CN100429248C - Tft-lcd用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法 - Google Patents

Tft-lcd用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN100429248C
CN100429248C CNB200510071269XA CN200510071269A CN100429248C CN 100429248 C CN100429248 C CN 100429248C CN B200510071269X A CNB200510071269X A CN B200510071269XA CN 200510071269 A CN200510071269 A CN 200510071269A CN 100429248 C CN100429248 C CN 100429248C
Authority
CN
China
Prior art keywords
acid
ester
methyl
tft
copolymer resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB200510071269XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN1693322A (zh
Inventor
尹赫敏
吕泰勳
金东敏
金柄郁
丘冀赫
尹柱豹
郑义澈
金东明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dongjin Semichem Co Ltd
Original Assignee
Dongjin Semichem Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongjin Semichem Co Ltd filed Critical Dongjin Semichem Co Ltd
Publication of CN1693322A publication Critical patent/CN1693322A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100429248C publication Critical patent/CN100429248C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04—Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C08F220/06—Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/04—Polymerisation in solution
    • C08F2/06—Organic solvent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/38—Polymerisation using regulators, e.g. chain terminating agents, e.g. telomerisation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/06—Hydrocarbons
    • C08F212/08—Styrene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F216/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
    • C08F216/12—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by an ether radical
    • C08F216/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F216/1416—Monomers containing oxygen in addition to the ether oxygen, e.g. allyl glycidyl ether
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • C08F220/325—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/44—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins
    • H01B3/447—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins from acrylic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

本发明涉及TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，特别是涉及包括对在溶剂下聚合i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、ii)苯乙烯类单体、iii)环氧类单体、iv)异冰片基类单体和v)二聚环戊二烯类单体而制造的共聚物溶液进行精制的步骤的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法、用上述方法制造的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂及适用了上述丙烯酸类共聚物树脂的TFT-LCD用层间有机绝缘膜。如果将通过本发明制造的丙烯酸类共聚物树脂应用于TFT-LCD用正电型层间有机绝缘膜，可以提高膜的显像性和耐热性，还具有可提高透过率的效果。

Description

TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法
技术领域
本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器(简称TFT-LCD)用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，进而详细来说涉及能应用于TFT-LCD的层间有机绝缘膜提高膜的显像性和耐热性并提高透过率的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法、用上述方法制造的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂以及应用了上述丙烯酸类共聚物树脂的TFT-LCD用层间有机绝缘膜。
背景技术
以往，使用的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂由于不具有高的热稳定性，未采用为除去低分子物质的精制方法，因而存在的问题是，不仅不能确保照相工序时的速度和涂布特性及后续工序时的稳定性，而且显像性、耐热性及透过率低。
一般来说，丙烯酸类共聚物树脂不具有一定水准的热稳定性时，涂布后得到的热流动差，由此在高温溅镀等后续工序时有时还会产生升华物。不仅如此，还存在如下问题：由于上述所产生的升华物有时还会对光致抗蚀剂的图案形成产生不良影响，同时有时还会降低有机绝缘膜自身的透过率；由于热稳定性降低，施行后续工序会产生困难等。
精制是一种除去低分子物质等以使丙烯酸类共聚物树脂具有一定水准的单分散(mono-disperse)分子量分布的方法。
一般来说，对合成的丙烯酸类共聚物树脂进行分级以使其具有单分散分子量分布，可以确保同一水准的照相工序的速度，由此虽然可以确保整体的生产率，但是对于不具有单分散分子量分布的丙烯酸类共聚物树脂的情况，并不能确保期望的照相工序的速度和涂布特性及后续工序时的稳定性。不仅如此，当使用包括分级步骤的精制方法而未除去低分子量物质时，有时还会产生在软烘焙和固化(curing)工序中产生大量的升华物从而作业中产生臭味、导致装备的老化等问题，且在氧化铟锡(ITO)溅镀等后续工序时透过率有时也会降低，存在难以稳定维持设备和确保可靠性等问题。
发明内容
为了解决上述现有技术的问题，本发明的目的是提供适用于TFT-LCD的层间有机绝缘膜可提高膜的显像性和耐热性并能提高透过率的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法。
本发明的又一目的是提供热稳定性优越且具有单分散分子量分布的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法。
本发明的又一目的是提供可以提高TFT-LCD用层间有机绝缘膜的显像性和耐热性、特别是可以显著提高透过率的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂。
本发明的又一目的是提供应用了上述层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的TFT-LCD用层间有机绝缘膜。
为了实现上述目的，本发明提供TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，在该TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法中，包括如下步骤：
步骤(a)，在溶剂下聚合如下组分：
i)5质量份～35质量份不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物，
ii)5质量份～40质量份苯乙烯类单体，
iii)5质量份～40质量份环氧类单体，
iv)5质量份～30质量份异冰片基类单体，
v)5质量份～40质量份二聚环戊二烯类单体，和
vi)0.01质量份～15质量份引发剂；
步骤(b)，在上述步骤(a)的反应物中加入0.001质量份～1质量份阻聚剂而结束聚合，从而制造共聚物溶液；以及
步骤(c)，精制在上述步骤(b)中制造的共聚物溶液。
并且，本发明提供用上述方法制造的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂。
进而，本发明提供应用了上述层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的TFT-LCD用层间有机绝缘膜。
以下详细地说明本发明。
本发明的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂，其特征在于，通过如下步骤而制造：
步骤(a)，在溶剂下聚合如下组分：
i)5质量份～35质量份不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物，
ii)5质量份～40质量份苯乙烯类单体，
iii)5质量份～40质量份环氧类单体，
iv)5质量份～30质量份异冰片基类单体，
v)5质量份～40质量份二聚环戊二烯类单体，和
vi)0.01质量份～15质量份引发剂；
步骤(b)，在上述步骤(a)的反应物中加入0.001质量份～1质量份阻聚剂而结束聚合，从而制造共聚物溶液；以及
步骤(c)，精制在上述步骤(b)中制造的共聚物溶液。
本发明中使用的上述步骤(a)中的i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物，可以使用丙烯酸、甲基丙烯酸等不饱和单羧酸；马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等不饱和二羧酸；或者这些不饱和二羧酸的酸酐等，它们可以单独使用或者2种或2种以上混合使用。特别是在共聚反应性和对作为显像液的碱性水溶液的溶解性方面，更优选使用丙烯酸、甲基丙烯酸或者马来酸酐。
相对于100重量份全部单体，优选含有5质量份～35重量份所述不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物。其含量在上述范围内时，在共聚反应性和对碱性水溶液的溶解性方面更为优选。
本发明中使用的上述步骤(a)中的ii)苯乙烯类单体优选使用能够和i)的不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物共聚的苯乙烯类单体，具体来说可以使用苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯或者对甲基苯乙烯等。
相对于100重量份全部单体，优选含有5质量份～40重量份所述苯乙烯类单体。其含量在上述范围内时，在共聚反应性方面更为优选。
本发明中使用的上述步骤(a)中的iii)环氧类单体优选使用能够和i)的不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物共聚的环氧类单体。
具体来说，所述环氧类单体可以使用丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸α-乙基缩水甘油酯、丙烯酸α-正丙基缩水甘油酯、丙烯酸α-正丁基缩水甘油酯、丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、丙烯酸-3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-6，7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚或者对乙烯基苄基缩水甘油醚等，它们可以单独使用或者2种或2种以上混合使用。
在100重量份全部单体中，优选含有5质量份～40重量份所述环氧类单体。其含量在上述范围内时，在提高共聚反应性和所得图案的粘结力及耐热性方面更为优选。
在本发明中使用的上述步骤(a)中的iv)异冰片基类单体优选使用能够和不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物共聚的异冰片基类单体。
所述异冰片基类单体可以使用丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊氧乙酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯或者甲基丙烯酸2-羟乙酯等，它们可以单独使用或者2种或2种以上混合使用。
在100重量份全部单体中，优选含有5质量份～30重量份上述异冰片基类单体。其含量在上述范围内时，在提高耐热性方面更为优选。
本发明中使用的上述步骤(a)中的v)二聚环戊二烯类单体优选使用能够和不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物共聚的二聚环戊二烯类单体。
所述二聚环戊二烯类单体也可以使用丙烯酸二环戊烯氧乙酯、丙烯酸二环戊酯(ジサイクロペンタニルアクリレ一ト)、三-2-丙烯氧乙基异氰脲酸酯、甲基丙烯酸二环戊酯、五甲基ピフアリジル甲基丙烯酸酯或者环氧乙烷双酚A甲基丙烯酸酯等。
在100重量份全部单体中，优选含有5质量份～40重量份所述二聚环戊二烯类单体。其含量在上述范围内时，在提高耐热性方面更为优选。
本发明中使用的上述步骤(a)中的vi)引发剂可以使用通常使用的过氧化物或者偶氮类化合物，特别是更优选使用偶氮类化合物。
具体来说，可以使用2，2’-偶氮二(2-脒基丙烷)二氢氯化物、2，2’-偶氮二(2-甲基丁腈)、2，2’-偶氮二异丁腈、2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)、2，2’-偶氮二(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)、4，4’-偶氮二(4-氰基戊酸)或者二甲基-2，2’-偶氮二异丁酸酯等，它们可以单独使用或者2种或2种以上混合使用。
相对于100重量份全部单体，优选含有0.01质量份～15重量份所述引发剂。其含量不足0.01重量份时，存在分子量增加的问题；超过15重量份时，存在的问题是，分子量过低，使灵敏度降低，或者图案的形状会降低而使显像性和残膜率降低。
进而，根据需要可以在本发明的上述步骤(a)的反应物中追加含有vii)链转移剂。
所述链转移剂和步骤(a)中的vi)引发剂同时使用，发挥调节聚合物的分子量的作用，具体来说，可以使用正十二烷基硫醇、叔十二烷基硫醇、甲基硫醇、甲基硫醇钠、乙基硫醇、叔壬基硫醇、正辛基硫醇、叔丁基硫醇、正十八烷基硫醇、正十四烷基硫醇、正癸基硫醇、苯炔硫醇、正己基硫醇、叔丁基硫醇、环己基硫醇或者异丙基硫醇等。
可以根据需要调节上述链转移剂的含量，特别是优选相对于100重量份全部单体含有0.1质量份～10重量份链转移剂。其含量在上述范围内时，由于可以制造低分子量的聚合物，从而更为优选。
用于将如上所述的单体聚合成丙烯酸类共聚物的溶剂，可以使用甲醇、四氢呋喃、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、甲基溶纤素乙酸酯、乙基溶纤素乙酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇甲乙醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇丙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯、丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁醚丙酸酯、甲基-3-甲氧基丙酸酯、甲苯、二甲苯、甲乙酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、羟基乙酸甲酯、羟基乙酸乙酯、羟基乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸丙酯、3-羟基丙酸丁酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯或者3-丁氧基丙酸丁酯等这样的醚类等，上述化合物可以单独使用或者2种或2种以上混合使用。
虽然上述溶剂的含量没有特别限定，但是相对于100重量份全部单体优选含有100质量份～1000重量份。
用上述这样的成分形成的液态组合物进行溶液聚合，在聚合进行到一定程度时加入阻聚剂结束聚合，从而制成共聚物溶液。
上述步骤(b)中的阻聚剂具有提高丙烯酸类共聚物树脂的变色性、热稳定性及保管稳定性的作用，具体来说可以使用亚磷酸盐(phosphite)或者亚膦酸酯(phosphonite)等。
相对于100重量份全部单体，优选含有0.001重量份～1重量份所述阻聚剂。其含量在上述范围内时，在提高丙烯酸类共聚物树脂的变色性、热稳定性及保管稳定性的方面更为优选。
在进行上述溶液聚合时聚合温度优选为40℃～80℃，更优选为45℃～75℃。特别是为了减少未反应单体在最终共聚物中的含量和实现高的聚合收率，更优选在所述聚合温度高于引发剂偶氮类化合物10小时半衰期温度的温度实施聚合。
在进行上述溶液聚合时聚合时间优选为4小时～48小时，更优选实施12小时～36小时。
进而，上述溶液聚合时反应速度优选为100rpm～500rpm，更优选为150rpm～400rpm。
以上述这样的条件进行溶液聚合而制造的丙烯酸类共聚物溶液优选聚合转化率为45％～80％。
如上所述聚合的丙烯酸类共聚物溶液通过精制而制成最终的丙烯酸类共聚物树脂。通过所述精制步骤可以除去残存在丙烯酸类共聚物溶液中的未反应单体、聚合引发剂等，特别是在制造单分散分子量的共聚物树脂方面是重要的。
在上述精制中可以用在高真空下使其挥发的方法、与有机氧化物类高反应性自由基引发剂反应的方法或者在大量的不溶性溶剂中滴加共聚物溶液而析出沉淀的方法，除去在上述步骤(a)中制造的丙烯酸类共聚物溶液中未反应的单体、有机溶剂等各种添加物，特别是优选使用在大量的不溶性溶剂中滴加共聚物溶液而析出沉淀的方法。
上述滴加共聚物溶液而析出沉淀的方法可以如下实施，向不溶性溶剂中滴加共聚物溶液，析出聚合物后，进行过滤分离，根据需要可以追加进行溶解到溶剂中的步骤。
上述不溶性溶剂可以使用庚烷、己烷、甲醇、水或者它们的混合物等。
上述溶剂可以使用丙酸酯、甲醇、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单乙醚丙酸酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、卡必醇、丙二醇甲乙醚或者它们的混合物等。
并且，本发明提供用如上所述的方法制造的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂，上述丙烯酸类共聚物树脂具有单分散分子量分布，优选重均分子量为6000～12000，且优选重均分子量和数均分子量的比为1.5～2.5。不仅如此，优选上述丙烯酸类共聚物树脂的聚合物区域(polymer area)为40％～70％，且优选固体成分含量为25.0％～35.0％。
进而，上述丙烯酸类共聚物树脂的玻璃化转变温度(Tg)优选为60℃～140℃，更优选为80℃～130℃。上述玻璃化转变温度不足60℃时，存在使用了上述共聚物树脂的TFT-LCD用层间有机绝缘膜的耐热性会大幅度地降低等问题；超过140℃时，存在TFT-LCD用层间绝缘膜的显像性会降低等问题。
另外，本发明提供应用了上述层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的TFT-LCD用层间有机绝缘膜，上述TFT-LCD用层间有机绝缘膜的显像性和耐热性优越，特别是透过率优越。
具体实施方式
以下为了理解本发明而提供了优选的实施例，但是下述实施例仅仅例示了本发明，本发明的范围并不限定于下述实施例。
实施例
实施例1
在具有反应器和冷凝器的1L容器中投入400重量份四氢呋喃、35重量份甲基丙烯酸、40重量份苯乙烯、15重量份甲基丙烯酸缩水甘油酯、5重量份甲基丙烯酸异冰片酯及5重量份丙烯酸二环戊烯氧乙酯的混合溶液。在混合容器中以400rpm充分混合上述混合溶液后，向其中添加15重量份作为引发剂的2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)。缓慢地将盛满上述混合溶液的容器升温到58℃，维持该温度28小时以制造共聚物溶液，然后添加0.5重量份作为阻聚剂的亚磷酸盐而结束聚合。
随后，向上述共聚物溶液中滴加5000重量份己烷，析出沉淀，过滤分离后向其中加入100重量份丙酸酯并加热至30℃，从而制造丙烯酸类共聚物树脂。
实施例2～11
除了在上述实施例1中使用与下述表1相同的组成和成分比并使反应温度和反应时间不同以外，实施和上述实施例1相同的方法而制造共聚物溶液，然后以和上述实施例1同样的方法制造丙烯酸类共聚物树脂。
表1
Figure C20051007126900141
在上述实施例1～11中，利用凝胶渗透色谱法(GPC，标准材料：聚苯乙烯)针对制造的丙烯酸类共聚物树脂测定重均分子量(Mw)、重均分子量和数均分子量的比(Mw/Mn)、聚合区域及固体成分的含量(TS)，其结果示于表2中。
表2
Figure C20051007126900142
通过上述表2可以确认，根据本发明而在实施例1～11中制造的丙烯酸类共聚物树脂，其重均分子量在6000～12000的范围，重均分子量和数均分子量的比为1.5～2.5，聚合区域为40％～70％，固体成分含量为25.0～35.0的范围。
进而，通过旋转涂布法将在上述实施例1～11中制造的丙烯酸类共聚物树脂涂布在基板表面上，在100℃预烧焙1分钟除去溶剂，从而形成涂布膜。
向上述得到的膜照射可视光线、紫外线等，用显像液显像而形成图案。
向上述形成的图案照射紫外线等光，并用烘箱在250℃加热处理30分钟，得到最终的图案膜，然后用下述方法测定图案膜的显像性、透过率和耐热性，将基于下述评价基准的结果示于表3中。
1)显像性
为了测定如上所述显像后获得的膜的涂布均匀性，利用Elipsomet测定平坦度。此时，平坦度超过95％时表示为○，95％～90％时表示为△，不足90％时表示为×。
2)透过率
为了测定透过率，在玻璃基板上形成膜之后用如上所述的方法形成图案，然后利用紫外可见分光光度计以400nm测定透过率。此时，透过率超过95％时表示为○，95％～90％时表示为△，不足90％时表示为×。
3)耐热性
测定上述形成的图案膜的上、下和左、右的宽度。此时，各自的变化率为中焙(midbake)前基准的0～20％时表示为○，20％～40％时表示为△，超过40％时表示为×。
表3
Figure C20051007126900151
通过上述表3可以确认，应用本发明制造的实施例1～11的丙烯酸类共聚物树脂而得到的图案膜，其显像性、透过率及耐热性优越。
发明效果
本发明的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，可以制造不仅能应用于TFT-LCD正电型层间有机绝缘膜提高膜的显像性和耐热性并提高透过率，而且其热稳定性优越并具有单分散分子量分布的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂，不仅如此，应用了上述丙烯酸类共聚物树脂的TFT-LCD用层间有机绝缘膜具有优越的显像性和耐热性及透过率。

Claims (18)

1、一种TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，在该TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法中，包括如下步骤：
步骤(a)，在溶剂下聚合如下组分：
i)5质量份～35质量份不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物，
ii)5质量份～40质量份苯乙烯类单体，
iii)5质量份～40质量份环氧类单体，
iv)5质量份～30质量份异冰片基类单体，
v)5质量份～40质量份二聚环戊二烯类单体，和
vi)0.01质量份～15质量份引发剂；
步骤(b)，在所述步骤(a)的反应物中加入0.001质量份～1质量份阻聚剂而结束聚合，从而制造共聚物溶液；以及
步骤(c)，精制在所述步骤(b)中制造的共聚物溶液。
2、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(a)中的i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物为选自由丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、富马酸、柠康酸、中糠酸、衣康酸及这些不饱和二羧酸的酸酐组成的组中的一种或者一种以上。
3、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(a)中的ii)苯乙烯类单体为选自由苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯和对甲基苯乙烯组成的组中的一种或者一种以上。
4、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(a)中的iii)环氧类单体为选自由丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸α-乙基缩水甘油酯、丙烯酸α-正丙基缩水甘油酯、丙烯酸α-正丁基缩水甘油酯、丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、丙烯酸-3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-6，7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚或者对乙烯基苄基缩水甘油醚组成的组中的一种或者一种以上。
5、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(a)中的iv)异冰片基类单体为选自由丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊氧基乙酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯或者甲基丙烯酸2-羟乙酯组成的组中的一种或者一种以上。
6、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(a)中的v)二聚环戊二烯类单体为选自由丙烯酸二环戊烯氧基乙酯、丙烯酸二环戊酯、三-2-丙烯氧基乙基异氰脲酸酯、甲基丙烯酸二环戊酯或者环氧乙烷双酚A甲基丙烯酸酯组成的组中的一种或者一种以上。
7、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(a)中的vi)引发剂为选自由2，2’-偶氮二(2-脒基丙烷)二氢氯化物、2，2’-偶氮二(2-甲基丁腈)、2，2’-偶氮二异丁腈、2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)、2，2’-偶氮二(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)、4，4’-偶氮二(4-氰基戊酸)或者二甲基-2，2’-偶氮二异丁酯组成的组中的一种或者一种以上。
8、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(a)的反应物中追加含有相对于100重量份全部单体为0.1质量份～10重量份的vii)链转移剂，所述vii)链转移剂为选自由正十二烷基硫醇、叔十二烷基硫醇、甲基硫醇、甲基硫醇钠、乙基硫醇、叔壬基硫醇、正辛基硫醇、叔丁基硫醇、正十八烷基硫醇、正十四烷基硫醇、正癸基硫醇、苯炔硫醇、正己基硫醇、叔丁基硫醇、环己基硫醇或者异丙基硫醇组成的组中的一种或者一种以上。
9、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(a)的反应物中相对于100重量份全部单体含有100～1000重量份溶剂，所述溶剂为选自由甲醇、四氢呋喃、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、甲基溶纤素乙酸酯、乙基溶纤素乙酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇甲乙醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇丙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯、丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁醚丙酸酯、甲基-3-甲氧基丙酸酯、甲苯、二甲苯、甲乙酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、羟基乙酸甲酯、羟基乙酸乙酯、羟基乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸丙酯、3-羟基丙酸丁酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯或者3-丁氧基丙酸丁酯组成的组中的一种或者一种以上。
10、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(a)的聚合以40℃～80℃的温度、4小时～48小时、100rpm～500rpm的速度进行溶液聚合。
11、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(b)中的阻聚剂为选自由亚磷酸盐或者亚膦酸酯组成的组中的一种或者一种以上。
12、根据权利要求1所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述步骤(c)的精制通过向不溶性溶剂滴加在所述步骤(b)中制造的共聚物溶液，析出聚合物后再进行过滤分离而实施。
13、根据权利要求12所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，追加实施将所述丙烯酸类共聚物树脂溶解在溶剂中的步骤。
14、根据权利要求12所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述不溶性溶剂为选自由庚烷、己烷、甲醇和水组成的组中的一种或者一种以上。
15、根据权利要求13所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，其特征在于，所述溶剂为选自由丙酸酯、甲醇、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单乙醚丙酸酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、卡必醇和丙二醇甲乙醚组成的组中的一种或者一种以上。
16、用权利要求1所述的方法制造的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂。
17、根据权利要求16所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂，其特征在于，所述丙烯酸类共聚物树脂的重均分子量为6000～12000、重均分子量和数均分子量的比为1.5～2.5。
18、应用了权利要求16所述的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的TFT-LCD用层间有机绝缘膜。
CNB200510071269XA 2004-05-06 2005-05-08 Tft-lcd用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法 Expired - Fee Related CN100429248C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20040031832 2004-05-06
KR1020040031832 2004-05-06
KR10-2004-0031832 2004-05-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1693322A CN1693322A (zh) 2005-11-09
CN100429248C true CN100429248C (zh) 2008-10-29

Family

ID=35352465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB200510071269XA Expired - Fee Related CN100429248C (zh) 2004-05-06 2005-05-08 Tft-lcd用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5062504B2 (zh)
KR (1) KR101215426B1 (zh)
CN (1) CN100429248C (zh)
TW (1) TWI386714B (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101348757B1 (ko) * 2006-02-03 2014-01-07 주식회사 동진쎄미켐 유기 절연막용 수지 조성물 및 그 제조 방법, 상기 수지조성물을 포함하는 표시판
JP4998735B2 (ja) * 2006-12-28 2012-08-15 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性組成物、カラーフィルタ、ブラックマトリックスおよび液晶表示素子
KR101482561B1 (ko) * 2008-04-25 2015-01-16 주식회사 동진쎄미켐 아크릴계 중합체의 제조방법
KR101317601B1 (ko) * 2008-08-29 2013-10-11 주식회사 엘지화학 아크릴계 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20100099048A (ko) * 2009-03-02 2010-09-10 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
BR112020008102B1 (pt) * 2017-11-03 2022-09-20 Dow Global Technologies Llc Formulação pesticida
KR101969151B1 (ko) * 2017-11-17 2019-04-16 에스케이씨하이테크앤마케팅(주) 안료 분산액 및 이를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1379060A (zh) * 2001-03-31 2002-11-13 Adms技术株式会社 液晶显示元件的柱型隔垫用保护膜组合物
WO2003036388A1 (en) * 2001-10-24 2003-05-01 Dongjin Semichem Co., Ltd. Photosnesitive resin composition comprising quinonediazide sulfate ester compound

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10316721A (ja) * 1997-05-15 1998-12-02 Nippon Steel Chem Co Ltd アルカリ可溶性樹脂及びそれを用いた画像形成用材料
JP2000327875A (ja) * 1999-05-21 2000-11-28 Jsr Corp カラーフィルター保護膜またはｔｆｔ層間絶縁膜と一体となったスペーサー用感放射線性樹脂組成物
JP2000347397A (ja) * 1999-06-04 2000-12-15 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物およびその層間絶縁膜への使用
JP3743490B2 (ja) * 2000-02-16 2006-02-08 信越化学工業株式会社 熱硬化性感光材料
JP2001254002A (ja) * 2000-03-10 2001-09-18 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物
JP3965868B2 (ja) * 2000-06-12 2007-08-29 Ｊｓｒ株式会社 層間絶縁膜およびマイクロレンズ
JP4524944B2 (ja) * 2001-03-28 2010-08-18 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成への使用、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
KR100784672B1 (ko) * 2001-08-20 2007-12-12 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
JP2003307847A (ja) * 2002-04-16 2003-10-31 Jsr Corp インクジェット方式により層間絶縁膜を形成するための組成物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1379060A (zh) * 2001-03-31 2002-11-13 Adms技术株式会社 液晶显示元件的柱型隔垫用保护膜组合物
WO2003036388A1 (en) * 2001-10-24 2003-05-01 Dongjin Semichem Co., Ltd. Photosnesitive resin composition comprising quinonediazide sulfate ester compound

Also Published As

Publication number Publication date
JP5062504B2 (ja) 2012-10-31
JP2005320542A (ja) 2005-11-17
KR101215426B1 (ko) 2012-12-26
TW200617502A (en) 2006-06-01
KR20060045923A (ko) 2006-05-17
TWI386714B (zh) 2013-02-21
CN1693322A (zh) 2005-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100429248C (zh) Tft-lcd用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法
TWI282796B (en) Curing resin composition and its uses
US8945815B2 (en) Alkaline soluble resin and light sensible resin composition comprising same and use thereof
CN101311215B (zh) 有机保护膜组合物
CN100445846C (zh) 用于光刻胶的感光树脂组合物
CN106715598B (zh) 碱溶性树脂、感光性树脂组合物及其用途
TWI620011B (zh) 感光性樹脂組成物、彩色濾光片之製造方法、彩色濾光片以及液晶顯示裝置
CN101334587B (zh) 有机薄膜晶体管用感光性树脂组合物
CN103717630B (zh) 树脂组合物
KR20100053090A (ko) 플루오렌 그룹을 포함하는 알칼리 가용성 수지 중합체와, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 네가티브형 감광성 수지 조성물
CN105622834B (zh) 一种光固化低介电常数含氟聚丙烯酸酯丙烯酸酯的制备方法
JP5650857B2 (ja) 成形体
CN105974733A (zh) 负型感光性树脂组合物、用其形成的图案和图像显示装置
CN112745453B (zh) 一种含氟丙烯酸树脂及其制备方法和应用
TWI710855B (zh) 感光性樹脂組合物及由其製造的光固化圖案
TW201610576A (zh) 硬化性樹脂組成物及濾色器
KR20010050004A (ko) 고안정성 수지, 경화성 수지 조성물, 그 제조방법,컬러필터 및 액정 패널
JP2007277502A (ja) 耐黄変性樹脂およびその用途
CN111040093B (zh) 一种感光树脂及其制备方法和应用
KR101224261B1 (ko) 열경화성 잉크 조성물, 이를 이용한 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시소자
CN111234094A (zh) 一种改性染料、包含其的光敏树脂组合物及用途
CN109426073A (zh) 正型感光性树脂组成物及其应用
CN112904673B (zh) 单组分光刻胶组合物、其用途及包含其的触摸屏
KR101482561B1 (ko) 아크릴계 중합체의 제조방법
KR101710409B1 (ko) 감광성 인 함유 불포화 아크릴 조성물 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: CO., LTD. DONGJIN SEMICHEM

Free format text: FORMER NAME: DONG JIN SHI-MEI KEN CO., LTD.

CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Inchon, Korea

Patentee after: DONGJIN SEMICHEM Co.,Ltd.

Address before: Inchon, Korea

Patentee before: DONGJIN SEMICHEM Co.,Ltd.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20081029

Termination date: 20210508