1375838 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 該發明是關於適合於液晶顯示元件之配向膜之光配向 之偏光光線照射裝置，尤其，關於可以防止消光率下降或 偏光軸之偏差的偏光光線照射裝置。 【先前技術】 近年來，關於以液晶面板爲首之液晶元件之配向膜， 或視角補償膜之配向層等之配向處理，是採用藉由對配向 膜照射特定波長之偏光光線，執行配向的被稱作光配向之 技術。以下，將設置有上述藉由光而執行配向之配向膜或 配向層的膜等，藉由光產生配向特性之膜或層總稱爲光配 向膜。 但是，於液晶元件之配向膜之配向中，如第6圖所示 般，將1個畫素分割成2個或該以上，對分割每畫素，改 變液晶之配向方向，依此執行改善液晶面板之視角。並且 ，於第6圖中，以黑矩陣所包圍之區域爲各畫素P1、P2 、P3、…，同圖中以一例而言，表示有將畫素P2分割成 4個，改變配向方向（同圖中之箭號）的例子。該方法是 稱爲畫素分割法或是多領域（Multidomain)法。 於將光配向適用於上述畫素分割法之時，使用罩幕將 具有所欲偏光方向（偏光軸之方向）之偏光光線照射至畫 素分割之一個部分，接著替換罩幕，再使罩幕對工作物予 以水平旋轉，自工作物觀看與最初偏光方向不同之方向， -5- Ϊ375838 照射分割後的其他部分。藉由僅以分割數反覆此，則可以 改變每分割畫素之液晶配向方向。 再者，對光配向膜賦予預傾斜角時，對配向膜，從因 應預傾斜之角度，傾斜照射光線。 光配向適用上述畫素分割法，且對光配向膜自傾斜照 射光線之曝光方法或光照射裝置，所知的有例如專利文獻 1或專利文獻2所記載之技術。 第7圖是表示畫素分割時用以適合光配向之偏光光線 照射裝置之一例。 偏光光線照射裝置是由射出偏光光線之光照射部10 、保持有形成有圖案之罩幕Μ之罩幕平台20、載置形成 有配向膜之基板W之工作平台30所構成。 罩幕Μ是以真空吸附被保持於工作平台20之下面， 形成有光配向膜之基板W和罩幕Μ，是從數十/zm接近 置數百而執行曝光。 第8圖是表示所使用之罩幕Μ之一例的圖式。如同 圖所示般，罩幕Μ是在對應於分割後之畫素（以圖之虛 線所包圍之區域相當於1個畫素）之一個區域的位置上， 設置開口部ΟΡ，記錄有用以定位之罩幕對準標記ΜΑΜ。 於第7圖中，被載置在工作平台30之基板W，是藉 由無圖式之對準顯微鏡，檢測出上述罩幕對準標記Μ AM ，和被形成於基板之工作物對準標記（無圖式），移動工 作平台30，以使兩者成爲特定之位置關係，執行罩幕Μ 和基板W之定位。針對定位方法是可以使用上述專利專 -6- 1375838 利文獻1所記載之方法。 光照射部10是設置有放射上述般使配向膜予以配向 之波長的光線（例如，紫外光）的光源11(例如，超高 壓水銀燈和反射鏡），來自光源11之光是由平面反射鏡 12反射，射入至偏光元件13，而成偏光。於同圖中，當 作偏光元件13,表示被配置成使複數玻璃板對光軸成爲 布魯斯特角（Brewster Angle)者。藉由偏光元件13被偏 光之光線，是射入至用以使照度分布均勻之積分器14, 自積分器14所射出之光是被準直儀鏡（collimator mirror )15反射，成爲平行光自光照射口 l〇a射出。 光照射部10是使光不自光照射部10漏光，光不進入 光照射部10,除光射出口之外，藉由外裝蓋16被覆蓋。 再者，爲了使光配向膜賦予預傾斜角，自光照射部 10所射出之偏光偏是經由罩幕Μ，使射入角度相對於基 板W之配向膜成爲0，予以傾斜射入。 射入至配向膜之偏光光線之消光率、偏光方向（以下 ’稱爲偏光軸）和射入角度0，是事先由實驗求取最適合 之値。 偏光光線之偏光方向或配向膜之射入角度是將光軸當 作旋轉軸而旋轉偏光元件13，或調整準直儀鏡15之反射 角度，以使調整成藉由實驗所求出之所欲値。 [專利文獻1]日本特許第35401 74號公報 [專利文獻2]日本特許第3458733號公報 [專利文獻3]日本特開平4-110855號公報 1375838 [專利文獻4]日本特開平〗0-198039號公報 [專利文獻5]日本特開平2002-287147號公報 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 於上述偏光光線照射裝置中，來自光照射部10之偏 光光線是經由罩幕Μ而被照射至工作物w。當藉由上述 構成之偏光光線照射裝置，從傾斜對罩幕Μ照射光線時 ，則在偏光方向產生偏差。 本發明者是發現當對光學元件傾斜予以射入而透射時 ，該偏光軸則旋轉，即是偏光方向則變化，考慮上述偏光 方向之偏差原因，由於朝向罩幕Μ之偏光光線之射入角 度部分性不同之故。 第9圖是以各種不同角度將偏光光線射入至罩幕所使 用之同質的石英玻璃（厚度1」mm)之時，測量透過光 線之偏光軸之旋轉角度，寫在同圖之橫軸下方之角度是表 示旋轉角度。第9圖（a)是偏光方向爲圖面前後之時， 第9圖（b)是偏光方向爲圖面左右之時。如同圖所示般 ，透過石英玻璃之偏光光線是其偏光方向變化》 於第7圖之偏光光線照射裝置中，射入至罩幕Μ之 偏光光線，是藉由準直儀鏡15而成平行光，罩幕面若爲 平面時，在整個罩幕全面所射入之偏光光線之角度則爲相 等。因此，即使自罩幕Μ所射出之偏光光線之偏光軸旋 轉，若事先求取相對於射入角度之偏光軸之旋轉角度，修 1375838 正其角度部分，則不成問題。 但是’當罩幕Μ由於自重而彎曲時，即使對平行光 Μ照射平行光，亦如第1 0圖所示般，由於射入位置不同 光以不同角度（01关02，…尹04)射入於罩幕面。因 如第9圖所示般，由於射入角度使偏光軸之旋轉角度不同 ，故當如上述般，射入至罩幕Μ之光之角度不同時，則 如上述般偏光軸之方向爲偏差。 例如專利文獻3、4所記載般，可知保持於工作平台 之罩幕由於自重產生彎曲，罩幕越大型，該彎曲量則越大 〇 例如，上述以往技術之偏光照射裝置所使用之罩幕是 隨著基板之大型化而成大型化，爲1300 mmxllOO mm〜 1400 mmxl200 mm，厚度爲13 mm〜15 mm，其彎曲量也 由於罩幕之保持方法而在300/zm〜500ym左右。 如上述專利文獻3、4所記載般，當罩幕彎曲時，於 曝光時罩幕和基板之間隔不成爲一定，曝光精度變差。但 是，於光配向所使用之偏光光線照射裝置中，除上述之外 ，也產生下述般之問題。 (i)當罩幕彎曲時，即使射入平行光，亦如上述第 10圖所示般，由於地點不同使得射入角造成變化。 因此，被照射至配向膜之偏光光線之偏光軸由於地點 不同而有所不同，在照射面內偏光軸之方向產生偏差。 當藉由偏光軸爲偏差之偏光光線執行光配向處理時， 由於地點不同使得製品之液晶元件之對比也有所不同’成 -9- 1375838 爲觀看到顔色不均之製品不良的原因。 (ii)例如申請專利文獻5之段落[0010]〜[0012]所 記載般，當偏光光線透過具有歪斜之光學元件時，消光率 則下降。當罩幕彎曲時，因罩幕產生歪斜，故消光率則下 降。 當消光率下降時，因規制配向膜之配向的力量變弱， 故無法充分使液晶予以配向，而造成製品不良。 因此，以矯正罩幕之彎曲，使彎曲量縮小至例如100 A m以下左右爲佳。 上述專利文獻3、4是記載著以在罩幕之光射入側上 設置密閉空間，藉由減壓該空間，使壓力差提起罩幕，矯 正成平面，來當作用以防止罩幕彎曲之方法。 但是，如此之方法是在罩幕之光射入側，重新設置用 以形成減壓用之密閉空間之透過光的構件（光透過窗）。 但是，該光透過窗由於自重產生彎曲，除此之外因當作壓 力隔牆發揮作用，故由於壓力差使得更增加彎曲。 因此，雖然可以消除罩幕之彎曲，但是因成爲所追加 之光透過窗偏光軸之偏差或消光率下降之新原因，故無法 解決消光率下降或偏光軸偏差之問題。 本發明是鑒於上述事情所創作出者，其目的爲不在偏 光光線之光路徑中設置光學元件，消除罩幕之彎曲，防止 由於罩幕之彎曲所產生之消光率下降或偏光軸之偏差。 〔用以解決課題之手段〕 -10- 1375838 本發明是如下述般解決上述課題。 於偏光光線照射裝置之光照射部中，自偏光元件之射 入側，使罩幕之光射入側之空間的壓力，相對於罩幕之光 射出側之空間的壓力爲低。 具體而言，將從被設置在上述偏光元件之光射入側之 隔牆至罩幕面設爲密封空間，使該空間之壓力比罩幕之射 出側之空間的壓力低。 藉由設成上述構成，罩幕之光射出側（外側）和光射 入側（內側）是產生壓力，被保持於罩幕平台之罩幕，是 從壓力高之光射出側朝向壓力低之光射入側被推壓抬起， 彎曲則被矯正。 在此，矯正彎曲之壓力是當壓力設爲P、罩幕之面積 設爲A、罩幕之質量設爲m、重力加速度設爲g之時，邏 輯上是由P = mg/A所求取。 例如，當面積設爲1400 mmxl200 mm，比重設爲2.2 ’厚度設爲15 mm時，若在將罩幕之光射出側設爲大氣 壓之0.1 MPa時’於罩幕之光射入側產生大約320 Pa之 差壓即可。 如此一來，用以矯正罩幕之彎曲之壓力差（差壓）爲 小’即使有些許洩漏，亦可以比較容易達成。在此所述之 密封空間，若施加有該程度之壓力差則足夠。 例如’即使非爲嚴密密閉者，在工作台設置罩幕移動 機構時’雖然移動部之間隙產生洩漏，但是若設爲縮窄氣 體流入之流路’傳導變大之構造即可❶ -11 - Γ375838" 〔發明之效果〕 本發明中，是可以取得以下之效果。 (1) 因在從偏光元件至工作物之間，即使偏光光線 通過之區域上，不用設置新的光學元件，可以防止罩幕之 彎曲，故可以防止消光率之下降或偏光軸之偏差。 因此，於例如執行液晶元件之光配合處理時，可以解 除如由於地點不同使得對比不同，眼睛觀視到顏色不均之 問題，或由於消光率下降使液晶無法充分配向之問題。 並且，即使設置將光透過至偏光元件之射入側之光學 構件，在該位置中，因光不偏光，故不會產生如偏光方向 之變化或偏光軸之旋轉的問題。 (2) 因可以使罩幕和基板之間隔設爲一定，故可以 防止由於罩幕之彎曲而使曝光精度惡化。 【實施方式】 〔用以實施發明之最佳形態〕 第1圖是表示本發明之第1實施例之偏光光線照射裝 置之構成圖。 與上述第7圖所示相同，具有射出偏光光線之光照射 部10'保持形成有圖案之罩幕Μ之罩幕平台20、載置形 成有配向膜之基板W之工作平台30。光照射部10是如上 述般設置有射使配向膜予以配向之波長之光的光源11， 來自光源11之光是由平面反射鏡12反射，射入至偏光元 -12- 1375838 件13而被偏光。並且，於同圖中，作爲偏光元件13，雖 然表示有被配置成多數玻璃板對光軸呈布魯斯特角（ Brewster Angle )’但即使使用其他之偏光元件亦可。 藉由偏光元件13被偏光之光線，是射入至用以使照 度分布均勻之積分器14，自積分器14所射出之光是被準 直儀鏡15反射，成爲平行光自光照射口 l〇a射出。 罩幕Μ是如上述般，以真空吸附等被保持在罩幕平 台20之下面，形成有光配向膜之基板W和罩幕Μ，是從 數十# m接近至數百/zm而執行曝光。 再者，如上述般，藉由無圖式之對準顯微鏡，檢測出 上述罩幕對準標記和被形成在基板上之工作物對準標記， 移動工作平台30以使兩者成爲特定之位置關係，執行罩 幕Μ和基板W之定位。 於本實施例中，除上述構成之外，在光照射部1〇之 偏光元件13之光射入側上，設置第1隔牆17，第1隔牆 17是設置透過來自光源之光的光透過窗17a。光透過窗 17a之構件是使用透過與罩幕Μ同質之紫外線的石英玻璃 。自光源11射出之光是經由隔牆之光透過窗17a而射入 至偏光元件1 3。 罩幕Μ是和以往例相同’以真空吸附等被保持於罩 幕平台2 0之下面側。 並且，設置有包圍從光照射部10之光射出口 l〇a至 第2隔牆1 8之空間的側壁16 °依此’自第1隔牆1 7至 第2隔牆18之空間S’是藉由光照射部之外裝蓋16和新 -13- 1375838 設置之側壁16a所包圍，再者，偏光元件13之光 是藉由第1隔牆17而被封閉，光照射部10之光射 藉由罩幕Μ及覆蓋該罩幕Μ之第2隔牆18蓋上蓋 封閉。 再者，在光照射部10之空間S部分之外裝蓋 置有排氣孔16b。該排氣孔16b上安裝有風扇40 ( )，排出空間S之氣體。空間S因如上述般爲封閉 減壓。 依此，在保持於罩幕平台20之罩幕Μ之光射 外側）和光射入側（內側），產生壓力差，被保持 平台20之罩幕Μ是由壓力高之光射出側朝向壓力 射入側被推壓而抬起，而矯正彎曲。 並且，在罩幕附近設置有差壓計4 1，測量罩幕 光射入側和罩幕Μ之光射出之壓力差（差壓）。 間S之壓力，以使該差壓成爲規定之値。矯正罩暮 彎曲的壓力差是事先藉由實驗或計算而求出。 如第1圖所示般，藉由將第1隔牆17設置在 件1 3之射入側，位於偏光光線從偏光元件1 3到達 間的光學構件，所有是被放置在減壓空間，不施加 所產生之力量。因此，不發生彎曲或歪斜。 並且，雖然對第1隔牆17之光透過窗17a施 差所產生之力量，但是，在該位置中，因光不被偏 即使發生彎曲或歪斜，亦不會有偏光方向變化或偏 轉之問題。 射入側 出側是 子而被 16上設 吹風機 ，故被 出側（ 於罩幕 低之光 ί Μ之 調整空 ί Μ之 偏光元 罩幕之 壓力差 加壓力 光，故 光軸旋 -14- 1375838 但是，以使用如偏光元件13或積分器14般之光學元 件形成第1隔牆17爲不理想，當形成如此之時，於減壓 空間S之時’對偏光元件13或積分器14施加壓力差之力 量，故產生彎曲或歪斜，成爲偏光光線之偏光軸偏差或消 光率降低之原因。 即是，包含偏光元件1 3，對位於偏光光線到達罩幕 Μ之間的光學構件，不施加會產生彎曲或歪斜般之力量。 第2圖是上述第1實施例之變形例，第2圖是在第1 隔牆17設置排氣孔16b，爲不安裝風扇（吹風機）40, 將上述排氣孔1 6b經由導管42連接於例如工場之排氣導 管上，以執行空間S之排氣。 並且，即使排氣孔1 6b與第1圖相同，設置光照射部 1 0之外裝蓋1 6，連接於工場之排氣導管亦可。 再者，第1圖所示之實施例中，雖然將偏光元件13 設置在準直儀鏡15之光射入側，但是即使例如將偏光元 件1 3如第3圖所示般，設置在準直儀鏡1 5之光射出側上 亦可。 如此一來，將偏光元件13設置在準直儀鏡15之光射 出側之時，可以在準直儀鏡1 5和偏光元件1 3之間設置第 1隔牆17’，在第1隔牆17’上設置光透過窗17a。此時， 將排氣孔1 6b例如設置在側壁1 6a上，排出藉由上述第1 隔牆17’、罩幕Μ及覆蓋該罩幕Μ之周圍之第2隔牆18 、側壁1 6a所形成之空間之氣體，使壓力下降。 上述光透過窗17a因被設置在偏光元件13之光射入 -15- 1375838 側，故偏光光線是不透過。因此，被設置在偏光元件13 之光射入側之光透過窗17a即使藉由壓力差而變形，亦不 會產生如偏光方向之變化或偏光軸旋轉等之問題。並且， 上述第1隔牆17’若在光源11和偏光元件13之間時，即 使設置在哪皆可。 但是，近年來，液晶顯示元件之基板例如朝2500 X 22 00 mm般大型化。要對如此大型基板之全區域，一起照 射偏光光線則有困難（以下，稱爲曝光）。因此，罩幕是 使用例如維持1 400x 1 200 mm之大小，將1片基板分割成 多數曝光區域（於該例中爲分割成4個）而予以曝光之方 式。 罩幕和基板之定位，於第1實施例之時，如上述般， 使工作平台30移動而予以執行，但是，以採用移動罩幕 執行定位之方式爲多。 即是，爲基板之曝光區域間之移動的長距離移動是工 作平台所執行，各曝光區域和罩幕之定位之微小移動是工 作平台所執行。不要求高精度長距離之移動，和微小需要 局精度之移動的2種移動 '因由工作平台和罩幕平台分擔 ，故容易控制。 使罩幕平台移動之機構之移動部，是使用一般滾珠軸 承等，不密封。因此，如實施例1般，自光照射部至罩幕 平台設置側壁，即使排出空間S之氣體，外部之氣體亦從 上述移動部之間隙侵入，增大風扇等之排氣機構的負擔。 第4圖是表示本發明之第2實施例之偏光光線照射裝 -16- 1375838 置之構成圖，表示如上述般，適合於使罩幕移動執行定 之分割曝光之時的構成。再者，第5圖是表示第4圖中 幕平台附近之構成圖。 如第4圖所示般，罩幕平台20是具備有ΧΥ0平 50，罩幕Μ是藉由ΧΥ0平台50移動至X、Y(平行於 幕面之平面上之正交兩軸）方向，並且予以0旋轉（垂 於罩幕面之軸的旋轉）。再者，在罩幕Μ周圍，設置 裝於側壁16a之突起狀之第2隔牆19，在第2隔牆19 罩幕Μ之周圍，形成有爲了對準罩幕Μ可以移動旋轉 度之間隔。如此一來，依據設置突起狀之第2隔牆19 縮窄與罩幕Μ之間隔，則解決外部之氣體由ΧΥ0平台 之移動部之間隙侵入，風扇等之排氣機構的負擔變大之 題。 其他之構成，則與上述第1圖所示之第1實施例相 ，執行自光照射部1〇射出之偏光光線是經由罩幕Μ， 傾斜方向被照射至工作平台30上之基板W的曝光。再 ，在偏光元件1 3之光射入側設置第1隔牆1 7，藉由安 於排氣孔16b之風扇40，排出空間S之氣體。 第5圖是表示上述罩幕附近之構成例的圖式。 罩幕平台20是由被固定於豎立設置在基座平板53 裝置之框架52上之ΧΥ0平台保持平板51，被安裝於 ΧΥ0平台保持平板51之ΧΥ0平台50(也有加上Z平 之情形）所構成。在ΧΥ0平台50之罩幕保持平板5 0a 表面上形成有真空吸著溝50b，藉由對該溝50b供給真 位 罩 台 罩 直 安 和 程 ) 50 問 同 白 者 裝 之 該 台 之 空 -17- 1375838 ，保持罩幕Μ。 在由光照射部10之外裝蓋16至罩幕平台20之 置側壁16a，形成有空間S。 如同圖所示般，在XY 0平台50之各移動部間因 置滾珠軸承之間隙，故即使減壓空間S，從側壁1 6a 幕保持平板50a之間所進入之氣體，如同圖箭號所示 自XY 0平台50之移動部之間隙進入至空間S，壓力 下降，對排氣機構造成負擔。 在此，在罩幕平台20之周圍，如上述般設置突 之第2隔牆19，縮窄側壁16a和罩幕保持平台50a 隔。 本實施例中，因在第2隔牆19和罩幕平台20之 必須有用以微小移動罩幕平台20之間隙（間距）， 法密閉。 但是，因縮小氣體流路，增大傳導，故流入空間 氣體量變少，空間S之壓力容易下降。 矯正罩幕Μ之彎曲的壓力，雖然是將壓力設爲Ρ 罩幕之面積設爲A，將罩幕質量設爲m，將重力加速 爲g之時，由P==mg/A所求出，但是爲了橋正面積 mmxl200 mm、比重2.2、厚度15 mm之罩幕之彎曲 罩幕之光射出側設爲大氣壓之0.1 MPa之時，若在罩 光射入側中，下降大約320 Pa壓力即可。因此，自 置在偏光元件之射入側之隔牆，至罩幕面之空間的密 程度，是指使產生在此所例示之程度的壓力差。 間設 有設 和罩 般， 難以 起狀 之間 間， 故無 S之 ，將 度設 1400 ，將 幕之 被設 封之 -18- 1375838 使用第4圖，表示第2實施例之偏光光線照射裝置之 偏光光線照射程序。 在此，針對使用1400x1200 mm之罩幕將2500x2200 mm之基板分割成4個曝光區域而予以曝光之時予以說明 。再者，畫素是設爲如第6圖所示般，4分割成第1〜第 4區域（部分）而執行光配向處理之情形。在此爲了避免 稱呼之混亂，在第6圖之畫素P2中，將右上之區域稱爲 第1部分，將右下之區域稱爲第2部分，將右下之區域稱 爲第3部分，將左上之區域稱爲第4部分。 (1) 第8圖所示之罩幕Μ是被安裝於罩幕平台20。 藉由排氣風扇40等之排氣機構排出空間S內之氣體，使 第1隔牆17和第2隔牆19之間成爲負壓。抬起罩幕Μ， 矯正彎曲。空閭S之壓力是根據差壓計41之顯示値，藉 由調整排氣機構之排氣量，而適當調整。 (2) 形成有配向膜之基板W是被載置在工作平台30 。工作平台30是曝光基板W是移動至槪略位置以使基板 W之4個曝光區域中第1曝光區域曝光。 (3) 藉由對準顯微鏡（無圖式），檢測出形成在基 板W之第1曝光區域之工作物對準標記，和形成在罩幕 Μ上之罩幕對準標記，藉由標記平台20之ΧΥ0平台50 ，移動標記Μ，執行精度佳之定位，以使兩者成爲特定位 置關係。 (4) 經由罩幕Μ，以特定射入角度，將具有事先所 求取之特定偏光方向和消光率之偏光光線，自事先所求取 -19- 1375838 出之特定之方向照射至基板W之第1曝光區域之畫素之 第1部分。 (5) 當完成第1曝光區域之畫素之第1部分之曝光 時，則停止偏光光線之照射。接著，移動工作平台30, 以使第2曝光區域予以曝光。與上述相同，執行第2曝光 區域和罩幕Μ之定位，對第2曝光區域中之第1部分照 射偏光光線。接著，執行第3曝光區域之第1部分、第4 曝光區域之第1部分之曝光（照射偏光光線）。 (6) 若可以在基板W之全區域曝光第1部分時，依 據使工作平台30予以旋轉，180°旋轉基板。依此，所曝 光之位置是成爲第1部分和以畫素中心爲中心具有點對稱 之位置的第3部分。 (7) 工作平台30是移動成曝光第1曝光區域。執行 第1曝光區域和罩幕Μ之定位，對畫素之第3部分照射 偏光光線。 (8) 接著，執行第2曝光區域之畫素之第3部分、 第3曝光區域、第4曝光區域之第3部分之曝光（照射偏 光光線）。 (9) 當完成畫素之第3部分之曝光光線時，則停止 空間S之減壓。將罩幕平台20之罩幕Μ取出，替換持有 對應於畫素之第2部分之開口部者，使空間S排出氣體， 而成爲負壓。 (10) 與上述相同，曝光第1'第2、第3、第4之 曝光區域之畫素之第2部分。180°旋轉基板，曝光第1' -20- 1375838 第2、第3、第4之曝光區域之畫素之第4部分。 以上，以特定之消光率、偏光方向、射入方向、射入 角度，將偏光光線照射至基板之全區域（從第1至第4之 曝光區域）。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示本發明之第1實施例之偏光光線照射裝 置之構成的圖式。 第2圖是表示第1實施例之變形例（1)之圖式。 第3圖是表示第1實施例之變形例（2)之圖式。 第4圖是表示本發明之第2實施例之偏光光線照射裝 置之構成的圖式。 第5圖是表示第4圖中罩幕附近之構成例的圖式。 第6圖是說明多領域法之圖式。 第7圖是表示將用以將光配向適用於畫素分割時之偏 光光線照射裝置之構成例的圖式。 第8圖是表示偏光光線照射裝置中所使用之罩幕之一 例的圖式。 第9圖（a) 、（b)是說明傾斜射入之偏光光線透過 石英板之時的偏光軸之偏差的圖式。 第10圖是說明罩幕彎曲時之罩幕之射入角之圖式。 【主要元件符號說明】 6元件符號之說明 -21 - 1375838 w:基板（光配向膜） S :空間 Μ :罩幕 1 〇 :光照射部 1 〇 a :光射出口 1 1 :光源 1 2 :平面反射鏡 1 3 :偏光元件 1 4 :積分器 1 5 :準直儀鏡 1 6 :外裝蓋 16a :側壁 16b :排氣孔 17 :第1隔牆 17a :光透過窗 18 :第2隔牆 19:突起狀之第2隔牆 20 :罩幕平台 3 0 :工作平台 40 :風扇 4 1 :差壓計 42 :導管 50 : XY 0平台 50b :真空吸著溝 1375838 51 : ΧΥ0平台保持平板 52 :框架 -23