KR101782013B1 - 노광 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 광배향 공정용 노광 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법 에 관한 것이다. 본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치는 광배향 공정에서 사용되는 노광 장치로서, 복수의 투과부를 포함하는 제1 광마스크, 그리고 복수의 투과부를 포함하는 제2 광마스크를 포함하고, 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크는 서로 일부분 중첩하는 중첩 영역을 포함하고, 상기 중첩 영역은 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 중 적어도 하나의 상기 복수의 투과부의 모양 또는 배열 형태가 서로 다른 적어도 두 개의 부영역을 포함한다.

Description

노광 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법{EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY}

본 발명은 광배향 공정용 노광 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법 에 관한 것이다.

액정 표시 장치는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로서, 화소 전극과 공통 전극 등 전기장 생성 전극(field generating electrode)이 형성되어 있는 두 장의 표시판과 그 사이에 들어 있는 액정층을 포함한다. 액정 표시 장치는 전기장 생성 전극에 전압을 인가하여 액정층에 전기장을 생성하고 이를 통하여 액정층의 액정 분자들의 방향을 결정하고 입사광의 편광을 제어함으로써 영상을 표시한다.

액정 표시 장치 중에서도 전기장이 인가되지 않은 상태에서 액정 분자의 장축이 상하 표시판에 대하여 수직을 이루도록 배열한 수직 배향 모드 액정 표시 장치는 대비비가 크고 넓은 기준 시야각 구현이 용이하여 각광받고 있다.

수직 배향 모드 액정 표시 장치에서 광시야각을 구현하기 위하여 하나의 화소에 액정의 배향 방향이 다른 복수의 도메인(domain)을 형성할 수 있다. 이와 같이 하나의 화소에 복수의 도메인을 형성하는 수단으로 광반응 물질을 포함하는 배향막에 자외선과 같은 광을 조사하여 액정 분자의 배향 방향 및 배향 각도를 제어하는 광배향 공정이 개발되고 있다.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 액정 표시 장치의 광배향 공정에서 두 개 이상의 광마스크를 사용하는 노광 장치 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치는 광배향 공정에서 사용되는 노광 장치로서, 복수의 투과부를 포함하는 제1 광마스크, 그리고 복수의 투과부를 포함하는 제2 광마스크를 포함하고, 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크는 서로 일부분 중첩하는 중첩 영역을 포함하고, 상기 중첩 영역은 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 중 적어도 하나의 상기 복수의 투과부의 모양 또는 배열 형태가 서로 다른 적어도 두 개의 부영역을 포함한다.

상기 적어도 두 개의 부영역은 상기 제1 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역이 중복되는 적어도 하나의 제1 부영역, 그리고 상기 제1 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역이 중복되지 않는 적어도 하나의 제2 부영역을 포함할 수 있다.

상기 적어도 하나의 제1 부영역과 상기 적어도 하나의 제2 부영역은 교대로 배열되어 있을 수 있다.

상기 제1 부영역에서 조사 영역이 서로 중복하는 상기 제1 광마스크의 하나의 투과부와 상기 제2 광마스크의 하나의 투과부의 면적의 합은 상기 제1 광마스크 또는 제2 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 상기 투과부의 면적과 동일하거나 클 수 있다.

상기 제1 부영역에서 조사 영역이 서로 중복하는 상기 제1 광마스크의 하나의 투과부와 상기 제2 광마스크의 하나의 투과부의 면적의 합은 상기 제1 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 상기 투과부의 면적의 100-150%일 수 있다.

상기 제1 광마스크의 상기 복수의 투과부는 제1 방향으로 배열되어 있으며, 상기 제1 부영역에서 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 중 적어도 하나의 상기 복수의 투과부의 상기 제1 방향에 수직인 제2 방향의 길이가 상기 제1 방향에 따라 점차 변할 수 있다.

상기 제2 부영역에서 상기 제1 광마스크의 상기 투과부와 상기 제2 광마스크의 상기 투과부는 상기 제1 방향으로 교대로 배열되어 있을 수 있다.

상기 제1 광마스크에 빛을 제공하는 제1 광원 및 상기 제2 광마스크에 빛을 제공하는 제2 광원을 더 포함할 수 있다.

상기 제1 광원 및 상기 제2 광원은 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크를 통해 빛을 비스듬히 조사할 수 있다.

본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치는 광배향 공정에서 사용되는 노광 장치로서, 복수의 투과부를 포함하는 제1 광마스크, 그리고 복수의 투과부를 포함하는 제2 광마스크를 포함하고, 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크는 서로 일부분 중첩하는 중첩 영역을 포함하고, 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 각각은 조사 영역이 서로 다른 제1 부분 및 제2 부분을 포함하고, 상기 제1 부분의 투과부와 상기 제2 부분의 투과부에는 조사 방향이 서로 다른 광이 통과하고, 상기 중첩 영역에서 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 모양 또는 배열 형태는 상기 제1 광마스크 또는 상기 제2 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 상기 투과부의 모양 또는 배열 형태와 다르다.

상기 중첩 영역에서, 상기 제1 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역이 중복될 수 있다.

상기 중첩 영역에서, 상기 제1 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역이 중복되지 않을 수 있다.

상기 중첩 영역은 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 중 적어도 하나의 상기 복수의 투과부의 모양 또는 배열 형태가 서로 다른 적어도 두 개의 부영역을 포함할 수 있다.

본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치는 광배향 공정에서 사용되는 노광 장치로서, 제1 방향으로 배열된 복수의 투과부를 포함하는 제1 광마스크, 그리고 상기 제1 방향으로 배열된 복수의 투과부를 포함하는 제2 광마스크를 포함하고, 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크는 서로 일부분 중첩하는 중첩 영역을 포함하고, 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 중 적어도 하나의 상기 투과부는 상기 제1 방향에 대해 비대칭이고, 상기 중첩 영역에서 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 모양 또는 배열 형태는 상기 제1 광마스크 또는 상기 제2 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 상기 투과부의 모양 또는 배열 형태와 다르다.

상기 중첩 영역에서, 상기 제1 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역이 중복되지 않을 수 있다.

상기 중첩 영역에서, 상기 제1 광마스크의 상기 투과부 및 이와 대응하는 상기 제2 광마스크의 상기 투과부를 합하면 상기 제1 광마스크 또는 상기 제2 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 하나의 투과부의 모양과 동일할 수 있다.

상기 중첩 영역은 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 중 적어도 하나의 상기 복수의 투과부의 모양 또는 배열 형태가 서로 다른 적어도 두 개의 부영역을 포함할 수 있다.

본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 제1 기판 및 제2 기판을 마련하는 단계, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 하나 위에 광 반응성 배향 물질을 포함하는 배향막을 도포하는 단계, 그리고 상기 노광 장치의 상기 제1 및 제2 광마스크를 통하여 상기 배향막에 광을 조사하는 단계를 포함한다.

본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 제1 기판 및 제2 기판을 마련하는 단계, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 하나 위에 광 반응성 배향 물질을 포함하는 배향막을 도포하는 단계, 상기 배향막을 전면적으로 1차 노광하는 단계, 그리고 상기 배향막에 제1 광마스크 및 제2 광마스크를 통하여 광을 조사하는 단계를 포함하고, 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크는 서로 일부분 중첩하는 중첩 영역을 포함하고, 상기 중첩 영역에서 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 모양 또는 배열 형태는 상기 제1 광마스크 또는 상기 제2 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 상기 투과부의 모양 또는 배열 형태와 다르다.

상기 중첩 영역에서, 상기 제1 광마스크의 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 투과부의 조사 영역이 중복될 수 있다.

상기 중첩 영역에서 상기 제1 광마스크의 투과부와 이에 대응하는 상기 제2 광마스크의 투과부의 면적의 합은 상기 제1 광마스크 또는 상기 제2 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 상기 투과부의 면적과 동일하거나 클 수 있다.

상기 중첩 영역은 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 중 적어도 하나의 상기 복수의 투과부의 모양 또는 배열 형태가 서로 다른 적어도 두 개의 부영역을 포함할 수 있다.

상기 적어도 두 개의 부영역은 상기 제1 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역이 중복되는 적어도 하나의 제1 부영역, 그리고 상기 제1 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역이 중복되지 않는 적어도 하나의 제2 부영역을 포함할 수 있다.

액정 표시 장치의 광배향 공정에서 두 개 이상의 광마스크가 서로 일부 중첩하는 영역에서 투과부의 형태 또는 배열을 본 발명의 여러 실시예와 같이 하면 광마스크의 제조 비용을 줄이면서 서로 다른 광마스크의 노광 영역 사이의 경계선 발생 및 이에 의한 표시 불량을 줄일 수 있고 광마스크의 정렬 마진을 높일 수 있다.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이고,
도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치의 개략도이고,
도 3은 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정을 도시한 도면이고,
도 4a, 도 4b, 도 4c 및 도 4d는 각각 한 화소에 대해 배향막의 액정 분자에 대한 배향 방향 및 액정 분자의 배향 방향을 도시한 평면도이고,
도 5는 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크를 도시한 도면이고,
도 6은 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크의 투과부를 도시한 도면이고,
도 7, 도 8 및 도 9는 각각 본 발명의 한 실시예에 따른 광마스크의 중첩 영역에서의 투과부의 여러 실시예에 따른 배치 및 모양을 도시한 평면도이고,
도 10은 도 7, 도 8 및 도 9에 도시한 광마스크의 위치에 따른 개구율 변화를 도시한 그래프이고,
도 11은 본 발명의 한 실시예에 따른 광마스크의 중첩 영역 일부에서의 투과부의 배치 및 모양을 도시한 평면도이고,
도 12는 도 7, 도 9 및 도 11에 도시한 광마스크의 위치에 따른 개구율 변화를 도시한 그래프이고,
도 13은 본 발명의 한 실시예에 따른 광마스크의 중첩 영역에서의 투과부의 배치 및 모양을 도시한 평면도이고,
도 14는 도 13에 도시한 광마스크의 위치에 따른 개구율 변화를 도시한 그래프이고,
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광마스크의 위치에 따른 개구율 변화를 도시한 그래프이고,
도 16은 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정을 보여주는 도면이고,
도 17은 도 16에 도시한 광배향 공정에 사용되는 광마스크의 한 실시예를 도시한 도면이고,
도 18, 도 20 및 도 22는 각각 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크를 도시한 도면이고,
도 19 및 도 21은 각각 도 18 및 도 19에 도시한 광마스크의 한 투과부를 도시한 도면이고,
도 23은 도 18, 도 20 및 도 22에 도시한 광마스크를 사용하여 노광하였을 때 광 조사량을 나타낸 도면이고,
도 24는 도 18, 도 20 및 도 22에 도시한 광마스크를 사용하여 노광하였을 때 액정 표시 장치의 한 화소에 대한 광 조사량을 나타낸 도면이고,
도 25는 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크를 도시한 도면이고,
도 26은 도 25에 도시한 광마스크를 사용하여 광배향하였을 때 한 화소에 대한 배향막의 액정 분자에 대한 배향 방향을 도시한 도면이고,
도 27 및 도 28은 각각 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크를 도시한 도면이고,
도 29는 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 노광 에너지에 따른 액정 분자의 선경사각을 나타낸 그래프이다.

그러면 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.

먼저, 도 1을 참고하여 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치 에 대해 설명한다.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.

본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치는 수직 배향 모드(vertical alignment mode liquid crystal display) 액정 표시 장치로서, 도 1을 참고하면, 서로 마주하는 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200) 및 이들 두 표시판(100, 200) 사이에 들어 있는 액정층(3)을 포함한다.

하부 표시판(100)에 대해 설명하면, 절연 기판(110) 위에 위치하는 복수의 신호선(도시하지 않음) 및 이와 연결된 박막 트랜지스터 등의 스위칭 소자(도시하지 않음)가 위치하고, 그 위에 스위칭 소자와 연결되어 있는 복수의 화소 전극(190)이 위치한다. 화소 전극(190) 위에는 배향막(alignment layer)(11)이 도포되어 있다.

상부 표시판(200)에 대해 설명하면, 절연 기판(210) 위에 화소 전극(190)고 마주하는 대향 전극(270)이 위치하고, 그 위에 배향막(21)이 도포되어 있다.

배향막(11, 21)은 기본적으로 수직 배향막으로서 자외선과 같은 광에 반응하는 광 반응성 배향 물질을 포함한다. 광 반응성 배향 물질은 기판(110, 210)의 면에 대해 수직 배향된 액정 분자(31)가 기판(110, 210) 면의 법선을 기준으로 소정의 방위각, 즉 선경사각을 이루며 기울어지게 하는 배향력을 가진다. 이러한 배향막(11, 21)의 배향력은 액정 분자(31)와 배향막(11, 21) 표면 사이의 방위각 고정 에너지(azimuthal anchoring energy)에 근거할 수 있다. 배향막(11, 21)의 배향력의 방향 또는 이에 의한 액정 분자(31)의 배향 방향은 배향막(11, 21)에 대한 광의 조사 방향 등의 요소에 따르며, 배향력에 의한 액정 분자의 선경사각은 노광 에너지 및 광의 조사 기울기 등의 여러 가지 요소에 의존할 수 있다. 이러한 배향막(11, 21)은 광 반응성 배향 물질의 광 이성화, 광분해, 광경화, 광중합 등의 반응으로 이루어질 수 있다.

액정층(3)의 액정 분자(31)는 유전율 이방성을 가지며 두 기판(110, 210)의 면에 대해 대체로 수직을 이루도록 배향되어 있으나, 배향막(11, 21)의 면과 접하는 곳에서 배향막(11, 21)의 광 반응성 배향 물질과의 결합에 따른 배향력에 따라 기판(110, 210) 면의 법선에 대해 일정 선경사각을 가지고 기울어져 있다. 기판(110, 210)의 면에서 떨어진 곳에서의 액정 분자(31)는 액정 분자(31)와 더 가까운 쪽의 배향막(11, 21)의 배향력에 의한 방향으로 선경사를 이루며 배향되어 있을 수 있다. 액정층(3)의 중간 부분에서는 두 표시판(100, 200)에 인접한 액정 분자(31)의 두 배향 방향의 중간 정도의 방향으로 액정 분자(31)가 선경사를 이루며 기울어져 있을 수 있다.

한편, 액정 표시 장치는 영상을 표시하는 단위인 복수의 화소(PX)를 포함하는데, 수직 배향 모드의 액정 표시 장치의 경우 광시야각을 구현하기 위하여 하나의 화소(PX)에 액정 분자(31)의 배향 방향이 다른 복수의 도메인(domain)을 형성할 수 있다.

이러한 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에 대해 간략히 설명한다.

절연 기판(110) 위에 복수의 박막을 적층하고 화소 전극(190)을 형성한다. 다음, 화소 전극(190) 위에 광 반응성 배향 물질을 도포하고 자외선 등의 광을 조사하는 광배향 공정으로 배향막(11)을 완성한다. 마찬가지로 절연 기판(210) 위에 대향 전극(270)을 형성한 후 광 반응성 배향 물질을 도포하고 자외선 등의 광을 조사하는 광배향 공정으로 배향막(21)을 완성한다. 다음, 두 표시판(100, 200) 사이에 액정 물질을 주입하여 액정층(3)을 형성한다.

그러면 도 2, 도 3, 도 4a, 도 4b, 도 4c 및 도 4d를 참고하여 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 노광 장치 및 이를 이용한 광배향 공정에 대해 설명한다.

도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치의 개략도이고, 도 3은 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정을 도시한 도면이고, 도 4a, 도 4b, 도 4c 및 도 4d는 각각 한 화소에 대해 배향막의 액정 분자에 대한 배향 방향 및 액정 분자의 배향 방향을 도시한 평면도이다.

도 2를 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치는 적어도 하나의 광마스크(40)와 광원(10)을 포함한다. 광마스크(40)와 광원(10)은 일체화되어 함께 이동하여 표시판(100, 200)을 제2 방향(Db)으로 스캐닝하거나, 광마스크(40)와 광원(10)은 고정되고 표시판(100, 200)을 이동시킬 수도 있다. 광원(10)은 자외선 등의 광을 내보낼 수 있으며, 광은 부분 편광된 자외선이거나 선편광된 자외선일 수 있다.

도 3을 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치의 광마스크(40)는 광을 투과시키는 투과부(Ta)와 광의 투과를 차단하는 차광부(Oa)를 포함한다. 투과부(Ta)와 차광부(Oa)는 교대로 배치되어 있을 수 있다. 광원(10)에서 나온 광(15)은 광마스크(40)의 투과부(Ta)를 통과하여 표시판(100, 200)의 배향막(11, 21)의 광 반응성 배향 물질에 조사되어 광중합 반응 등의 광 반응을 유도한다. 특히, 표시판(100, 200)의 면에 대해 비스듬히 광을 조사하면 표시판(100, 200)의 면과 인접하게 될 액정 분자(31)는 그 장축이 표시판(100, 200) 면의 법선에 대해 소정 방위각, 즉 선경사각(Pt)을 이루며 기울어질 수 있다.

한편, 액정 표시 장치의 한 화소(PX)에 복수의 도메인을 형성하기 위해 하나의 화소(PX)에 대해 광 조사 방향을 다양하게 할 수 있다. 광 조사 방향을 다양하게 하는 실시예에 대해 도 4a, 도 4b, 도 4c 및 도 4d를 각각 참고하여 설명한다.

먼저 도 4a(a)를 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 하부 표시판(100)에 광마스크(40)를 배치하고 광을 배향 방향(AL1)으로 비스듬하게 조사한다. 그러면 화소(PX)의 왼쪽 부분에 있어서 하부 표시판(100)의 면에 인접한 액정 분자(31)의 선경사 방향은 배향 방향(AL1)이 된다. 이러한 배향 방향(AL1)으로의 광의 조사와 동시에 또는 이어서 배향 방향(AL1)의 반대 방향인 배향 방향(AL2)으로 광을 비스듬하게 조사하여 화소(PX)의 오른쪽 부분에 있어서 하부 표시판(100)의 면에 인접한 액정 분자(31)가 배향 방향(AL2)으로 선경사될 수 있도록 한다.

이와 마찬가지로 도 4a(b)를 참고하면, 상부 표시판(200)에 광마스크(40)를 배치하고 서로 반대 방향인 배향 방향(AL3) 및 배향 방향(AL4)으로 광을 비스듬하게 조사하여 한 화소(PX)에 있어서 상부 표시판(200)의 면에 인접한 액정 분자(31)의 선경사 방향이 각각 배향 방향(AL3) 및 배향 방향(AL4)이 되게 할 수 있다.

이러한 광배향 공정 후에 두 표시판(100, 200)을 결합하고 액정 물질을 주입하여 액정 표시 패널을 완성하면, 액정층(3)의 중간 부분에서 액정 분자(31)는 도 4a(c)에 도시한 바와 같이 서로 다른 배향 방향(E1, E2, E3, E4)으로 배향될 수 있다. 따라서 하나의 화소(PX)에는 서로 다른 네 개의 도메인이 형성될 수 있다. 도 4a(c)에 도시한 배향 방향(E1, E2, E3, E4)은 액정층(3)의 두께 방향 전체에 있어서 액정 분자(31)의 평균적인 배향 방향일 수도 있다.

다음, 도 4b에 도시한 실시예에 따른 광 배향 방법은 도 4a에 도시한 실시예와 동일하나, 하부 표시판(100)으로의 광의 조사 방향이 도 4a에 도시한 실시예와 다를 수 있다. 예를 들어 도 4b(a)를 참조하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 하부 표시판(100)에 광을 조사하여 화소(PX)의 오른쪽 부분에 있어서 하부 표시판(100)의 면에 인접한 액정 분자(31)의 선경사 방향이 배향 방향(AL1)이 되도록 하고, 화소(PX)의 왼쪽 부분에 있어서 하부 표시판(100)의 면에 인접한 액정 분자(31)의 선경사 방향이 배향 방향(AL2)이 되도록 한다. 도 4b(b)를 참조하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 상부 표시판(200)의 화소(PX)에 있어서 액정 분자(31)의 선경사 방향은 도 4a(b)와 동일하다. 두 표시판(100, 200)에 대한 광배향 공정 후에 두 표시판(100, 200)을 결합하고 액정 물질을 주입하여 액정 표시 패널을 완성하면, 액정층(3)의 중간 부분에서 액정 분자(31)는 도 4b(c)에 도시한 바와 같이 배향될 수 있다. 구체적으로, 화소(PX)의 우측 상반부의 액정 분자(31)는 우상 배향 방향(E1)으로 선경사를 이루고, 화소(PX)의 우측 하반부의 액정 분자(31)는 좌상 배향 방향(E4)으로 선경사를 이루고, 화소(PX)의 좌측 하반부의 액정 분자(31)는 좌하 배향 방향(E3)으로 선경사를 이루며, 화소(PX)의 좌측 상반부의 액정 분자(31)는 우하 배향 방향(E2)으로 선경사를 이룰 수 있다.

다음, 도 4c에 도시한 실시예에 따른 광 배향 방법은 도 4a에 도시한 실시예와 동일하나, 상부 표시판(200)으로의 광의 조사 방향이 도 4a에 도시한 실시예와 다를 수 있다. 도 4c(a)를 참조하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 하부 표시판(100)의 화소(PX)에 있어서 액정 분자(31)의 선경사 방향은 도 4a(a)에 동일하다. 도 4c(b)를 참조하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 상부 표시판(200)에 광을 조사하여 화소(PX)의 위쪽 부분에 있어서 상부 표시판(200)의 면에 인접한 액정 분자(31)의 선경사 방향이 배향 방향(AL4)이 되도록 하고, 화소(PX)의 아래쪽 부분에 있어서 상부 표시판(200)의 면에 인접한 액정 분자(31)의 선경사 방향이 배향 방향(AL3)이 되도록 한다. 두 표시판(100, 200)으로 액정 표시 패널을 완성하면, 액정층(3)의 중간 부분에서 액정 분자(31)는 도 4c(c)에 도시한 바와 같이 배향될 수 있다. 구체적으로, 화소(PX)의 우측 상반부의 액정 분자(31)는 좌하 배향 방향(E3)으로 선경사를 이루고, 화소(PX)의 우측 하반부의 액정 분자(31)는 우하 배향 방향(E2)으로 선경사를 이루고, 화소(PX)의 좌측 하반부의 액정 분자(31)는 우상 배향 방향(E1)으로 선경사를 이루며, 화소(PX)의 좌측 상반부의 액정 분자(31)는 좌상 배향 방향(E4)으로 선경사를 이룰 수 있다.

다음, 도 4d에 도시한 실시예에 따른 광 배향 방법은 도 4a에 도시한 실시예와 동일하나, 두 표시판(100, 200)으로의 광의 조사 방향이 도 4a에 도시한 실시예와 다를 수 있다. 예를 들어 도 4d(a)를 참조하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 하부 표시판(100)의 화소(PX)의 왼쪽 및 오른쪽 부분에 있어서 하부 표시판(100)의 면에 인접한 액정 분자(31)의 선경사 방향이 도 4a(a)에 도시한 방향과 반대이며, 상부 표시판(200)의 화소(PX)의 위쪽 및 아래쪽 부분에 있어서 상부 표시판(200)의 면에 인접한 액정 분자(31)의 선경사 방향이 도 4a(a)에 도시한 방향과 반대이다. 따라서 두 표시판(100, 200)으로 액정 표시 패널을 완성하면, 액정층(3)의 중간 부분에서 액정 분자(31)는 도 4d(c)에 도시한 바와 같이 화소(PX)의 우측 상반부의 액정 분자(31)는 좌상 배향 방향(E2)으로 선경사를 이루고, 화소(PX)의 우측 하반부의 액정 분자(31)는 우상 배향 방향(E3)으로 선경사를 이루고, 화소(PX)의 좌측 하반부의 액정 분자(31)는 우하 배향 방향(E4)으로 선경사를 이루며, 화소(PX)의 좌측 상반부의 액정 분자(31)는 좌하 배향 방향(E1)으로 선경사를 이룰 수 있다.

그러면, 이러한 광배향 공정에서 사용되는 본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치가 포함하는 광마스크에 대해 도 5 및 도 6을 참고하여 자세히 설명한다.

도 5는 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크를 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크의 투과부를 도시한 도면이다.

도 5를 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 노광 장치는 적어도 두 개의 광마스크 행을 포함한다. 각 광마스크 행은 적어도 두 개의 광마스크를 포함하며, 서로 이웃한 광마스크 행이 각각 포함하는 두 광마스크는 적어도 일부분 중첩하고 있다. 이와 같이 서로 일부분 중첩하고 있는 두 광마스크를 제1 광마스크(40a) 제2 광마스크(40b)로 표시한다.

본 발명의 한 실시예에 따른 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)는 각각 복수의 투과부(Ta) 및 차광부(Oa)를 포함한다. 투과부(Ta) 및 차광부(Oa)는 교대로 배열되어 있을 수 있으며, 그 배열 패턴 및 투과부(Ta)의 모양은 다양할 수 있다. 제1 광마스크(40a) 및 제2 광마스크(40b)는 도 2에 도시한 바와 같이 각각의 광원을 포함한다.

제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)는 제2 방향(Db)으로 표시판(100, 200)을 스캐닝하며 자외선 등의 광을 표시판(100, 200)의 면에 대해 비스듬하게 조사한다. 이때 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 일부분은 서로 겹쳐져 있으며, 이 부분은 표시판(100, 200)의 동일한 영역을 스캔한다. 제1 광마스크(40a) 중 제2 광마스크(40b)와 중첩하지 않는 영역을 제1 영역(A), 제2 광마스크(40b) 중 제1 광마스크(40a)와 중첩하지 않는 영역을 제2 영역(B), 그리고 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)가 서로 겹쳐져 있는 영역을 중첩 영역(AB)이라 하기로 한다.

모든 영역(A, B, AB)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)는 제2 방향(Db)에 수직인 제1 방향(Da)으로 일정한 간격을 두고 배열되어 있으며, 배열된 투과부(Ta)의 피치, 즉 이웃한 투과부(Ta)의 동일한 변 사이의 거리는 한 화소(PX)의 제1 방향(Da) 길이와 같을 수 있다.

제1 영역(A) 및 제2 영역(B)의 투과부(Ta)는 대략 직사각형 모양이나 이에 한정되지 않는다. 도 6에 도시한 투과부(Ta)는 제2 방향(Db)에 대체로 평행한 세로변과 제2 방향(Db)에 직각인 제1 방향(Da)에 대체로 평행한 가로변을 포함한다. 세로변의 길이(L2)는 가로변의 길이(L1)보다 길 수 있으며, 가로변의 길이(L1)는 한 화소(PX)의 반피치(half pitch), 즉 한 화소(PX)의 제1 방향(Da) 길이의 절반 정도일 수 있다.

중첩 영역(AB)은 제1 광마스크(40a) 및 상기 제2 광마스크(40b) 중 적어도 하나가 포함하는 투과부(Ta)의 모양 또는 배열 형태가 서로 다른 적어도 두 개의 부영역을 포함한다.

도 5를 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)은 제1 방향(Da)으로 순서대로 배열된 세 개의 부영역(AB1, AB2, AB3)을 포함한다. 중첩 영역(AB)의 부영역(AB1, AB2, AB3)의 투과부(Ta)는 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)에 비해 면적이 작거나 그 배열 간격이 더 멀 수 있다.

도 5를 참고하여 더 구체적으로 설명하면, 부영역(AB1, AB3)에서 각 투과부(Ta)의 모양은 도 6에 도시한 투과부(Ta) 또는 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)의 투과부(Ta)와 동일하다. 또한 부영역(AB1, AB3)에서 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)의 조사 영역과 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 조사 영역은 서로 중복되지 않는다. 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)와 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 서로 교대로 배열되어 있으며, 부영역(AB1, AB3)에서 각 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)의 피치는 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)의 피치의 두 배일 수 있다.

두 부영역(AB1, AB3) 사이에 위치하는 부영역(AB2)에서는 제1 광마스크(40a) 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 조사 영역이 서로 중복한다. 또한 제1 광마스크(40a) 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 세로변 길이는 제1 방향(Da)에 따라 변화할 수 있다. 예를 들어, 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 갈수록 제2 방향(Db)의 세로변 길이가 점점 작아지고, 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 갈수록 제2 방향(Db)의 세로변 길이가 점점 커질 수 있다. 따라서 제1 방향(Da)으로 갈수록 제1 광마스크(40a) 또는 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)를 통한 광 조사량은 점차적으로 감소하거나 증가한다.

그러나 부영역(AB2)에서 서로 대응하는 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)의 면적 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 면적의 합은 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 하나의 투과부(Ta)의 면적의 80% 이상 150% 이하일 수 있다. 따라서 부영역(AB2)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)에 의해 노광되는 부분의 광 조사량은 제1 및 제2 영역(A, B)의 하나의 투과부(Ta)에 대응하는 조사 영역의 광 조사량의 80% 이상 150% 이하일 수 있다. 부영역(AB2)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)에 의해 노광되는 부분의 광 조사량이 제1 및 제2 영역(A, B)의 하나의 투과부(Ta)에 대응하는 조사 영역의 광 조사량의 100%가 넘는 경우라도 배향막(11, 21)의 배향력에 의한 액정 분자(31)의 선경사각은 대략 동일할 수 있다.

이러한 표시판(100, 200)에 대한 광 조사량은 도 5의 아래쪽에 예시적으로 도시되어 있다.

도 5를 참고하면, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)를 통해 광을 조사한 표시판(100, 200)의 광 조사량(Edr)은 투과부(Ta)의 면적으로 표시하였다. 본 실시예에 따르면 광 조사량(Edr)은 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 영역(A, B, AB)에 상관없이 대체로 균일하게 분포되어 있다.

이와 같이 광 배향 공정에서 두 개 이상의 광마스크를 사용함으로써 마스크 제작 비용을 줄일 수 있고 대형 표시판(100, 200)을 제작하는데 유리할 수 있다. 또한 두 개 이상의 광마스크를 사용할 때 도 5에 도시한 바와 같이 광마스크를 서로 일부분 중첩시켜 광을 조사함으로써 광조사 영역 간의 경계선 발생 및 이에 의한 표시 불량을 줄일 수 있다.

이와 같이, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)의 투과부(Ta)를 통한 광 조사량의 합과 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)를 통한 광 조사량이 서로 동일하고 균일하도록 하면서 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)의 모양 및 배치는 다양하게 변형 가능하다. 이러한 다양한 실시예에 대해 도 7, 도 8, 도 9, 도 10, 도 11, 도 12, 도 13, 도 14 및 도 15를 참고하여 설명한다.

도 7, 도 8 및 도 9는 각각 본 발명의 한 실시예에 따른 광마스크의 중첩 영역에서 투과부의 여러 실시예에 따른 배치 및 모양을 도시한 평면도이고, 도 10은 도 7, 도 8 및 도 9에 도시한 광마스크의 위치에 따른 개구율 변화를 도시한 그래프이고, 도 11은 본 발명의 한 실시예에 따른 광마스크의 중첩 영역 일부에서의 투과부의 배치 및 모양을 도시한 평면도이고, 도 12는 도 7, 도 9 및 도 11에 도시한 광마스크의 위치에 따른 개구율 변화를 도시한 그래프이고, 도 13은 본 발명의 한 실시예에 따른 광마스크의 중첩 영역에서의 투과부의 배치 및 모양을 도시한 평면도이고, 도 14는 도 13에 도시한 광마스크의 위치에 따른 개구율 변화를 도시한 그래프이고, 도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광마스크의 위치에 따른 개구율 변화를 도시한 그래프이다.

먼저 도 7, 도 8, 도 9 및 도 10을 참고하면, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)의 구조가 앞에서 설명한 도 5에 도시한 실시예와 다르다.

도 7을 참고하여 부영역(AB1)에 대해 설명하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 중첩 영역(AB)의 부영역(AB1)은 도 5에 도시한 실시예와 대부분 동일하나, 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 갈수록 그 배열 간격이 점점 멀어지고, 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 갈수록 그 배열 간격이 점점 가까워진다. 그 배열 간격은 적절히 조절될 수 있다.

도 9를 참고하여 부영역(AB3)에 대해 설명하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 중첩 영역(AB)의 부영역(AB3)은 도 7에 도시한 부영역(AB1)과 대부분 동일하나, 투과부(Ta)의 배열 간격의 변화가 도 7과 반대이다.

도 8에 도시한 부영역(AB2)에서, 제1 광마스크(40a) 및 제2 광마스크(40b) 각각이 포함하는 투과부(Ta) 중 하나가 차지하는 면적은 도 5에 도시한 투과부(Ta)의 면적의 대략 절반이다.

도 8(a)에 도시한 부영역(AB2)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)는 도 5에서와 같이 동일한 조사 영역에 광을 조사할 수 있다. 부영역(AB2)에서 투과부(Ta)의 세로변의 길이는 도 5에 도시한 투과부(Ta)의 세로변의 길이(L2)의 반일 수 있다.

도 8(b)-8(f)에 도시한 부영역(AB2)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)의 조사 영역은 서로 중복하지 않는다. 그러나, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 대응하는 투과부(Ta)를 합하면 그 모양은 도 5에 도시한 투과부(Ta)와 대략 동일하다. 따라서 부영역(AB2)에 대응하는 조사 영역의 광 조사량은 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 광 조사량과 대략 동일하다. 이외에도 도 8(b)-8(f)에 도시한 투과부(Ta)의 모양은 다양하게 변형될 수 있다.

도 10에는 도 7, 도 8 및 도 9에 도시한 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)의 제1 방향(Da)에 따른 개구율 그래프(Ga) 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 제1 방향(Da)에 따른 개구율 그래프(Gb)가 도시되어 있다. 개구율은 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)의 면적을 100%로 하고 이를 기준으로 나타내었으며, 투과부(Ta)를 통한 광 조사량 역시 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)를 통한 광 조사량을 기준으로 한 백분율로 나타내었다. 이에 따르면 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)를 통한 광 조사량의 합(Gt)은 전 부영역(AB1, AB2, AB3)에 걸쳐 일정하며, 그 값은 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)에서 하나의 투과부(Ta)를 통한 광 조사량과 대체로 동일할 수 있다.

도 11 및 도 12에 도시한 실시예는 앞에서 설명한 도 7 내지 도 9에 도시한 실시예와 대부분 동일하나, 부영역(AB2)에서 투과부(Ta)의 모양이 다르다. 도 11(a)에 도시한 실시예는 실질적으로 앞에서 설명한 도 5에 도시한 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)의 부영역(AB2)과 동일하다. 그러나, 도 11(b)에 도시한 실시예에서, 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)의 세로변의 길이는 제1 방향(Da)을 따라 점점 길어지고, 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 세로변이 길이는 점점 짧아진다. 그러나 부영역(AB2)에서 서로 대응하는 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta) 면적 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 면적의 합은 도 6에 도시한 투과부(Ta)의 면적과 거의 동일할 수 있다.

도 12에는 도 11에 도시한 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)의 제1 방향(Da)에 따른 개구율 그래프(Ga) 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 제1 방향(Da)에 따른 개구율 그래프(Gb)가 도시되어 있다. 부영역(AB1, AB3)에서의 개구율 그래프(Ga, Gb)는 앞에서의 도 10과 대부분 동일하나, 부영역(AB2)에서의 개구율 그래프(Ga, Gb)는 투과부(Ta)의 세로 방향 길이 또는 면적의 변화에 따라 증가하거나 감소한다. 도 10과 같이 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)를 통한 광 조사량의 합(Gt)은 전 부영역(AB1, AB2, AB3)에 걸쳐 일정하며, 그 값은 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)의 투과부(Ta)를 통한 광 조사량과 동일할 수 있다.

도 13 및 도 14에 도시한 실시예는 앞에서 설명한 도 5의 실시예와 대부분 동일하나, 중첩 영역(AB)의 부영역(AB2) 및 부영역(AB1, AB3)의 투과부(Ta)의 배열 구조가 서로 바뀌어 있다. 구체적으로 설명하면, 부영역(AB2)에서 투과부(Ta)의 모양은 도 6에 도시한 투과부(Ta)의 모양과 동일하고, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)는 서로 중첩하지 않으며 교대로 배열되어 있다. 부영역(AB1, AB3)에서 투과부(Ta)의 세로 방향 또는 제2 방향(Db)의 길이는 점차 증가하거나 감소한다. 이에 따라 도 14에 도시한 바와 같이 부영역(AB1, AB3)에서 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)의 개구율(Ga) 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 개구율(Gb)은 제1 방향(Da)에 따라 점차 감소하거나 증가하고 부영역(AB2)에서는 개구율(Ga, Gb)이 일정한 간격을 두고 100%를 나타낸다. 또한 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)를 통한 광 조사량의 합(Gt)은 전 부영역(AB1, AB2, AB3)에 걸쳐 일정하며, 그 값은 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)의 하나의 투과부(Ta)를 통한 광 조사량과 동일할 수 있다.

도 15를 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)의 부영역(AB1, AB3)에서 투과부(Ta)는 도 6에 도시한 투과부(Ta)의 절반 정도의 크기를 가지며 그에 따른 개구율도 50% 정도가 될 수 있다. 부영역(AB2)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)는 서로 중첩되지 않는다. 또한 부영역(AB2)에서 복수의 투과부(Ta)는 복수의 그룹을 이루며, 하나의 그룹이 포함하는 투과부(Ta)의 개수 및 이웃한 그룹 사이의 간격은 부영역(AB2)의 중앙 부분으로 갈수록 점점 줄어든다. 이러한 특징이 도 15의 그래프(Ga, Gb)에 나타나 있다. 본 실시예에서도 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)를 통한 광 조사량의 합(Gt)은 전 부영역(AB1, AB2, AB3)에 걸쳐 일정하다.

지금까지 설명한 실시예에서 중첩 영역(AB)의 투과부(Ta)의 개수는 10개 이상 30개 이하일 수 있으나 이에 한정하지 않는다. 또한 중첩 영역(AB)의 제1 방향(Da)의 길이의 범위는 10-100 mm일 수 있으나 역시 이에 한정하지 않는다.

다음 도 16 및 도 17을 참고하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 광배향 방법 및 광마스크에 대해 설명한다.

도 16은 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정을 보여주는 도면이고, 도 17은 도 16에 도시한 광배향 공정에 사용되는 광마스크의 한 실시예를 도시한 도면이다.

도 16을 참고하면, 하나의 화소(PX)에 있어서 배향 방향이 서로 다른 복수의 도메인을 한 번의 노광 공정으로 형성할 수 있다. 이를 듀얼 노광 공정이라 한다. 본 실시예에 따른 듀얼 노광 장치는 도 16(a)에 도시한 바와 같이 두 개의 광원과 복수의 거울 및 편광자를 이용하여 표시판(100, 200)에 방향이 서로 다른 노광을 한 번에 수행할 수 있다. 도 16(b)에 도시한 실시예에서는 하나의 광원과 복수의 거울 및 빔 스플리터(beam splitter)(BS)를 이용하여 조사 방향이 서로 다른 노광을 한 번에 수행할 수 있다. 이때 광마스크(40)는 서로 다른 조사 영역에 대응하는 두 부분(41, 42)을 포함하며, 두 부분(41, 42)의 투과부에는 조사 방향이 서로 다른 광이 통과하여 조사된다.

도 17을 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 듀얼 노광 공정용 제1 광마스크(40c)는 제2 방향(Db)으로 서로 이웃하는 제1행(41c) 및 제2행(42c)을 포함하고, 제2 광마스크(40d)는 제2 방향(Db)으로 서로 이웃하는 제1행(41d) 및 제2행(42d)을 포함한다.

제1 및 제2 광마스크(40c, 40d)가 서로 중첩하지 않는 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)에서, 제1 광마스크(40c)의 제1행(41c)의 투과부(Ta)와 제2행의 투과부(Ta)는 서로 엇갈려 배치되어 있으며, 제1행(41c)의 이웃한 투과부(Ta) 사이에 제2행의 투과부(Ta)가 위치한다. 제1행(41c) 또는 제2행(42c)의 투과부(Ta)의 제1 방향(Da) 길이는 화소(PX)의 제1 방향(Da)의 길이의 절반과 대략 동일하다.

제1 및 제2 광마스크(40c, 40d)의 중첩 영역(AB)은 투과부(Ta)의 모습 또는 배열이 서로 다른 복수의 부영역(AB4, AB5, AB6)을 포함한다. 그러나 이와 달리 중첩 영역(AB)은 세 부영역(AB4, AB5, AB6) 중 적어도 하나만을 포함할 수도 있다.

부영역(AB4, AB5)에서, 제1 광마스크(40c)의 제1행(41c)과 제2 광마스크(40d)의 제1행(41d)의 투과부(Ta)의 조사 영역은 중첩하지 않으며, 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 일정한 간격을 두고 교대로 배치되어 있다. 따라서 부영역(AB4, AB5)에서 제1 및 제2 광마스크(40c, 40d)의 투과부(Ta)의 광 조사량은 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)의 제1행(41c, 41d)에 대한 광 조사량과 거의 동일하다. 이는 부영역(AB4)에서 제1 및 제2 광마스크(40c, 40d)의 제2행(42c, 42d)에 대해서도 마찬가지이다.

부영역(AB6)에서 제1 광마스크(40c)의 제1행(41c)과 제2 광마스크(40d)의 제1행(41d)의 투과부(Ta)의 조사 영역은 서로 중복한다. 그러나 제1 광마스크(40c)의 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 갈수록 세로변의 길이가 점차 줄어들고 제2 광마스크(40d)의 투과부(Ta)의 세로변의 길이는 점차 증가한다. 따라서 부영역(AB6)의 투과부(Ta)에 대응하는 조사 영역의 광 조사량의 합은 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 하나의 투과부(Ta)를 통한 광 조사량과 대략 동일하거나 클 수 있다. 이는 부영역(AB5)에서 제1 및 제2 광마스크(40c, 40d)의 제2행(42c, 42d)에 대해서도 마찬가지이다.

부영역(AB6)에서 제1 광마스크(40c)의 제2행(42c)과 제2 광마스크(40d)의 제2행(42d)의 투과부(Ta)의 조사 영역도 중첩하나 각 투과부(Ta)의 세로변 길이 또는 면적은 도 6에 도시한 투과부(Ta)의 대략 절반이다. 따라서 부영역(AB6)의 투과부(Ta)에 대응하는 조사 영역의 광 조사량의 합은 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)에서의 하나의 투과부(Ta)를 통한 조사량과 대략 동일하거나 클 수 있다.

이와 다르게, 듀얼 노광 장치의 광마스크(40c, 40d)의 중첩 영역(AB)은 하나의 부영역만을 포함할 수도 있다. 이 경우 제1 및 제2 광마스크(40c 40d)의 투과부(Ta)는 서로 중첩하지 않고 교대로 배열되거나, 서로 조사 영역이 중첩하되 중첩하는 투과부(Ta)의 면적을 합하면 제1 및 제2 영역(A, B)의 투과부(Ta)의 면적과 대략 동일할 수도 있다.

다음 도 18 내지 도 24를 참고하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 노광 장치의 광마스크에 대해 설명한다. 앞에서 설명한 실시예와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 동일한 설명은 생략한다.

도 18, 도 20 및 도 22는 각각 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크를 도시한 도면이고, 도 19 및 도 21은 각각 도 18 및 도 19에 도시한 광마스크의 한 투과부를 도시한 도면이고, 도 23은 도 18, 도 20 및 도 22에 도시한 광마스크를 사용하여 노광하였을 때 광 조사량을 나타낸 도면이고, 도 24는 도 18, 도 20 및 도 22에 도시한 광마스크를 사용하여 노광하였을 때 액정 표시 장치의 한 화소에 대한 광 조사량을 나타낸 도면이다.

먼저 도 18 및 도 19를 참고하면, 본 실시예에 따른 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)는 앞에서 설명한 여러 실시예의 광마스크와 대부분 동일하나 투과부(Ta)의 모양이 다르다. 도 19를 참고하면, 본 실시예에 따른 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b) 중 적어도 하나가 포함하는 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)에 대해 대칭이 아닐 수 있다. 예를 들어 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)는 대략 직사각형의 1/4에 해당하는 한 모퉁이가 잘려 나간 형태를 가질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 투과부(Ta)는 다각형 또는 타원 또는 원형의 좌측 또는 우측의 대략 1/4 정도가 생략된 형태를 가질 수 있다.

도 18을 참고하면, 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)에서 투과부(Ta) 일정한 간격으로 배열되어 있으며, 그 배열된 피치는 화소(PX)의 제1 방향(Da) 길이와 동일할 수 있다. 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)의 모양 또는 배열 형태는 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)에서와 다르다. 더 구체적으로, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)의 조사 영역은 서로 중첩하지 않을 수 있다.

제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)은 투과부(Ta)의 배열 방법이 서로 다른 두 개 이상의 부영역을 포함할 수 있다.

부영역(AB1)에서, 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)는 도 19에 도시한 투과부(Ta)의 왼쪽 부분(Ta1)에 해당하고 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)는 도 19에 도시한 투과부(Ta)의 오른쪽 부분(Ta2)에 해당한다. 투과부(Ta)를 도 19에 도시한 바와 다르게 분할하여 제1 광마스크(40a) 및 제2 광마스크(40b)에 각각 할당할 수도 있다.

부영역(AB3)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)의 모습은 부영역(AB1)에서와 반대이다.

한편, 부영역(AB2)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 각 투과부(Ta)는 도 19에 도시한 투과부(Ta)와 동일한 형태를 가지고, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 교대로 배열되어 있다.

도 18을 참고하면, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)를 통한 표시판(100, 200)에의 광 조사량(Edr)은 영역(A, B, AB)에 상관 없이 균일하게 분포되어 있다. 중첩 영역(AB)에서도 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)의 면적의 합은 제1 및 제2 영역(A, B)에서의 투과부(Ta)와 대략 동일하거나 이보다 크므로 이에 따른 각 영역(A, B, AB)에서 투과부(Ta)에 대응하는 조사 영역의 광 조사량은 제1 및 제2 영역(A, B)에서의 광 조사량과 동일하거나 이보다 클 수 있다.

도 23 및 도 24를 참고하면, 광 조사량(Edr)은 투과부(Ta)의 형태에 따라 고 조사량(Ea)과 저 조사량(Eb)을 포함한다. 예를 들어 도 19에 도시한 바와 같이 투과부(Ta)를 좌우로 분할하여 좌측 부분의 면적이 우측 부분의 면적보다 클 경우, 도 23에 도시한 바와 같이 투과부(Ta)의 좌측 부분에 대응하는 부분은 고 조사량(Ea)을 가지고 투과부(Ta)의 우측 부분에 대응하는 부분은 저 조사량(Eb)을 가진다. 도 23에서 조사량이 작은 저 조사량(Eb)은 회색으로 나타내었다.

이에 따라 복수의 도메인을 포함하도록 화소(PX)를 광배향하는 방법에 있어서, 하나의 화소(PX)에 대응하는 조사량(Edr)은 도 24(a) 또는 도 24(b)에 도시한 바와 같이 고 조사량(Ea)과 저 조사량(Eb)을 포함할 수 있다. 도 24에서 고 조사량(Ea)에 대응하는 영역과 저 조사량(Eb)에 대응하는 영역은 서로 바뀔 수도 있다.

이와 같이 광 조사량을 하나의 화소(PX)의 영역에 따라 다르게 함으로써 액정 분자(31)의 선경사각을 다양하게 할 수 있고, 액정 분자(31)의 선경사각의 분포를 최적화할 수도 있다.

다음 도 20 및 도 21을 참고하면, 본 실시예에 따른 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)는 앞에서 설명한 도 18에 도시한 실시예와 대부분 동일하나 중첩 영역(AB)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)의 모습이 다르다. 도 21을 참고하면, 투과부(Ta)의 전체적인 모습은 앞에서 설명한 도 19의 투과부(Ta)의 모습과 동일하나 하부(Ta3)와 상부(Ta4)로 분할될 수 있다.

중첩 영역(AB)의 부영역(AB1)에서 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)는 상부(Ta4)만을 포함하고, 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)는 하부(Ta3)만을 포함한다. 부영역(AB3)에서의 투과부(Ta)의 모습은 부영역(AB1)에서와 반대이다.

부영역(AB2)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)는 도 19 또는 도 21에 도시한 투과부(Ta)의 모습과 동일하나 그 조사 영역은 서로 중첩하지 않고 교대로 배열되어 있다.

도 22를 참고하면, 본 실시예에 따른 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)는 앞에서 설명한 도 18에 도시한 실시예와 대부분 동일하나 중첩 영역(AB)의 부영역(AB2)이 없다. 즉, 중첩 영역(AB)은 두 부영역을 포함하며, 두 부영역에서 투과부(Ta)의 모습은 서로 반대이다. 중첩 영역(AB)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 대응하는 투과부(Ta)의 조사 영역은 서로 중첩하지 않으며, 투과부(Ta)는 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)와 다른 모양을 가진다.

지금까지 설명한 도 5 내지 도 24에 도시한 여러 실시예에서 제1 및 제2 광마스크(40c, 40d)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)의 면적의 합이 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)의 투과부(Ta)의 면적과 대략 동일한 것으로 설명하였으나, 이에 한정되지 않는다. 즉, 중첩 영역(AB)에서 제1 광마스크(40a) 또는 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 세로 방향 길이 또는 가로 방향의 길이는 도시된 길이의 대략 100~150%의 범위 내에서 증가할 수 있다. 즉, 앞에서 설명한 실시예에서 투과부(Ta)의 세로변 길이가 증가하거나 감소하는 경우 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)의 세로변 길이 한도 내에서 증감하도록 도시하고 있으나, 이에 한정되지 않고 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)에서의 투과부(Ta)의 세로변 길이 이상으로 증가할 수도 있다. 이와 같이 하여도 조사 영역에서의 배향막(11, 21)의 배향력에 의한 액정 분자(31)의 선경사각은 그러하지 않은 경우의 선경사각과 크게 다르지 않을 수 있다.

다음, 도 25, 도 26, 도 27, 도 28 및 도 29를 참고하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 광배향 방법 및 광마스크에 대해 설명한다.

도 25는 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크를 도시한 도면이고, 도 26은 도 25에 도시한 광마스크를 사용하여 광배향하였을 때 한 화소에 대한 배향막의 액정 분자에 대한 배향 방향을 도시한 도면이고, 도 27 및 도 28은 각각 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 사용되는 광마스크를 도시한 도면이고, 도 29는 본 발명의 한 실시예에 따른 광배향 공정에서 노광 에너지에 따른 액정 분자의 선경사각을 나타낸 그래프이다.

먼저 도 25를 참고하면, 광마스크 없이 표시판(100, 200)을 제2 방향(Db)으로 스캐닝하며 전체적으로 1차 노광한다. 이때 광의 조사 방향 또는 광의 경사 방향은 스캐닝 방향과 동일할 수 있다.

다음, 서로 일부분 중첩하고 있는 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)를 사용하여 표시판(100, 200)을 1차 노광의 스캐닝 방향과 반대 방향으로 스캐닝하며 2차 노광을 수행한다. 이때 광의 조사 방향 또는 광의 경사 방향은 스캐닝 방향과 동일할 수 있다. 따라서 1차 노광 및 2차 노광에서 광의 조사 방향은 서로 반대이다.

이에 따르면 도 26에 도시한 바와 같이 1차 노광에서 화소(PX) 전체의 배향 방향(AL5, AL6)이 동일하게 형성된다. 다음 광마스크(40a, 40b)를 이용한 2차 노광에 의해 화소(PX)의 오른쪽 부분이 광차단되고 왼쪽 부분에 1차 노광과 반대 방향의 광이 조사되면, 화소(PX)는 서로 다른 배향 방향(AL6, AL7)을 가질 수 있으므로 액정 분자(31)의 배향 방향이 다른 복수의 도메인을 가질 수 있다. 배향 방향(AL7)의 배향력이 적절한 값을 가지기 위해서는 2차 노광의 조사량이 1차 노광의 조사량보다 클 수 있다.

도 25를 참고하면, 2차 노광 공정에서 사용되는 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)는 제2 방향(Db)으로 표시판(100, 200)을 스캔하며 광을 비스듬하게 조사한다. 이때 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 일부분은 서로 겹쳐져 있으며, 이 부분은 표시판(100, 200)의 동일한 영역을 스캔한다.

제1 광마스크(40a) 및 제2 광마스크(40b)의 중첩하지 않는 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)의 투과부(Ta)는 앞에서 설명한 도 5에도 도시한 실시예에서와 동일하다. 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)의 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 일정한 간격을 두고 배열되어 있다.

제1 광마스크(40a) 중 제2 광마스크(40b)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)의 제2 방향(Db)의 길이는 점차 줄어들거나 증가한다. 즉, 제1 광마스크(40a)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)의 세로변은 제1 영역(A)의 투과부(Ta)의 세로변의 길이에서 시작하여 제1 방향(Da)으로 갈수록 점차 줄어드나, 제2 광마스크(40b)의 중첩 영역(AB)에서 투과부(Ta)의 세로변은 제1 방향(Da)을 따라 점차 증가하여 중첩 영역(AB)의 마지막 부분에서는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)의 세로변의 길이에 가깝게 된다. 이러한 중첩 영역(AB)에서 제1 광마스크(40a) 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 조사 영역은 서로 중복한다. 따라서 중첩 영역(AB)에서 서로 대응하는 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta) 면적 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 면적의 합은 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)의 면적과 거의 동일할 수 있다. 이때 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)를 통한 표시판(100, 200)에 대한 광 조사량(Edr)은 영역에 상관 없이 균일할 수 있으며, 이는 도 25의 아래쪽에 도시되어 있다.

이와 달리, 중첩 영역(AB)에서 서로 대응하는 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta) 면적 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 면적의 합은 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)의 면적보다 더 클 수 있다. 이때 중첩 영역(AB)에서 서로 대응하는 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta) 면적 및 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)의 면적의 합은 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)의 투과부(Ta)의 면적의 대략 100-150% 정도일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.

이 밖의 특징은 앞에서 설명한 도 5의 실시예와 대부분 동일하다.

도 27에 도시한 실시예는 도 25에 도시한 실시예에서 설명한 2차 노광 공정에서 사용되는 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 다른 예이다. 도 27에 도시한 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)는 도 25에 도시한 실시예와 대부분 동일하나 중첩 영역(AB)의 구조가 다르다. 본 실시예에서 중첩 영역(AB)은 앞에서 설명한 도 13의 실시예와 동일하므로 상세한 설명은 생략한다.

도 28에 도시한 실시예 역시 도 25에 도시한 실시예에서 설명한 2차 노광 공정에서 사용되는 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 다른 예이다. 본 실시예는 도 27에 도시한 실시예의 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 제1 영역(A) 및 제2 영역(B)과 동일하나, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 중첩 영역(AB)은 투과부(Ta)의 패턴 형태가 다른 두 개 이상의 부영역을 포함한다. 도 28에서 중첩 영역(AB)은 세 부영역을 포함하는 예를 도시하고 있다.

부영역(AB1)에서 제1 광마스크(40a)의 투과부(Ta)는 제1 영역(A)에서의 투과부(Ta)와 동일한 형태와 배열을 가지고 있으나, 제2 광마스크(40b)의 투과부(Ta)는 제1 방향(Da)으로 갈수록 세로변의 길이가 점점 증가한다. 부영역(AB1)에서 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)는 서로 중첩하고 있으므로 부영역(AB1)에 대응하는 표시판(100, 200)의 노광 영역은 제1 영역(A) 또는 제2 영역(B)에 비해 더 많은 광을 조사받게 된다. 그러나 제1 영역(A)의 투과부(Ta)에 대응하는 조사 영역에서의 액정 분자(31)의 선경사각은 부영역(AB1)의 투과부(Ta)에 대응하는 조사 영역에서의 액정 분자(31)의 선경사각은 대략 동일할 수 있다.

이에 대해 도 29를 참고하여 더 자세히 설명한다. 도 29에서 액정 분자(31)의 선경사각은 표시판(100, 200) 면의 법선을 기준으로 한 각이다. 1차 노광시 액정 분자(31)의 선경사각은 대략 2도이나, 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)를 이용한 2차 노광 후의 액정 분자(31)의 선경사각은 노광 에너지에 거의 상관없이 일정한 선경사각을 유지하는 것을 볼 수 있다.

다시 도 28을 참고하면, 부영역(AB3)의 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)의 투과부(Ta)의 배열은 부영역(AB1)에서와 반대이다.

부영역(AB2)은 앞에서 설명한 도 27의 실시예와 동일하므로 상세한 설명은 생략한다.

이와 같이 본 발명의 여러 실시예에 따른 제1 및 제2 광마스크(40a, 40b)를 사용하여 광배향 공정을 수행하면 광마스크의 제조 비용을 줄이면서 서로 다른 광마스크의 노광 영역 사이의 경계선을 완화할 수 있고 광마스크의 정렬 마진을 높일 수 있다.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

3: 액정층 10: 광원
11, 21: 배향막 31: 액정 분자
40, 40a, 40b, 40c, 40d: 광마스크
100: 하부 표시판 110, 210: 절연 기판
190: 화소 전극 200: 상부 표시판
270: 대향 전극 A, B: 제1 및 제2 영역
AB: 중첩 영역 Ta: 투과부
Oa: 차광부

Claims (29)

1. 광배향 공정에서 사용되는 노광 장치로서,
   복수의 투과부를 포함하는 제1 광마스크, 그리고
   복수의 투과부를 포함하는 제2 광마스크
   를 포함하고,
   상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크는 서로 일부분 중첩하는 중첩 영역을 각각 포함하고,
   상기 중첩 영역은 상기 제1 및 제2 광마스크의 상기 복수의 투과부의 모양 또는 배열 형태에 따라 정해지는 적어도 두 개의 부영역을 포함하고,
   상기 적어도 두 개의 부영역 중 어느 한 부영역에서의 상기 제1 및 제2 광마스크의 상기 복수의 투과부의 모양 또는 배열 형태가 일정하고, 다른 한 부영역에서의 상기 제1 및 제2 광마스크의 상기 복수의 투과부의 모양 또는 배열 형태는 일정하지 않은
   노광 장치.
2. 제1항에서,
   상기 적어도 두 개의 부영역은
   상기 제1 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역이 중복되는 적어도 하나의 제1 부영역, 그리고
   상기 제1 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역과 상기 제2 광마스크의 상기 투과부의 조사 영역이 중복되지 않는 적어도 하나의 제2 부영역
   을 포함하는 노광 장치.
3. 제2항에서,
   상기 적어도 하나의 제1 부영역과 상기 적어도 하나의 제2 부영역은 교대로 배열되어 있는 노광 장치.
4. 제3항에서,
   상기 제1 부영역에서 조사 영역이 서로 중복하는 상기 제1 광마스크의 하나의 투과부와 상기 제2 광마스크의 하나의 투과부의 면적의 합은 상기 제1 광마스크 또는 제2 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 하나의 투과부의 면적과 동일하거나 큰
   노광 장치.
5. 제4항에서,
   상기 제1 부영역에서 조사 영역이 서로 중복하는 상기 제1 광마스크의 하나의 투과부와 상기 제2 광마스크의 하나의 투과부의 면적의 합은 상기 제1 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 상기 하나의 투과부의 면적의 100-150%인
   노광 장치.
6. 제5항에서,
   상기 제1 광마스크의 상기 복수의 투과부는 제1 방향으로 배열되어 있으며,
   상기 제1 부영역에서 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 중 적어도 하나의 상기 복수의 투과부의 상기 제1 방향에 수직인 제2 방향의 길이가 상기 제1 방향에 따라 점차 변하는
   노광 장치.
7. 제6항에서,
   상기 제2 부영역에서 상기 제1 광마스크의 상기 투과부와 상기 제2 광마스크의 상기 투과부는 상기 제1 방향으로 교대로 배열되어 있는 노광 장치.
8. 제2항에서,
   상기 제1 부영역에서 조사 영역이 서로 중복하는 상기 제1 광마스크의 하나의 투과부와 상기 제2 광마스크의 하나의 투과부의 면적의 합은 상기 제1 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 하나의 투과부의 면적과 동일하거나 큰
   노광 장치.
9. 제8항에서,
   상기 제1 부영역에서 조사 영역이 서로 중복하는 상기 제1 광마스크의 하나의 투과부와 상기 제2 광마스크의 하나의 투과부의 면적의 합은 상기 제1 광마스크의 상기 중첩 영역이 아닌 부분의 상기 하나의 투과부의 면적의 100-150%인
   노광 장치.
10. 제2항에서,
    상기 제1 광마스크의 상기 복수의 투과부는 제1 방향으로 배열되어 있으며,
    상기 제1 부영역에서 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크 중 적어도 하나의 상기 복수의 투과부의 상기 제1 방향에 수직인 제2 방향의 길이가 상기 제1 방향에 따라 점차 변하는
    노광 장치.
11. 제10항에서,
    상기 제2 부영역에서 상기 제1 광마스크의 상기 투과부와 상기 제2 광마스크의 상기 투과부는 상기 제1 방향으로 교대로 배열되어 있는 노광 장치.
12. 제1항에서,
    상기 제1 광마스크에 빛을 제공하는 제1 광원 및 상기 제2 광마스크에 빛을 제공하는 제2 광원을 더 포함하는 노광 장치.
13. 제12항에서,
    상기 제1 광원 및 상기 제2 광원은 상기 제1 광마스크 및 상기 제2 광마스크를 통해 빛을 비스듬히 조사하는 노광 장치.
14. 삭제
15. 삭제
16. 삭제
17. 삭제
18. 삭제
19. 삭제
20. 삭제
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22. 제1 기판 및 제2 기판을 마련하는 단계,
    상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 하나 위에 광 반응성 배향 물질을 포함하는 배향막을 도포하는 단계, 그리고
    제1항의 노광 장치의 상기 제1 및 제2 광마스크를 통하여 상기 배향막에 광을 조사하는 단계
    를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
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