TWI395982B - 光學膜、偏光板及圖像顯示裝置 - Google Patents

光學膜、偏光板及圖像顯示裝置 Download PDF

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Description

光學膜、偏光板及圖像顯示裝置
本發明係關於一種光學膜，偏光板，及包含至少一個此偏光板之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等圖像顯示裝置。
液晶顯示裝置因其圖像形成方式，而必須於形成液晶面板表面之玻璃基板的兩側配置偏光板。偏光板通常係使用：於包含聚乙烯醇系膜、及碘等二色性材料之偏光元件的兩面上，藉由聚乙烯醇系接著劑貼合偏光元件保護膜而成者。
要求偏光元件保護膜所具備之光學特性之一，係波長色散特性。於液晶顯示裝置中，重要的是儘可能消除透過液晶之偏光光對各波長之依賴性，進行模擬，結果可知：藉由具有反波長色散特性，可消除上述依賴性。
作為偏光元件保護膜，通常使用由三乙醯基纖維素等之纖維素系樹脂膜。然而，纖維素系樹脂膜，其耐熱濕性不充分，於將採用纖維素系樹脂膜作為偏光元件保護膜之偏光板，在高溫或高濕條件下使用時，存在偏光度或色調等偏光板之性能下降的缺點。又，纖維素系樹脂膜，對傾斜方向上之入射光會產生相位差。近年來，隨著液晶顯示器向大型化發展，上述相位差對視角性能之影響變得日益顯著。
作為耐熱性及光學透明性優異之樹脂材料，已熟知聚甲 基丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸系樹脂，並且已報告有作為偏光元件保護膜之應用(例如，參照日本專利特開2000－356714號公報、日本專利特開2002－258051號公報)。然而，(甲基)丙烯酸系樹脂較脆且容易破裂，故存在運輸膜之過程中會產生破裂等運輸方面之問題，及產生性差之問題。因此，(甲基)丙烯酸系樹脂難以直接用於偏光元件保護膜。
作為與先前之(甲基)丙烯酸系樹脂相比，具有更高之耐熱性、更高之透明性、更高之機械強度的樹脂，已知有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂(例如，參照日本專利特開2000－230016號公報、日本專利特開2001－151814號公報、日本專利特開2002－120326號公報、日本專利特開2002－254544號公報)。然而，於將具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂直接用於偏光元件保護膜之情形時，可判明：偏光元件保護膜具有正波長色散特性，而難以消除透過液晶之偏光光對各種波長的依賴性。
本發明係為解決上述先前之問題而完成者，其目的在於提供：(1)光學膜，其具有高耐熱性、高透明性、高機械強度，並且具有反波長色散特性而具有充分之相位差補償功能；(2)具有此類光學膜及偏光元件的偏光板；(3)使用此類偏光板的優質圖像顯示裝置。
本發明之光學膜，含有具有內酯環之(甲基)丙烯酸系樹脂作為主要成分，其於波長450 nm之面內相位差Re(450)/ 於波長600 nm之面內相位差Re(600)小於1.0。
於本發明之較好的實施形態中，光學膜包含負雙折射材料。
於本發明之較好的實施形態中，相對於具有內酯環之(甲基)丙烯酸系樹脂，以5~40重量%之比率包含負雙折射材料。
於本發明之較好的實施形態中，上述負雙折射材料係苯乙烯系聚合物及茀中之至少一種。
於本發明之較好的實施形態中，苯乙烯系聚合物係選自苯乙烯－馬來酸酐共聚物、苯乙烯－丙烯腈共聚物、苯乙烯－馬來醯亞胺共聚物中之至少一種。
於本發明之較好的實施形態中，上述光學膜之Tg為110℃以上。
根據本發明之另一態樣，可提供一種偏光板。本發明之偏光板，於偏光元件之至少其中一面側具有本發明之光學膜。
於本發明之較好的實施形態中，上述偏光元件與上述光學膜之間具有接著劑層。
於本發明之較好的實施形態中，上述接著劑層係由聚乙烯醇系接著劑所形成之層。
於本發明之較好的實施形態中，上述偏光元件與上述光學膜之間具有易接著層。
於本發明之較好的實施形態中，其於最外層之至少一方進而具有黏著劑層。
根據本發明之又一態樣，可提供一種圖像顯示裝置。本發明之圖像顯示裝置包含至少一片本發明之偏光板。
根據本發明，可以提供一種光學膜，其具有高耐熱性、高透明性、高機械強度，並且具有反波長色散特性而具有充分之相位差補償功能。又，可提供一種具有此類光學膜及偏光元件的偏光板。進而，可提供一種使用此類偏光板的優質圖像顯示裝置。
上述效果可藉由如下方式而表現出來：於含有具有內酯環之(甲基)丙烯酸系樹脂作為主要成分的光學膜中，藉由例如含有預定量之負雙折射材料等任意適當之方法，將於波長450 nm之面內相位差Re(450)/於波長600 nm之面內相位差Re(600)設為小於1.0。
以下，對本發明之較好的實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。
(光學膜)
本發明之光學膜含有具有內酯環之(甲基)丙烯酸系樹脂作為主要成分。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，其Tg(玻璃轉移溫度)較好的是115℃以上，更好的是120℃以上，更好的是125℃以上，尤其好的是130℃以上。藉由含有Tg(玻璃轉移溫度)為115℃以上之(甲基)丙烯酸系樹脂作為主要成分，於例如最終組裝於偏光板上的情形時，容易獲得耐久性優異者。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg的上限值並無特別限定，就成 形性等方面而言，較好的是170℃以下。
作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉：日本專利特開2002－120326號公報、日本專利特開2002－254544號公報等中所揭示之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，較好的是具有由下述通式(1)所表示之內酯環結構。
(通式(1)中，R1 、R2 及R3 分別獨立，表示氫原子或碳數1~20之有機殘基。再者，有機殘基可含有氧原子。)
於具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的結構中，由通式(1)所表示之內酯環結構的含有比率較好的是5~90重量%，更好的是10~70重量%，更好的是10~60重量%，尤其好的是10~50重量%。於具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的結構中，若由通式(1)所表示之內酯環結構的含有比率小於5重量%，則有耐熱性、耐溶劑性、表面硬度變得不充分之虞。於具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的結構中，若由通式(1)表示之內酯環結構的含有比率大於90重量%，則有變得缺乏成形加工性之虞。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量較好的是1000~2000000，更好的是5000~1000000，更好 的是10000~500000，尤其好的是50000~500000。若重量平均分子量超出上述範圍，則有無法充分發揮本發明之效果之虞。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂藉由射出成形而獲得之成形品，依據ASTM－D－1003之方法所測定的總光線透射率較好的是儘可能地高，較好的是85%以上，更好的是88%以上，更好的是90%以上。若總光束透射率小於85%，則透明性會降低，有無法用於作為本來目的之用途之虞。
於本發明之光學膜中具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的含量較好的是50~99重量%，更好的是60~98重量%，更好的是70~97重量%。於光學膜中具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的含量小於50重量%之情形時，有無法充分表現出具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂原本所具有的高耐熱性、高透明性之虞，並且於具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的含量超過99重量%之情形時，有機械強度變差之虞。
本發明之光學膜，其於波長450 nm之面內相位差Re(450)/於波長600 nm之面內相位差Re(600)小於1.0，較好的是0.99以下，更好的是0.98以下，更好的是0.97以下。下限值較好的是0.01以上，更好的是0.02以上，更好的是0.03以上。藉由使於波長450 nm之面內相位差Re(450)/於波長600 nm之面內相位差Re(600)小於1.0，可製成具有反波長色散特性而具有充分之相位差補償能力的光學膜。
於本發明之光學膜中，作為用於將於波長450 nm之面內相位差Re(450)/於波長600 nm之面內相位差Re(600)設為小於1.0的方法，可採用任意適當之方法。較好的是，本發明之光學膜包含負雙折射材料。
於本發明之光學膜包含負雙折射材料之情形時，相對於上述具有內酯環之(甲基)丙烯酸系樹脂，負雙折射材料之含有比率較好的是5~40重量%。更好的是7~35重量%，更好的是10~30重量%。若負雙折射材料之含有比率在上述範圍內，則可將於波長450 nm之面內相位差Re(450)/於波長600 nm之面內相位差Re(600)設為小於1.0。
上述負雙折射材料較好的是苯乙烯聚合物及茀中之至少一種。
作為上述苯乙烯聚合物，例如可列舉：苯乙烯單體之單獨聚合物(聚苯乙烯)、苯乙烯單體與其他可進行共聚合之單體的共聚物。又，亦可為該等聚合物之改性物。作為苯乙烯單體與其他可進行共聚合之單體的共聚物，例如可列舉：苯乙烯－馬來酸酐共聚物、苯乙烯－丙烯腈共聚物、苯乙烯－馬來醯亞胺共聚物。
本發明之光學膜的Tg較好的是110℃以上，更好的是113℃以上，更好的是115℃以上，尤其好的是118℃以上。就成形性等方面而言，上限值較好的是170℃以下。藉由使Tg在上述範圍內，可形成耐熱性優異之光學膜。
本發明之光學膜，亦可為藉由縱向延伸及/或橫向延伸進行延伸而成者。
上述延伸，可為僅藉由縱向延伸的延伸(自由端單軸延伸)，亦可為僅藉由橫向延伸的延伸(固定端單軸延伸)，較好的是縱向延伸倍率為1.1~3.0倍、橫向延伸倍率為1.1~3.0倍之，逐次延伸或同時雙軸延伸。於僅藉由縱向延伸(自由端單軸延伸)進行延伸，或僅藉由橫向延伸(固定端單軸延伸)進行延伸之情形時，膜強度僅於延伸方向上增加，而與延伸方向垂直之方向上的膜強度並不增加，故而有作為整個膜無法獲得充分之膜強度之虞。上述縱向延伸倍率更好的是1.2~2.5倍，更好的是1.3~2.0倍。上述橫向延伸倍率更好的是1.2~2.5倍，更好的是1.4~2.5倍。於縱向延伸倍率、橫向延伸倍率小於1.1倍之情形時，延伸倍率過低，故而有幾乎無延伸效果之虞。若縱向延伸倍率、橫向延伸倍率超過3.0倍，則因膜端面之平滑性問題，而容易產生延伸斷裂。
上述延伸溫度，較好的是所延伸之膜的Tg~(Tg＋30℃)。若上述延伸溫度低於Tg，則有膜破裂之虞。若上述延伸溫度超過(Tg＋30℃)，則有膜開始熔融而使膜轉送變得困難之虞。
藉由縱向延伸及/或橫向延伸進行延伸而形成本發明之光學膜，藉此可使光學膜具有更加優異之光學特性，並且使機械強度優異，且使生產性或二次加工性進一步提高。
本發明之光學膜中，亦可含有紫外線吸收劑、通常之添加劑，例如穩定劑、潤滑劑、加工助劑、增塑劑、耐衝擊助劑、相位差減小劑、消光劑、抗菌劑、防黴劑等。
本發明之光學膜的厚度較好的是20~200 μm，更好的是25~180 μm，更好的是30~140 μm。於光學膜之厚度為20 μm以上時，光學膜具有適當之強度、剛性，故而於層壓或印刷等二次加工時的作業性良好。又，亦可容易地控制因取得光學膜時之應力而產生的相位差，可穩定且容易地製造膜。若光學膜之厚度為200 μm以下，則膜之捲取變得容易，使生產線速度、生產性變好，並且使操控性變得容易。
本發明之光學膜於厚度為80 μm時的YI較好的是1.3以下，更好的是1.27以下，更好的是1.25以下，更好的是1.23以下，尤其好的是1.20以下。若於厚度為80 μm時之YI超過1.3，則有無法發揮出優異之光學透明性之虞。再者，可使用高速積分球型光譜透射儀(商品名DOT－3C：村上色彩技術研究所製造)進行測定，再由所測得之色彩的三刺激值(X，Y，Z)，根據下述式子算出YI。
YI＝((1.28X－1.06Z)/Y)×100
本發明之光學膜於厚度為80 μm下的b值(依據Hunter氏顯色系統之色調標準)較好的是小於1.5，更好的是1.0以下。於b值為1.5以上之情形時，有因膜之著色而無法發揮出優異之光學透明性之虞。例如，可將偏光元件保護膜樣品裁剪為邊長3 cm之正方形，再使用高速積分球型光譜透射儀(商品名DOT－3C：村上色彩技術研究所製造)測定色調。又，可利用依據Hunter氏顯色系統之b值對色調進行評價。
於本發明之光學膜中，透濕度較好的是100 g/m2 ．24小時以下，更好的是60 g/m2 ．24小時以下。若上述透濕度超過100 g/m2 ．24小時，則有耐濕性變差之虞。
本發明之光學膜較好的是亦具有優異之機械強度。拉伸強度沿MD方向較好的是65 N/mm2 以上，更好的是70 N/mm2 以上，更好的是75 N/mm2 以上，尤其好的是80 N/mm2 以上；沿TD方向較好的是45 N/mm2 以上，更好的是50 N/mm2 以上，更好的是55 N/mm2 以上，尤其好的是60 N/mm2 以上。延伸率沿MD方向較好的是6.5%以上，更好的是7.0%以上，更好的是7.5%以上，尤其好的是8.0%以上；沿TD方向較好的是5.0%以上，更好的是5.5%以上，更好的是6.0%以上，尤其好的是6.5%以上。於拉伸強度或延伸率超出上述範圍之情形時，有無法發揮優異之機械強度之虞。
本發明之光學膜之表示光學透明性的霧度越低越好，較好的是5%以下，更好的是3%以下，更好的是1.5%以下，尤其好的是1%以下。若霧度為5%以下，則可於視覺方面對膜賦予良好之清晰感，進而，若霧度為1.5%以下，則即使於用作窗等採光構件時，亦可兼具視覺辨識性及採光性，並且即使於用作顯示裝置之前面板時，亦可良好地視覺辨認顯示內容，因此，其工業利用價值高。
本發明之光學膜可藉由任何方法製造，例如較好地可例示：藉由將形成含有(甲基)丙烯酸系樹脂作為主要成分之膜的材料(樹脂組合物)，供於擠出成形(T模頭法或充氣法 等熔融擠出法)、鑄造成形(熔融流鑄法等)、壓延成形，而製造膜。
擠出成形與乾式層壓法不同，無須乾燥、吹散加工過程中所使用之接著劑中的溶劑，例如乾式層壓用接著劑中之有機溶劑，而不需要乾燥步驟，因此，其擠出成形於生產性方面優異。具體可列舉：將成為原料之樹脂組合物供於連接於T模頭上之擠出機，進行熔融混煉後，進行擠出，再進行水冷卻並將其取出，而形成膜的方法。擠出機之螺桿類型可為單軸，亦可為雙軸，亦可添加增塑劑或抗氧化劑等添加劑。
擠出溫度可適當地設定，於將成為原料之樹脂組合物的玻璃轉移溫度設為Tg(℃)之情形時，擠出溫度較好的是(Tg＋80)℃~(Tg＋180)℃，更好的是(Tg＋100)℃~(Tg＋150)℃。若擠出溫度過低，則樹脂無流動性，有變得無法成形之虞。若擠出溫度過高，則樹脂黏度會降低，有產生成形物之厚度不均勻等生產穩定性問題之虞。
形成本發明之光學膜的樹脂組合物中，亦可含有紫外線吸收劑、通常之添加劑，例如：穩定劑、潤滑劑、加工助劑、增塑劑、耐衝擊助劑、相位差減小劑、消光劑、抗菌劑、防黴劑等。
本發明之光學膜，可層壓於另一基材上而使用。例如，可藉由包含接著性樹脂層之多層擠出成型或多層吹氣成型，將本發明之光學膜積層成形於玻璃、聚烯烴樹脂、成為高阻隔層之乙烯基－亞乙烯基共聚物、聚酯等之基材 上。於熱熔著性較高之情形時，有時可省略接著層。
本發明之光學膜除了可用於保護偏光元件(偏光元件保護膜)之用途以外，亦可積層於例如窗或車頂棚材料等建築用採光構件、窗等車輛用採光構件、溫室等農業用採光構件、照明構件、前濾光器等顯示器構件等上而使用，又，亦可積層於先前包覆有(甲基)丙烯酸系樹脂之家用電器外殼、車輛內部裝飾構件、內部裝飾用建築材料、壁紙、裝飾板、正門、窗框、壁腳板等。
(偏光板)
本發明之偏光板係包含本發明之光學膜及偏光元件的偏光板。更具體而言，本發明之偏光板於偏光元件之至少一個面上具有本發明之光學膜。本發明之偏光板的一個較好的實施形態，如圖1所示，係如下形態：偏光元件31之一個面經由接著劑層32及易接著層33而接著於本發明之光學膜34上，而偏光元件31之另一面經由接著劑層35而接著於偏光元件保護膜36上。偏光元件保護膜36可為本發明之光學膜，亦可為其他任意適當之偏光元件保護膜。
偏光元件較好的是由聚乙烯醇系樹脂所形成。上述由聚乙烯醇系樹脂所形成之偏光元件可使用以二色性物質(代表例為碘、二色性染料)對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色，再進行單軸延伸而獲得者。構成聚乙烯醇系樹脂膜之聚乙烯醇系樹脂的聚合度較好的是100~5000，更好的是1400~4000。構成偏光元件之聚乙烯醇系樹脂膜，可藉由任意適當之方法(例如，將於水或有機溶劑中溶解有樹脂 之溶液流延而製成膜的流鑄法、塗布法、擠出法)而成形。偏光元件之厚度可根據偏光板所應用於之LCD目的及用途而適當設定，代表例為5~80 μm。
作為偏光元件之製造方法，可根據目的、使用材料、條件等而採用任意適當之方法。作為代表例，可採用：將上述聚乙烯醇系樹脂膜，供於包括膨潤、染色、交聯、延伸、水洗及乾燥步驟之一系列製造步驟的方法。除乾燥步驟以外之各個處理步驟，係將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有各個步驟中所使用之溶液的浴中。膨潤、染色、交聯、延伸、水洗及乾燥步驟之順序、次數以及是否設置有上述步驟，可根據目的、使用材料及條件等進行適當設定。例如，可於一個步驟中進行幾種處理，亦可省略特定處理。更具體而言，例如，延伸處理可於染色處理後進行，亦可於染色處理前進行，亦可與膨潤處理、染色處理、交聯處理同時進行。又，例如，可較好地採用於延伸處理前後進行交聯處理的方法。又，例如，水洗處理可於全部處理之後進行，亦可僅於特定處理之後進行。
作為膨潤步驟之代表例，可藉由將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於裝滿水之處理浴(膨潤浴)中而進行。該處理可清洗聚乙烯醇系樹脂膜表面之污垢或抗結塊劑，並且可藉由使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤，而防止染色不均等不均勻性。於膨潤浴中，可適當添加甘油或碘化鉀等。膨潤浴之溫度的代表例為20~60℃左右，於膨潤浴中之浸漬時間的代表例為0.1~10分鐘左右。
作為染色步驟之代表例，可藉由將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘等二色性物質之處理浴(染色浴)中而進行。作為染色浴之溶液所使用的溶劑，通常使用水，亦可適量添加與水具有相容性之有機溶劑。可相對於100重量份之溶劑，以0.1~1.0重量份之代表性比例，使用二色性物質。於使用碘作為二色性物質之情形時，染色浴之溶液較好的是進而含有用碘化物等助劑。其原因在於該助劑可改善染色效率。相對於100重量份之溶劑，較好的是以0.02~20重量份，更好的是以2~10重量份之比例使用助劑。作為碘化物之具體例，可列舉：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦。染色浴之溫度的代表例為20~70℃左右，於染色浴中之浸漬時間的代表例為1~20分鐘左右。
作為交聯步驟的代表例，可藉由將經上述染色處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有交聯劑之處理浴(交聯浴)中而進行。作為交聯劑，可採用任意適當之交聯劑。作為交聯劑之具體例，可列舉：硼酸、硼砂等硼化物，乙二醛，戊二醛。交聯劑可單獨使用，或組合使用。作為交聯浴之溶液所使用之溶劑，通常使用水，亦可適量添加與水具有相容性之有機溶劑。可相對於100重量份溶劑，以1~10重量份之代表性比例使用交聯劑。於交聯劑濃度小於1重量份之情形時，無法獲得充分之光學特性的情況居多。於交聯劑濃度超過10重量份之情形時，存在於延伸過程中對膜所產生之延伸力增大，導致偏光板收縮的情況。交聯浴之溶 液較好的是進而含有碘化物等助劑。其原因在於該助劑可於面內容易地獲得均勻之特性。助劑之濃度較好的是0.05~15重量%，更好的是0.5~8重量%。碘化物之具體例與染色步驟之情形相同。交聯浴之溫度的代表例為20~70℃左右，較好的是40~60℃。於交聯浴中之浸漬時間的代表例為1秒~15分鐘左右，較好的是5秒~10分鐘。
延伸步驟如上所述，可於任一階段進行。具體而言，延伸步驟可於染色處理後進行，亦可於染色處理前進行，亦可與膨潤處理、染色處理及交聯處理同時進行，亦可於交聯處理後進行。聚乙烯醇系樹脂膜之累積延伸倍率必須為5倍以上，較好的是5~7倍，更好的是5~6.5倍。於累積延伸倍率小於5倍之情形時，存在難以獲得具有高偏光度之偏光板的情況。於累積延伸倍率超過7倍之情形時，存在聚乙烯醇系樹脂膜(偏光元件)容易破裂的情況。延伸之具體方法可使用任意適當之方法。例如，於使用濕式延伸方法之情形時，係將聚乙烯醇系樹脂膜在處理浴(延伸浴)中延伸至預定倍率。作為延伸浴之溶液，較好的是使用於水或有機溶劑(例如乙醇)等溶劑中添加有各種金屬鹽、碘、硼或鋅之化合物的溶液。
作為水洗步驟的代表例，可藉由將經上述各種處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於處理浴(水洗浴)中而進行。藉由水洗步驟，可將聚乙烯醇系樹脂膜所不需要的殘留物洗去。水洗浴可為純水，亦可為碘化物(例如碘化鉀、碘化鈉)之水溶液。碘化物水溶液之濃度較好的是0.1~10重量%。於 碘化物水溶液中，亦可添加硫酸鋅、氯化鋅等助劑。水洗浴之溫度較好的是10~60℃，更好的是30~40℃。浸漬時間的代表例為1秒~1分鐘。水洗步驟可僅進行一次，亦可根據需要而進行多次。於進行多次之情形時，可用於各處理之水洗浴中所含有之添加劑的種類及濃度可進行適當調節。例如，水洗步驟包括：將聚合物膜於碘化鉀水溶液(0.1~10重量%，10~60℃)中浸漬1秒~1分鐘的步驟，以及使用純水進行洗滌的步驟。
作為燥步驟，可採用任意適當之乾燥方法(例如，自然乾燥、空氣乾燥、加熱乾燥)。例如，於加熱乾燥之情形時，乾燥溫度的代表例為20~80℃，乾燥時間之代表例為1~10分鐘。以如上方式，可獲得偏光元件。
本發明之偏光板包含上述偏光元件及本發明之光學膜，較好的是上述偏光元件與上述光學膜之間具有接著劑層。
上述接著劑層較好的是由聚乙烯醇系接著劑所形成之層。聚乙烯醇系接著劑含有聚乙烯醇系樹脂及交聯劑。
上述聚乙烯醇系樹脂並無特別限定，例如可列舉：將聚乙酸乙烯酯皂化而獲得之聚乙烯醇；其衍生物；進而乙酸乙烯酯，與具有共聚合性之單體之共聚物的皂化物；將聚乙烯醇縮醛化、胺基甲酸乙酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而獲得之改性聚乙烯醇等。作為上述單體，可列舉：馬來酸(酐)、富馬酸、丁烯酸、伊康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸以及其酯，乙烯、丙烯等α－烯烴，(甲基)烯丙基磺酸(鈉)，磺酸鈉(單烷基蘋果酸)，二磺酸烷基蘋果酸 鈉，N－羥甲基丙烯醯胺，丙烯醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽，N－乙烯基吡咯烷酮，N－乙烯基吡咯烷酮衍生物等。聚乙烯醇系樹脂可單獨使用，亦可組合使用。
就接著性方面而言，聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度較好的是100~3000，更好的是500~3000，平均皂化度較好的是85~100莫耳%，更好的是90~100莫耳%。
作為上述聚乙烯醇系樹脂，可使用具有乙醯乙醯基的聚乙烯醇系樹脂。具有乙醯乙醯基的聚乙烯醇系樹脂係具有反應性高之官能基的聚乙烯醇系接著劑，其就提高偏光板之耐久性的觀點而言較好。
具有乙醯乙醯基的聚乙烯醇系樹脂，可以眾所周知之方法，使聚乙烯醇系樹脂與雙烯酮反應而獲得。作為眾所周知之方法，可列舉：將聚乙烯醇系樹脂溶解於乙酸等溶劑中，再於其中添加雙烯酮的方法；將聚乙烯醇系樹脂預光溶解於二甲基甲醯胺或二噁烷等溶劑中，再於其中添加雙烯酮的方法。又，亦可列舉：使雙烯酮氣體或液體雙烯酮與聚乙烯醇直接接觸之方法。
具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂的乙醯乙醯基改性度若為0.1莫耳%以上，則並無特別限定。於小於0.1莫耳%時，接著劑層之耐水性不充分，故而並不適合。乙醯乙醯基改性度較好的是0.140莫耳%，更好的是1~20莫耳%。若乙醯乙醯基改性度超過40莫耳%，則其與交聯劑之反應位置會減少，並且耐水性之提高效果小。乙醯乙醯基改性度係藉由NMR所測定之值。
作為上述交聯劑，可無特別限制地使用可用於聚乙烯醇系接著劑之交聯劑。交聯劑可使用具有至少兩個與聚乙烯醇系樹脂具有反應性之官能基的化合物。作為該化合物，可列舉：1,2－乙二胺、三乙二胺、1,6－己二胺等具有伸烷基及兩個胺基之烷二胺類(其中，較好的是1,6－己二胺)；甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三亞甲基丙烷甲苯二異氰酸酯加合物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4－苯基甲烷)三異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯及該等之酮肟嵌段化合物或苯酚嵌段化合物等異氰酸酯類；乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚或甘油三縮水甘油醚、1,6－己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油苯胺、二縮水甘油胺等環氧類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、鄰苯二甲醛等二醛類；羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基尿素、烷基化羥甲基三聚氰胺、乙醯基三聚氰二胺、苯并三聚氰二胺，與甲醛之縮合物等胺基－甲醛樹脂類；進而，鈉，鉀，鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等二價金屬或三價金屬之鹽及其氧化物等。作為交聯劑，較好的是三聚氰胺系交聯劑，尤其好的是羥甲基三聚氰胺。
相對於100重量份聚乙烯醇系樹脂，交聯劑的調配量較好的是0.1~35重量份，更好的是10~25重量份。另一方面，為了更加提高耐久性，相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂，可於超過30重量份且46重量份以下之範圍內調配 交聯劑。尤其是，於使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之情形時，較好的是使用超過30重量份之交聯劑。藉由於超過30重量份且46重量份以下之範圍內調配交聯劑，可提高耐水性。
再者，上述聚乙烯醇系接著劑中，進而可調配入矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑，各種增黏劑，紫外線吸收劑，抗氧化劑、耐熱穩定劑、抗水解穩定劑等穩定劑等。
本發明之光學膜，可於與偏光元件相接觸之面上，進行用於提高接著性之易接著處理。作為易接著處理，可列舉：電暈處理、電漿處理、低壓UV處理、皂化處理等表面處理。
本發明之光學膜，較好的是於與偏光元件相接觸之面上，形成用於提高接著性之易接著層(固著層)。
作為上述易接著層，例如可列舉：具有反應性官能基之聚矽氧層。具有反應性官能基之聚矽氧層的材料，並無特別限制，例如可列舉：含有異氰酸酯基之烷氧基矽烷醇類、含有胺基之烷氧基矽烷醇類、含有巰基之烷氧基矽烷醇類、含有羧基之烷氧基矽烷醇類、含有環氧基之烷氧基矽烷醇類、含有乙烯基型不飽和基之烷氧基矽烷醇類、含有鹵素基之烷氧基矽烷醇類、含有異氰酸酯基之烷氧基矽烷醇類，較好的是胺基系矽烷醇。可藉由添加用於使上述矽烷醇高效地進行反應的鈦系催化劑或錫系催化劑，可增強接著力。又，亦可於上述具有反應性官能基之聚矽氧中，加入其他添加劑。具體而言，進而可使用：萜烯樹 脂、苯酚樹脂、萜烯－苯酚樹脂、松香樹脂、二甲苯樹脂等增黏劑，紫外線吸收劑，抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑。
上述具有反應性官能基之聚矽氧層，可藉由眾所周知之技術，進行塗佈、乾燥而形成。聚矽氧層之厚度，於乾燥後較好的是1~100 nm，更好的是10~80 nm。於塗佈時，可利用溶劑稀釋具有反應性官能基之聚矽氧。稀釋溶劑並無特別限制，可列舉醇類。稀釋濃度並無特別限制，較好的是1~5重量%，更好的是1~3重量%。
上述接著劑層之形成，可藉由將上述接著劑塗佈於本發明之光學膜的任一側或兩側上，及/或偏光元件之任一側或兩側上而進行。使本發明之光學膜與偏光元件相互貼合後，實施乾燥步驟，而形成包含塗佈乾燥層之接著劑層。亦可於形成接著劑層後，使其相貼合。偏光元件與偏光元件保護膜之貼合，可藉由輥層壓機等而進行。加熱乾燥溫度、乾燥時間，可根據接著劑之種類而適當決定。
若接著劑層於乾燥後之厚度過大，則光學膜於接著性方面不佳，故接著劑層之厚度較好的是0.01~10 μm，更好的是0.03~5 μm。
本發明之光學膜於偏光元件上之貼合，可將本發明之光學膜的一側貼合於偏光元件之兩個面上。
又，本發明之光學膜於偏光元件上之貼合，可將本發明之光學膜的一側貼合於偏光元件之一個面上，並於偏光膜之另一個面上貼合纖維素系樹脂膜。
上述纖維素系樹脂膜並無特別限制，就透明性、接著性方面而言，較好的是三乙醯基纖維素。纖維素系樹脂膜之厚度較好的是30~100 μm，更好的是40~80 μm。若厚度小於30 μm，則膜強度降低而導致作業性變差，若厚度大於100 μm，則於耐久性方面，光透射率顯著降低。
根據本發明之偏光板，可具有黏著劑層作為最外層之至少一方(有時將此類偏光板稱為黏著型偏光板)。
形成上述黏著劑層之黏著劑並無特別限定，例如可適當選擇使用：以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等之聚合物作為基礎聚合物而成者。尤其好的是使用如丙烯酸系黏著劑般光學透明性優異，表現出適度之濡濕性、凝集性及接著性之黏著特性，且耐候性及耐熱性等方面優異者。尤其好的是包含碳數為4~12之丙烯酸系聚合物的丙烯酸系黏著劑。
又，除上述以外，就防止吸濕所引起之起泡現象或剝落現象，防止熱膨脹差別等所引起之光學特性降低或液晶單元之翹曲方面，且就高清晰且耐久性優異之液晶顯示裝置的形成性方面而言，較好的是吸濕率低且耐熱性優異之黏著劑層。
上述黏著劑層可含有可添加至黏著劑層中的添加劑，該添加劑例如有：天然物質或合成物質之樹脂類，尤其是增黏樹脂，包含玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉末、其他無機粉末等之填充劑，顏料，染色劑，或抗氧化劑。
又，亦可為含有細粒子而表現出光擴散性之黏著劑層。
上述黏著劑層之設置可藉由任意適當之方法而進行。作為其例子，例如可列舉：調製於甲苯或乙酸乙酯等適當之單一溶劑或包含混合物之溶劑中，溶解或分散有基礎聚合物或其組合物而成之10~40重量%左右的黏著劑溶液，再藉由流鑄法或塗布法等任意適當之展開方式，將其直接設置到偏光板或光學膜上的方式；或者依據上述，於間隔件上形成黏著劑層，再將其轉接至保護層面上的方式等。
黏著劑層亦可以不同組成、不同種類等之重疊層之形式配置於偏光板的一個面或兩個面上。又，於設置於兩個面上的情形時，偏光板之前面及背面上亦可設置不同組成、種類或厚度等之黏著劑層。
黏著劑層之厚度可根據使用目的或接著力而適當決定，較好的是140 μm，更好的是5~30 μm，尤其好的是10~25 μm。若小於1 μm，則耐久性會變差，又，若厚度大於40 μm，則由起泡等所引起之浮起或剝落，從而導致外觀不良。
為了提高偏光板表面與上述黏著劑層之間的密著性，亦可於偏光板表面與上述黏著劑層之間設置固著層。
作為上述固著層，較好的是使用選自聚胺基甲酸乙酯、聚酯、分子中含有胺基之聚合物類中之固著層，尤其好的是使用分子中含有胺基之聚合物。分子中含有胺基之聚合物，其分子中之胺基可與黏著劑中之羧基或導電聚合物中之極性基團反應，或者表現出離子性相互作用等相互作 用，因此，可確保良好之密著性。
作為分子中含有胺基之聚合物類，例如可列舉：聚乙烯亞胺、聚烯丙基胺、聚乙烯基胺、聚乙烯基吡啶、聚乙烯基吡咯烷酮、上述丙烯酸系黏著劑之共聚合單體中所示之丙烯酸二甲基胺基乙酯等含有含胺基單體之聚合物等。
為了使上述固著層具有抗靜電能力，亦可添加抗靜電劑。作為用於賦予抗靜電能力之抗靜電劑，可列舉：離子性界面活性劑系，聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚喹啉等導電性聚合物系，氧化錫、氧化銻、氧化銦等金屬氧化物系等，就光學特性，外觀，抗靜電效果，及抗靜電效果於加熱、加濕時之穩定性方面而言，尤其好的是使用導電性聚合物。其中，尤其好的是使用聚苯胺、聚噻吩等水溶性導電性聚合物，或者水分散性導電性聚合物。其原因在於：於使用水溶性導電性聚合物、或水分散性導電性聚合物作為形成抗靜電層之材料之情形時，可於塗佈步驟中，抑制由有機溶劑所導致之光學膜基材的變質。
於本發明中，亦可藉由利用紫外線吸收劑，水楊酸酯系化合物或二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物或丙烯酸氰酯系化合物、鎳錯合鹽系化合物等，對形成上述偏光板之偏光元件或保護層等進行處理的方式，使其具有紫外線吸收能力。
本發明之偏光板可設置於液晶單元之觀察者側、背光側中之任一側，亦可設置於兩側，並無限制。
(圖像顯示裝置)
其次，對本發明之圖像顯示裝置進行說明。本發明之圖像顯示裝置包含至少一個本發明之偏光板。在此，作為一個例子，對液晶顯示裝置進行說明，當然，本發明可應用於需要偏光板之全部顯示裝置。作為可應用本發明之偏光板之圖像顯示裝置的具體例，可列舉如電致發光(EL)顯示器、電漿顯示器(PD)、場發射顯示器(FED)之自發光型顯示裝置。圖2係本發明之一個較好的實施形態的液晶顯示裝置的概略剖面圖。於圖示例中，對透射型液晶顯示裝置進行說明，當然，本發明亦可應用於反射型液晶顯示裝置等。
液晶顯示裝置100具備：液晶單元10，挾持液晶單元10而配置之相位差膜20、20'，配置於相位差膜20、20'之外側的偏光板30、30'，導光板40，光源50，以及反射器60。偏光板30、30'，係以其偏光軸相互垂直之方式進行配置。液晶單元10具有一對玻璃基板11、11'、及作為顯示媒體置於該基板之間的液晶層12。一個玻璃基板11上配置有：用於控制液晶之電氣光學特性的開關元件(代表例為TFT)；向開關元件提供柵極信號之掃描線、及向開關元件提供源極信號之信號線(均未圖示)。另一個玻璃基板11'上配置有構成彩色濾光器之彩色層及遮光層(黑色矩陣層)(均未圖示)。基板11、11'之間的距離(單元間隙)係藉由間隔件13進行控制。於本發明之液晶顯示裝置中，可使用上述本發明之偏光板作為偏光板30、30'中之至少一個。
例如，於為TN模式之情形時，如此之液晶顯示裝置 100，於未施加電壓時，液晶層12之液晶分子係於偏離偏光軸90∘之狀態下進行配向。於如此之狀態下，藉由偏光板僅使一個方向上之光透射的射入光，可藉由液晶分子扭轉90∘。如上所述，偏光板係以與其偏光軸相互垂直之方式進行配置，因此，到達另一個偏光板之光(偏光)可透過偏光板。因此，於未施加電壓時，液晶顯示裝置100會進行白色顯示(正常顯白模式)。另一方面，若對如此之液晶顯示裝置100施加電壓，則液晶層12中之液晶分子的配向會產生變化。其結果為，到達另一個偏光板之光(偏光)無法透過偏光板，而進行黑色顯示。使用主動元件，對每個像素進行如此之顯示切換，藉此可形成圖像。
以下，根據實施例對本發明進行具體說明，但本發明並不限定於該等實施例。再者，只要未特別指出，則實施例中之份及%係重量標準。
<重量平均分子量>
使用使用昭和電工(股)製造之Shodex GPC system－21H，以聚苯乙烯進行換算，而進行測定。
<Tg(玻璃轉移溫度，有時稱為TG)>
將聚合物一次溶解於四氫呋喃中，將其投入過量之己烷中，進行再沈澱，過濾而獲得沈澱物，再對該沈澱物進行減壓乾燥(1 mmHg(1.33 hPa)，3小時以上)，藉此除去揮發成分，使用DSC裝置(理學(股)製造之DSC8230)進行測定。再者，透明樹脂層或膜，係以適合測定單元之尺寸的方式裁小，不進行上述再沈澱操作而進行測定。
<脫醇反應率(內酯環化率)>
基於全部羥基自藉由聚合而獲得之聚合物組分中作為甲醇而脫醇時所引起的重量減少量，於動態TG測定下，由自重量開始減少時之150℃至聚合物開始分解時之300℃的脫醇反應所引起的重量減少，而求得脫醇反應率。
即，於具有內酯環結構之聚合物的動態TG測定下，測定150℃至300℃之間的重量減少率，並將所獲得之實際測定的重量減少率設為(X)。另一方面，假設該聚合物之組分中所含之全部羥基因參與內酯環之形成，成為醇而進行脫醇，將此時之理論重量減少率(即，假設其組分中發生100%脫醇而算出的重量減少率)設為(Y)。再者，更具體而言，理論重量減少率(Y)可由具有參與聚合物中之脫醇反應的結構(羥基)的原料單體的莫耳比，即該聚合物組分中之原料單體的含量而算出。脫醇反應率(內酯環化率)可藉由將該等值(X、Y)代入脫醇計算式中：1－(實際測定之重量減少率(X)/理論重量減少率(Y))
而獲得，該值係以%表示。
<熔體流動速率>
熔體流動速率係依據JIS－K6874，且於240℃之試驗溫度、10 kg之負重下進行測定。
<相位差之測定>
利用自動雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製造，自動雙折射計KOBRA 21－ADH)測定樣品膜之折射率nx、ny及nz，並算出面內相位差Re及厚度方向相位差 Rth。測定溫度為23℃。「面內相位差Re[λ]」，係指以於23℃下波長為λ nm之光所測定之膜(層)面內的相位差值。將於波長為λ nm下之膜(層)的慢軸方向上、快軸方向的折射率分別設為nx、ny，並將膜(層)之厚度設為d(nm)時，Re[λ]可由式：Re[λ]＝(nx－ny)×d而求得。
<厚度之測定>
於厚度小於10 μm之情形時，可使用薄膜用分光光度計(大塚電子(股)公司製造，製品名「Multi Channel Photo Detector MCPD－2000」)進行測定。於厚度為10 μm以上之情形時，可使用Anritsu公司製造之數位式測微計「KC－351C型」進行測定。
<波長色散值D>
算出於波長450 nm之面內相位差Re(450)/於波長600 nm之面內相位差Re(600)，作為「波長色散值D」。
<尺寸變化率(尺寸變化、耐熱性試驗)>
將光學膜於100℃下放置48小時，求出尺寸變化率。
(製造例1：偏光元件之製造)
將厚度為80 μm之聚乙烯醇膜，於5重量%之碘水溶液(重量比：碘/碘化鉀＝1/10)中進行染色。繼而，將所得之聚乙烯醇膜浸漬於含有3重量%之硼酸及2重量%之碘化鉀的水溶液中，進而，於含有4重量%之硼酸及3重量%之碘化鉀的水溶液中延伸6.0倍後，浸漬於5重量%之碘化鉀水溶液中。其後，將所得之聚乙烯醇膜於40℃之烘箱中乾燥3分鐘，而獲得厚度為30 μm之偏光元件。
(製造例2：含有內酯環化率為20%之內酯環的丙烯酸系樹脂膜的製造)
於裝備有攪拌裝置、溫度傳感器、冷卻管、氮氣導入管的30 L反應容器中，加入8000 g之甲基丙烯酸甲酯(MMA)、2000 g之2－(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、10000 g之4－甲基－2－戊酮(甲基異丁酮，MIBK)、5 g之正十二烷基硫醇，於其中通入氮氣，同時升溫至105℃，而進行迴流，此時，加入5.0 g之碳酸第三丁基過氧異丙酯(Kayakuakzo化藥製造，商品名：Kayacarbon Bic－75)作為起始劑，同時於4小時內滴加包含10.0 g之碳酸第三丁基過氧異丙酯、230 g之MIBK的溶液，於迴流(約105~120℃)下進行溶液聚合，進而進行4小時之熟化。
於所得之聚合物溶液中，加入30 g之磷酸十八酯/磷酸二－十八酯混合物(Sakai化學製造，商品名：Phoslex A－19)，於迴流(約90℃~120℃)下進行5小時的上述環化縮合反應。繼而，將上述環化縮合反應所得之聚合物溶液，以樹脂量換算為2.0 kg/小時之處理速度，導入至料筒溫度為260℃、轉速為100 rpm、減壓度為13.3 hPa(10~300 mmHg)之，具有一個後部彎管、四個前部彎管的彎管型螺桿雙軸擠出機(Φ＝29.75 mm，L/D＝30)中，於該擠出機中進行環化縮合反應及脫揮發，再進行擠出，藉此而獲得透明之含有內酯環之丙烯酸系樹脂的顆粒。
含有內酯環之丙烯酸系樹脂的顆粒的內酯環化率為20%，重量平均分子量為156000，熔體流動速率為3.9 g/10 分鐘，Tg(玻璃轉移溫度)為123℃。
(製造例3：聚乙烯醇系接著劑水溶液之調製)
以濃度達到0.5重量%之方式，對相對於100重量份之經乙醯乙醯基改性的聚乙烯醇樹脂(乙醯化度為13%)而含有20重量份之羥甲基三聚氰胺的水溶液進行調節，而調製聚乙烯醇系接著劑水溶液。
(實施例1)
將400 g之上述所獲得之含有內酯環(內酯環化率為20%)的丙烯酸系樹脂、100 g之苯乙烯－馬來酸酐共聚物供於擠出機，於250℃下進行熔融混煉，自T模頭擠出，以冷卻輥進行水冷卻並將其取出，之後，以逐次雙軸擠出機進行延伸，藉此獲得厚度為60 μm之光學膜(1)。
光學膜(1)之波長色散值D為0.83。
光學膜(1)之Tg為123℃。
光學膜(1)之尺寸變化率為0.4%。
(實施例2)
將400 g之上述所獲得之含有內酯環(內酯環化率為20%)的丙烯酸系樹脂、100 g之茀供於擠出機，於250℃下進行熔融混煉，自T模頭擠出，以冷卻輥進行水冷卻並將其取出，之後，以逐次雙軸擠出機進行延伸，藉此獲得厚度為60 μm之光學膜(2)。
光學膜(2)之波長色散值D為0.80。
光學膜(2)之Tg為120℃。
光學膜(2)之尺寸變化率為0.37%。
(實施例3)
將400 g之上述所獲得之含有內酯環(內酯環化率為20%)的丙烯酸系樹脂、100 g之苯乙烯－丙烯腈共聚物供於擠出機，於250℃下進行熔融混煉，自T模頭擠出，以冷卻輥進行水冷卻並將其取出，之後，以逐次雙軸擠出機進行延伸，藉此獲得厚度為60 μm之光學膜(3)。
光學膜(3)之波長色散值D為0.96。
光學膜(3)之Tg為106℃。
光學膜(3)之尺寸變化率為1.3%。
(實施例4) (偏光板之製造)
使用製造例3中所獲得之聚乙烯醇系接著劑，將本發明之實施例1中所獲得之光學膜(1)貼合於製造例1中所獲得之偏光元件的兩個面上。將其於70℃下乾燥10分鐘，而獲得偏光板。
(黏著劑)
使用含有包含丙烯酸丁酯：丙烯酸：丙烯酸2－羥基乙酯＝100：5：0.1(重量比)之共聚物的重量平均分子量為200萬的丙烯酸系聚合物的溶液(固形分為30%)作為基礎聚合物。上述丙烯酸系聚合物。相對於100份之聚合物固形分，於上述丙烯酸系聚合物溶液中，加入4份之作為異氰酸酯系多官能化合物的日本聚胺酯公司製造的COLONATE L、0.5份之添加劑(KBM403，信越聚矽氧製造)、用於調節黏度之溶劑(乙酸乙酯)，而調製黏著劑溶液(固形分為 12%)。以乾燥後之厚度達到25 μm之方式，將該黏著劑溶液塗佈於脫模膜(聚對苯二甲酸乙二酯基材：Diafoil MRF38，三菱化學聚酯製造)上之後，以熱風循環式烘箱進行乾燥，而形成黏著劑層。
(偏光板之固著層)
以甲基異丁酮，將聚丙烯酸酯之聚乙烯亞胺加合物(日本觸媒公司製造，商品名Polyment NK380)稀釋至50倍。使用線棒(#5)，以乾燥後之厚度達到50 nm之方式，將生成物塗佈於偏光板之尼龍樹脂側，再進行乾燥。
(黏著型偏光板之製造)
於上述偏光板之固著層上，貼合形成有上述黏著劑層之脫模膜，而製作黏著型偏光板。
(評價) (光學膜的評價)
實施例1~3中所獲得之光學膜(1)~(3)，具有高耐熱性、高透明性、高機械強度，且具有反波長色散特性而具有充分之相位差補償能力。
(偏光板之評價)
對所獲得之偏光板的外觀進行評價，結果於外觀方面未觀察到缺陷。
本發明之光學膜及偏光板，可較好地用於各種圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等)。
10‧‧‧液晶單元
11、11'‧‧‧玻璃基板
12‧‧‧液晶層
13‧‧‧間隔件
20、20'‧‧‧相位差膜
30、30'‧‧‧偏光板
31‧‧‧偏光元件
32、34‧‧‧接著劑層
33、35‧‧‧保護層(A)
40‧‧‧導光板
50‧‧‧光源
60‧‧‧反射器
100‧‧‧液晶顯示裝置
圖1係表示本發明之偏光板的一個例子的剖面圖。
圖2係本發明之一個較好的實施形態的液晶顯示裝置的概略剖面圖。
30‧‧‧偏光板
31‧‧‧偏光元件
32、34‧‧‧接著劑層
33、35‧‧‧保護層(A)

Claims (11)

  1. 一種光學膜，其包含具有內酯環之(甲基)丙烯酸系樹脂作為主要成分，且於波長450 nm之面內相位差Re(450)/於波長600 nm之面內相位差Re(600)小於1.0。
  2. 如請求項1之光學膜，其包含負雙折射材料，其中相對於上述具有內酯環之(甲基)丙烯酸系樹脂，以5~40重量%之比率包含上述負雙折射材料。
  3. 如請求項2之光學膜，其中上述負雙折射材料係苯乙烯系聚合物及茀中之至少一種。
  4. 如請求項3之光學膜，其中上述苯乙烯系聚合物係選自苯乙烯-馬來酸酐共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-馬來醯亞胺共聚物中之至少一種。
  5. 如請求項1之光學膜，其中光學膜之Tg為110℃以上。
  6. 一種偏光板，其於偏光元件之至少其中一面側具有如請求項1至5中任一項之光學膜。
  7. 如請求項6之偏光板，其中於上述偏光元件與上述光學膜之間具有接著劑層。
  8. 如請求項7之偏光板，其中上述接著劑層係由聚乙烯醇系接著劑所形成之層。
  9. 如請求項6之偏光板，其中於上述偏光元件與上述光學膜之間具有易接著層。
  10. 如請求項6之偏光板，其中最外層之至少一方進而具有黏著劑層。
  11. 一種圖像顯示裝置，其包含至少一片如請求項6至10中任一項之偏光板。
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