CN206563865U - 受抑立方体形组件 - Google Patents

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Abstract

本实用新型总体涉及受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件具有：第一棱镜，所述第一棱镜具有第一表面、第二表面和第一斜边；以及第二棱镜，所述第二棱镜具有第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。受抑立方体形组件可以包括与第二表面相邻的倾斜反射镜。第二表面可为反射衍射光栅。光以法向入射角并沿单一光轴穿过图像投影系统来反射到与受抑立方体形组件相邻的数字微镜器件(DMD)。入射在DMD上的光的方向使得从“打开”反射镜反射的光沿着DMD表面的法线并与斜边成45度来引导。输入光束和输出光束是平行的。

Description

受抑立方体形组件
技术领域
本实用新型的实施方式总体涉及用于处理一个或多个基板的装置和系统，并且更具体地涉及用于执行光刻工艺的装置。
背景技术
光刻广泛用于制造半导体器件和显示器件(诸如液晶显示器(LCD))。通常利用大面积基板进行LCD制造。LCD或者平板常常用于有源矩阵显示器，诸如计算机、触摸面板设备、个人数字助理(PDA)、蜂窝电话、电视监视器，等等。一般来说，平板可以包括液晶材料层，液晶材料层形成夹在两个板之间的像素。当来自于电源的电力跨液晶材料进行施加时，可在像素位置处控制通过液晶材料的光的量，从而使得图像能够被产生。
显微光刻技术一般用来创建作为形成像素的液晶材料层的部分而并入的电学特征。根据这项技术，通常将光敏型光刻胶涂覆到基板的至少一个表面。接着，图案产生器(pattern generator)用光来使光敏型光刻胶的作为图案的一部分的所选区域曝光，以便导致选择区域中的光刻胶的化学改变，从而使这些选择区域准备好进行后续显影，显影将曝光的或未曝光的光刻胶区域去除以创建掩模，掩模抵制或保护下方层中的部分以免受用于图案化下方层的蚀刻工艺的影响，并且形成电学特征。
为了继续以消费者期望的价格向消费者提供显示器件和其它器件，需要新的装置和方法来在基板(如大面积基板)上精确且成本有效地创建图案。
实用新型内容
本实用新型总体涉及受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件具有：第一棱镜，所述第一棱镜具有第一表面、第二表面和第一斜边；以及第二棱镜，所述第二棱镜具有第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。受抑立方体形组件可以包括与第二表面相邻的倾斜反射镜。第二表面可为反射衍射光栅。光以法向入射角并沿单一光轴穿过图像投影系统来反射到与受抑立方体形组件相邻的数字微镜器件(DMD)。入射在DMD上的光的方向使得从“打开”反射镜反射的光沿DMD表面的法线并与斜边成45度来引导。输入光束和输出光束是平行的。
在一个实施方式中，公开了受抑立方体形组件。受抑立方体形组件包括第一棱镜、第二棱镜和倾斜反射镜。第一棱镜包括第一表面、第二表面和第一斜边。第二棱镜包括第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。倾斜反射镜与第二表面相邻，并且倾斜反射镜和第二表面以第二气隙隔开。
在另一实施方式中，公开了受抑立方体形组件。受抑立方体形组件包括第一棱镜、第二棱镜、倾斜反射镜和数字微镜器件。第一棱镜包括第一表面、第二表面和第一斜边。第二表面是窗口，并且第二表面是倾斜的。第二棱镜包括第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以第一气隙隔开。倾斜反射镜与第二表面相邻，并且倾斜反射镜和第二表面以第二气隙隔开。数字微镜器件与第三表面相邻。
在又一实施方式中，公开了受抑立方体形组件。受抑立方体形组件包括第一棱镜和第二棱镜。第一棱镜包括第一表面、第二表面和第一斜边。第二表面是反射衍射光栅。第二棱镜包括第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。
附图说明
因此，为了能够详细理解本实用新型的上述特征所用方式，上文所简要概述的本实用新型的更具体的描述可以参考实施方式进行，一些实施方式例示在附图中。然而，应当注意，附图仅例示了本实用新型的典型实施方式，并且因此不应视为对本实用新型的范围的限制，因为本实用新型可允许其它等效实施方式。
图1是可受益于本文所公开的实施方式的系统的立体图。
图2是可受益于本文所公开的实施方式的图像投影系统的照明系统的示意图。
图3是可受益于本文所公开的实施方式的图像投影装置的立体图。
图4是根据一个实施方式的受抑立方体形组件的示意图。
图5是根据另一实施方式的受抑立方体形组件的示意图。
图6是根据一个实施方式的数字微镜器件的反射镜阵列的示意图。
图7是根据一个实施方式的光中继器中的一个的剖视图。
为了促进理解，已尽可能使用相同附图标记指定各图所共有的相同要素。另外，一个实施方式中的要素可有利地适用于本文中描述的其它实施方式中。
具体实施方式
本实用新型总体涉及受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件具有：第一棱镜，所述第一棱镜具有第一表面、第二表面和第一斜边；以及第二棱镜，所述第二棱镜具有第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并由气隙隔开。受抑立方体形组件可以包括与第二表面相邻的倾斜反射镜。第二表面可为反射衍射光栅。光以法向入射角并沿单一光轴穿过图像投影系统来反射到与受抑立方体形组件相邻的数字微镜器件(DMD)。入射在DMD上的光的方向使得从“打开”反射镜反射的光沿DMD表面的法线并与斜边成45度来引导。输入光束和输出光束是平行的。
图1是可受益于本文所公开的实施方式的系统100的立体图。系统100包括基架110、板件120、两个或更多个台架130、以及处理装置160。基架110可搁置于制造设施的地面上，并且可以支撑板件120。可将被动式空气隔振器(passive air isolator)112定位在基架110与板件120之间。板件120可为整块的花岗岩，并且可将两个或更多个台架130安置在板件120上。基板140可由两个或更多个台架130中的每一个支撑。在台架130中可形成有多个孔(未示出)，以允许多个升降杆(未示出)穿过其中而延伸。升降杆可升高到伸展位置，以便接收基板140，诸如从一个或多个传送用机械手(未示出)处接收。一个或多个传送用机械手可用于从两个或更多个台架130装载和卸载基板140。
基板140可例如由玻璃制成，并且用作平板显示器的一部分。在其它实施方式中，基板140可由其它材料制成。在一些实施方式中，基板140可以具有形成在其上的光刻胶层。光刻胶对辐射敏感，并且可以是正性光刻胶或负性光刻胶，这意味着光刻胶的暴露于辐射的部分将相应地为可溶于或不可溶于在将图案写入光刻胶后涂覆到光刻胶的光刻胶显影剂。光刻胶的化学组分决定光刻胶将是正性光刻胶还是负性光刻胶。例如，光刻胶可包括以下至少一者：重氮萘醌、酚醛树脂、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(甲基戊二酰亚胺)和SU-8。以此方式，图案可被创建在基板140的表面上，以便形成电子电路。
系统100可进一步包括成对支撑件122和成对轨道124。可将成对支撑件122安置在板件120上，并且板件120和成对支撑件122可为单块材料。成对轨道124可由成对支撑件122支撑，并且两个或更多个台架130可沿轨道124在X方向上移动。在一个实施方式中，成对轨道124与成对平行磁性通道共面。如图所示，成对轨道124中的每个轨道124是线性的。在其它实施方式中，轨道124可以具有非线性的形状。编码器126可耦接到每个台架130，以便将位置信息提供给控制器(未示出)。
处理装置160可以包括支撑件162和处理单元164。可将支撑件162安置在板件120上，并且支撑件162可以包括供两个或更多个台架130穿过处理单元164下方的开口166。处理单元164可由支撑件162支撑。在一个实施方式中，处理单元164是图案产生器，所述图案产生器配置成在光刻工艺中暴露光刻胶。在一些实施方式中，图案产生器可配置成执行无掩模光刻工艺。处理单元164可以包括多个图像投影装置(在图2至图3中示出)。在一个实施方式中，处理单元164可以包含84个图像投影装置。每个图像投影装置被安置在壳体165中。处理装置160可以用来执行无掩模直接图案化。在操作过程中，两个或更多个台架130中的一个在X方向上从装载位置(如图1所示)移动到处理位置。处理位置可指在台架130穿过处理单元164下方时该台架130的一个或多个位置。在操作过程中，两个或更多个台架130可由多个空气轴承(未示出)支撑，并且可沿成对轨道124从装载位置移动到处理位置。多个引导空气轴承(未示出)可耦接到每个台架130并定位成与每个支撑件122的内壁128相邻，以便稳定台架130沿Y方向的移动。两个或更多个台架130中的每一个还可通过沿轨道150移动来在Y方向上移动，以对基板140进行处理和/或转位。两个或更多个台架130中的每一个能够独立操作，并且可在一个方向上扫描基板140而在另一方向上步进。在一些实施方式中，当两个或更多个台架130中的一个正在扫描基板140时，两个或更多个台架130中的另一个正在卸载经曝光的基板140并装载待曝光的下一基板140。
计量系统实时测量两个或更多个台架130中的每一个的X和Y横向位置坐标，使得多个图像投影装置中的每一个可将正被写入的图案准确地定位在光刻胶覆盖的基板140中。计量系统还提供了对两个或更多个台架130中的每一个围绕竖直轴线或Z轴的角位置的实时测量。角位置测量可用于在借助伺服机构进行扫描期间保持角位置恒定，或者它可用于通过图像投影装置向正被写在基板140上的图案的位置施加校正。这些技术可组合地使用。
图2是可受益于本文所描述的实施方式的图像投影系统的照明系统392的示意图。照明系统392可以包括光源272、光导管271、多个透镜(示出两个)274a、274b、多个反射镜(示出两个)275a、275b、分束器279、照明强度检测器276和白光二极管278。光源272可为发光二极管(LED)或激光器，并且光源272可能能够产生具有预定波长的光。在一个实施方式中，预定波长在蓝色光或近紫外光(UV)范围内，诸如小于约450nm。
在操作过程中，具有预定波长(诸如蓝色光范围内的波长)的光束273由光源272产生。光束273行进通过光导管271，并且被反射离开反射镜275a而到达分束器279。光束273接着被投射到照明系统392外，朝向投影系统394的受抑立方体形组件288(在图3中示出)。
图3是可受益于本文所公开的实施方式的图像投影装置390的剖视图。照明从受抑立方体形组件288所在的左手侧进入图像投影装置390，并且在基板所在的右手侧离开。投影系统394包括受抑立方体形组件288。投影系统还可包括各种子部件(未标记)，包括但不限于分束器、聚焦传感器、用于观察基板的检测器阵列、一个或多个图像传感器(imagetransducer)、聚焦电机、聚焦群和投影窗口。
受抑立方体形组件288可以具有如图4和图5所示的多种实施方式。图4是根据一个实施方式的受抑立方体形组件400的示意图。受抑立方体形组件400包括第一棱镜402和第二棱镜404。第一棱镜402具有第一表面406、第二表面408和第一斜边410。第二棱镜404具有第三表面412、第四表面414和第二斜边416。第一棱镜402和第二棱镜404可以彼此偏离，使得第一表面406和第一斜边410的交角偏离第三表面412与第二斜边416的交角。类似地，第二表面408和第一斜边410的交角偏离第四表面414与第二斜边416的交角。第一表面406和第二表面408以大于90度的角度相交。第三表面412和第四表面414彼此垂直，并且因此以90度的角度相交。第一斜边410和第二斜边416面向彼此，并以第一气隙420隔开。第一气隙420可始终是均匀间隔的。受抑立方体形组件400还包括倾斜反射镜418。倾斜反射镜与第二表面408相邻。倾斜反射镜418和第二表面408以第二气隙422隔开。在一个实施方式中，倾斜反射镜418的长轴与第二表面408平行。在另一实施方式中，倾斜反射镜418的长轴不与第二表面408平行。换句话说，第二气隙422可能是始终均匀间隔的。受抑立方体形组件400还包括DMD 280。DMD 280可与第三表面412相邻。DMD 280可以通过DMD气隙424来与第三表面412隔开。DMD气隙424可始终是均匀间隔的。
DMD 280包括多个微镜634，这些微镜634被布置在反射镜阵列632中，如图6所示。微镜634的边缘636是沿正交轴线布置，所述正交轴线可为X轴和Y轴。在考虑到由受抑立方体形组件288所引入的90度折叠之后，这些轴线与基板140或台架坐标系所参考的类似轴线叠合。然而，每个微镜634上的铰链638位于每个反射镜的对角上，从而致使它在相对于X轴和Y轴成45度的轴线上枢转。多个微镜634中的每一个可相对于反射镜阵列632的水平表面以一角度倾斜。这些反射镜可以通过改变反射镜的倾斜角而在打开位置与关闭位置之间切换。根据光是射中打开的反射镜还是关闭的反射镜，相对应地，光将被发送穿过图像投影装置390的其余部分，或者将不使用该光。在一个实施方式中，将未使用的光导向到光倾泄堆(light dump)(未示出)中。在一个实施方式中，DMD 280被制造成使得每个微镜634的唯一稳定位置是在相对于反射镜阵列632的表面成+/-12度的倾斜角处。为了垂直于反射镜阵列632的表面来反射入射光，入射光必须以两倍的反射镜倾斜角(24度)来入射，并且入射在相对于X轴和Y轴以45度旋转的入射平面中。DMD 280被定位成对于基板140的投影来说是平置的。换句话说，反射镜418的倾斜方向或光栅508中的光栅线的方向必须围绕竖直轴线旋转45°，以便在DMD 280上生成照明射束，照明射束被倾斜的微镜634反射到竖直方向中，并接着向下反射到投影系统394的中心。
倾斜反射镜418可相对于第二表面408以第二角度倾斜。这种调整用于改变照明射束在DMD微镜634上的入射角使其等于DMD反射镜倾斜角的两倍，DMD反射镜倾斜角可变化±1°。第一角度和第二角度可以相等，并关于DMD 280的表面的法线而相对。
在操作中，光束273通过第一表面406进入受抑立方体形组件。光束273接着被反射离开第一斜边410并向上穿过第二表面408。第二表面408可为窗口，使得光束273穿过第二表面408到达倾斜反射镜418。光束273接着以角度(θ)被反射离开倾斜反射镜418并穿过第二表面408、第一斜边410、第一气隙420、第二斜边416和第三表面412，到达DMD 280。倾斜反射镜418提供对入射在DMD上的照明射束的方向的精细校正，以针对DMD微镜倾斜角的变化进行校正。光束273接着被反射离开DMD 280而穿过第三表面412到达第二斜边416。光束273接着被反射离开第二斜边416并穿过第四表面414且进入投影系统394中，通过投影系统394，光束273最终被传输到基板140。
第二表面408、或倾斜反射镜418以与数字微镜器件的数字微镜的角度相同的角度倾斜。例如，如果微镜634的倾斜度为+/-12度，那么倾斜反射镜418必须倾斜12度，使得从倾斜反射镜418反射的光束273以24度(角度在反射时加倍)倾斜。24度角度足以允许光束273穿过第一气隙420并且恰好是正确的角度以使得来自以例如+12度倾斜的DMD“打开”反射镜的反射垂直于DMD 280来反射，并且从第一气隙420处的45度表面全反射。撞击以-12度倾斜的DMD“关闭”反射镜的光束273以离反射镜法线12+24度并离DMD法线48度进行反射。这种不想要的照明被倾泄到光倾泄堆中。微镜634的倾斜轴线关于DMD 280的矩形尺寸和常用Z轴和X轴旋转45度。因此，反射镜418的倾斜方向也必须要旋转45度。由于最后一个折叠反射镜在光束273的路径中的倾斜方向，进入受抑立方体形组件400之前的路径的轴线在X和Y两个方向上均偏离位于受抑立方体形组件400的另一侧上的投影系统的轴线。
此外，不同DMD的倾斜角可略有变化。例如，变化可为+/-1度。由于倾斜反射镜418与第二表面408被间隔开，所以通过略微改变倾斜反射镜418的倾斜角，就可适应这种变化。例如，倾斜反射镜418的倾斜角可以改变+/-1度，以便维持来自微镜的反射角垂直于DMD的平面。
图5是根据另一实施方式的受抑立方体形组件500的示意图。受抑立方体形组件500包括第一棱镜502和第二棱镜504。第一棱镜502具有第一表面506、第二表面508和第一斜边510。第二棱镜504具有第三表面512、第四表面514和第二斜边516。第一棱镜502和第二棱镜504可以彼此偏离，使得第一表面506和第一斜边510的交角偏离第三表面512与第二斜边516的交角。类似地，第二表面508和第一斜边510的交角偏离第四表面514与第二斜边516的交角。第一斜边510和第二斜边516面向彼此，并以第一气隙520隔开。第一表面506和第二表面508彼此垂直，并且以90度的角度相交。第三表面512和第四表面514彼此垂直，并且以90度的角度相交。第二表面508可为反射衍射光栅。从光栅表面508的衍射产生衍射角(θ)。光栅间距与衍射角之间的关系通过等式1(光栅等式)确定。
mλ＝d(sinθ)
等式1
在等式1中，m是确定衍射级的整数，λ是波长，d是光栅周期，并且θ是衍射角。
第二表面508的光栅可以通过用于生成光栅的任何合适工艺(包括光刻工艺和蚀刻工艺)来产生。将光栅蚀刻到第二表面508中，使得第一棱镜502的高度可不同于第二棱镜504的高度。受抑立方体形组件500还包括DMD 280。DMD 280可与第三表面512相邻。DMD 280可以通过DMD气隙524来与第三表面512隔开。DMD气隙524可始终是均匀间隔的。
在操作中，光束273通过第一表面506进入受抑立方体形组件。光束273接着被反射离开第一斜边510并向上到达第二表面508。光束273接着从第二表面508衍射并穿过第一斜边510、气隙520、第二斜边516和第三表面512，到达DMD 280。光束273接着被反射离开DMD280打开反射镜而穿过第三表面512到达第二斜边516。光束273接着被反射离开第二斜边516而穿过第四表面514并进入投影系统394中，投影系统394最终将光束273投影到基板140上。
图7是根据一个实施方式的光中继器742的剖视图。包括中继器742在内的光学元件沿穿过受抑立方体形组件288、DMD 280和分束器744、以及折射透镜部件的单一光轴对准。由DMD 280产生的图案最终通过聚焦群746和投影窗口748投影到基板上。
通过从生成曝光照明的光源272到基板焦面一直保持照射流的方向大致上垂直于基板140，受抑立方体形组件288有助于最小化每个图像投影装置390的占用面积。
在图像投影装置中使用受抑立方体形组件导致最小的光损失，并且允许许多投影系统跨平板基板的宽度并排放置。因此，多个图像投影装置可以在单一系统中对准。更具体地，对倾斜反射镜的角度的调谐适应DMD微镜的平均倾斜角的变化，并且将从微镜反射的光的方向与光轴对准，以使输入光束与输出光束平行。
虽然上述内容针对本实用新型的实施方式，但是也可在不脱离本实用新型的基本范围的情况下，设想本实用新型的其它和进一步的实施方式，并且本实用新型的范围由随附权利要求确定。
元件符号列表
1 等式
100 系统
110 基架
112 被动式空气隔振器
120 板件
122支撑件
124 轨道
126 编码器
128 内壁
130 台架
140 基板
150 轨道
160 处理装置
162 支撑件
164 处理单元
165 壳体
166 开口
271 光导管
272 光源
273 光束
274a 反射镜
276 照明强度检测器
278 白光二极管
279 分束器
280 DMD
288 受抑立方体形组件
390 图像投影装置
392 照明系统
394 投影系统
400 受抑立方体形组件
402 第一棱镜
404 第二棱镜
406 第一表面
408 第二表面
410 第一斜边
412 第三表面
414 第四表面
416 第二斜边
418 倾斜反射镜
420 第一气隙
422 第二气隙
424 DMD气隙
500 受抑立方体形组件
502 第一棱镜
504 第二棱镜
506 第一表面
508 光栅
510 第一斜边
512 第三表面
514 第四表面
516 第二斜边
520 第一气隙
524 DMD气隙
632 反射镜阵列
634 微镜
636 边缘
638 铰链
742 光中继器
744 分束器
746 聚焦群
748 投影窗口

Claims (20)

1.一种受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件包括：
第一棱镜，其中所述第一棱镜包括：
第一表面；
第二表面；以及
第一斜边；
第二棱镜，其中所述第二棱镜包括：
第三表面；
第四表面；以及
第二斜边，其中所述第一斜边和所述第二斜边面向彼此，并且其中所述第一斜边和所述第二斜边由第一气隙隔开；以及
倾斜反射镜，其中所述倾斜反射镜与所述第二表面相邻，并且其中所述倾斜反射镜和所述第二表面由第二气隙隔开。
2.如权利要求1所述的受抑立方体形组件，其进一步包括：
数字微镜器件，其中所述数字微镜器件与所述第三表面相邻。
3.如权利要求2所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第一表面和所述第二表面以大于约90度的角度相交，并且其中所述第三表面和所述第四表面是垂直的。
4.如权利要求3所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第二表面是窗口。
5.如权利要求4所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第二表面相对于所述第三表面而倾斜。
6.如权利要求5所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第二表面以与所述数字微镜器件的数字微镜的角度相同的角度倾斜。
7.如权利要求5所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述倾斜反射镜与所述第二表面平行。
8.一种受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件包括：
第一棱镜，其中所述第一棱镜包括：
第一表面；
第二表面，其中所述第二表面是窗口，并且其中所述第二表面是倾斜的；以及
第一斜边；
第二棱镜，其中所述第二棱镜包括：
第三表面；
第四表面；以及
第二斜边，其中所述第一斜边和所述第二斜边面向彼此，并且其中所述第一斜边和所述第二斜边由第一气隙隔开；
倾斜反射镜，其中所述倾斜反射镜与所述第二表面相邻，并且其中所述倾斜反射镜和所述第二表面由第二气隙隔开；以及
数字微镜器件，其中所述数字微镜器件与所述第三表面相邻。
9.如权利要求8所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述数字微镜器件包括多个反射镜。
10.如权利要求9所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述数字微镜器件的所述多个反射镜中的每个反射镜可相对于所述数字微镜器件的水平表面倾斜第一角度。
11.如权利要求10所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述倾斜反射镜相对于所述第一表面成第二角度。
12.如权利要求11所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第一角度和所述第二角度是相等的，并且是关于所述数字微镜器件的表面的法线相对的。
13.如权利要求12所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第二表面倾斜12度，使得中心照明射束以24度入射在所述数字微镜器件上，并且其中所述第二表面与所述数字微镜器件的所述多个反射镜的倾斜轴垂直。
14.如权利要求13所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述倾斜反射镜与所述第二表面平行。
15.一种受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件包括：
第一棱镜，其中所述第一棱镜包括：
第一表面；
第二表面，其中所述第二表面是反射衍射光栅；以及
第一斜边；以及
第二棱镜，其中所述第二棱镜包括：
第三表面；
第四表面；以及
第二斜边，其中所述第一斜边和所述第二斜边面向彼此，并且其中所述第一斜边和所述第二斜边由气隙隔开。
16.如权利要求15所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第一表面和所述第四表面是平行的。
17.如权利要求16所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第二表面和所述第三表面是平行的。
18.如权利要求17所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第一表面和所述第二表面彼此垂直。
19.如权利要求15所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述反射衍射光栅的光栅线的方向围绕竖直轴线旋转45度。
20.如权利要求15所述的受抑立方体形组件，其进一步包括：
数字微镜器件，其中所述数字微镜器件与所述第三表面相邻。
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