JPH0574684A - 位置合わせ装置 - Google Patents
位置合わせ装置Info
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- JPH0574684A JPH0574684A JP3234671A JP23467191A JPH0574684A JP H0574684 A JPH0574684 A JP H0574684A JP 3234671 A JP3234671 A JP 3234671A JP 23467191 A JP23467191 A JP 23467191A JP H0574684 A JPH0574684 A JP H0574684A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 72
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 29
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 102100025490 Slit homolog 1 protein Human genes 0.000 description 1
- 101710123186 Slit homolog 1 protein Proteins 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Abstract
(57)【要約】
【目的】 アライメントマークの配置が異なる複数種類
のフォトマスクを使用するためにアライメント光学系を
可動としたときに生じるアライメント光学系の位置設定
誤差を補正する。 【構成】 アライメント光学系の検出領域の投影光学系
の投影像面における相対位置関係を検出する検出手段
（４〜７，１１〜１４，ＦＭ）と、アライメント光学系
の光路中に光路を変化する光学部材（１５，１６，２
２）とを設ける。複数のアライメント光学系の対物部
（１，８）を移動した後で、アライメント光学系の各検
出領域の相対位置関係が設計上のものとなるように、光
学部材（１５，１６，２２）を駆動して光路を補正す
る。
のフォトマスクを使用するためにアライメント光学系を
可動としたときに生じるアライメント光学系の位置設定
誤差を補正する。 【構成】 アライメント光学系の検出領域の投影光学系
の投影像面における相対位置関係を検出する検出手段
（４〜７，１１〜１４，ＦＭ）と、アライメント光学系
の光路中に光路を変化する光学部材（１５，１６，２
２）とを設ける。複数のアライメント光学系の対物部
（１，８）を移動した後で、アライメント光学系の各検
出領域の相対位置関係が設計上のものとなるように、光
学部材（１５，１６，２２）を駆動して光路を補正す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は位置合わせ装置に関する
ものであり、特に半導体素子製造用の投影型露光装置の
アライメント光学系に関するものである。
ものであり、特に半導体素子製造用の投影型露光装置の
アライメント光学系に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の位置合わせ装置は、概ね
図５に示すような構成であった。即ちマスク（レチク
ル）１７上のアライメントマークＸ1 ，Ｙ1 の配置され
た領域に対応する位置には、マークＸ1 ，Ｙ1 の像を検
出するための顕微鏡対物部１が配置されている。対物部
１で検出されたアライメントマークＸ1 ，Ｙ1 の像は、
ハーフミラー３等の光路分割器を含む不図示のアライメ
ント光学系を介して光電検出器等で構成されたＸ軸検出
部４及びＹ軸検出部６に夫々投影される。
図５に示すような構成であった。即ちマスク（レチク
ル）１７上のアライメントマークＸ1 ，Ｙ1 の配置され
た領域に対応する位置には、マークＸ1 ，Ｙ1 の像を検
出するための顕微鏡対物部１が配置されている。対物部
１で検出されたアライメントマークＸ1 ，Ｙ1 の像は、
ハーフミラー３等の光路分割器を含む不図示のアライメ
ント光学系を介して光電検出器等で構成されたＸ軸検出
部４及びＹ軸検出部６に夫々投影される。
【０００３】Ｘ軸、Ｙ軸の各検出部４，６は、アライメ
ントマークＸ1 ，Ｙ1 の形状に夫々一致したスリット
５，７を備えており、アライメントマークＸ1 とスリッ
ト５、及びアライメントマークＹ1 とスリット７との位
置的な一致によってレチクルを位置合わせする。尚、レ
チクル上の他のアライメントマークＸ2 ，Ｙ2 に関して
も同様に、顕微鏡対物部２で検出された像をＸ軸検出部
１１及びＹ軸検出部１３の夫々に投影し、スリット１
２，１４との位置的な一致によって位置合わせするもの
である。
ントマークＸ1 ，Ｙ1 の形状に夫々一致したスリット
５，７を備えており、アライメントマークＸ1 とスリッ
ト５、及びアライメントマークＹ1 とスリット７との位
置的な一致によってレチクルを位置合わせする。尚、レ
チクル上の他のアライメントマークＸ2 ，Ｙ2 に関して
も同様に、顕微鏡対物部２で検出された像をＸ軸検出部
１１及びＹ軸検出部１３の夫々に投影し、スリット１
２，１４との位置的な一致によって位置合わせするもの
である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら近年で
は、半導体素子のチップ面積は増大傾向にあり、レチク
ル上で必要とされる露光領域の拡大が要求されるように
なってきている。露光領域の拡大はレチクル上のアライ
メントマークの配置変更を必要とする。また、半導体素
子の製造工程によっては１台の装置に使用するレチクル
の露光領域が複数種類に渡ることもあり、レチクルの種
類を変更する毎にアライメントマークの配置が異なるこ
とになる。
は、半導体素子のチップ面積は増大傾向にあり、レチク
ル上で必要とされる露光領域の拡大が要求されるように
なってきている。露光領域の拡大はレチクル上のアライ
メントマークの配置変更を必要とする。また、半導体素
子の製造工程によっては１台の装置に使用するレチクル
の露光領域が複数種類に渡ることもあり、レチクルの種
類を変更する毎にアライメントマークの配置が異なるこ
とになる。
【０００５】ところが、上記のような構成の従来の装置
においては、アライメント光学系が装置に対して固定さ
れているため、露光領域の異なる（即ちアライメントマ
ークの位置の異なる）レチクルを使用することが制限さ
れていた。そこで、アライメントマークの配置が異なる
複数種類のレチクルを使用可能とするためにアライメン
ト光学系（全体、若しくはその一部）を可動とする構成
の位置合わせ装置も考えられる。しかしながらアライメ
ント光学系を移動させるということは、必然的にアライ
メント光学系（又はその一部）の位置設定誤差を含むこ
とを意味する。
においては、アライメント光学系が装置に対して固定さ
れているため、露光領域の異なる（即ちアライメントマ
ークの位置の異なる）レチクルを使用することが制限さ
れていた。そこで、アライメントマークの配置が異なる
複数種類のレチクルを使用可能とするためにアライメン
ト光学系（全体、若しくはその一部）を可動とする構成
の位置合わせ装置も考えられる。しかしながらアライメ
ント光学系を移動させるということは、必然的にアライ
メント光学系（又はその一部）の位置設定誤差を含むこ
とを意味する。
【０００６】本発明は上記のような問題点を解決し、ア
ライメントマークの配置の異なる複数種類のレチクルを
交換して使用したとしても、各レチクルのアライメント
制度を一様にすることができる位置合わせ装置を提供す
ることを目的とする。
ライメントマークの配置の異なる複数種類のレチクルを
交換して使用したとしても、各レチクルのアライメント
制度を一様にすることができる位置合わせ装置を提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的のために本発明
では、マスク（１７）上のパターンを感光基板上に投影
するための投影光学系（１８）と、マスク（１７）上に
設けられた複数のアライメントマーク（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｘ
2 ，Ｙ2 ）の夫々を所定の検出領域内で検出する複数の
アライメント光学系（１，３〜７，８，１０〜１４）
と、アライメントマーク（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｘ2 ，Ｙ2 ）の
配置に応じてアライメント光学系（１，３〜７，８，１
０〜１４）の少なくとも一部を移動可能とするための駆
動手段（２，９）とを備えた位置合わせ装置において、
駆動手段（２，９）による移動が完了した後で、複数の
アライメント光学系（１，３〜７，８，１０〜１４）の
各検出領域の投影光学系（１８）の投影像面における相
対位置関係を検出する検出手段（４〜７，１１〜１４，
ＦＭ）と；検出された相対位置関係が設計上の位置関係
に設定されるように、複数のアライメント光学系（１，
３〜７，８，１０〜１４）のうち少なくとも１つのアラ
イメント光学系の検出領域を駆動手段（２，９）とは無
関係に位置補正するための補正部材（１５，１６，２
２）とを備えたこととする。
では、マスク（１７）上のパターンを感光基板上に投影
するための投影光学系（１８）と、マスク（１７）上に
設けられた複数のアライメントマーク（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｘ
2 ，Ｙ2 ）の夫々を所定の検出領域内で検出する複数の
アライメント光学系（１，３〜７，８，１０〜１４）
と、アライメントマーク（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｘ2 ，Ｙ2 ）の
配置に応じてアライメント光学系（１，３〜７，８，１
０〜１４）の少なくとも一部を移動可能とするための駆
動手段（２，９）とを備えた位置合わせ装置において、
駆動手段（２，９）による移動が完了した後で、複数の
アライメント光学系（１，３〜７，８，１０〜１４）の
各検出領域の投影光学系（１８）の投影像面における相
対位置関係を検出する検出手段（４〜７，１１〜１４，
ＦＭ）と；検出された相対位置関係が設計上の位置関係
に設定されるように、複数のアライメント光学系（１，
３〜７，８，１０〜１４）のうち少なくとも１つのアラ
イメント光学系の検出領域を駆動手段（２，９）とは無
関係に位置補正するための補正部材（１５，１６，２
２）とを備えたこととする。
【０００８】
【作用】本発明においては、位置合わせ装置のアライメ
ント光学系における検出領域を位置補正するための補正
部材を備えたため、アライメント光学系の各検出領域の
相対位置関係を微小に移動可能となる。
ント光学系における検出領域を位置補正するための補正
部材を備えたため、アライメント光学系の各検出領域の
相対位置関係を微小に移動可能となる。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の第１の実施例によるアライメ
ント光学系の概略的な構成を示す図である。基本的な構
成は図５，図６に示す従来の装置と同様である。新規な
点は、アライメント光学系の顕微鏡対物部１及び８にこ
れらを移動するための駆動部２及び９を夫々設けた点
と、複数のアライメント光学系のうち１つの光学系中に
光路を変化するための光学部材として平行平板ガラス１
５，１６を設けた点とにある。即ち対物部１及び８は、
レチクル１７上のアライメントマークＸ1 ，Ｙ 1 ，
Ｘ2 ，Ｙ2 の配置変更に伴って、対物部１，８の検出領
域、即ち対物部１，８のレチクル１７上の視野内にアラ
イメントマークＸ1 ，Ｙ1 ，Ｘ2 ，Ｙ2 が位置するよう
に駆動部２，９によって夫々移動する。ここで、対物部
１，８が可動式になったため、アライメントの基準とし
ての位置設定精度が問題となる。つまり、対物部を移動
したことにより、対物部の視野、言い換えれば各アライ
メント光学系中の位置合わせ基準であるスリット５，
７，１２，１４の露光装置の投影光学系の投影像面にお
ける相対位置関係が所定の関係からずれてしまう。尚、
本実施例ではアライメントの基準としてスリットを用い
たが、画像処理によってアライメントを実行する構成の
装置では、この画像が得られる視野を検出領域とすれば
よい。また、レーザビーム等を用いてアライメントを実
行する場合は、このビームの照射範囲を検出領域とすれ
ばよい。以下にこのずれを補正する方法について説明す
る。
ント光学系の概略的な構成を示す図である。基本的な構
成は図５，図６に示す従来の装置と同様である。新規な
点は、アライメント光学系の顕微鏡対物部１及び８にこ
れらを移動するための駆動部２及び９を夫々設けた点
と、複数のアライメント光学系のうち１つの光学系中に
光路を変化するための光学部材として平行平板ガラス１
５，１６を設けた点とにある。即ち対物部１及び８は、
レチクル１７上のアライメントマークＸ1 ，Ｙ 1 ，
Ｘ2 ，Ｙ2 の配置変更に伴って、対物部１，８の検出領
域、即ち対物部１，８のレチクル１７上の視野内にアラ
イメントマークＸ1 ，Ｙ1 ，Ｘ2 ，Ｙ2 が位置するよう
に駆動部２，９によって夫々移動する。ここで、対物部
１，８が可動式になったため、アライメントの基準とし
ての位置設定精度が問題となる。つまり、対物部を移動
したことにより、対物部の視野、言い換えれば各アライ
メント光学系中の位置合わせ基準であるスリット５，
７，１２，１４の露光装置の投影光学系の投影像面にお
ける相対位置関係が所定の関係からずれてしまう。尚、
本実施例ではアライメントの基準としてスリットを用い
たが、画像処理によってアライメントを実行する構成の
装置では、この画像が得られる視野を検出領域とすれば
よい。また、レーザビーム等を用いてアライメントを実
行する場合は、このビームの照射範囲を検出領域とすれ
ばよい。以下にこのずれを補正する方法について説明す
る。
【００１０】図６に示すようにこの種の位置合わせ装置
を備えた露光装置のウェハステージ１９上にはウェハの
感光面とほぼ同一平面内に基準指標板ＦＭが載置されて
いる。この基準指標板ＦＭには、基準パターンとしてレ
チクル上のアライメントマークＸ1 ，Ｙ1 ，Ｘ2 ，Ｙ2
と同様の２次元方向に延びた不図示のパターンが描かれ
ている。この基準パターンと図１に示した平行平板ガラ
ス１５，１６を用いて前述のずれを補正する。
を備えた露光装置のウェハステージ１９上にはウェハの
感光面とほぼ同一平面内に基準指標板ＦＭが載置されて
いる。この基準指標板ＦＭには、基準パターンとしてレ
チクル上のアライメントマークＸ1 ，Ｙ1 ，Ｘ2 ，Ｙ2
と同様の２次元方向に延びた不図示のパターンが描かれ
ている。この基準パターンと図１に示した平行平板ガラ
ス１５，１６を用いて前述のずれを補正する。
【００１１】先ず、顕微鏡対物部１を移動した位置に対
応するステージ１９の移動範囲内の位置に基準指標板Ｆ
Ｍを移動する。この移動は、レチクル１７上のアライメ
ントマークＸ1 ，Ｙ1 の設計上の位置に応じて行えばよ
い。次に指標板ＦＭ上の基準パターンを投影光学系を介
して対物部１で検出し、指標板ＦＭを移動することによ
ってスリット５，７に位置合わせする。また、この時の
指標板ＦＭ（基準パターン）の位置をウェハステージに
備えられた干渉計等の位置計測手段で計測し記憶してお
く。対物部１の検出領域の投影像面での位置は、以上の
方法で求められる。
応するステージ１９の移動範囲内の位置に基準指標板Ｆ
Ｍを移動する。この移動は、レチクル１７上のアライメ
ントマークＸ1 ，Ｙ1 の設計上の位置に応じて行えばよ
い。次に指標板ＦＭ上の基準パターンを投影光学系を介
して対物部１で検出し、指標板ＦＭを移動することによ
ってスリット５，７に位置合わせする。また、この時の
指標板ＦＭ（基準パターン）の位置をウェハステージに
備えられた干渉計等の位置計測手段で計測し記憶してお
く。対物部１の検出領域の投影像面での位置は、以上の
方法で求められる。
【００１２】対物部１の検出領域の位置が求まると、レ
チクル１７上のアライメントマークＸ2 ，Ｙ2 の設計上
の位置に基づいて、対物部８の検出領域の存在すべき位
置に対応したステージ１９の移動範囲内の位置に基準指
標板ＦＭを移動する。このとき、移動した位置での指標
板ＦＭの基準パターンは、対物部８を含むアライメント
光学系のスリット１２，１４に一致していない。そこ
で、アライメント光学系の光路中に配置した平行平板ガ
ラス１５，１６を回動して光路を変化させて基準パター
ンをスリット１２，１４に一致させる。以上の動作によ
って対物部１，８を移動したことによる誤差を補正する
ことができる。
チクル１７上のアライメントマークＸ2 ，Ｙ2 の設計上
の位置に基づいて、対物部８の検出領域の存在すべき位
置に対応したステージ１９の移動範囲内の位置に基準指
標板ＦＭを移動する。このとき、移動した位置での指標
板ＦＭの基準パターンは、対物部８を含むアライメント
光学系のスリット１２，１４に一致していない。そこ
で、アライメント光学系の光路中に配置した平行平板ガ
ラス１５，１６を回動して光路を変化させて基準パター
ンをスリット１２，１４に一致させる。以上の動作によ
って対物部１，８を移動したことによる誤差を補正する
ことができる。
【００１３】一般にこの種の位置合わせ装置では、例え
ばＣＲＴ等のモニター上でアライメントマークを観察す
るために、撮像管等を含む観察系が備えられている。そ
こでこの観察系を備えた装置の例について、第２の実施
例として図２を参照して説明する。図２に示す位置合わ
せ装置の光学系の配置は基本的に図１に示すものと同様
であり、ハーフミラー等の光路分割器３′，１０′を追
加して夫々観察系２０，２１に光路を導いている。この
場合、Ｘ軸検出部１１及びＹ軸検出部１３に達する光路
は平行平板ガラス１５，１６によって補正可能となって
いる。しかしながら、観察系２１に達する光路は平行平
板ガラス１５，１６によって補正することはできない。
つまり、平行平板ガラス１５，１６によって補正された
Ｘ軸及びＹ軸検出部１１，１３でのアライメントマーク
Ｘ2 ，Ｙ2 の像の位置関係を直接観察することができな
い。そこで図３のように平行平板ガラスを観察系とＸ軸
及びＹ軸検出部との共通の光路中に入れた例について第
３の実施例として説明する。平行平板ガラス２２は互い
に直交する方向の回転軸を持ちＸ軸方向とＹ軸方向の光
路の補正を行う。この場合、Ｘ軸，Ｙ軸の各検出部１
１，１３で検出されるアライメントマークＸ2 とＹ2と
の位置関係は、観察系２１で検出され得るが、一方向に
平行平板ガラス２２を回転すると、他の方向の回転状態
も若干変化してしまう。この変化を完全に零にすること
は困難なため、例えばＸ軸方向を補正した後、Ｙ軸方向
を補正したときにＸ軸方向の補正状態が維持されず、最
悪の場合何度も補正動作を繰り返すことになってしま
う。これはＸ軸、Ｙ軸方向の各補正を１つの平行平板ガ
ラスで行わずに、独立した２つの平行平板ガラスで別々
に補正するようにしても平行平板ガラスの配置位置が図
３に示すものと同様であれば同じ結果となる。
ばＣＲＴ等のモニター上でアライメントマークを観察す
るために、撮像管等を含む観察系が備えられている。そ
こでこの観察系を備えた装置の例について、第２の実施
例として図２を参照して説明する。図２に示す位置合わ
せ装置の光学系の配置は基本的に図１に示すものと同様
であり、ハーフミラー等の光路分割器３′，１０′を追
加して夫々観察系２０，２１に光路を導いている。この
場合、Ｘ軸検出部１１及びＹ軸検出部１３に達する光路
は平行平板ガラス１５，１６によって補正可能となって
いる。しかしながら、観察系２１に達する光路は平行平
板ガラス１５，１６によって補正することはできない。
つまり、平行平板ガラス１５，１６によって補正された
Ｘ軸及びＹ軸検出部１１，１３でのアライメントマーク
Ｘ2 ，Ｙ2 の像の位置関係を直接観察することができな
い。そこで図３のように平行平板ガラスを観察系とＸ軸
及びＹ軸検出部との共通の光路中に入れた例について第
３の実施例として説明する。平行平板ガラス２２は互い
に直交する方向の回転軸を持ちＸ軸方向とＹ軸方向の光
路の補正を行う。この場合、Ｘ軸，Ｙ軸の各検出部１
１，１３で検出されるアライメントマークＸ2 とＹ2と
の位置関係は、観察系２１で検出され得るが、一方向に
平行平板ガラス２２を回転すると、他の方向の回転状態
も若干変化してしまう。この変化を完全に零にすること
は困難なため、例えばＸ軸方向を補正した後、Ｙ軸方向
を補正したときにＸ軸方向の補正状態が維持されず、最
悪の場合何度も補正動作を繰り返すことになってしま
う。これはＸ軸、Ｙ軸方向の各補正を１つの平行平板ガ
ラスで行わずに、独立した２つの平行平板ガラスで別々
に補正するようにしても平行平板ガラスの配置位置が図
３に示すものと同様であれば同じ結果となる。
【００１４】上記の図２、図３に示す例における難点を
解決するための平行平板ガラスの配置について、第４の
実施例として図４を参照して説明する。これは複数のア
ライメント光学系のうち１つの光学系で例えばＸ軸方向
の補正のみを行い、別の光学系でＹ軸方向の補正を行う
構成としたものである。つまり、顕微鏡対物部１を含む
アライメント光学系の光路中、Ｘ軸検出部４に光路を分
割した後の光路中でＹ軸検出部６及び観察系２０に達す
る光路中に平行平板ガラス１６を配置する。一方、顕微
鏡対物部８を含むアライメント光学系の光路中、Ｙ軸検
出部１３に光路を分割した後の光路中でＸ軸検出部１１
及び観察系２１に達する光路中に平行平板ガラス１５を
配置する。以上の構成のアライメント光学系では、Ｘ軸
検出部１１で検出されるアライメントマークＸ2 の像の
位置を平行平板ガラス１５で補正し、Ｙ軸検出部６で検
出されるアライメントマークＹ1 の像の位置を平行平板
ガラス１６で補正する。尚、アライメントマークＸ1 ，
Ｘ2 の間隔の微調整は、Ｘ軸検出部４に位置合わせされ
たアライメントマークＸ1 を基準として、平行平板ガラ
ス１５を回転することによって行い、アライメントマー
クＹ1 ，Ｙ2 のＹ座標方向の平行合わせは、Ｙ軸検出部
１３に位置合わせされたアライメントマークＹ2 を基準
として、平行平板ガラス１６を回転することによって行
う。よって、Ｘ軸方向とＹ軸方向の補正は独立に行わ
れ、且つこれらの補正状態は夫々観察系２１，２０によ
ってモニターすることが可能である。
解決するための平行平板ガラスの配置について、第４の
実施例として図４を参照して説明する。これは複数のア
ライメント光学系のうち１つの光学系で例えばＸ軸方向
の補正のみを行い、別の光学系でＹ軸方向の補正を行う
構成としたものである。つまり、顕微鏡対物部１を含む
アライメント光学系の光路中、Ｘ軸検出部４に光路を分
割した後の光路中でＹ軸検出部６及び観察系２０に達す
る光路中に平行平板ガラス１６を配置する。一方、顕微
鏡対物部８を含むアライメント光学系の光路中、Ｙ軸検
出部１３に光路を分割した後の光路中でＸ軸検出部１１
及び観察系２１に達する光路中に平行平板ガラス１５を
配置する。以上の構成のアライメント光学系では、Ｘ軸
検出部１１で検出されるアライメントマークＸ2 の像の
位置を平行平板ガラス１５で補正し、Ｙ軸検出部６で検
出されるアライメントマークＹ1 の像の位置を平行平板
ガラス１６で補正する。尚、アライメントマークＸ1 ，
Ｘ2 の間隔の微調整は、Ｘ軸検出部４に位置合わせされ
たアライメントマークＸ1 を基準として、平行平板ガラ
ス１５を回転することによって行い、アライメントマー
クＹ1 ，Ｙ2 のＹ座標方向の平行合わせは、Ｙ軸検出部
１３に位置合わせされたアライメントマークＹ2 を基準
として、平行平板ガラス１６を回転することによって行
う。よって、Ｘ軸方向とＹ軸方向の補正は独立に行わ
れ、且つこれらの補正状態は夫々観察系２１，２０によ
ってモニターすることが可能である。
【００１５】上記の各実施例において、各アライメント
マークを検出するための照明について特に述べてはいな
いが、アライメント光学系側から照明するものであって
も、基準指標板ＦＭを発光タイプとして、指標板側から
照明するものであってもいずれでも構わない。
マークを検出するための照明について特に述べてはいな
いが、アライメント光学系側から照明するものであって
も、基準指標板ＦＭを発光タイプとして、指標板側から
照明するものであってもいずれでも構わない。
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、アライメ
ント光学系の光路を変化する光学部材を設けたことによ
り、アライメントマークの配置位置の異なるレチクルに
対応させるため顕微鏡対物部を移動した場合でも、アラ
イメント光学系の検出領域の投影像面における相対位置
関係に誤差が生じることを避けることが可能となる。
ント光学系の光路を変化する光学部材を設けたことによ
り、アライメントマークの配置位置の異なるレチクルに
対応させるため顕微鏡対物部を移動した場合でも、アラ
イメント光学系の検出領域の投影像面における相対位置
関係に誤差が生じることを避けることが可能となる。
【００１７】つまり、１台の露光装置に使用可能なレチ
クルの種類が増加するとともに、アライメント光学系の
対物部の位置変更時の駆動部の位置決め精度に影響され
ない高精度なレチクルアライメントが達成される。
クルの種類が増加するとともに、アライメント光学系の
対物部の位置変更時の駆動部の位置決め精度に影響され
ない高精度なレチクルアライメントが達成される。
【図１】本発明の第１の実施例による位置合わせ装置の
概略的な構成を示す図
概略的な構成を示す図
【図２】本発明の第２の実施例による位置合わせ装置の
概略的な構成を示す図
概略的な構成を示す図
【図３】本発明の第３の実施例による位置合わせ装置の
概略的な構成を示す図
概略的な構成を示す図
【図４】本発明の第４の実施例による位置合わせ装置の
概略的な構成を示す図
概略的な構成を示す図
【図５】従来の技術による位置合わせ装置の概略的な構
成を示す図
成を示す図
【図６】従来の技術による位置合わせ装置を備えた露光
装置の概略的な構成を示す図
装置の概略的な構成を示す図
１，３〜７ アライメント光学系 ２ 駆動部 ４ Ｘ軸検出部 ５ スリット ６ Ｙ軸検出部 ７ スリット ８，１０〜１４ アライメント光学系 ９ 駆動部 １１ Ｘ軸検出部 １２ スリット １３ Ｙ軸検出部 １４ スリット １５ 平行平板ガラス １６ 平行平板ガラス ２２ 平行平板ガラス ＦＭ 基準指標板 Ｘ1 アライメントマーク Ｘ2 アライメントマーク Ｙ1 アライメントマーク Ｙ2 アライメントマーク
Claims (1)
- 【請求項１】 マスク上のパターンを感光基板上に投影
するための投影光学系と、前記マスク上に設けられた複
数のアライメントマークの夫々を所定の検出領域内で検
出する複数のアライメント光学系と、前記アライメント
マークの配置に応じて前記アライメント光学系の少なく
とも一部を移動可能とするための駆動手段とを備えた位
置合わせ装置において、 前記駆動手段による移動が完了した後で、前記複数のア
ライメント光学系の各検出領域の前記投影光学系の投影
像面における相対位置関係を検出する検出手段と；前記
検出された相対位置関係が設計上の位置関係に設定され
るように、前記複数のアライメント光学系のうち少なく
とも１つのアライメント光学系の検出領域を前記駆動手
段とは無関係に位置補正するための補正部材とを備えた
ことを特徴とする位置合わせ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3234671A JPH0574684A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 位置合わせ装置 |
| US07/941,176 US5220176A (en) | 1991-09-13 | 1992-09-04 | Apparatus and method for detecting alignment marks having alignment optical systems' driving means |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3234671A JPH0574684A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 位置合わせ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0574684A true JPH0574684A (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=16974650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3234671A Pending JPH0574684A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 位置合わせ装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5220176A (ja) |
| JP (1) | JPH0574684A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6224298B1 (en) | 1997-01-10 | 2001-05-01 | Ngk Insulators, Ltd. | Object transport apparatus having a floating conveying means |
| JP2013511826A (ja) * | 2009-11-24 | 2013-04-04 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | アライメント及びインプリントリソグラフィ |
| JP5182558B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2013-04-17 | 株式会社ニコン | パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JP3841824B2 (ja) * | 1994-01-24 | 2006-11-08 | エスヴィージー リトグラフィー システムズ インコーポレイテッド | 格子−格子干渉型位置合わせ装置 |
| JP4471661B2 (ja) * | 2002-02-11 | 2010-06-02 | ヴィズイクス・インコーポレーテッド | 相対的位置と回転のオフセットの判定 |
| US7388663B2 (en) * | 2004-10-28 | 2008-06-17 | Asml Netherlands B.V. | Optical position assessment apparatus and method |
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| TWI489573B (zh) * | 2012-09-12 | 2015-06-21 | Motech Ind Inc | 檢測裝置 |
| CN110880468A (zh) * | 2019-11-26 | 2020-03-13 | 深圳市矽电半导体设备有限公司 | 一种芯粒对准分选膜的方法及芯粒分选方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS57142612A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-03 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Alignment optical system of projection type exposure device |
| US4636626A (en) * | 1983-01-14 | 1987-01-13 | Nippon Kogaku K.K. | Apparatus for aligning mask and wafer used in semiconductor circuit element fabrication |
| US4669867A (en) * | 1984-02-20 | 1987-06-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment and exposure apparatus |
| JPS60223122A (ja) * | 1984-04-19 | 1985-11-07 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| JPS61121437A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-09 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影型露光装置 |
-
1991
- 1991-09-13 JP JP3234671A patent/JPH0574684A/ja active Pending
-
1992
- 1992-09-04 US US07/941,176 patent/US5220176A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5220176A (en) | 1993-06-15 |
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