TWI386714B - Ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜、ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂及其製造方法 - Google Patents

Ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜、ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂及其製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI386714B
TWI386714B TW094113683A TW94113683A TWI386714B TW I386714 B TWI386714 B TW I386714B TW 094113683 A TW094113683 A TW 094113683A TW 94113683 A TW94113683 A TW 94113683A TW I386714 B TWI386714 B TW I386714B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
methyl
ethyl
insulating film
tft
organic insulating
Prior art date
Application number
TW094113683A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200617502A (en
Inventor
Hyoc-Min Youn
Tae-Hoon Yeo
Dong-Min Kim
Byung-Uk Kim
Ki-Hyuk Koo
Joo-Pyo Yun
Ui-Cheol Jeong
Dong-Myung Kim
Original Assignee
Dongjin Semichem Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongjin Semichem Co Ltd filed Critical Dongjin Semichem Co Ltd
Publication of TW200617502A publication Critical patent/TW200617502A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI386714B publication Critical patent/TWI386714B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04—Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C08F220/06—Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/04—Polymerisation in solution
    • C08F2/06—Organic solvent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/38—Polymerisation using regulators, e.g. chain terminating agents, e.g. telomerisation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/06—Hydrocarbons
    • C08F212/08—Styrene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F216/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
    • C08F216/12—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by an ether radical
    • C08F216/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F216/1416—Monomers containing oxygen in addition to the ether oxygen, e.g. allyl glycidyl ether
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • C08F220/325—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/44—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins
    • H01B3/447—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins from acrylic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

TFT-LCD用層間有機絕緣膜、TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚 合體樹脂及其製造方法
本發明是有關於TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，更詳而言之，是有關於可適用於TFT-LCD之層間有機絕緣膜且可提高膜之顯影性與耐熱性、亦可提升透過率之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法、以前述方法所製造之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂、以及適用前述丙烯酸系共聚合體樹脂之TFT-LCD用層間有機絕緣膜。
以往所使用的TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂由於不能具有很高的熱穩定性，且無法進行用以除去低分子物質之純化方法，故在曝光步驟之際，不僅無法確保速度與塗布特性及後步驟時之安定性，更有顯影性、耐熱性及透過率低劣之問題點。
一般來說，丙烯酸系共聚合體樹脂不具一定水準之熱穩定性時，其塗布後所得之熱流(thermal flow)不佳，有可能在高溫濺鍍(sputtering)等後步驟時產生昇華物。不僅如此，前述產生之昇華物對光阻劑之圖案形成會產生不良影響，同時導致有機絕緣膜本身之透過率低劣，又因熱穩定性低劣導致後步驟遂行困難等，有諸多問題點。
又，所謂純化係除去低分子物質等，以使丙烯酸系共聚合體樹脂具有一定水準之單分散(mono-disperse)分子 量分布之方法。
一般而言，在將合成為具有單分散分子量分布之丙烯酸系共聚合體樹脂分級之情況下，可確保同一水準之曝光步驟之速度，藉此可確保全體之生產性，然而，不具有單分散分子量分布之丙烯酸系共聚合體樹脂之情況則無法確保所希望之曝光步驟之速度與塗布特性及後步驟時之安定性。不僅如此，未利用包含分級之純化方法除去低分子量之物質時，在軟焙燒(soft baking)與熟化(curing)步驟中會產生大量昇華物而導致作業中產生氣味，並會造成設備老朽化等問題之產生，而且在ITO濺射等後步驟中透過率低下，而造成設備之安定性維持及可靠性確保困難等問題點。
為了解決前述之習知技術之問題點，本發明之目的，是提供可適用於TFT-LCD之層間有機絕緣膜且可提高膜之顯影性與耐熱性、並使透過率提升之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法。
本發明之其他目的是提供熱穩定性優異、具有單分散分子量分布之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法。
本發明之其他目的是提供可提高TFT-LCD用層間有機絕緣膜之顯影性與耐熱性、尤其可顯著提升透過率之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂。
本發明之其他目的是提供使用前述層間有機絕緣膜用 丙烯酸系共聚合體樹脂之TFT-LCD用層間有機絕緣膜。
為了達成前述目的，故本發明是提供一種TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，包含有：a)將i)不飽和羧酸、不飽和羧酸酐、或其混合物5到35重量份；ii)苯乙烯系單體5到40重量份；iii)環氧系單體5到40重量份；iv)異基系單體5到30重量份；v)二環戊二烯系單體5到40重量份；及vi)起始劑0.01到15重量份
在溶劑下聚合之階段；b)在前述a)階段之反應物中添加聚合抑制劑0.001到1重量份完成聚合而製造聚合體溶液之階段；及c)將前述b)階段中製成之共聚合體溶液純化之階段。
又，本發明係提供以前述方法所製造之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂。
又，本發明係提供使用前述層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之TFT-LCD用層間有機絕緣膜。
以下，詳細說明本發明。
本發明之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂係經由下述階段而製成：a)將i)不飽和羧酸、不飽 和羧酸酐、或其混合物5到35重量份；ii)苯乙烯系單體5到40重量份；iii)環氧系單體5到40重量份；iv)異基系單體5到30重量份；v)二環戊二烯系單體5到40重量份；及vi)起始劑0.01到15重量份在溶劑下聚合之階段；b)在前述反應物中添加聚合抑制劑0.001到1重量份完成聚合而製造共聚合體溶液之階段；及c)將前述b)階段中製成之共聚合體溶液純化之階段。
本發明中所使用之前述a)i)不飽和羧酸、不飽和羧酸酐、或其混合物可使用丙烯酸、甲基丙烯酸等不飽和單羧酸；馬來酸、延胡索酸、檸康酸、甲代伊康酸、伊康酸等不飽和二羧酸；或其不飽和二羧酸酐等，且可單獨或混合2種以上來使用，又，使用丙烯酸、甲基丙烯酸、或馬來酸酐時，在共聚合反應性與對作為顯影劑之鹼性水溶液之溶解性方面尤佳。
前述不飽和羧酸、不飽和羧酸酐、或其混合物以相對於全體之總單體100重量份而含有5到35重量份為佳。當其含量在前述範圍內時，在共聚合反應性與對鹼性水溶液之溶解性上更佳。
本發明中所使用之前述a)ii)之苯乙烯系單體以使用可與前述i)之不飽和羧酸、不飽和羧酸酐、或其混合物共聚合之苯乙烯系單體為佳，具體而言可使用苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯、對-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、或對-甲基苯乙烯等。
前述苯乙烯系單體相對於全體之總單體100重量份， 以含有5到40重量份為佳，當其含量在前述範圍內時，在共聚合反應性上更佳。
本發明中所使用之前述a)iii)之環氧系單體以使用可與前述i)之不飽和羧酸、不飽和羧酸酐、或其混合物共聚合之環氧系單體為佳。
具體而言，前述環氧系單體可使用丙烯酸環氧丙酯、甲基丙烯酸環氧丙酯、α-乙基丙烯酸環氧丙酯、α-正-丙基丙烯酸環氧丙酯、α-正-丁基丙烯酸環氧丙酯、丙烯酸-β-乙基環氧丙酯、甲基丙烯酸-β-乙基環氧丙酯、丙烯酸-3,4-環氧丁酯、甲基丙烯酸-3,4-環氧丁酯、甲基丙烯酸-β-乙基環氧丙酯、甲基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、鄰-乙烯基苄基環氧丙基醚、間-乙烯基苄基環氧丙基醚、或對-乙烯基苄基環氧丙基醚等，且可單獨或混合2種以上來使用。
前述環氧系單體以相對於全體之總單體100重量份而含有5到40重量份為佳，當其含量在前述範圍內時，在提高共聚合反應性、所得之圖案黏結力及耐熱性上更佳。
本發明中所使用之前述a)iv)之異基系單體以使用可與不飽和羧酸、不飽和羧酸酐、或其混合物共聚合之異基系單體為佳。
前述異基系單體可使用異基丙烯酸酯、異基甲基丙烯酸酯、環己基丙烯酸酯、2-甲基環己基丙烯酸酯、二環戊烯基羥乙基丙烯酸酯、苯基甲基丙烯酸酯、苯基丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、或2-羥乙基甲基丙烯酸酯等，且可單獨或混合2種以上使用。
前述異基系單體以相對於全體總單體100重量份而含有5到30重量份為佳，當其含量在前述範圍內時，在提高耐熱性上更佳。
本發明中所使用之前述a)v)之二環戊二烯系單體以使用可與不飽和羧酸、不飽和羧酸酐、或其混合物共聚合之二環戊二烯系單體為佳。
前述二環戊二烯系單體可使用二環戊烯基羥乙基丙烯酸酯、二環戊二烯丙烯酸酯、參-2-丙烯醯氧基乙基異三聚氰酸酯、二環戊烯基甲基丙烯酸酯、五甲基六氫吡啶甲基丙烯酸酯、或環氧乙烷雙酚A甲基丙烯酸酯等。
前述二環戊二烯系單體以相對於全體總單體100重量份而含有5到40重量份為佳，當其含量在前述範圍內時，在提高耐熱性上更佳。
本發明中所使用之前述a)vi)之起始劑可使用通常所使用之過氧化物或偶氮系化合物，尤其以使用偶氮系化合物更佳。
具體來說，偶氮系化合物可使用2,2’-偶氮雙(2-甲脒基丙烷)二羥氯化物、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、2,2’-偶氮雙(異丁腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、4,4’-偶氮雙(4-氰戊酸)、或二甲基2,2’-偶氮雙異丁酯等，且可單獨或混合2種以上使用。
前述起始劑以相對於全體總單體100重量份而含有0.01到15重量份為佳，當其含量小於0.01重量份時，有分子量增加之問題點，而當超過15重量份時，因分子量過 低，故分別有感度降低或因圖案形狀低劣導致顯影性與殘膜率低劣之問題點。
又，本發明之前述a)階段之反應物中可因應必要而追加含有vii)鏈轉移劑。
前述鏈轉移劑係與a)vi)之起始劑一起使用，發揮調節聚合體之分子量之作用，具體來說，可使用正十二硫醇、第三苄硫醇、甲硫醇、甲硫醇鈉、乙硫醇、第三壬基硫醇、正辛基硫醇、第三丁基硫醇、正十八硫醇、正十四硫醇、正癸基硫醇、苄硫醇、正己基硫醇、第三丁基硫醇、環己基硫醇或異丙基硫醇等。
前述鏈轉移劑可因應需要調節含量，尤其以相對於全體總單體100重量份而含有0.1到10重量份為佳。當其含量在前述範圍內時，可製造低分子量之聚合體，因此更適宜。
用以將如前所述之單體聚合於丙烯酸系共聚合體之溶劑，可使用如甲醇、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基賽路蘇乙酸酯、乙基賽路蘇乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇甲乙醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯、丙二醇甲乙基丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁醚丙酸酯、甲基3-甲氧基丙酸酯、甲苯、二甲苯、甲乙酮、環己酮、4-羥基4-甲基2-戊酮、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋 酸丙酯、醋酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基2-甲基丙酸甲酯、2-羥基2-甲基丙酸乙酯、羥基醋酸甲酯、羥基醋酸乙酯、羥基醋酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基3-甲基丁酸甲酯、甲氧基醋酸甲酯、甲氧基醋酸乙酯、甲氧基醋酸丙酯、甲氧基醋酸丁酯、乙氧基醋酸甲酯、乙氧基醋酸乙酯、乙氧基醋酸丙酯、乙氧基醋酸丁酯、丙氧基醋酸甲酯、丙氧基醋酸乙酯、丙氧基醋酸丙酯、丙氧基醋酸丁酯、丁氧基醋酸甲酯、丁氧基醋酸乙酯、丁氧基醋酸丙酯、丁氧基醋酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯、或3-丁氧基丙酸丁酯等之酯類等，前述化合物可單獨或混合2種以上使用。
前述溶劑之含量並無特別限定，以相對於全體總單體100重量份而含有100到1000重量份為佳。
以前述成分製成之液狀組成物為溶液聚合，當聚合進 行到一定程度時，即添加聚合抑制劑以完成聚合，製造共聚合體溶液。
前述b)階段之聚合抑制劑之作用為提高丙烯酸系共聚合體樹脂之變色性、熱穩定性及保管穩定性，具體來說可使用無苯酚之內酯、磷酸酯或膦酸酯等。
前述聚合抑制劑以相對於全體總單體100重量份而含有0.001到1重量份為佳，當其含量在前述範圍內時，在提高丙烯酸系共聚合體樹脂之變色性、熱穩定性及保管穩定性上更適宜。
在前述溶液聚合之際，聚合溫度以40到80℃為佳，又以45到75℃為佳。尤其當在前述聚合溫度更高於起始劑之偶氮系化合物之10小時半衰期溫度下實施時，對於最終共聚合體中未反應單體之含量之節減與高聚合產率更適宜。
前述溶液聚合之際，聚合時間以實施4到48小時為佳，又以實施12到36小時更佳。
又，前述溶液聚合之際，反應速度以100到500rpm為佳，更以150到400rpm為佳。
在前述條件下進行溶液聚合所製成之丙烯酸系共聚合體溶液其聚合轉換率以45到80%為佳。
如前述聚合之丙烯酸系共聚合體溶液，經純化而製造成最終丙烯酸系共聚合體樹脂。透過前述純化階段，可除去殘存於丙烯酸系共聚合體溶液中之未反應單體、聚合起始劑等，在製造單分散分子量之共聚合體樹脂上尤其重要。
前述純化中，前述a)階段中製造之丙烯酸系共聚合體 溶液中之未反應單體、有機溶劑等各種添加物，可藉由在高真空下揮發之方法、使其與有機氧化物系極反應性自由基起始劑反應之方法、或將共聚合體溶液滴入大量不溶性溶劑中以析出之方法來除去，尤其以使用將共聚合體溶液滴入大量不溶性溶劑中以析出之方法為佳。
將前述共聚合體溶液滴入以析出之方法，係將共聚合體溶液滴入不溶性溶劑中以析出聚合體後，再進行過濾分離來實施，亦可因應需要追加溶解於溶劑之階段來實施。
前述不溶性溶劑可使用庚烷、己烷、甲醇、水或其混合物等。
前述溶劑可使用丙酸酯、甲醇、丙二醇單乙基乙酸酯、丙二醇單乙基丙酸酯、丁基乙酸酯、乙基丙醇酸酯、卡必醇及丙二醇甲乙醚、或其混合物等。
又，本發明是提供利用前述方法製造之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂者，該丙烯酸系共聚合體樹脂具有單分散分子量分布，其重量平均分子量宜為6,000~12,000，且重量平均分子量與水平均分子量之比宜為1.5到2.5。不僅如此，前述丙烯酸系共聚合體樹脂之聚合物區域(polymer area)以40~70%為佳，固形分含量以25.0~35.0為佳。
又，前述丙烯酸系共聚合體樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)以60到140℃為佳，又以80到130℃為佳。前述玻璃轉移溫度低於60℃時，會產生使用前述共聚合體樹脂之TFT-LCD用層間有機絕緣膜之耐熱性大幅降低等問題，而 超過140℃時，則有TFT-LCD用層間有機絕緣膜之顯影性減少等問題點。
又，本發明是提供使用前述層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之TFT-LCD用層間有機絕緣膜者，前述TFT-LCD用層間有機絕緣膜不僅顯影性與耐熱性優異，透過率尤其優異。
以下，為求理解本發明，故提示適當之實施例，不過下述實施例僅用以例示本發明，而本發明範圍並不限定於下述實施例。
[實施例] 實施例1
在具有反應器與冷卻器之1L之容器中，投入四氫呋喃400重量份、甲基丙烯酸35重量份、苯乙烯40重量份、縮水甘油甲基丙烯酸酯15重量份、異基甲基丙烯酸酯5重量份、及二環戊烯基羥乙基丙烯酸酯5重量份之混合溶液。將前述混合溶液在混合容器中以400rpm充分混合後，於其中添加2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)15重量份作為起始劑。將裝滿前述混合溶液之容器逐漸升溫到58℃，一面在該溫度維持28小時一面製造共聚合體溶液後，添加聚合抑制劑之磷酸酯0.5重量份完成聚合。
之後，於前述共聚合體溶液中滴定己烷5,000重量份離析、過濾分離，加入丙酸酯100重量份加熱到30℃，製造丙烯酸系共聚合體樹脂。
實施例2~11
在前述實施例1中利用與下述表1相同組成與成分比，且除了改變反應溫度與反應時間之外，其他與前述實施例1相同，以該方法實施，製造共聚合體溶液後，利用與前述實施例1相同之方法製造丙烯酸系共聚合體樹脂。
將前述實施例1到11中所製造之丙烯酸系共聚合體樹脂，利用GPC(gel permeation chromatography，標準資料：聚乙烯)測定重量平均分子量(Mw)、重量平均分子量與水平均分子量之比(Mw/Mn)、聚合物區域及固形分含量(total solids,TS)，結果顯示於下述表2。
透過上述表2可確認，藉本發明，實施例1到11所製造之丙烯酸系共聚合體樹脂係重量平均分子量在 6,000~12,000之範圍，重量平均分子量與水平均分子量之比為1.5~2.5，聚合物區域為40~70%，固形分含量為25.0~35.0之範圍。
又，將前述實施例1到11中所製造之丙烯酸系共聚合體樹脂，藉旋轉塗布法塗布於基板表面，在100℃自由烘焙1分鐘除去溶劑，形成塗布膜。
於前述所得之膜照射可見光線、紫外線等以顯影劑顯影形成圖案。
於前述形成之圖案照射紫外線等之光，在250℃烘焙30分鐘進行加熱處理，得到最終圖案膜後，以下述方法測定圖案膜之顯影性、透過率、及耐熱性，並沿下述評價基準，結果顯示於下述表3。
1)顯影性-如前所述
為了測定顯影後取得之膜之塗布均勻性(uniformity)，利用Elipsomet測定平坦度。這時，平坦度超過95%之情況以○表示，95%~90%之情況以△表示，小於90%之情況以×表示。
2)透過率-為了測定透過率，在基板上使膜形成後，以如前所述之方法形成圖案後，並利用UV-vis分光光度計以400nm測定透過率。
這時，透過率超過95%之情況以○表示，95%~90%之情況以△表示，小於90%之情況以×表示。
3)耐熱性-測定前述所形成之圖案膜之上、下及左、右之寬度。這時，各個變化率以中級烘焙前基準，0~20%之 情況以○表示，20%~40%之情況以△表示，超過40%之情況以×表示。
透過上述表3可確認，使用藉本發明製造之實施例1到11之丙烯酸系共聚合體樹脂所得到之圖案膜，顯影性、透過率及耐熱性皆很優異。
本發明之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，可製造出適用於TFT-LCD正型層間有機絕緣膜之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂，該丙烯酸系共聚合體樹脂不僅可提高膜之顯影性與耐熱性、使透過率提升、且熱穩定性優異、更具有單分散分子量分布，不僅如此，使用前述丙烯酸系共聚合體樹脂之TFT-LCD用層間有機絕緣膜具備了優異之顯影性、耐熱性及透過率之效果。

Claims (17)

  1. 一種TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，包含有：a)將i)不飽和羧酸、不飽和羧酸酐、或其混合物5到35重量份；ii)苯乙烯系單體5到40重量份；iii)環氧系單體5到40重量份；iv)異基系單體5到30重量份；v)二環戊二烯系單體5到40重量份；及vi)起始劑0.01到15重量份在溶劑下聚合之階段；b)在前述a)階段之反應物中添加聚合抑制劑0.001到1重量份完成聚合而製造共聚合體溶液之階段；及c)將前述b)階段中製成之共聚合體溶液純化之階段；其中前述a)階段之聚合係在40到80℃之溫度下、以4到48小時、100到500rpm之速度進行溶液聚合。
  2. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述a)i)不飽和羧酸、不飽和羧酸酐、或其混合物係選自於由丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、延胡索酸、檸康酸、甲代伊康酸、伊康酸及其不飽和二羧酸酐所構成之群之1種以上者。
  3. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述a)ii)之苯乙烯系單體係選自於由苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯、對-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、及對-甲基苯乙烯所構成之群之1種以上者。
  4. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述a)iii)之環氧系單體係選自於由丙烯酸環氧丙酯、甲基丙烯酸環氧丙酯、α-乙基丙烯酸環氧丙酯、α-正-丙基丙烯酸環氧丙酯、α-正-丁基丙烯酸環氧丙酯、丙烯酸-β-乙基環氧丙酯、甲基丙烯酸-β-乙基環氧丙酯、丙烯酸-3,4-環氧丁酯、甲基丙烯酸-3,4-環氧丁酯、甲基丙烯酸-β-乙基環氧丙酯、甲基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、鄰-乙烯基苄基環氧丙基醚、間-乙烯基苄基環氧丙基醚、及對-乙烯基苄基環氧丙基醚所構成之群之1種以上者。
  5. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述a)iv)之異基系單體係選自於由異基丙烯酸酯、異基甲基丙烯酸酯、環己基丙烯酸酯、2-甲基環己基丙烯酸酯、二環戊烯基羥乙基丙烯酸酯、苯基甲基丙烯酸酯、苯基丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、及2-羥乙基甲基丙烯酸酯所構成之群之1種以上者。
  6. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述a)v)之二 環戊二烯系單體係選自於由二環戊烯基羥乙基丙烯酸酯、二環戊二烯丙烯酸酯、參-2-丙烯醯氧基乙基異三聚氰酸酯、二環戊烯基甲基丙烯酸酯、五甲基六氫吡啶甲基丙烯酸酯及環氧乙烷雙酚A甲基丙烯酸酯所構成之群之1種以上者。
  7. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述a)vi)之起始劑係選自於由2,2’-偶氮雙(2-甲脒基丙烷)二羥氯化物、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、2,2’-偶氮雙(異丁腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、4,4’-偶氮雙(4-氰戊酸)、及二甲基2,2’-偶氮雙異丁酯所構成之群之1種以上者。
  8. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述a)階段之反應物以相對於全體總單體100重量份追加而含有0.1到10重量份之vii)選自於由正十二硫醇、第三苄硫醇、甲硫醇、甲硫醇鈉、乙硫醇、第三壬基硫醇、正辛基硫醇、第三丁基硫醇、正十八硫醇、正十四硫醇、正癸基硫醇、苄硫醇、正己基硫醇、第三丁基硫醇、環己基硫醇及異丙基硫醇所構成之群之1種以上之鏈轉移劑。
  9. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述a)階段之反應物係以相對於全體總單體100重量份而含有100到1000重量份之選自於由甲醇、四氫呋喃、乙二醇單甲 醚、乙二醇單乙醚、甲基賽路蘇乙酸酯、乙基賽路蘇乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇甲乙醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯、丙二醇甲乙基丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁醚丙酸酯、甲基3-甲氧基丙酸酯、甲苯、二甲苯、甲乙酮、環己酮、4-羥基4-甲基2-戊酮、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、醋酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基2-甲基丙酸甲酯、2-羥基2-甲基丙酸乙酯、羥基醋酸甲酯、羥基醋酸乙酯、羥基醋酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基3-甲基丁酸甲酯、甲氧基醋酸甲酯、甲氧基醋酸乙酯、甲氧基醋酸丙酯、甲氧基醋酸丁酯、乙氧基醋酸甲酯、乙氧基醋酸乙酯、乙氧基醋酸丙酯、乙氧基醋酸丁酯、丙氧基醋酸甲酯、丙氧基醋酸乙酯、丙氧基醋酸丙酯、丙氧基醋酸丁酯、丁氧基醋酸甲酯、丁氧基醋酸乙酯、丁氧基醋酸丙酯、丁氧基醋酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲 酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯、及3-丁氧基丙酸丁酯所構成之群之1種以上之溶劑。
  10. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述b)階段之聚合抑制劑係選自於由無苯酚內酯、磷酸酯及膦酸酯所構成之群之1種以上者。
  11. 如申請專利範圍第1項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述c)階段之純化係將在前述b)階段製成之共聚合體溶液滴入不溶性溶劑中以析出聚合體後，再進行過濾分離。
  12. 如申請專利範圍第11項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，更追加將前述丙烯酸系共聚合體樹脂溶解於溶劑之階段。
  13. 如申請專利範圍第11項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述不溶性溶劑為選自於由庚烷、己烷、甲醇及水所構成之群之1種以上者。
  14. 如申請專利範圍第12項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂之製造方法，其中前述溶劑係 選自於由丙酸酯、甲醇、丙二醇單乙基乙酸酯、丙二醇單乙基丙酸酯、丁基乙酸酯、乙基丙醇酸酯、卡必醇及丙二醇甲乙醚所構成之群之1種以上者。
  15. 一種TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂，係利用申請專利範圍第1項之製造方法製造者。
  16. 如申請專利範圍第15項之TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂，其中前述丙烯酸系共聚合體樹脂之重量平均分子量為6,000~12,000，且重量平均分子量與水平均分子量之比為1.5到2.5。
  17. 一種TFT-LCD用層間有機絕緣膜，係使用申請專利範圍第15項之層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂者。
TW094113683A 2004-05-06 2005-04-28 Ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜、ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂及其製造方法 TWI386714B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20040031832 2004-05-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200617502A TW200617502A (en) 2006-06-01
TWI386714B true TWI386714B (zh) 2013-02-21

Family

ID=35352465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW094113683A TWI386714B (zh) 2004-05-06 2005-04-28 Ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜、ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂及其製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5062504B2 (zh)
KR (1) KR101215426B1 (zh)
CN (1) CN100429248C (zh)
TW (1) TWI386714B (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101348757B1 (ko) 2006-02-03 2014-01-07 주식회사 동진쎄미켐 유기 절연막용 수지 조성물 및 그 제조 방법, 상기 수지조성물을 포함하는 표시판
JP4998735B2 (ja) * 2006-12-28 2012-08-15 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性組成物、カラーフィルタ、ブラックマトリックスおよび液晶表示素子
KR101482561B1 (ko) * 2008-04-25 2015-01-16 주식회사 동진쎄미켐 아크릴계 중합체의 제조방법
KR101317601B1 (ko) * 2008-08-29 2013-10-11 주식회사 엘지화학 아크릴계 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20100099048A (ko) * 2009-03-02 2010-09-10 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
CN111247122B (zh) * 2017-11-03 2023-08-25 陶氏环球技术有限责任公司 用于农业应用的溶剂和农药调配物
KR101969151B1 (ko) * 2017-11-17 2019-04-16 에스케이씨하이테크앤마케팅(주) 안료 분산액 및 이를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10316721A (ja) * 1997-05-15 1998-12-02 Nippon Steel Chem Co Ltd アルカリ可溶性樹脂及びそれを用いた画像形成用材料
JP2000327875A (ja) * 1999-05-21 2000-11-28 Jsr Corp カラーフィルター保護膜またはｔｆｔ層間絶縁膜と一体となったスペーサー用感放射線性樹脂組成物
JP2001254002A (ja) * 2000-03-10 2001-09-18 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物
US6399267B1 (en) * 1999-06-04 2002-06-04 Jsr Corporation Radiation sensitive resin composition and use of the same in an interlaminar insulating film
US6451496B2 (en) * 2000-02-16 2002-09-17 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Heat-curable photosensitive compositions
JP2002287351A (ja) * 2001-03-28 2002-10-03 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成への使用、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
WO2003017001A1 (en) * 2001-08-20 2003-02-27 Dongjin Semichem Co., Ltd. Photosensitive resin composition for photoresist
TW527394B (en) * 2000-06-12 2003-04-11 Jsr Corp Radiation sensitive resin composition used in interlaminar insulation film and microlens, manufacture method for interlaminar insulation film and microlens, and interlaminar insulation film and microlens
JP2003307847A (ja) * 2002-04-16 2003-10-31 Jsr Corp インクジェット方式により層間絶縁膜を形成するための組成物

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI266146B (en) * 2001-03-31 2006-11-11 Samyang Ems Co Ltd Resist composition for column spacer of liquid crystal display element
KR100809544B1 (ko) * 2001-10-24 2008-03-04 주식회사 동진쎄미켐 퀴논디아지드 술폰산 에스테르 화합물을 포함하는 감광성수지조성물

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10316721A (ja) * 1997-05-15 1998-12-02 Nippon Steel Chem Co Ltd アルカリ可溶性樹脂及びそれを用いた画像形成用材料
JP2000327875A (ja) * 1999-05-21 2000-11-28 Jsr Corp カラーフィルター保護膜またはｔｆｔ層間絶縁膜と一体となったスペーサー用感放射線性樹脂組成物
US6399267B1 (en) * 1999-06-04 2002-06-04 Jsr Corporation Radiation sensitive resin composition and use of the same in an interlaminar insulating film
US6451496B2 (en) * 2000-02-16 2002-09-17 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Heat-curable photosensitive compositions
JP2001254002A (ja) * 2000-03-10 2001-09-18 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物
TW527394B (en) * 2000-06-12 2003-04-11 Jsr Corp Radiation sensitive resin composition used in interlaminar insulation film and microlens, manufacture method for interlaminar insulation film and microlens, and interlaminar insulation film and microlens
JP2002287351A (ja) * 2001-03-28 2002-10-03 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成への使用、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
TW570947B (en) * 2001-03-28 2004-01-11 Jsr Corp Radiation sensitive resin composition, its use for interlayer insulating film and microlens, interlayer insulating film and microlens
WO2003017001A1 (en) * 2001-08-20 2003-02-27 Dongjin Semichem Co., Ltd. Photosensitive resin composition for photoresist
JP2003307847A (ja) * 2002-04-16 2003-10-31 Jsr Corp インクジェット方式により層間絶縁膜を形成するための組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JP5062504B2 (ja) 2012-10-31
KR101215426B1 (ko) 2012-12-26
CN1693322A (zh) 2005-11-09
CN100429248C (zh) 2008-10-29
KR20060045923A (ko) 2006-05-17
JP2005320542A (ja) 2005-11-17
TW200617502A (en) 2006-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI588162B (zh) （甲基）丙烯酸酯系聚合物、含該聚合物之組成物及其用途
TWI422971B (zh) 負性感光性樹脂組成物
TWI534161B (zh) 共聚物、含有該共聚物的樹脂組成物、感光性樹脂組成物、及彩色濾光片
TWI386714B (zh) Ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜、ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂及其製造方法
TWI417664B (zh) 負型感光性樹脂組成物
TWI520975B (zh) 加成共聚物，感光性樹脂組成物及彩色濾光器
CN100445846C (zh) 用于光刻胶的感光树脂组合物
TWI511986B (zh) 含封端異氰酸根基之聚合物，包含該聚合物之組成物及其用途
TWI644903B (zh) 肟酯衍生化合物，光聚合起始劑，以及包含其之感光性組成物
TWI471697B (zh) 負型感光性樹脂組成物
JP2007004097A (ja) ネガレジスト組成物
TW201217906A (en) Negative photosensitive resin composition
TWI534182B (zh) 聚矽倍半氧烷共聚物及包含該共聚物之光敏樹脂
TWI643022B (zh) 黑色柱狀間隔物形成用感光性樹脂組成物、黑色柱狀間隔物及圖像顯示裝置
TWI550345B (zh) 感光性樹脂之製造方法及彩色濾光器
TW468063B (en) Radiation-sensitive composition for a blue color filter and color filter
TW584784B (en) Photosensitive resin composition for color filter
TW202311305A (zh) 感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜及影像顯示裝置
TW201932496A (zh) 彩色濾光片用感光性樹脂組成物、彩色濾光片、影像顯示元件及彩色濾光片之製造方法
TW201421153A (zh) 樹脂組成物、感光性樹脂組成物及彩色濾光片
JP2009229871A (ja) 硬化性樹脂組成物
KR101482561B1 (ko) 아크릴계 중합체의 제조방법
JP2022062515A (ja) フェノール性水酸基含有樹脂、感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、及び画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees