JPH09289160A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH09289160A
JPH09289160A JP8126415A JP12641596A JPH09289160A JP H09289160 A JPH09289160 A JP H09289160A JP 8126415 A JP8126415 A JP 8126415A JP 12641596 A JP12641596 A JP 12641596A JP H09289160 A JPH09289160 A JP H09289160A
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JP
Japan
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mirror
angle
roof
optical system
projection optical
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JP8126415A
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English (en)
Inventor
Katsuya Machino
勝弥 町野
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70275Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスク上の大面積の回路パターンを基板上に
高スループットを維持したまま高い解像力で転写するこ
とができる低コストの露光装置を提供する。 【解決手段】 各直角ダハ・ミラー28を構成する第1
ミラー28aと第2ミラー28bとの成す角を可変調整
する角度調整手段(図2では図示せず)が設けられ、各
直角ダハ・ミラー28の頂角の直角度が常に高精度に調
整・維持される。このように高精度に頂角の直角度が調
整された直角ダハ・ミラー28をそれぞれ含む複数の投
影光学系25に対し、マスクと感光基板とを同期走査す
れば、当該複数の投影光学系25を介してマスクの照明
領域30のパターンが感光基板上の投影領域29に、高
スループット且つ高解像力で逐次投影される。また、製
造段階での、各直角ダハ・ミラー28の頂角の直角度を
それほど高精度に調整する必要がなくなるので、コスト
の低減をも図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子、液晶
表示素子等の電子デバイスの製造の際のフォトリソグラ
フィ工程で使用される露光装置に係り、更に詳しくは、
マスクと感光基板とを所定の走査方向に同期して移動さ
せつつ、複数の投影光学系を介してマスクのパターンを
感光基板上に逐次転写する露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、パソナルコンピュータ、ワープ
ロ、テレビ等の表示素子として液晶を用いた表示パネル
が多用されるようになってきている。また、年々、液晶
表示素子の表示範囲拡大がユーザーの間で望まれるよう
になっており、これに対応すべく、表示素子の拡大を図
ろうという要望が、各表示素子メーカから聞かれるよう
になった。
【0003】ところで、液晶表示素子は、ガラス基板上
に透明なITO薄膜電極と液晶分子配向素子を形成し、
その外周部を封着材で気密に封着された構造となってい
る。また、前記ガラス基板上に形成される透明なITO
薄膜電極等は、フォトリソグラフィ工程において転写露
光等によりパターンニングされ、必要な形状、精度を得
ている。
【0004】従来より、この種の液晶表示回路(ITO
薄膜電極等)の製造装置として、ステッパーと呼ばれる
フォトリソグラフィ装置が使用されており、マスク(又
はレチクル)上の分割された所望のパターンをいわゆる
ステップ・アンド・リピート方式により、ガラス基板上
で継ぎ合せることがなされていた。
【0005】この他、大形のマスク上に形成された所望
のパターンをミラープロジェクションタイプのアライナ
ーでスキャン露光することによっても、液晶表示回路の
パターンニングがなされていた。
【0006】しかしながら、最近になって、さらなる液
晶表示領域の拡大が望まれるようになったことに伴い、
上記のステップ・アンド・リピート方式では、ショット
領域の増加によりスループットが十分でないという問題
が生じ、また、上記のミラープロジェクションタイプの
アライナーでは、大型化するマスク領域をカバーするだ
けの大形のミラーの製造の困難性と装置の大型化が問題
となって来た。
【0007】本願出願人は、かかる問題を改善すべく、
複数の投影光学系を用い、この複数の投影光学系に対し
てマスクと感光基板を同期走査することにより、スルー
プットを低下させずに且つ装置をそれほど大型化させる
ことなく、ガラス基板上の大面積の露光領域に大型マス
クの回路パターンを転写可能な走査型露光装置を、特開
平7−57986号公報として先に提案した。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図11には、上記特開
平7−57986号公報と同様の走査型露光装置のパタ
ーン転写原理が示されている。この図11において、不
図示の照明光学系からの露光光により、上方からマスク
(原板)91の所定形状(例えば、台形状)の照明領域
が照明されると、この照明領域(内のパターン)の像光
束は、直角プリズム92によって光路が90度偏向さ
れ、投影レンズ93の上半部の領域を介して直角ダハ・
プリズム94に導かれる。この直角ダハ・プリズム94
によりその像光束は、再び投影光学系93へ向けて反射
され、投影レンズ93の下半部を透過して再び直角プリ
ズム94にて光路が90度偏向され、基板95上に前記
マスク91の台形状の照明領域内のパターンの正立像を
結像する。この露光装置においては、マスク91と基板
95とを一体的に図中の太矢印で示されるように同期走
査して所望の全パターンを基板95上に転写する。そし
て、この露光装置では、実際には、このような直角プリ
ズム92、直角ダハ・プリズム94、投影レンズ93か
ら成る投影光学系(投影光学系ユニット)を複数所定間
隔で且つ隣接する投影光学系の投影領域が相互に一部重
なり合う状態で千鳥状に配置して、この複数の投影光学
系に対してマスク91と基板95とを一体的に走査する
ことにより、大型マスクのパターン領域の全面が基板上
に転写されるようになっていた。
【0009】上記のような複数投影光学系を備えた走査
型露光装置にあっては、投影光学系と同数の直角ダハ・
プリズムが必要であるとともに、図11からも明らかな
ように、その性質上、直角ダハ・プリズムの直角ダハ面
の頂角の直角度は相当に高い精度(高解像力を得るため
には、0.1秒以下の角度誤差に抑えなければならな
い)が要求される。
【0010】しかしながら、上記のような高精度の直角
ダハ・プリズムは、必要とされる直角ダハ・プリズムの
個数の十倍以上の個数を製作しても所望の精度のものを
得られないこともあり、製作が非常に困難であると共
に、非常に歩留まりが悪いことから、露光装置のコスト
・アップの大きな要因となっていた。すなわち、このよ
うな直角ダハ・プリズムを大量に研磨製造するのは、製
造コストの面から、また製造技術の面からもほとんど現
実的ではないと言える。
【0011】一方、この直角ダハ・プリズムに代えて直
角ダハ・ミラーを使用することも考えられるが、直角ダ
ハ・ミラーは、直角調整が非常に困難であり、何個調整
しても所望の性能を得られないことがあり、同様に、大
量に製造するのは製造コストの高騰を招くという不都合
を有していた。さらに、この直角ダハ・ミラーの場合
は、経時変化により角度が変化するため、所望の解像力
を得るためには再度の調整が不可欠であり、装置の安定
性や信頼性の面でも問題があった。
【0012】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、その目的は、マスク上の大面積の回路パターンを基
板上に高スループットを維持したまま高い解像力で転写
することができる低コストの露光装置を提供することに
ある。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、マスクと感光基板とを所定の走査方向に同期して移
動させつつ、複数の投影光学系を介して前記マスクのパ
ターンを前記感光基板上に逐次転写する露光装置におい
て、前記各投影光学系が、少なくとも一つのダハ面を有
する第1ミラーと第2ミラーとから成る直角ダハ・ミラ
ーを有し、前記マスクのパターンの正立像を前記感光基
板上に形成する光学系であり、前記各直角ダハ・ミラー
を構成する第1ミラーと第2ミラーとが成す角度を可変
調整する角度調整手段が設けられていることを特徴とす
る。
【0014】これによれば、角度調整手段により、各直
角ダハ・ミラーを構成する第1ミラーと第2ミラーとの
成す角を可変調整することができるので、各直角ダハ・
ミラーの頂角の直角度を常に高精度に調整・維持するこ
とができる。従って、このように高精度に頂角の直角度
が調整された直角ダハ・ミラーをそれぞれ含む複数の投
影光学系に対し、マスクと感光基板とを所定の走査方向
に同期して移動させれば、当該複数の投影光学系を介し
てマスクのパターンが感光基板上に、高スループット且
つ高解像力で逐次投影される。また、製造段階での、各
直角ダハ・ミラーの頂角の直角度をそれほど高精度に調
整する必要がなくなるので、コストの低減をも図ること
ができる。
【0015】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の露光装置において、前記角度調整手段は、前記第1ミ
ラーと第2ミラーの基準点からの角度の変位量を検出す
る検出系と、この検出された変位量に応じて前記第1ミ
ラー及び第2ミラーの少なくとも一方を駆動して当該両
者の成す角を変更する角度変更手段とを有することを特
徴とする。これによれば、検出系により第1ミラーと第
2ミラーの基準点からの角度の変位量が検出されると、
角度変更手段ではこの検出された変位量に応じて第1ミ
ラー及び第2ミラーの少なくとも一方を駆動して当該両
者の成す角を変更する。従って、第1ミラー及び第2ミ
ラーがそれぞれ基準点にある状態で第1ミラー及び第2
ミラーが真に直交する(許容誤差範囲内で直交する)よ
うに、第1ミラーと第2ミラーの基準点を設定しておけ
ば、例えば製造段階で第1ミラーと第2ミラーの直交度
が精密に調整されていない場合や、直角ダハ・ミラーの
頂角の直角度が経時的に変化した場合であっても、角度
調整手段により第1ミラーと第2ミラーの直交度、すな
わち直角ダハ・ミラーの頂角の直角度が許容誤差範囲内
に自動的に調整される。
【0016】請求項3に記載の発明は、請求項1又は2
に記載の露光装置において、前記角度調整手段による角
度の可変調整の後に、前記第1ミラーと第2ミラーとの
直交度誤差を検知し、検知された直交度誤差が許容範囲
内に収まるまで前記角度調整を行なって前記角度調整手
段を較正する自己補償手段を更に有する。これによれ
ば、角度調整手段が自己補償手段によって、較正(キャ
リブレーション)されるので、前記検出系の検出精度が
低下した場合にあっても、常に高精度に直角ダハ・ミラ
ーの頂角の直角度を維持できるので、直角ダハ・ミラー
を用いていながら、直角ダハ・プリズム使用時と同様の
安定性が確保できる。
【0017】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
の露光装置において、前記自己補償手段は、真に直角な
ダハ面を有する補正用真直プリズムを基準原器として多
重干渉の原理により前記第1ミラーと第2ミラーとの直
交度誤差を検知することを特徴とする。これによれば、
補正用真直プリズムを基準原器として多重干渉の原理に
より第1ミラーと第2ミラーとの直交度誤差が検知され
るので、例えば多重干渉により生じる干渉縞が予め定め
られた許容誤差範囲に対応する本数となるように、角度
調整手段により第1ミラーと第2ミラーの成す角を調整
することにより、結果的に第1ミラーと第2ミラーの直
交度の補正と角度調整手段のキャリブレーションとを確
実かつ容易に行なうことができる。
【0018】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
の露光装置において、前記自己補償手段は、前記補正用
真直プリズムを前記複数の投影光学系を構成する各直角
ダハ・ミラーの内部の挿入位置と退避位置との間で搬送
するプリズム搬送手段と、前記各直角ダハ・ミラーの内
部に挿入された前記補正用真直プリズムに対し平行光束
をそれぞれ照射する複数の照射光学系と、前記各直角ダ
ハ・ミラーのダハ面からの反射光を前記補正用真直プリ
ズムを介してそれぞれ受光する複数の受光手段とを有す
ることを特徴とする。
【0019】これによれば、搬送手段により補正用真直
プリズムをいずれかの直角ダハ・ミラーの内部の挿入位
置まで搬送し、この状態で補正用真直プリズムに対し対
応する照射光学系から平行光束を照射すると、補正用真
直プリズムと直角ダハ・ミラーのダハ面との間で多重干
渉が生じ、このダハ面からの反射光が補正用真直プリズ
ムを介して対応する受光手段により受光され、その受光
面に干渉縞が結像される。
【0020】この場合、搬送手段が補正用真直プリズム
を複数の投影光学系を構成する各直角ダハ・ミラーの内
部の挿入位置と退避位置との間で搬送するので、高精度
に頂角の直角度が製造された補正用真直プリズムは、1
つだけ用意すれば足り、コストの大幅な上昇を招くこと
がない。
【0021】請求項6に記載の発明は、請求項5に記載
の露光装置において、前記自己補償手段は、前記干渉縞
の画像データに基づいて前記直角ダハ・ミラーのダハ面
の汚れを検出することを特徴とする。これによれば、自
己補償手段により、直角ダハ・ミラーのダハ面の汚れ
(塵埃等の異物の附着)を検出してオペレータに通報す
ること等が可能になる。
【0022】請求項7に記載の発明は、請求項1ないし
6のいずれか一項に記載の露光装置において、前記各投
影光学系はダイソン型光学系であることを特徴とする。
【0023】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1ないし図9に
基づいて説明する。
【0024】図1には、一実施例に係る露光装置10の
全体構成が概略的に示されている。この露光装置10
は、大型のマスク13に形成された回路パターンを感光
基板としてのガラスプレート(以下、「プレート」とい
う)14に転写するための走査型露光装置である。
【0025】この露光装置10は、ベース11と、この
ベース11上を図1におけるX軸方向(走査方向)に沿
って移動可能な移動ステージ12と、この移動ステージ
12上に固定され,マスク13とプレート14とを相互
に平行にかつ鉛直に保持する断面略U字状のキャリッジ
15と、キャリッジ15よりもZ軸方向一側(手前側)
に配置され本体コラム16に保持された照明光学系17
と、Z軸方向でマスク13とプレート14との間の位置
に配置され,本体コラム16に保持された投影光学系ブ
ロック18と、ベース11上をX軸方向に沿って移動可
能な補正光学系ブロック19とを備えている。
【0026】移動ステージ12は、ベース11上にX軸
方向に沿って延設された一対のガイド部材20A、20
B上に不図示のエアベアリングで浮上支持されている。
また、この移動ステージ12のZ軸方向の両サイドに
は、一対のムービングマグネット型のリニアモータ21
が設けられ、これらのリニアモータ21によって移動ス
テージ12と一体的にキャリッジ15がガイド部材20
A、20Bに沿って駆動されるようになっている。な
お、リニアモータ21は、X軸方向に沿って延設された
マグネットトラック21aと、移動ステージ12側に取
り付けられたコイル21bとから構成される。
【0027】キャリッジ15のZ軸方向の一側の側壁
(マスクステージを構成する)の外面には、鉛直方向に
(より詳細には、XY平面に沿って)マスク13を保持
するマスクホルダ22が取り付けられている。また、キ
ャリッジ15のZ軸方向の他側の側壁(プレートステー
ジを構成する)の内面にXY平面に沿ってプレート14
を保持するプレートホルダ23が取り付けられている。
マスクホルダ22は、3つの駆動モータ24A〜24C
によってXY平面内で微小駆動可能に構成されており、
キャリッジ15に対する位置・姿勢が調整可能になって
いる。
【0028】なお、キャリッジ15のXYZ3軸方向の
位置は、干渉計I1,I2,I3(図1では測長ビーム
のみを図示)を含むレーザ干渉計システムによって計測
されるようになっている。
【0029】前記投影光学系ブロック18は、第1〜第
7の投影光学系ユニット251 〜257 を備え、この
内、投影光学系ユニット251 〜254 と投影光学系ユ
ニット255 〜257 とは、例えば、特開平7−579
86号公報に開示されるように、X方向に所定間隔隔て
て2列に且つ千鳥状に配置され、各々の露光領域(投影
領域)が適正に継ぎ露光されるように配置されている。
【0030】図1において、キャリッジ15が図示の状
態から−X方向に移動すると、投影光学系ブロック18
がマスク13とプレート14との間に位置するようにな
る。図2には、このときの一方の列の投影光学系ユニッ
ト251 〜254 部分が示されている。この図2に示さ
れるように、各投影光学系ユニット25は、直角プリズ
ム26と、投影レンズ27と、直角ダハ・ミラー28と
を各1つ備えている。ここで、直角ダハ・ミラー28
は、相互に直交する第1ミラー28aと第2ミラー28
bとから成り、それぞれの内面が反射面とされている。
【0031】なお、図2において、仮想線29で示され
るのは、投影光学系ユニット251〜257 の露光フィ
ールド(プレート14上の領域)を模式的に示したもの
で、仮想線30で示される領域は、露光フィールドに対
応するマスク13上の照明領域を模式的に示したもので
ある。
【0032】各投影光学系ユニット25では、照明光学
系17(図2では図示せず、図1参照)からの露光光に
よってマスク13上の所定形状(例えば、台形状)の照
明領域が図2における上方から照明されると、この台形
状の領域の像(光束)は、直角プリズム26によって光
路が90度偏光され、投影レンズ27の上半部を介して
直角ダハ・ミラー28に至り、この直角ダハ・ミラー2
8により投影レンズ27へ向けて反射され、投影レンズ
27の下半部を通って再び直角プリズム26にて光路が
90度偏光されプレート14上にマスク13上の所望の
パターンの像(等倍正立正像)を結像する。このよう
に、本実施例では、各投影光学系ユニット25としてマ
スク13上のパターンの正立正像をプレート14上に形
成する光学系、例えばダブルダイソン光学系が使用され
ている。
【0033】投影光学系ユニット255 〜257 は、投
影光学系ユニット251 〜254 と丁度走査方向を示す
太矢印と反対側に言わば背中合わせに配置されており、
かつ、それぞれの光軸は、投影光学系ユニット255
光軸が投影光学系ユニット251 と投影光学系ユニット
252 の間に、また、投影光学系ユニット256 の光軸
は、投影光学系ユニット252 と投影光学系ユニット2
3 の間に、投影光学系ユニット257 の光軸は、投影
光学系ユニット253 と投影光学系ユニット254 の間
に、配置されてされている。そして、相隣合う投影光学
系ユニット(例えば、ユニット251 と255 、ユニッ
ト252 と255 等)の投影領域は走査方向に相互に一
部重なり合い、継ぎ露光が可能となっている。従って、
この露光装置10においては、キャリッジ15を駆動し
てマスク13とプレート14とを図1のX軸方向に走査
すれば、1回の走査でマスク13上の全パターンをプレ
ート14上に転写できる。
【0034】図3には、投影光学系ユニット251 〜2
7 を構成する各直角ダハ・ミラー28のダハ面の頂角
を調整する角度調整手段の一構成例の平面図が示されて
いる。この図3に示される角度調整手段31は、直角ダ
ハ・ミラーを構成する第1ミラー28a,第2ミラー2
8bの基準点からの角度の変位量を検出する角度検知手
段が、透過光を利用するタイプのものである。
【0035】この角度調整手段31は、大きく分けて直
角ダハ・ミラー28を構成する第1ミラー28aと第2
ミラー28bのそれぞれの角度を変更する角度変更手段
としての一対の角度可変ユニット32A,32Bと、X
軸駆動ユニット33と、Y軸駆動ユニット34と、検出
系としての一対の角度検知手段35a、35bとから構
成されている。
【0036】第1ミラー28a用の角度可変ユニット3
2Aは、X軸ステージ36上に配置され,第1ミラー2
8aを保持するミラーハウジング37と、このミラーハ
ウジング37をミラーハウジング・ピボット38を支点
として回動させる駆動機構39とから構成されている。
【0037】駆動機構39は、ミラーハウジング37の
回動端に取り付けられた駆動用ローラ40と、この駆動
用ローラ40に結合用コイルばね41の付勢力により常
時圧接されたガイド用テーパ部材42と、このガイド用
テーパ部材42を連結部材43を介してその軸方向に駆
動する駆動スクリュ44と、この駆動スクリュ44を回
転駆動するモータ45とを備えている。前記連結部材4
3には、常時加圧用のコイルバネ46によって所定の加
圧力が加えられている。
【0038】この角度可変ユニット32Aによれば、駆
動モータ45により駆動スクリュ44が回転されると、
この回転による推進力(雄ねじと雌ねじの螺合による)
によりガイド用テーパー部材42が駆動スクリュ44の
スラスト方向に駆動される。
【0039】この時、コイルバネ41により、ガイド用
テーパー部材42の斜面上に押しつけられている駆動ロ
ーラ40は、ガイド用テーパー部材42のスラスト方向
と垂直な方向へ、駆動スクリュ44のリードlとガイド
用テーパー部材42の斜面の勾配θにより一義的に定ま
る微少量変位させられ、ミラーハウジング37は、ミラ
ーハウジング・ピボット38を支点として微小量回転さ
せられ、このようにして第1ミラー28aの角度が変更
(可変)される。第2ミラー28b用の角度可変ユニッ
ト32Bは、この角度可変ユニット32Aと同様にして
構成されている。但し、各構成要素の配置は角度可変ユ
ニット32Aとは左右対称となっている。
【0040】例えば、テーパー部材42の斜面の勾配を
θ、ミラーハウジング・ピボット38の中心から駆動ロ
ーラ40の中心までの距離をLとすると、第1ミラー2
8a又は第2ミラー28bの角度変位量φは、次式で表
わされる。
【0041】
【数1】φ≒(LSinθ)/(LCos2θ)
【0042】前記X軸駆動ユニット33は、ミラーハウ
ジング37、ミラーハウジング・ピボット38、及び駆
動機構39等が搭載されたX軸ステージ36をX軸ガイ
ド47に沿って微小量駆動するためのものである。図3
からも明らかなように、X軸駆動ユニット33の構成及
び駆動原理は、前述した駆動機構39と同様なのでその
詳細な説明は省略する。
【0043】また、Y軸駆動ユニット34は、X軸駆動
ユニット33が搭載されたY軸ステージ48をY軸ガイ
ド49に沿って微小駆動するためのものである。Y軸駆
動ユニット34の構成及び駆動原理は、前述した駆動機
構39と同様なのでその詳細な説明は省略する。
【0044】X軸駆動ユニット33とY軸駆動ユニット
34は、角度可変ユニット32A,32Bを用いて第1
ミラー28a、第2ミラー28bの角度を変更した際
に、これらのミラー28a,28b対する、投影レンズ
27からの入射光束、及び投影レンズ27への反射光束
の光軸の位置がシフトするので、このシフト量を補正す
るために、設けられている。
【0045】なお、角度可変ユニット32A,32B、
X軸駆動ユニット33、Y軸駆動ユニット34は、基本
的に同様の構造を持っているが、これらの各ユニットに
代えてピエゾ電気素子等の微少変位駆動装置を設け、こ
れによりミラーハウジング37、X軸ステージ36、Y
軸ステージ48を直接駆動することも可能である。
【0046】次に、直角ダハ・ミラー28を構成する第
1ミラー28a,第2ミラー28bの基準点からの角度
の変位量(又はこれらのミラーの角度を微少量可変する
駆動系の変位量)を検出する検出系としての角度検知手
段35a,35bについて説明する。
【0047】一方の角度検知手段35aは、不図示の安
定した架台に固着された発光部51と、この発光部直角
51から射出したレーザ光を第1ミラー28aに向けて
偏向する折り曲げミラー52と、この偏向後の光を第1
ミラー28aの背面側で受光する受光部53とを備えて
いる。受光部53には、CCD又は4分割受光素子等の
位置検出センサが配置されている。
【0048】すなわち、本実施例の角度検知手段35a
では、発光部51から射出したレーザ光が、微少角度変
位を受けた直角ダハ・ミラー28aを透過する際に受け
る変位量(ビームシフト量)を受光部53内のCCD又
4分割受光素子等で検出し、不図示の制御系ではこの変
位量に応じて角度可変ユニット32Aの駆動量を決定す
る。ここで、本実施例では、折り曲げミラー52は、投
影レンズ27の光軸に直交して配置され、この折り曲げ
ミラー52に対する発光部51からのレーザ光の入射角
αが45度に設定されている。また、受光部53は、折
り曲げミラー52の光軸上にCCD又4分割受光素子の
検出中心(基準点に対応する)が位置するように配置さ
れている。
【0049】他方の角度検知手段35bは、この角度検
知手段35aと同様に構成されているが、各構成要素が
左右対称に配置されている。このため、図3から明らか
なように、第1ミラー28aと第2ミラー28bとが正
確に直交している場合には、それぞれの受光部53のC
CD又4分割受光素子は透過光をその検出中心で受光す
るようになっている。従って、角度検知手段35a、3
5bでは、それぞれの受光部53で基準点からの第1ミ
ラー28a、第2ミラー28bの角度の変位量を検出
し、この変位量が零となるように角度可変ユニット32
A、32Bを駆動することにより、直角ダハ・ミラー2
8の直角度が補正される。
【0050】X軸駆動ユニット33及び、Y軸駆動ユニ
ット34の変位量検出も、前記角度検知手段35a,3
5bを用いて行なうことは可能であるが、本実施例で
は、X軸、Y軸ともに、別個の不図示の直線変位検出装
置、例えばリニヤエンコーダ、差動トランス等の変位検
出センサが用いられている。
【0051】上記のようにして構成された角度調整手段
31によると、角度検知手段35a、35bにより直角
ダハ・ミラー28の直交度のずれを検知できることか
ら、この検知結果に基づいて角度可変ユニット32A、
32Bを駆動制御することにより、直角ダハ・ミラー2
8のダハ面頂角の直交度補正を容易に行なうことができ
る。従って、直角ダハ・ミラーを製造する場合において
必要とされる角度調整の困難さや、製造コストの上昇を
防止することができる。
【0052】また、投影レンズ27の光軸に対して、X
軸駆動ユニット33、及びY軸ユニット34により直角
ダハ・ミラー28をX軸とY軸の両方向について微小駆
動が可能であるとともに、これらのX軸駆動ユニット3
3、及びY軸駆動ユニット34による駆動量を検知する
手段を有していることから、直角ダハ・ミラー28を構
成する第1ミラー28a,第2ミラー28bの角度を変
更しても何等の問題も生じない。従って、事前の精密な
直角度の調整が不要となる。
【0053】ところで、前述した角度調整手段35a、
35bによる第1ミラー28a,第2ミラー28bの角
度調整方法は、受光部53a、53b内のセンサである
CCD又は4分割受光素子の精度、安定性、及び系全体
の長期安定性に依存している。従って、万一、前記安定
性が保証されない場合は、前記角度検知手段35a、3
5bの精度を保つことが不可能となる。
【0054】かかる場合を考慮して、本実施例では、直
角ダハ・ミラー28のダハ面頂角の長期安定性を保証す
る自己補償手段が設けられている。
【0055】図4には、この自己補償手段の主要部を構
成する直交度誤差検知手段60の原理的な構成が示され
ている。この直交度誤差検知手段60は、補正光学系照
明部61、補正光学系投光レンズ62、ハーフミラー6
3、補正用真直プリズム64、補正用集光レンズ65及
び検出器66等を備えている。ここで、この直交度誤差
検知手段60の上記構成各部の作用を説明する。補正光
学系照明部61から射出した光束は、当該補正光学系照
明部61とともに照明光学系を構成する補正光学系投光
レンズ62を経て、ハーフミラー63を透過した後補正
用真直プリズム64に入射する。補正用真直プリズム6
4から出た光束は、直角ダハ・ミラー28の第1ミラー
28a(又は第2ミラー28b)により反射され、両者
間で多重干渉を受けながら、再度補正用真直プリズム6
4に入射する。入射した光束は、同様に第2ミラー28
b(又は第1ミラー28a)へと導かれ、補正用真直プ
リズム64と第2ミラー28b(又は第1ミラー28
a)間で、多重干渉を受け、ハーフミラー63により反
射され90度偏向を受けて、補正光学系集光レンズ65
により、受光手段としての検出器66上に結像される。
【0056】図7(a)〜(c)には、図4の検出器6
6で光電変換された信号をITVモニタに表示した像の
一例がそれぞれ示されている。図4における第1ミラー
28a,第2ミラー28bと、補正用真直プリズム64
との位置関係は、光軸に対して、中心振り分けの誤差と
なっているため、図7(a)のような像が得られる。
【0057】しかしながら、図5に示されるように、第
1ミラー28a,第2ミラー28bと補正用真直プリズ
ム64の相対関係が均等でない場合には、図7(b)に
示されるような干渉縞の像がITVモニタの画面上に表
示される。
【0058】また、図6に示されるように、第1ミラー
28a,第2ミラー28bのダハ面(反射面)上に微少
な塵埃等の異物67が附着していた場合には、図7
(c)に示されるような干渉縞の像がITVモニタの画
面上に表示される。
【0059】本実施例では、このようなITVモニタの
画像情報を用いて、直角ダハ・ミラー28のダハ面頂角
の直角度の自己補償を行なうものである。これについて
は後述する。
【0060】ところで、上記直交度誤差検知手段60を
構成する補正用真直プリズム64は、本実施例では、1
つだけ設けられている。そして、図2中に点線矢印で示
されるように、この補正用真直プリズム64を、第1〜
第7の投影光学系ユニット251 〜257 を構成する各
直角ダハ・ミラー28の内部に順次挿入して(図5参
照)、全ての直角ダハ・ミラー28の直角度の自己補償
を行なうようになっている。
【0061】次に、直交度誤差検知手段60の一部を構
成する補正用真直プリズム64を搬送するプリズム搬送
手段について、図1及び図8に基づいて説明する。
【0062】図8には、このプリズム搬送手段70の構
成が概略的に示されている。この搬送手段70は、図1
の補正光学系ブロック19に固定されたYガイド71
と、このYガイド71の一端に取り付けられたモータ7
2により回転駆動されるプーリ73と、このプーリ73
とYガイド71の他端側に設けられた不図示のプーリと
に巻掛けられたベルト74と、このベルト74の図8に
おける上半部の一部に連結されると共にベルト74の下
半部が摺動自在に挿通された移動ブロック75と、この
移動ブロック75に取り付けられたXZ駆動系76と、
このXZ駆動系76を介して移動ブロック75に連結さ
れたプリズム保持部材77とを備えている。
【0063】前記補正用真直プリズム64は、プリズム
保持部材77の先端部(図8における下端部)に取り付
けられており、このプリズム保持部材77は、XZ駆動
系76によってZ軸方向に直線駆動されると共にX軸方
向に微小駆動されるようになっている。
【0064】従って、モータ72の回転により移動ブロ
ック75、XZ駆動系76と共にプリズム保持部材77
がYガイド71に沿って移動し、これにより補正用真直
プリズム64が第1〜第4の投影光学系ユニット251
〜254 、第5〜第7の投影光学系ユニット255 〜2
7 に沿って搬送される。また、XZ駆動系76によっ
て、プリズム保持部材77がZ軸方向へ駆動されること
により補正用真直プリズムのダハ・ミラー28への挿入
・離脱が行なわれ、XZ駆動系76によって、プリズム
保持部材77がX軸方向へ微小駆動されることより補正
用真直プリズムのダハ・ミラー28への接近・離間が行
なわれる。
【0065】更に、第1〜第4の投影光学系ユニット2
1 〜254 と第5〜第7の投影光学系ユニット255
〜257 とでは、ダハ・ミラー28の角度が逆転してい
る関係上、プリズム保持部材77の補正用真直プリズム
64が固定された下半部77aと、上半部77bとの間
には、旋回部78が設けられている。従って、旋回部7
8を介して下半部77aを上半部77bに対して180
度旋回させることにより、補正用真直プリズム64の向
きを反対にすることができ、これにより投影光学系ユニ
ット251 〜254 と投影光学係ユニット255 〜25
7 のいずれのダハ・ミラー28の補正にも対応できるよ
うになっている。
【0066】また、投影光学系ユニット251 〜254
と、投影光学系ユニット255 〜投影光学系ユニット2
7 の測定の切替えは、図1に示されるように補正光学
系ブロック19全体がエアガイド20Aと、図1の奥側
のマグネット・トラック21aに沿って移動することに
より、容易に行なうことができる。
【0067】なお、XZ駆動系76のX駆動はピエゾ素
子によって行なわれるが、移動量が非常に少ないため、
ガイド等はなく不図示の板ばねで規制されている。
【0068】上記搬送手段70は、図1に示される補正
光学系ブロック19内に収納されており、この補正光学
系ブロック19は、補正用真直プリズム64の非使用
時、例えば露光中は、ベース11上の−X方向の端部
(後端)に退避しており、露光動作等を妨げることがな
いようになっている。
【0069】一方、直角ダハ・ミラー28の補正が補正
用真直プリズム64により行なわれるときは、キャリッ
ジ15はベース11上の+X方向の端部(前端部)に退
避し、補正光学系ブロック19がガイド部材20A及び
マグネット・トラック21aに沿って投影光学系ブロッ
ク18の位置まで移動し、搬送手段70によって前記の
如く、補正用真直プリズム64が投影光学系ユニット2
1 〜257 を構成する各直角ダハ・ミラー28の内部
に順次挿入される。
【0070】なお、図1と図8との位置関係を考慮すれ
ば明らかなように、実際には、補正用真直プリズム64
は、図2の下方から上方に向けて挿入される。また、図
5等から判断すると、補正用真直プリズム64がダハ・
ミラー28に挿入された状態では、プリズム保持部材7
7が測定の妨げになるように感じられるが、図5は、原
理図であって、実際には、プリズム保持部材77は中空
とされ、その内部に光軸を折曲げるための折曲げミラー
79が設けられている(図8参照)ので、測定上何等支
障はない。
【0071】次に、本実施例の露光装置10における直
角・ダハ・ミラー28のダハ面頂角の直交度の自己補償
を中心とする処理の流れの一例について、不図示の主制
御装置内CPUの制御アルゴリズムを示す図9のフロー
チャートに沿って説明する。なお、この制御アルゴリズ
ムは、不図示のメインルーチン(露光処理ルーチン)に
おける割り込み処理により実行される。なお、以下の説
明では、説明の便宜上、単一の直角ダハ・ミラー28の
ダハ面頂角の直交度の自己補償を行なう場合について説
明するが、実際には、前述したように、全ての直角ダハ
・ミラー28について自己補償が行なわれる。
【0072】この割り込みルーチンは、予め設定された
時間又は露光回数による測定インターバルが来たときに
開始される。測定インターバルの設定としては、例え
ば、1000時間毎、1000ショット(又はスキャ
ン)毎等である。なお、この測定インターバルは、前記
両方の条件で設定することも可能である。
【0073】まず、ステップ101で、通常退避してい
た補正光学系ブロック19を投影光学系ブロック18の
位置まで移動させ、搬送手段70により補正用真直プリ
ズム64を直角ダハ・ミラー28の第1ミラー28a,
第2ミラー28b間に挿入する。
【0074】次のステップ102において、直交度誤差
検知手段60(ITVモニタを含む)用いて前述した干
渉縞による角度の測定(及びダハ面の汚染の有無の確
認)を行なう。
【0075】この測定終了後、ステップ103に進ん
で、前記測定結果に基づいて第1ミラー28a,第2ミ
ラー28b間の直角度が適正か、否か、及び第1ミラー
28a,第2ミラー28bの反斜面が塵埃等の異物によ
り汚染されていないか、否かを判断する。そして、この
ステップ103において、第1ミラー28a、第2ミラ
ー28bの角度が適正で、かつ、反射面の汚染がない場
合は、本割り込みルーチンの処理を終了してメインルー
チンにリターンする。これにより、露光処理が継続され
る。
【0076】一方、ステップ103において第1ミラー
28a,第2ミラー28b間の角度が適正でないか、又
は、反斜面が塵埃等により汚染されている場合は、ステ
ップ104に進み、予め自己補償モードが設定されてい
るか否かを判断する。この判断は、不図示の自己補償モ
ードの設定フラグの状態を見て行なう。この設定フラグ
は、予めオペレータのキーボード入力により「1」に設
定される。なお、この自己補償モードが本当に必要なの
は、角度調整手段の信頼性が低下した段階であるから、
この角度調整手段の信頼性が低下したとCPUが判断し
た段階で自動設定することも可能である。
【0077】そして、ステップ104において、予め自
己補償モードが設定されていない場合(すなわち、フラ
グが「0」の場合)は、ステップ106に移行し、不図
示の表示装置の画面上に警告表示を行なうと共に、オン
ラインでホストコンピュータに前記情報を即座に与えた
後、ステップ107に進む。このステップ107では、
オペレータ・コールを行った後、本割り込み処理ルーチ
ンの一連の処理を強制終了(中止)し、オペレータの指
示があるまで動作を行わない。
【0078】この一方、ステップ104において予め自
己補償モードが設定されている場合(すなわち、フラグ
が「1」の場合)は、ステップ105に進み、直角ダハ
・ミラー28を構成する第1ミラー28a、第2ミラー
28bの反射面に塵埃等の異物が附着して汚染いないか
否かを判断する(図7(c)参照))。そして、万一、
第1ミラー28a又は第2ミラー28bの反射面が汚染
されている場合は、ステップ106に移行し、以後前述
と同様の処理を行なった後、本割り込み処理ルーチンの
一連の処理を強制終了(中止)する。
【0079】一方、上記ステップ105において、第1
ミラー28a,第2ミラー28bの反射面がともに汚染
されていない場合は、ステップ108に移行し、補正用
真直プリズム64を基準原器として、角度調整手段31
の構成各部を用いて第1ミラー28a,第2ミラー28
bの角度微少調整、及びX、Y方向の微少な調整を行
う。
【0080】ステップ108で前記調整を行った後、ス
テップ109に進み、直角ダハ・ミラー28の直角度、
位置等が精密に調整されたかどうかを確認する。この確
認は、補正用真直プリズム64を基準原器とする直交度
誤差検知手段60の干渉縞の画像データに基づいて、I
TVモニタ上の画面上に上下対称の干渉縞が表われ、か
つそれぞれの干渉縞の数が直角度誤差の許容範囲、例え
ば0.1秒以内(従って、第1ミラー、第2ミラーのそ
れぞれについては、基準点からの角度誤差が0.05秒
以内)になるように予め定めた本数(例えば2本以内)
となっているかどうかを確認することにより行なわれ
る。
【0081】そして、万一、直角ダハ・ミラー28の直
角度、位置等が精密に調整できなかった場合には、ステ
ップ110に移行し、予め設定された微少調整回数を越
えたか否かを判断する。ここで、設定された微少調整回
数を越えた場合は、ステップ106へ移行し、以後前述
と同様の処理を行なった後、本割り込み処理ルーチンの
一連の処理を強制終了(中止)する。一方、設定された
微少調整回数以内の場合は、ステップ108へ戻り、再
度調整を行う。
【0082】この一方、ステップ109で測定結果が良
好な場合(直角度誤差が許容範囲にある場合)には、ス
テップ111に移行し、測定、及び自己補償に使用され
た補正用真直プリズム64を退避位置まで後退させた
後、本割り込み処理ルーチンの一連の動作を終了し、メ
インルーチンに復帰する。
【0083】以上の割り込み処理ルーチンの処理によ
り、万一、図3に示される角度検知手段35a,35b
が、長期的に不安定な要因を持っている場合でも、主制
御装置が随時、補正用真直プリズム64を基準原器とし
て角度検知手段35a,35bのキャリブレーションを
行うことから安定した光学性能を得ることができる。
【0084】また、万一、直角ダハ・ミラー28を構成
する第1ミラー28a、第2ミラー28bの反射面が、
微少な塵埃などに汚染されている場合においても補正用
真直プリズム64を基準原器とした自己補償動作の際
に、この汚染を即座に検知して、オペレータをコールす
る。このため、直角ダハ・ミラー28の清掃をオペレー
タが行うことにより、微少な塵埃によるパターン欠陥を
未然に防止することが可能である。この場合において、
清掃終了後に、前記補正用真直プリズム64による自己
補償を行うようにしても良い。これまでの説明から明ら
かなように、本実施例では、直交度誤差検知手段60、
プリズム搬送手段70及び不図示の主制御装置の機能に
よって自己補償手段が実現されている。
【0085】以上説明したように、本実施例によると、
角度調整手段31を備え、この角度調整手段31が、直
角ダハ・ミラー28を構成する第1ミラー28a,第2
ミラー28bの角度を可変にする角度可変ユニット32
A,32B、直角ダハ・ミラー28を投影光学系27の
光軸に対してX軸方向、Y軸方向にそれぞれ微小駆動す
るX軸駆動ユニット33、及びY軸駆動ユニット34、
及び角度検知手段35a,35bによって構成されてい
ることから、角度検知手段35a,35bによって第1
ミラー28a,第2ミラー28bの基準点からの角度の
変位量を検出し、この変位量が零となるように角度可変
ユニット32A,32Bで第1ミラー28a,第2ミラ
ー28bの角度を変更することにより、直角ダハ・ミラ
ー28の直角度を容易に調整することができ、これによ
り直角ダハ・プリズムを製造する場合において必要とさ
れる角度誤差による製造の困難さや、製造コストの上昇
を防止することができる。また、3種類の駆動系、角度
可変ユニット32A,32B、X軸駆動ユニット33、
及びY軸駆動ユニット34による駆動量は、角度検知手
段35a、35b及び不図示のリニアエンコーダ等によ
り検出することができるので、適正量の微小調整が可能
となり、直角ダハ・ミラー28の直角度を精密に前もっ
て調整する必要が無くなった。
【0086】また、長期安定性、温度安定性に関して補
償するために、自己補償手段をも包含することにより、
直角ダハ・ミラー28のダハ面頂角の直角度に関する高
信頼性を有しているため、直角プリズム使用時と同等の
各種安定性を、製造の困難さに縛られる事無く得ること
ができる。また、自己補償手段では、単一の補正用真直
プリズム64のみを用いて全ての直角ダハ・ミラー28
の頂角の直角度の自己補償を実現するので、コストの上
昇を招くこともない。
【0087】さらに、上記のように高精度に頂角の直角
度が調整された直角ダハ・ミラー28をそれぞれ含む投
影光学系ユニット251 〜257 に対し、キャリッジ1
5を駆動してマスク13とプレート14とを走査方向に
同期走査すれば、投影光学系ユニット251 〜257
影光学系27を介してマスク14のパターンがプレート
14上に、高スループット且つ高解像力で逐次投影され
る。
【0088】また、付随的効果として、前記ダハ面の角
度の自己補償手段60を用いることにより、ダハ面に付
着した塵埃等のゴミを検出できるので、この塵埃等が光
学系へ与える悪影響を事前に取り除く事が可能となっ
た。
【0089】《変形例》なお、上記実施例では、角度調
整手段31を構成する角度検知手段として、透過光を利
用する場合について例示したが、本発明がこれに限定さ
れることはなく、例えば、図10に示されるような角度
検知手段を用いても良い。
【0090】この図10に示される角度検知手段は、反
射光を利用した反射型検出系であり、発光部81を射出
したレーザ光は、送光光学系82を経て直角ダハ・ミラ
ー28を構成する第1ミラー28aで反射され、第1ミ
ラー28aの微少角度変化量Δψの2倍の2Δψの偏向
を受けて受光光学系83を介して受光部84内のCCD
又は4分割受光素子(QD)上に結像する。従って、第
1ミラー28aの角度の変位量は、受光部84内のセン
サ(CCD,QD等)での反射光の結像位置に基づいて
検出することができる。ここで、実際には、同様の構成
の第2ミラー28b用の角度検知手段も設けられている
ので、これら両角度検知手段の検出結果に基づいて角度
可変ユニット32A,32Bを制御することにより、直
角ダハ・ミラー28の頂角の直角度を調整できる。
【0091】また、上記実施例では補正用真直プリズム
64の搬送手段70に旋回部78を設け、直角ダハ・ミ
ラー28の向きの違いに対応する場合を例示したが、本
発明がこれに限定されることはなく、移動ブロック7
5、XZ駆動系76、プリズム保持部材77及び補正用
真直プリズム64を各2つ設け、一方の補正用真直プリ
ズム64は、図8の向きに取り付け、他方の補正用真直
プリズム64は図8と逆向きに取り付けて、それぞれを
投影光学系ユニット251 〜254 、投影光学系ユニッ
ト255 〜257 の専用としても良い。あるいは、補正
用真直プリズム64のみを2つ設け、これらを逆向きに
配置してプリズム保持部材77の先端に取り付け、途中
にミラーを設けて光路を同一にするようにしても良い。
【0092】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高スループットを維持したまま、マスク上の大面積の回
路パターンを基板上に高い解像力で転写することがで
き、しかもコストの低減をも図ることができるという従
来にない優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施例に係る露光装置の全体構成を概略的に
示す斜視図である。
【図2】図1の投影光学系ブロックの内部構成を一部を
示す斜視図である。
【図3】投影光学系ユニットを構成する各直角ダハ・ミ
ラーのダハ面の頂角を調整する角度調整手段の一構成例
を示す平面図である。
【図4】直交度誤差検知手段の原理的構成を示す図であ
って、第1ミラーと第2ミラーの角度誤差が光軸に対し
て、中心振り分けの誤差となる状態を示す図である。
【図5】図4の直交度誤差検知手段を示す図であって、
第1ミラー,第2ミラーと補正用真直プリズムの相対関
係が均等でない(中心振り分けでない)状態を示す図で
ある。
【図6】図4の直交度誤差検知手段を示す図であって、
第1ミラー28の反射面上に異物が存在する状態を示す
図である。
【図7】上記直交度誤差検知手段を構成する検出器で光
電変換された信号をITVモニタに表示した像の一例を
示す図であって、(a)は図4に対応する干渉縞の像を
示す図、(b)は図4に対応する干渉縞の像を示す図、
(c)は図6に対応する干渉縞の像を示す図である。
【図8】プリズム搬送手段の一構成例を示す概略斜視図
である。
【図9】直角・ダハ・ミラーのダハ面頂角の直交度の自
己補償を中心とする処理の流れを説明するための図であ
って、主制御装置内CPUの制御アルゴリズムを示すフ
ローチャートである。
【図10】変形例を示す説明図である。
【図11】従来例を示す説明図である。
【符号の説明】
13 マスク 14 プレート(感光基板) 251 〜257 投影光学系ユニット(投影光学系) 28a 第1ミラー 28b 第2ミラー 28 直角ダハ・ミラー 31 角度調整手段 32A,32B 角度可変ユニット(角度変更手段) 35a,35b 角度検知手段(検出系) 60 直交度誤差検知手段の一部(自己補償手段の一
部) 61 補正光学系照明部(照射光学系の一部) 62 補正光学系投光レンズ(照射光学系の一部) 64 補正用真直プリズム 66 検出器(受光手段) 70 プリズム搬送手段(自己補償手段の一部)

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マスクと感光基板とを所定の走査方向に
    同期して移動させつつ、複数の投影光学系を介して前記
    マスクのパターンを前記感光基板上に逐次転写する露光
    装置において、 前記各投影光学系が、少なくとも一つのダハ面を有する
    第1ミラーと第2ミラーとから成る直角ダハ・ミラーを
    有し、前記マスクのパターンの正立像を前記感光基板上
    に形成する光学系であり、 前記各直角ダハ・ミラーを構成する第1ミラーと第2ミ
    ラーとが成す角度を可変調整する角度調整手段が設けら
    れていることを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 前記角度調整手段は、前記第1ミラーと
    第2ミラーの基準点からの角度の変位量を検出する検出
    系と、この検出された変位量に応じて前記第1ミラー及
    び第2ミラーの少なくとも一方を駆動して当該両者の成
    す角を変更する角度変更手段とを有することを特徴とす
    る請求項1に記載の露光装置。
  3. 【請求項3】 前記角度調整手段による角度の可変調整
    の後に、前記第1ミラーと第2ミラーとの直交度誤差を
    検知し、検知された直交度誤差が許容範囲内に収まるま
    で前記直角度調整を行なって前記角度調整手段を較正す
    る自己補償手段を更に有する請求項1又は2に記載の露
    光装置。
  4. 【請求項4】 前記自己補償手段は、真に直角なダハ面
    を有する補正用真直プリズムを基準原器として多重干渉
    の原理により前記第1ミラーと第2ミラーとの直交度誤
    差を検知することを特徴とする請求項3に記載の露光装
    置。
  5. 【請求項5】 前記自己補償手段は、前記補正用真直プ
    リズムを前記複数の投影光学系を構成する各直角ダハ・
    ミラーの内部の挿入位置と退避位置との間で搬送するプ
    リズム搬送手段と、前記各直角ダハ・ミラーの内部に挿
    入された前記補正用真直プリズムに対し平行光束をそれ
    ぞれ照射する複数の照射光学系と、前記各直角ダハ・ミ
    ラーのダハ面からの反射光を前記補正用真直プリズムを
    介してそれぞれ受光する複数の受光手段とを有すること
    を特徴とする請求項4に記載の露光装置。
  6. 【請求項6】 前記自己補償手段は、前記干渉縞の画像
    データに基づいて前記直角ダハ・ミラーのダハ面の汚れ
    を検出することを特徴とする請求項5に記載の露光装
    置。
  7. 【請求項7】 前記各投影光学系はダイソン型光学系で
    あることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項
    に記載の露光装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004177468A (ja) * 2002-11-25 2004-06-24 Nikon Corp 露光装置
JP2008529094A (ja) * 2005-02-03 2008-07-31 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 中間像を有する反射屈折投影対物レンズ
JP2010277050A (ja) * 2009-06-01 2010-12-09 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP2022517144A (ja) * 2019-03-27 2022-03-04 ズース マイクロテック フォトニック システムズ インコーポレイテッド 投影システムにおける光学歪み低減

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004177468A (ja) * 2002-11-25 2004-06-24 Nikon Corp 露光装置
JP2008529094A (ja) * 2005-02-03 2008-07-31 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 中間像を有する反射屈折投影対物レンズ
JP2010277050A (ja) * 2009-06-01 2010-12-09 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP2022517144A (ja) * 2019-03-27 2022-03-04 ズース マイクロテック フォトニック システムズ インコーポレイテッド 投影システムにおける光学歪み低減

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