯基咪唑、1-氰基乙基-2-甲基咪唑、1-氰基乙基-2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基-4,5-二羥基甲基咪唑、1-乙醯基咪唑、4,5-咪唑二羧酸、4,5-咪唑二羧酸二甲酯、苯并咪唑、2-胺基苯并咪唑、2-胺基苯并咪唑-2-磺酸、2-胺基-1-甲基苯并咪唑、2-羥基苯并咪唑、2-(2-吡啶基)苯并咪唑等。
至於嘧啶類及其衍生物的具體例，可舉出2-胺基-4-氯-6-甲基嘧啶、2-胺基-6-氯-4-甲氧基嘧啶、2-胺基-4,6-二氯嘧啶、2-胺基-4,6-二羥基嘧啶、2-胺基-4,6-二甲基嘧啶、2-胺基-4,6-二甲氧基嘧啶、2-胺基嘧啶、2-胺基-4-甲基嘧啶、4,6-二羥基嘧啶、2,4-二羥基嘧啶-5-羧酸、2,4,6-三胺基嘧啶、2,4-二甲氧基嘧啶、2,4,5-三羥基嘧啶、2,4-嘧啶二醇等。
至於吡嗪類及其衍生物的具體例，可舉出吡嗪、2-甲基吡嗪、2,5-二甲基吡嗪、吡嗪羧酸、2,3-吡嗪二羧酸、5-甲基吡嗪羧酸、吡嗪醯胺、5-甲基吡嗪醯胺、2-氰基吡嗪、胺基吡嗪、3-胺基吡嗪-2-羧酸、2-乙基-3-甲基吡嗪、2,3-二甲基吡嗪、2,3-二乙基吡嗪等。
至於三嗪類及其衍生物的具體例，可舉出1,3,5-三嗪、2-胺基-1,3,5-三嗪、3-胺基-1,2,4-三嗪、2,4-二胺基-6-苯基-1,3,5-三嗪、2,4,6-三胺基-1,3,5-三嗪、2,4,6-三(三氟甲基)-1,3,5-三嗪、2,4,6-三-2-吡啶-1,3,5-三嗪、3-(2-吡啶)-5,6-雙(4-苯基磺酸)-1,2,4-三嗪二鈉、3-(2-吡啶)-5,6-二苯基-1,2,4-三嗪、3-(2-吡啶)-5,6-二苯基-1,2,4-三嗪-ρ,ρ’-二磺酸二鈉、2-羥基-4,6-二氯-1,3,5-三嗪等。
相對於聚陰離子的陰離子基單位1莫耳，含氮芳香族環化合物的含量宜為0.1至100莫耳的範圍，並以0.5至30莫耳的範圍較佳，而就導電性塗膜的物性及導電性的觀點而言，是以1至10莫耳的範圍為特佳。如含氮芳香族環化合物的含量少於0.1莫耳時，將使含氮芳香族環化合物與聚陰離子及共軛系導電性高分子的相互作用變弱，而致導電性不足。同時，如含氮芳香族環化合物的含量超過100莫耳時，則使共軛系導電性高分子的含量變少，也同樣不易獲得充分的導電性。
[具有二個以上羥基的化合物]
至於具有二個以上羥基的化合物，可舉例如丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、D-葡萄糖、D-山梨醇(glucitol)、異戊二醇、二羥甲基丙酸、丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、新戊二醇、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、硫代乙二醇、葡萄糖、酒石酸、D-葡萄糖二酸、戊烯二酸等多元脂肪族醇類；纖維素、多糖、糖醇等高分子醇；1,4-二羥基苯、1,3-二羥基苯、2,3-二羥基-1-十五烷基苯、2,4-二羥基苯乙酮、2,5-二羥基苯乙酮、2,4-二羥基二苯甲酮、2,6-二羥基二苯甲酮、3,4-二羥基二苯甲酮、3,5-二羥基二苯甲酮、2,4’-二羥基二苯基碸、2,2’,5,5’-四羥基二苯基碸、3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-二羥二苯基碸、氫酮羧酸及其鹽類、2,3-二羥基苯甲酸、2,4-二羥基苯甲酸、2,5二羥基苯甲酸、2,6-二羥基苯甲酸、3,5-二羥基苯甲酸、1,4-氫醌磺酸及其鹽類、4,5-羥基苯-1,3-二磺酸及其鹽類、1,5-二羥基萘、1,6-二羥基萘、2,6-二羥基萘、2,7-二羥基萘、2,3-二羥基萘、1,5-二羥基萘-2,6-二羧酸、1,6-二羥基萘-2,5-二羧酸、1,5-二羥基萘甲酸、1,4-二羥基-2-萘甲酸苯酯、4,5-二羥基萘-2,7-二磺酸及其鹽類、1,8-二羥基-3,6-萘二磺酸及其鹽類、6,7-二羥基-2-萘磺酸及其鹽類、1,2,3-三羥基苯(聯苯三酚(或沒食子酚))、1,2,4-三羥基苯、5-甲基-1,2,3-三羥基苯、5-乙基-1,2,3-三羥基苯、5-丙基-1,2,3-三羥基苯、三羥基苯甲酸、三羥基苯乙酮、三羥基二苯甲酮、三羥基苯甲醛、三羥基蒽酮、2,4,6-三羥基苯、四羥基-對-苯酮、四羥基蒽醌、沒食子酸甲酯、沒食子酸乙酯等芳香族化合物、氫醌磺酸鉀等。
相對於聚陰離子的陰離子基單位1莫耳，具有二個以上羥基的化合物之含量，宜為0.05至50莫耳的範圍，並以0.3至10莫耳的範圍較佳。相對於聚陰離子之陰離子基單位1莫耳，具有二個以上羥基的化合物之含量少於0.05莫耳時，將使導電性及耐熱性不足。同時，相對於聚陰離子之陰離子基單位1莫耳，具有二個以上羥基的化合物之含量多於50莫耳時，將使導電性塗膜中的π共軛系導電性高分子的含量變少，也同樣不易獲得充分的導電性。
[具有二個以上羧基的化合物]
至於具有二個以上羥基的化合物，可舉例如順丁烯二酸、反丁烯二酸、依康酸、檸康酸、丙二酸、1,4-丁二羧酸、琥珀酸、酒石酸、己二酸、D-葡萄糖二酸、戊烯二酸、檸檬酸等脂肪族羧酸類化合物；酞酸、對苯二甲酸、異酞酸、四氫酞酸酐、5-磺酸基異酞酸、5-羥基異酞酸、甲基四氫酞酸酐、4,4’-氧基二酞酸、聯苯四羧酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、萘二羧酸、偏苯三甲酸、苯四甲酸等至少一個以上的羧基結合在芳香族性環之芳香族羧酸類化合物；二甘醇酸、氧二酪酸、硫二醋酸、硫二酪酸、亞胺基二醋酸、亞胺基二酪酸等。
相對於聚陰離子的陰離子基單位1莫耳，具有二個以上羧基的化合物宜為0.1至30莫耳的範圍，並以0.3至10莫耳的範圍較佳。相對於聚陰離子之陰離子基單位1莫耳，具有二個以上羧基的化合物之含量少於0.1莫耳時，將使導電性及耐熱性不足。同時，相對於聚陰離子之陰離子基單位1莫耳，具有二個以上羧基的化合物之含量多於30莫耳時，則將使導電性塗膜中的π共軛系導電性高分子之含量變少，不僅同樣不易獲得充分的導電性，且可能改變導電性塗膜的物性。
[具有一個以上羥基及一個以上羧基的化合物]
在具有一個以上羥基及一個以上羧基的化合物上，可舉出酒石酸、甘油酸、二羥甲基丁酸、二羥甲基丙酸、D-葡萄糖二酸、戊烯二酸等。
相對於聚陰離子與π共軛系導電性高分子的合計100質量份，具有一個以上羥基及一個以上羧基的化合物之含量宜為1至5,000質量份，並以50至500質量份較佳。具有一個以上羥基及一個以上羧基的化合物之含量少於1質量份時，將使導電性及耐熱性不足。同時，具有一個以上羥基及一個以上羧基的化合物之含量多於5,000質量份時，則將使導電塗膜中的π共軛系導電性高分子之含量變少，也同樣不易獲得充分的導電性。
[醯胺化合物]
具有醯胺基的化合物，是在分子中具有-CO-NH-(CO的部份是雙鍵)表示的醯胺鍵之單分子化合物。即，醯胺化合物，可舉例如在上述鍵的兩末端具有官能基的化合物、環狀化合物結合在上述鍵的一者末端之化合物、上述兩末端的官能基為氫的尿素及尿素衍生物等。
至於醯胺化合物的具體例，可舉出乙醯胺、丙二醯胺、琥珀醯胺、順丁烯二醯胺、反丁烯二醯胺、苯甲醯胺、萘甲醯胺、苯二甲醯胺、異苯二甲醯胺、對苯二甲醯胺、菸鹼醯胺、異菸鹼醯胺、2-糠醯胺、甲醯胺、N-甲基甲醯胺、丙醯胺、丙炔醯胺、丁醯胺、異丁醯胺、甲基丙烯醯胺、棕櫚醯胺、硬脂醯胺、油醯胺、草醯胺、戊二醯胺、己二醯胺、桂皮醯胺、甘醇醯胺、乳醯胺、甘油醯胺、酒石醯胺、檸檬醯胺、乙醛醯胺、丙酮醯胺、乙醯乙醯胺、二甲基乙醯乙醯胺、苯甲醯胺、蒽基醯胺、伸乙二胺四乙醯胺、二乙醯胺、三乙醯胺、二苯甲醯胺、三苯甲醯胺、玫瑰寧(或羅丹寧，rhodanine)、尿素、1-乙醯-2-硫脲、雙縮脲(biuret)、丁基脲、二丁基脲、1,3-二甲基脲、1,3-二乙基脲及此等化合物的衍生物等。
同時，醯胺化合物，也可使用丙烯醯胺。至於丙烯醯胺，可舉出N-甲基丙烯醯胺、N-甲基甲基丙烯醯胺、N-乙基丙烯醯胺、N-乙基甲基丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、N,N-二甲基甲基丙烯醯胺、N,N-二乙基丙烯醯胺、N,N-二乙基甲基丙烯醯胺、2-羥基乙基丙烯醯胺、2-羥基乙基甲基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-羥甲基甲基丙烯醯胺等。
醯胺化合物的分子量宜為46至10,000，並以46至5,000較佳，而以46至1,000時尤佳。
相對於聚陰離子與π共軛系導電性高分子的合計100質量份，醯胺化合物之含量宜為1至5,000質量份，並以50至500質量份較佳。如醯胺的含量少於1質量%，將使導電性及耐熱性不足。同時，如醯胺的含量多於5,000質量份，將使導電塗膜中的π共軛系導電性高分子之含量變少，也同樣不易獲得充分的導電性。
[醯亞胺化合物]
至於醯亞胺化合物，宜為具有醯亞胺鍵的單分子化合物(以下稱為醯亞胺化合物)，以更加提高導電性。至於醯亞胺化合物，依其架構可舉出苯二甲醯亞胺及苯二甲醯亞胺衍生物、琥珀醯亞胺及琥珀醯亞胺衍生物、苯甲醯亞胺及苯甲醯亞胺衍生物、順丁二烯醯亞胺及順丁二烯醯亞胺衍生物、萘二甲醯亞胺及萘二甲醯亞胺衍生物等。
另外，雖然醯亞胺化合物依兩末端的官能基種類，分類成脂肪族醯亞胺、芳香族醯亞胺等，但就溶解性而言，是以脂肪族醯亞胺為佳。
並且，脂肪族醯亞胺化合物可分類成分子內的碳之間具有飽和鍵的飽和脂肪族醯亞胺化合物，與分子內的碳 之間具有不飽和鍵的不飽和脂肪族醯亞胺化合物。
飽和脂肪族醯亞胺化合物是以R1-CO-NH-CO-R2表示的化合物，是R1、R2兩者俱為飽和烴的化合物。具體上，可舉出環己烷-1,2-二羧醯亞胺、脲囊素(allantoin)、乙內醯脲、巴比土酸、四氧嘧啶(alloxan)、戊二醯亞胺、琥珀醯亞胺、5-丁基海因酸、5,5-二甲基乙內醯脲、1-甲基乙內醯脲、1,5,5-三甲基乙內醯脲、5-乙內醯脲醋酸、N-羥基-5-降冰片烯-2,3-二羧醯亞胺、胺基脲、α,α-二甲基-6-甲基琥珀醯亞胺、雙[2-(琥珀醯亞胺氧羰氧基)乙基]碸、α-甲基-α-丙基琥珀醯亞胺、環己基醯亞胺等。
不飽和脂肪族醯亞胺化合物是以R1-CO-NH-CO-R2表示的化合物，是R1、R2的一方或雙方為一個以上不飽和鍵的化合物。具體例，可舉出1,3-二伸丙基脲、順丁烯醯亞胺、N-甲基順丁烯醯亞胺、N-乙基順丁烯醯亞胺、N-羥基順丁烯醯亞胺、1,4-雙順丁烯醯亞胺丁烷、1,6-雙順丁烯醯亞胺己烷、1,8-雙順丁烯醯亞胺辛烷、N-羧基庚基順丁烯醯亞胺等。
醯亞胺化合物的分子量較佳為60至5,000，更佳為70至1,000，特佳為80至500。
相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量份，醯亞胺化合物之含量宜為10至10,000質量份，並以50至5,000質量份較佳。如醯胺化合物及醯亞胺化合物的添加量未達前述下限值時，將使醯胺化合物及醯亞胺化合物的添加效果降低，故不佳。同時，如超過前述上限值時，將使π共軛系導電性高分子濃度降低，以致導電性降低，故不佳。
[內醯胺化合物]
所謂內醯胺化合物，是指胺基羧酸的分子內環狀醯胺，環的一部份為-CO-NR-(R是氫或任意的取代基)的化合物。但是，環的一個以上之碳原子也可為不飽和或置換成雜原子。
至於內醯胺化合物，可舉例如戊烷基-4-內醯胺、4-戊烷內醯胺-5-甲基-2-四氫吡咯酮、5-甲基-2-吡咯啉二酮、己烷基-6-內醯胺、6-己烷內醯胺等。
相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量份，內醯胺化合物之含量宜為10至10,000質量份，並以50至5,000質量份較佳。如內醯胺化合物的添加量未達前述下限值時，將使添加內醯胺化合物的效果降低，故不佳。同時，如超過前述上限值時，將使π共軛系導電性高分子濃度降低，以致導電性降低，故不佳。
[具有去水甘油基的化合物]
至於具有去水甘油基的化合物，可舉例如乙基去水甘油基醚、丁基去水甘油基醚、第三丁基去水甘油基醚、烯丙基去水甘油基醚、苯甲基去水甘油基醚、去水甘油基苯基醚、雙酚A、二去水甘油基醚、丙烯酸去水甘油基醚、甲基丙烯酸去水甘油基醚等去水甘油基化合物。
相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量份，具有去水甘油基的化合物之含量宜為10至10,000質量份，並以50至5,000質量份時較佳。如具有去水甘油基的化合物之添加量未達前述下限值時，將使添加具有去水甘油基的化合物之效果降低，故不佳。同時，如超過前述上限值時，將使π共軛系導電性高分子濃度降低，以致導電性降低，故不佳。
[矽烷耦合劑]
至於矽烷耦合劑的具體例，可舉出乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-去水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-去水甘油氧基丙基甲基二乙氧矽烷、3-去水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、對-苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基三乙氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基-亞丁基)丙基胺、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(乙烯基苯甲基)-2-胺基乙基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷的鹽酸鹽、3-脲基丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-硫醇丙基甲基二甲氧基矽烷、3-硫醇丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫醚、3-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷等。
矽烷耦合劑的含量並無特別的限制，可配合要求而添加任意量。相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量份，宜為10至10,000質量份。
[水溶性有機溶劑]
至於水溶性有機溶劑，可舉例如N-甲基-2-四氫吡咯酮、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、二甲基亞碸、六亞甲基磷酸三醯胺、N-乙烯基四氫吡咯酮、N-乙烯基甲醯胺、N-乙烯基乙醯胺等極性溶劑，甲酚、酚、二甲酚等酚類，乙二醇、丙二醇、二丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、D-葡萄糖、D-山梨醇、異戊二醇、丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、新戊二醇等多元脂肪族醇類，碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯等碳酸酯化合物，二噁烷、乙醚等醚化合物，二烷基醚、丙二醇二烷基醚、聚乙二醇二烷基醚、聚丙二醇二烷基醚等鏈狀醚類，3-甲基-2-噁唑啉二酮等雜環化合物，乙腈、戊二腈、甲氧基乙腈、丙腈、苯甲腈等腈化合物等。此等溶劑可單獨使用，也可作成二種以上的混合物。
(添加物)
導電性高分子溶液可配合要求而含有添加劑。
至於添加物，只要是可與π共軛系導電性高分子與聚陰離子混合的物質，即無特別的限制，例如可使用鹼性化合物、界面活性劑、消泡劑、耦合劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、有機鈦化合物、有機鋯化合物等。
至於鹼性化合物，可使用已周知的無機鹼化合物或有 機鹼化合物。至於無機鹼化合物，可舉例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣、氨等。
至於有機鹼化合物，可舉例如脂肪族胺、芳香族胺、四級胺、胺以外的含氮化合物、金屬醇化物、二甲基亞碸等。就更可提高導電性而言，此等化合物之中是以選自脂肪族胺、芳香族胺、四級胺所形成群組中的一種或二種以上為佳。
至於界面活性劑，可舉出羧酸鹽、磺酸鹽、硫酸酯鹽、磷酸酯鹽等陰離子界面活性劑；胺鹽、四級銨鹽等陽離子界面活性劑；羧基甜菜鹼、胺基羧酸鹽、咪唑啉甜菜鹼等兩性界面活性劑；聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基甘油脂肪酸酯、乙二醇脂肪酸酯、聚氧伸乙基脂肪酸醯胺等非離子界面活性劑等。
至於消泡劑，可舉出聚矽氧樹脂、聚二甲基矽氧烷等。
至於耦合劑，可舉出具有乙烯基、胺基、環氧基等的矽烷耦合劑等。
至於抗氧化劑，可舉出酚系抗氧化劑、胺系抗氧化劑、磷系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、糖類、維生素類等。
至於紫外線吸收劑，可舉出苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、草酸二苯胺系紫外線吸收劑、受阻胺系紫外線吸收劑、苯甲酸酯系紫外線吸收劑。
抗氧化劑與紫外線吸收劑宜同時使用。
至於有機鈦化合物，可舉例如醇化鈦、鈦螯合物、醯化鈦等。
至於有機鋯化合物，可舉例如醇化鋯、鋯螯合物、醯化鋯等。
(導電性高分子溶液的製造方法)
至於導電性高分子溶液的製造方法，例如，可在聚陰離子的水溶液中，使π共軛系導電性高分子之前驅體單體化學氧化聚合後，調製成導電性高分子水溶液，在此水溶液中加入氧雜環丁烷化合物與配合要求的任意成分，即可調製成導電性高分子溶液。
藉由含有氧雜環丁烷化合物的導電性高分子溶液，即可形成耐水性高的導電性塗膜。同時，含有氧雜環丁烷化合物的導電性高分子溶液之保存安定性高。
＜導電性塗膜＞
本發明的導電性塗膜，是在透明基材等塗布上述導電性高分子溶液而形成。在此導電性塗膜中，含有π共軛系導電性高分子、聚陰離子與氧雜環丁烷化合物作為必要成分。
至於導電性高分子溶液的塗布方法，例如可適用刮刀塗布、逆向塗布(reverse coating)、片塗布、微凹版塗布等。
至於可塗布導電性高分子溶液的透明基材，可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚醚醯亞胺、聚醚醚酮、聚苯硫醚、聚芳酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯、纖維素三醋酸酯、纖維素醋酸酯丙酸酯等膜或片。另外，也可使用玻璃基板、矽基板等。
在塗布導電性高分子溶液之後，宜施以硬化處理。
至於硬化方法，可適用加熱或光照射。至於加熱方法，例如可採用熱風加熱或紅外線加熱等一般的方法。同時，在以光照射硬化時，例如可採用由超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧、氙弧、金屬鹵化物燈等光源以照射紫外線的方法。照射紫外線時的照度宜為100mW/cm2 。如照度未達100mW/cm2 時，則交聯不足，而可能降低導電性塗膜的耐滑動性(耐久性)。而本發明中的照度，是使用TOPCON公司製UV-T1(工業用UV感應器、受光器；UD-T36、測定波長範圍；300至390nm、峰感度波長；約355nm)而測得之值。
由於本發明的導電性塗膜是由上述導電性高分子溶液形成，故其不僅相對於ITO膜之接觸阻抗小，耐水性亦高。
本發明的導電性塗膜，例如可適用於後述的輸入裝置，也可適用作為顯示裝置的透明電極。至於顯示裝置，可舉例如電激發光元件顯示器、液晶顯示器等。
＜輸入裝置＞
說明有關本發明的輸入裝置之一實施形態例。
第1圖中，顯示本實施形態例的輸入裝置。本實施形態例的輸入裝置1是一種阻抗式觸控面板，其具備配置在輸入者側的可動電極片10、配置在與可動電極片10對向的影像顯示裝置側的固定電極片20、與設置在此等電極片之間的點隔片30。
可動電極片10具備第1透明基材11，以及設在第1透明基材11表面之由上述導電性塗膜所成之透明導電膜12。
固定電極片20具備第2透明基材21，以及設在第2透明基材21表面之第2透明導電膜22。
第1透明導電膜12與第2透明導電膜22是相互對向而配置，在擠壓第1透明導電膜12時，其可與第2透明導電膜22接觸。
＜可動電極片＞ (第1透明基材)
至於構成可動電極片10的第1透明基材11，可舉例如單層或二層以上的透明樹脂膜、玻璃板、薄膜與玻璃板的積層物，但是就有可撓性而言，是以透明樹脂膜為佳。
至於構成透明樹脂膜的透明樹脂，可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚醚醯亞胺、聚醚醚酮、聚苯硫醚、聚芳酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯、纖維素三醋酸酯、纖維素醋酸酯丙酸酯等。
第1透明基材11的厚度宜為100至250μm。第1透明基材11的厚度只要在100μm以上，即可確保充分的強度，只要在250μm以下，即可確保充分的可撓性。
(第1透明導電膜)
第1透明導電膜12的厚度宜為50至700μm。第1透明導電膜12的厚度只要在50μm以上，即可確保充分的導電性，只要在700μm以下，即可確保充分的可撓性及透明性。
＜固定電極片＞ (第2透明基材)
至於構成固定電極片20的第2透明基材21，可使用與第1透明基材11同樣的材料，其中因介入點隔板30而易於支撐可動電極10，故以使用玻璃板為佳。
第2透明基材21的厚度宜為0.8至2.5mm。第2透明基材21的厚度只要在0.8μm以上，即可確保足夠的強度，只要在2.5mm以下，即可變薄而達成空間的節省。
(第2透明導電膜)
第2透明導電膜22是以透明導電性金屬氧化物製造。至於構成第2透明導電膜22的透明導電性金屬氧化物，可舉例如氧化銦、氧化錫、銦摻雜氧化錫(ITO)、銻摻雜氧化錫(ATO)、氟摻雜氧化錫(FTO)、鋁摻雜氧化鋅(AZO)、氧化鋅等。
第2透明導電膜22的厚度宜為0.01至1.0μm。第2透明導電膜22的厚度只要在0.01μm以上，即可確保足夠的導電性，只要在1.0μm以下，即可變薄而達成空間的節省。
＜可動電極片與固定電極片的間隔＞
可動電極片10與固定電極片20的無擠壓間隔宜為20至100μm。可動電極片10與固定電極片20的非擠壓間隔，只要在20μm以上，即可使可動電極片10與固定電極片20在無擠壓時確實不接觸，只要在100μm以下，即可使可動電極片10與固定電極片20在擠壓時確實接觸。為了達成上述的間隔，可適宜選擇點隔片30的大小。
＜輸入裝置的使用方法及用途＞
如第2圖中所示，在此輸入裝置1的可動電極片10的短邊方向(Y方向)的兩端，沿著長邊方向(X方向)設置第1電極13a及第2電極13b。同時，在固定電極片20的短邊方向(Y方向)的兩端，沿著短邊方向設置第3電極23a及第4電極23b。
在第1電極13a，經由第1配線41及第2配線42使電源50連接，在第3電極23a，經由第1配線41及第3配線43使電源50連接。
第2電極13b是經由第4配線44而接地，第4電極23b是經由第5配線45而設置。
第2配線42是經由第6配線46而連接在多工器60(multiplexer)。第3配線43是經由第7配線47而連接在多工器60(multiplexer)。同時，藉由第2配線42、第6配線46的連接點，而可在電源50側邊設置第1開關71，可在第4配線44設置第2開關72，藉由第3配線43、第7配線47的連接點，而可在電源50側邊設置第3開關73，可在第5配線45設置第4開關74。
在多工器60，經由第8配線78、取樣保持電路80及第9配線79後，而連接電壓測定機制90。
可動電極片10為擠壓狀態而檢測擠壓點的X座標時，第1開關71及第2開關72為切斷(switch off)，第3開關73及第4開關74為接通(switch on)。由此，固定電極片20的第2透明導電膜22的第3電極與第4電極之間形成電壓分布，可動電極片10的第1透明導電膜12的整體電位，與第2透明導電膜22中之與第1透明導電膜12的接點P成為同電位的狀態。
然後，可動電極片10的第1透明導電膜12與固定電極片20的第2透明導電膜22之接點P的電位，可經由第1透明導電膜12、第2配線42、第6配線46、多工器60、第8配線78、取樣保持電路80及第9配線79，藉由電壓測定機制90測定。再依據此測定所求得的測定電位，及第3電極23a與第4電極23b的電位差，求得X座標。
另外，在檢測擠壓點的Y座標時，是使第1開關71及第2開關72為接通，而第3開關73及第4開關74為切斷。因此，即可在可電動電極片10的第1透明導電膜12之第1電極13a與第2電極13b之間形成電壓分布，使固定電極片20的第2透明導電膜22之整體電位，與第1透明導電膜12中的第2透明導電膜22的接點P成為同電位的狀態。
然後，可使可電動電極片10的第1透明導電膜12與固定電極片20的第2透明導電膜22的接點P之電位，經由第2透明導電膜22、第3配線73、第7配線77、多工器60、第8配線78、取樣保持電路80及第9配線79，藉由電壓測定機制90測定。再根據此測定所求得的測定電位，及第1電極13a與第2電極13b的電位差，求得Y座標。
在檢測上述座標中，由於第1至第4開關71至74之切換後，會經過規定時間，故以測定第1透明導電膜12與第2透明導電膜22的接點P之電位為佳。如第1透明導電膜12含有π共軛系導電性高分子時，雖然阻抗值不大，但在電位的安定上耗時。然而，在第1至第4開關71至74的切換後，只要經過規定時間之後測定電位，即可測定安定狀態下的電位，而抑制測定精度的下降。
此等輸入裝置1可附裝在例如電子記事本、可攜式資訊終端(PDA)、行動電話、PHS、現金提款機(ATM)、自動販賣機、銷售時點資訊管理(POS)用電阻器等中。
＜作用效果＞
在以上說明的輸入裝置1中，由於構成可動電極片10的第1透明導電膜12含有氧雜環丁烷化合物的硬化物，故耐水性優異。
[實施例]
以下，雖然具體的表示本發明的實施例，但本發明並不侷限於此等實施例的範圍。
＜製造例1＞聚苯乙烯磺酸的調製
使206g的苯乙烯磺酸鈉溶解在1,000ml的離子交換水中，一邊於80℃攪拌時，一邊將預先溶於10ml水中的1.14g之過硫酸銨氧化劑溶液以20分鐘滴下後，攪拌此溶液2小時。
在由此而得含有苯乙烯磺酸鈉之溶液中，加入已稀釋成10質量%的硫酸1,000ml與1,000ml的離子交換水，利用超過濾法去除大約10,000ml含有聚苯乙烯磺酸的溶液後，在殘留液中加入10,000ml的離子交換水，利用超過濾法去除大約10,000ml的溶液。反複進行上述的超過濾操作三次。
並且，在所得濾液中加入大約10,000ml的離子交換水，利用超過濾法去除大約10,000ml的溶液。反複進行這種超過濾操作三次。
超過濾的條件如下述(其他例亦同)。
超過濾膜的劃分分子量：30,000
封閉流動式
供應液流量：3,000ml/分鐘
膜分壓：0.12Pa
減壓去除所得溶液中的水後，可得無色固狀的聚苯乙烯磺酸。
(製造例2)聚苯乙烯磺酸摻雜聚(3,4-乙二氧基噻吩)水溶液的調製
於20℃，將14.2g的3,4-乙二氧基噻吩與製造例1中所得的聚苯乙烯磺酸36.7g溶解於2,000ml的離子交換水中的溶液混合。
將由此而得的混合溶液保持在20℃中，在一邊攪動混合時，一邊緩緩加入已溶於200ml的離子交換水中之過硫酸銨29.64g與8.0g的硫酸鐵之氧化觸媒溶液，攪拌3小時後使其反應。
在所得的反應液中加入2,000ml的離子交換水，利用超過濾法去除大約2,000ml的溶液。反複進行此操作三次。
然後，在經上述過濾處理的處理液中，加入200ml已稀釋成10質量%的硫酸與2,000ml的離子交換水，利用超過濾法去除大約2,000ml之處理液後，在其中加入2,000ml的離子交換水，利用超過濾法去除大約2,000ml之液。反複進行此操作三次。
並且，在所得的處理液中加入大約2,000ml的離子交換水，利用超過濾法去除大約2,000ml的溶液。反複進行此操作五次後，可得大約1.2質量%的藍色聚苯乙烯磺酸摻雜聚(3,4-伸乙二氧基噻吩)(PEDOT-PSS)水溶液。
(實施例1)
將銀膠體粒子(Nanosize公司製，AG321，乙二醇溶劑，濃度50質量%)6.0g、沒食子酸1.8g、4,4’-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基甲基氧甲基)聯苯(宇部興產社製、OXBP)4.2g(相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量%，4,4’-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基甲基氧甲基)聯苯為63.9質量%)、2-羥基乙基丙烯醯胺20g、San-Aid SI-110L(三新化學社製)0.092g、乙醇800g混合後，攪拌。在由此而得的混合溶液中，加入製造例2中所得的PEDOT-PSS水溶液600g，以均質器分散處理後，可得導電性高分子溶液A。
利用逆向塗布器，將導電性高分子溶液A塗布在作為第1透明基材的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(東洋紡績製A4300，厚度：188μm，全光線穿透率：93.5%，霧值：0.68%)，於120℃，以熱風乾燥2分鐘後，可得導電性塗膜。
[表面阻抗值]
應用三菱化學社製Loresta MCP-T600，依照JIS K 7194測定。
[光穿透率]
應用日本電色工業社製Haze Meter測定器(NDH5000)，依照JIS K 7136測定。
[接觸阻抗]
在第1透明基材11(聚對苯二甲酸乙二酯薄膜，東洋紡績製A4300，厚度：188μm)塗布導電性高分子溶液後，形成第1透明導電膜12，將其裁切成40mm×50mm。將導電性膏(藤倉化成社製FA-401CA)網版印刷在該裁切成薄片的第1透明導電膜12之寬度方向的周緣，乾燥後形成電極13a、13b，即得輸入者側的可動電極片10(參照第3圖)。
同時，在玻璃製的第2透明基材21的單面設置ITO製的第2透明導電膜22(表面阻抗：300Ω)，準備裁切成40mm×50mm的電極用片。將導電性膏(藤倉化成社製XA436)網版印刷在該準備成電極用片的第2透明導電膜22上之長方向的周緣，乾燥後形成電極23a、23b。接著，將點隔片用膏(藤倉化成社製SN-8400G)網版印刷在第2透明導電膜上，乾燥後，經紫外線照射即形成點隔片30。接著，將阻劑用膏(藤倉化成社製SN-8800G)網版印刷在電極23a、23b上，乾燥後，使其照射UV後形成絕緣層25。並且，將接著劑(藤倉化成社製XB-114)網版印刷在絕緣層25上，使其乾燥後形成可貼合在可動電極10的接著劑層26。由此，即得影像顯示裝置用的固定電極片20(參照第4圖)。
其次，如第1圖中所示，將可動電極片10與固定電極片20配置成可使其第1透明導電膜12與第1透明導電膜22對向，藉由接著劑層26的貼合後，即可製作成阻抗膜式觸控面板。同時，使用阻抗膜式觸控面板而製作成第2圖中所示的輸入裝置。
然後，以250g的重量擠壓可動電極10，利用尖端為0.8R的聚縮醛製觸控筆(stylus)測定由電源50外加電壓5V時的接觸阻抗。
[滑動試驗]
在測定第1透明導電膜的塗膜強度時，是使以水或酒精(甲醇及乙醇)濡濕的拭鏡紙(日本製紙Crecia社製)在400gf/cm2 的荷重下往返擦拭30次，以目視檢查第1透明導電膜的抜除。同時，測定滑動試驗後的接觸阻抗。此等結果是作為第1透明導電膜的耐水性及耐溶劑性之指標。
A：無剝離B：稍微剝離C：部份剝離D：完全剝離
表中的氧雜環丁烷之添加量，是相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子合計100質量%時的氧雜環丁烷化合物之添加量。
(實施例2)
將銀粒子(Ferro Japan公司製，RDS11000-10，平均粒徑：1.0μm)0.5g、3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷(東亞合成社製OXT221)6.12g(相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量%，3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷為85.0質量%)、2,3,3’,4,4’,5-六羥基二苯甲酮1.8g、2-羥基乙基丙烯醯胺20g、San-Aid SI-110L(三新化學社製)3.8g、乙醇800g混合後，攪拌之。在由此而得的混合溶液中，加入製造例2中所得的PEDOT-PSS水溶液600g，以均質器分散處理後，可得導電性高分子溶液B。
使用電性高分子溶液B，進行與實施例1同樣的操作，形成導電性塗膜後，進行評估。評估結果如表1中所示。
(實施例3)
在製造例2中所得的PEDOT-PSS水溶液600g中加入溴化銀0.5g，應用奈米機(nanomizer)(吉田機械社製)分散處理後，調製成含溴化銀的PEDOT-PSS水溶液。
另外，將二甲苯雙氧雜環丁烷(東亞合成社製OXT121)18.0g(相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量%，二甲苯雙氧雜環丁烷為250.0質量%)、2,3,3’,4,4’,5-六羥基二苯甲酮1.8g、2-羥基乙基丙烯醯胺20g、焦苯六甲酸36.4g、乙醇800g混合後，攪拌之。在由此而得的溶液中，加入前述含有溴化銀的PEDOT-PSS水溶液，攪拌後，可得導電性高分子溶液C。
使用電性高分子溶液C，進行與實施例1同樣的操作，形成導電性塗膜後，進行評估。評估結果如表1中所示。
(實施例4)
在製造例2中所得的PEDOT-PSS水溶液600g中加入咪唑20.1g(相對於聚陰離子的2莫耳當量)，攪拌後，調製成含咪唑的PEDOT-PSS水溶液。
另外，添加4,4’-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基甲氧甲基)聯苯(宇部興產社製OXBP)30.0g(相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量%，4,4’-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基甲氧甲基)聯苯為416.7質量%)、沒食子酸甲酯1.8g、2-羥基乙基丙烯醯胺20g、WPI-113(和光純藥工業社製，不揮發份50質量%)0.6g、乙醇800g、摻雜鎵的氧化銦(Hakusui Tech社製，Paget，平均粒徑：20至40nm)0.3g後，攪拌之。在由此而得的溶液中，加入前述含有咪唑的PEDOT-PSS水溶液，攪拌後，可得導電性高分子溶液D。
利用逆向塗布器，將導電性高分子溶液D塗布在聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(Toray社製U-34，厚度：188μm，全光線穿透率：92%，霧值；0.7%)，於120℃中，以熱風乾燥2分鐘後，即可形成導電性塗膜。然後，進行與實施例1同樣的操作，評估導電性塗膜。評估結果如表1中所示。
(實施例5)
在製造例2中所得的PEDOT-PSS水溶液600g中加入碳酸銀0.5g，攪拌後，調製成含碳酸銀的PEDOT-PSS水溶液。
另外，添加3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷(東亞合成社製OXT221)2.5g(相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量%，3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷為34.7質量%)、沒食子酸甲酯1.8g、2-羥基乙基丙烯醯胺20g、San-Aid SI-110L(三新化學社製)0.064g、乙醇800g後，攪拌之。在由此而得的溶液中，加入前述含有碳酸銀的PEDOT-PSS水溶液，攪拌後，可得導電性高分子溶液E。
利用逆向塗布器，將導電性高分子溶液E塗布在聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(Toray社製U-34，厚度：188μm，全光線穿透率：92%，霧值；0.7%)，於120℃中，以熱風乾燥2分鐘後，即可形成導電性塗膜。然後，進行與實施例1同樣的操作，評估導電性塗膜。評估結果如表1中所示。
(實施例6)
調配十二烷苯磺酸鈉0.3g、單層奈米碳管SWCNT(日機裝社製)0.03g、離子交換水60g，以超音波處理後，可得0.05質量%奈米碳管分散液。
在製造例2中所得的PEDOT-PSS水溶液600g中加入前述奈米碳管分散液27.0g(換算成固形份)，攪拌後，調製成含奈米碳管的PEDOT-PSS水溶液。
另外，添加二甲苯雙氧雜環丁烷(東亞合成社製OXT121)1.0g(相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量%，二甲苯雙氧雜環丁烷為13.9質量%)、2,3,3’,4,4’,5-六羥基二苯甲酮1.8g、2-羥基乙基丙烯醯胺20g、己二酸1.0g、乙醇800g後，攪拌之。在由此而得的溶液中，加入前述含有奈米碳管的PEDOT-PSS水溶液，攪拌後，可得導電性高分子溶液F。
利用逆向塗布器，將導電性高分子溶液F塗布在作為第1透明基材的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(Toray社製U-426，厚度：188μm，全光線穿透率：93%，霧值；0.4%)，於120℃中，以熱風乾燥2分鐘後，即可形成導電性塗膜。
(比較例1)
除了將實施例1中的4,4’-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基甲氧甲基)聯苯之添加量變更為0.04g(相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量%，4,4’-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基甲氧甲基)聯苯為0.6質量%)之外，其餘進行與實施例1同樣的操作，形成導電性塗膜後，進行評估。評估結果如表1中所示。
(比較例2)
除了將實施例2中的3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷之添加量變成40.0g(相對於π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量%，3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷為555.6質量%)之外，其餘進行與實施例2同樣的操作，形成導電性塗膜後，進行評估。評估結果如表1中所示。
在使π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計100質量%，由含有1至500質量%範圍的氧雜環丁烷之導電性高分子溶液形成的實施例1至6的導電性塗膜，其耐水性及耐溶劑性高。並且，表面阻抗、透明性、對於ITO膜之接觸阻抗優異，故可適用作為觸控面板的透明導電膜。
由氧雜環丁烷的含量未達1質量%之比較例1的導電性高分子溶液形成的導電性塗膜，其耐水性及耐溶劑性低。
由氧雜環丁烷的含量超過500質量%之比較例2的導電性高分子溶液形成的塗膜，其導電性低，故不能使用作為導電性塗膜。
[產業上可利用性]
本發明是提供一種導電性高分子溶液，其不僅保存安定性高，且可形成耐水性高的導電性塗膜，也提供耐水性優異的輸入裝置。
1．．．輸入裝置
10．．．可動電極片
11．．．第1透明基材
12．．．第1透明導電膜
13a．．．第1電極
13b．．．第2電極
20．．．固定電極片
21．．．第2透明基材
22．．．第2透明導電膜
23a．．．第3電極
23b．．．第4電極
25．．．絕緣層
26．．．接著劑層
30．．．點隔片
41．．．第1配線
42．．．第2配線
43．．．第3配線
44．．．第4配線
45．．．第5配線
46．．．第6配線
47．．．第7配線
50．．．電源
60．．．多工器
71．．．第1開關
72．．．第2開關
73．．．第3開關
74．．．第4開關
78．．．第8配線
79．．．第9配線
80．．．取樣保持電路
90．．．電壓測定機制
P．．．接點
第1圖是表示本發明的輸入裝置之一實施形態例的截面圖。
第2圖是表示有關第1圖中所示輸入裝置的使用方法之圖。
第3圖是表示構成輸入裝置的可動電極片之一例的截面圖。
第4圖是表示構成輸入裝置的固定電極片之截面圖。
1．．．輸入裝置
10．．．可動電極片
11．．．第1透明基材
12．．．第1透明導電膜
20．．．固定電極片
21．．．第2透明基材
22．．．第2透明導電膜
30．．．點隔片

Claims (18)

  1. 一種導電性高分子溶液，其特徵為：含有π共軛系導電性高分子、聚陰離子、具有氧雜環丁烷環的化合物與溶劑，而π共軛系導電性高分子與聚陰離子的合計為100質量%時，具有氧雜環丁烷環的化合物之含量為1至500質量%，其中，前述π共軛系導電性高分子係由聚吡咯類、聚噻吩類、多炔類、聚伸苯類、聚伸苯伸乙烯類、聚苯胺類、多并苯類、聚噻吩伸乙烯類及此等之共聚合物所成群組選擇之至少一種；前述聚陰離子係由取代或未取代的聚伸烷、取代或未取代的聚伸烯、取代或未取代的聚醯亞胺、取代或未取代的聚醯胺、取代或未取代的聚酯所成群組選擇之至少一種；前述具有氧雜環丁烷環的化合物係由伸二甲苯基雙氧雜環丁烷、3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷、4,4’-(3-乙基氧雜環丁烷-3-基甲基氧甲基)聯苯、1,4-雙{[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基]甲基}苯、二{1-乙基(3-氧雜環丁烷基)甲基醚、1,6-雙{(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基}己烷、9,9-雙{2-甲基-4-[2-(3-氧雜環丁烷基)]丁氧基苯基}芴、9,9-雙{4-{2-[2-(3-氧雜環丁烷基)]丁氧基}乙氧基苯基}芴之具有二官能的氧雜環丁烷環之化合物、氧雜環丁烷化酚醛樹脂之多官能氧雜環丁烷化合 物、3-乙基-3-(羥基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-苯氧基甲基氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯基氧甲基)氧雜環丁烷、3-(甲基丙烯醯基氧甲基)-2-苯基氧雜環丁烷所成群組選擇之至少一種；前述溶劑係由水，醇類，碳酸酯化合物，酚類，酮類，烴類，醚類化合物，腈化合物，N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基-2-四氫吡咯酮、六亞甲基磺酸基三醯胺、1,3-二甲基-2-咪唑啉、二甲基咪唑啉、醋酸乙酯、二甲基亞碸、環丁碸、二苯基磺酸所成群組選擇之至少一種。
  2. 如申請專利範圍第1項的導電性高分子溶液，其中，含有具有羧基的化合物者。
  3. 如申請專利範圍第1項的導電性高分子溶液，其中，含有可產生路易斯酸的陽離子產生化合物者。
  4. 如申請專利範圍第2項的導電性高分子溶液，其中，含有可產生路易斯酸的陽離子產生化合物者。
  5. 如申請專利範圍第1項的導電性高分子溶液，其中，含有導電性化合物者。
  6. 如申請專利範圍第2項的導電性高分子溶液，其中，含有導電性化合物者。
  7. 如申請專利範圍第3項的導電性高分子溶液，其中，含有導電性化合物者。
  8. 如申請專利範圍第4項的導電性高分子溶液，其中，含 有導電性化合物者。
  9. 如申請專利範圍第1項的導電性高分子溶液，其中，含有選自含氮芳香族環化合物、具有2個以上羥基的化合物、具有2個以上羧基的化合物、具有1個以上羥基及1個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種高導電化劑者。
  10. 如申請專利範圍第2項的導電性高分子溶液，其中，含有選自含氮芳香族環化合物、具有2個以上羥基的化合物、具有2個以上羧基的化合物、具有1個以上羥基及1個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種高導電化劑者。
  11. 如申請專利範圍第3項的導電性高分子溶液，其中，含有選自含氮芳香族環化合物、具有2個以上羥基的化合物、具有2個以上羧基的化合物、具有1個以上羥基及1個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種高導電化劑者。
  12. 如申請專利範圍第4項的導電性高分子溶液，其中，含有選自含氮芳香族環化合物、具有2個以上羥基的化合 物、具有2個以上羧基的化合物、具有1個以上羥基及1個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種高導電化劑者。
  13. 如申請專利範圍第5項的導電性高分子溶液，其含有選自含氮芳香族環化合物、具有2個以上羥基的化合物、具有2個以上羧基的化合物、具有1個以上羥基及1個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種高導電化劑者。
  14. 如申請專利範圍第6項的導電性高分子溶液，其中，含有選自含氮芳香族環化合物、具有2個以上羥基的化合物、具有2個以上羧基的化合物、具有1個以上羥基及1個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種高導電化劑者。
  15. 如申請專利範圍第7項的導電性高分子溶液，其中，含有選自含氮芳香族環化合物、具有2個以上羥基的化合物、具有2個以上羧基的化合物、具有1個以上羥基及1個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化 合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種高導電化劑者。
  16. 如申請專利範圍第8項的導電性高分子溶液，其中，含有選自含氮芳香族環化合物、具有2個以上羥基的化合物、具有2個以上羧基的化合物、具有1個以上羥基及1個以上羧基的化合物、具有醯胺基的化合物、具有醯亞胺基的化合物、內醯胺化合物、具有去水甘油基的化合物、矽烷耦合劑、水溶性有機溶劑所成群組之至少一種高導電化劑者。
  17. 一種導電性塗膜，其係塗布申請專利範圍第1至16項中任一項之導電性高分子溶液而形成者。
  18. 一種輸入裝置，其特徵為：具備申請專利範圍第17項的導電性塗膜。
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Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120148835A1 (en) 2010-12-08 2012-06-14 Bayer Materialscience Ag Hybrid conductive composite
KR101734555B1 (ko) * 2011-01-03 2017-05-11 엘지이노텍 주식회사 터치 패널의 제조 방법
US20140065400A1 (en) * 2012-08-29 2014-03-06 Eastman Chemical Company Electrically conductive polymer compositions and films
KR20140092488A (ko) * 2012-12-29 2014-07-24 제일모직주식회사 태양전지 전극 형성용 조성물 및 이로부터 제조된 전극
KR102024975B1 (ko) * 2013-02-15 2019-09-24 신에츠 폴리머 가부시키가이샤 도전성 조성물, 도전성 조성물의 제조 방법, 대전방지 수지 조성물 및 대전방지 수지 피막
CN104461103A (zh) * 2013-09-25 2015-03-25 远东新世纪股份有限公司 共轭高分子导电膜图案化的方法及降低图案色差用组成物
JP6417621B2 (ja) * 2014-02-12 2018-11-07 ナガセケムテックス株式会社 インク用組成物及び透明電極
JP2015189804A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 富士フイルム株式会社 導電性組成物、導電膜及び有機半導体デバイス
JP6324242B2 (ja) * 2014-07-07 2018-05-16 信越ポリマー株式会社 導電性高分子溶液およびその製造方法ならびに塗膜
JP2016043496A (ja) * 2014-08-19 2016-04-04 国立大学法人名古屋大学 導電性フィルム
JP6583969B2 (ja) * 2014-11-19 2019-10-02 ヘレウス・メディカル・コンポーネンツ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニーＨｅｒａｅｕｓ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ ＬＬＣ ３次元基材のための導電性ポリマーコーティング
TWI576732B (zh) * 2015-02-16 2017-04-01 Oji Holdings Corp A method for manufacturing a conductive sheet, a conductive sheet, and a touch panel
JP6523028B2 (ja) * 2015-04-13 2019-05-29 信越ポリマー株式会社 導電性高分子分散液及び導電性フィルム
CN104861189B (zh) * 2015-05-25 2018-04-13 华南理工大学 一种原位合成聚3,4‑乙撑二氧噻吩/纳米金属银透明导电涂层的方法
TWM516188U (zh) * 2015-08-28 2016-01-21 Liyitec Inc 提升防護效果的觸控裝置
US10023752B2 (en) * 2015-11-09 2018-07-17 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Conductive material and substrate
US10053588B2 (en) * 2015-11-09 2018-08-21 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Conductive material and substrate
US10047237B2 (en) * 2015-12-22 2018-08-14 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Conductive material and substrate
CN108700806A (zh) * 2016-03-17 2018-10-23 东丽株式会社 感光性导电糊剂及带导电图案的基板的制造方法
JP6640046B2 (ja) * 2016-07-11 2020-02-05 信越ポリマー株式会社 帯電防止フィルムの製造方法
JP6910854B2 (ja) * 2017-06-02 2021-07-28 信越ポリマー株式会社 導電性高分子分散液、導電性基板及びその製造方法
CN107189083B (zh) * 2017-06-21 2019-12-20 中国科学院广州能源研究所 导电聚合物pedot有机分散体系及其制备方法
JP6932582B2 (ja) * 2017-08-22 2021-09-08 信越ポリマー株式会社 導電性高分子組成物、その製造方法、帯電防止樹脂組成物、および帯電防止樹脂皮膜
BE1025728B1 (de) * 2017-11-22 2019-06-24 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Leitfähige zusammensetzung, herstellungsverfahren für eine leitfähige zusammensetzung, antistatische harzzusammensetzung und antistatischer harzfilm
US10714230B2 (en) 2017-12-06 2020-07-14 C3Nano Inc. Thin and uniform silver nanowires, method of synthesis and transparent conductive films formed from the nanowires
JP7111653B2 (ja) * 2018-06-25 2022-08-02 信越化学工業株式会社 生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法
CN109267110B (zh) * 2018-10-09 2020-05-15 九江德福科技股份有限公司 一种双层复合电解铜箔的生产工艺
CN110172156B (zh) * 2019-04-19 2020-05-19 华中科技大学 一种含有共轭聚合物的复合纳米粒子及其制备方法与应用
JP7475156B2 (ja) 2020-02-14 2024-04-26 信越ポリマー株式会社 導電性高分子分散液、導電性積層体及びその製造方法
TWI819397B (zh) * 2020-10-26 2023-10-21 日商信越聚合物股份有限公司 導電性高分子分散液及其製造方法、含導電性高分子的液體及其製造方法、導電性層疊體及其製造方法、以及電容器及其製造方法
TWI767738B (zh) * 2021-06-03 2022-06-11 位速科技股份有限公司 導電油墨樹脂組成物、透明導電膜以及透明導電基板結構及其製作方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200624504A (en) * 2004-10-08 2006-07-16 Shinetsu Polymer Co Conductive composition and production method thereof, antistatic coating material, antistatic coating, antistatic film, optical filter, and optical information recording medium, and capacitors and production method thereof

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4806174B2 (ja) * 2003-10-20 2011-11-02 富士通株式会社 有機導電性組成物、透明導電膜、透明導電体、入力装置及びその製造方法
DE102004009355A1 (de) * 2004-02-26 2005-09-15 Covion Organic Semiconductors Gmbh Verfahren zur Vernetzung organischer Halbleiter
JP4821152B2 (ja) * 2004-04-02 2011-11-24 大日本印刷株式会社 導電性樹脂硬化物の製造方法及び導電性樹脂硬化物用組成物
JP4350597B2 (ja) * 2004-06-14 2009-10-21 信越ポリマー株式会社 帯電防止性樹脂組成物、帯電防止性樹脂塗料、光学フィルタ
CN101921478B (zh) * 2005-03-11 2012-05-30 信越聚合物株式会社 导电性高分子溶液的制造方法
JP4823570B2 (ja) * 2005-05-27 2011-11-24 信越ポリマー株式会社 導電性高分子溶液及び導電性塗膜
CN102708945B (zh) * 2005-09-29 2015-09-30 信越聚合物株式会社 触摸板用透明导电薄片及其制造方法以及触摸板
JP2007204704A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Shin Etsu Polymer Co Ltd 導電性高分子溶液及び導電性塗膜
TWI460741B (zh) 2006-02-09 2014-11-11 Shinetsu Polymer Co 導電性高分子溶液、導電性塗膜、電容器，以及電容器之製造方法
JP4916740B2 (ja) * 2006-03-16 2012-04-18 信越ポリマー株式会社 導電性塗膜
JP2007308691A (ja) * 2006-04-18 2007-11-29 Hitachi Chem Co Ltd 有機エレクトロニクス用材料、有機エレクトロニクス素子、および有機エレクトロルミネセンス素子
JP4916804B2 (ja) * 2006-07-26 2012-04-18 信越ポリマー株式会社 導電性高分子溶液及び導電性塗膜
JP4991208B2 (ja) * 2006-08-18 2012-08-01 信越ポリマー株式会社 導電性高分子溶液の製造方法
JP4975403B2 (ja) * 2006-09-08 2012-07-11 信越ポリマー株式会社 導電性高分子溶液及び導電性塗膜
US7554793B2 (en) * 2006-11-16 2009-06-30 Kemet Electronics Corporation Low temperature curable conductive adhesive and capacitors formed thereby
JP2008242792A (ja) 2007-03-27 2008-10-09 Nomura Research Institute Ltd リプレース判断支援システムおよびリプレース判断支援方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200624504A (en) * 2004-10-08 2006-07-16 Shinetsu Polymer Co Conductive composition and production method thereof, antistatic coating material, antistatic coating, antistatic film, optical filter, and optical information recording medium, and capacitors and production method thereof

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Publication number Publication date
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