KR100330069B1 - 주사형노광장치및그의노광방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 마스크 또는 감광성 기판상 패턴에서의 직각 에러를 수정하여 다수 영역의 영상을 상기 마스크로 동시에 투영하기 위한 주사형 노광 장치 및 그의 노광방법에 관한 것이다. 만약 마스크 또는 감광성 기판상 패턴이 직각 에러를 가져 상기 패턴이 주사방향으로 나아갈 때 상기 패턴이 상기 주사방향에 수직인 제 1 방향에서 어느 각으로 벗어나면, 마스크 또는 감광성 기판은 마스크 또는 감광성 기판 평면에서 서로에 대해 회전되어 제 1 방향을 갖는 각 패턴의 좌표계에서 하나의 결합축을 배열시킨다. 그리고 나서 상대적인 이동은 제 1 광학시스템을 통하여 투영된 영상의 위치와, 제 2 광학시스템을 통하여 투영된 영상의 위치 사이에 직각 에러량으로 주어진다. 그리고 마스크 또는 감광성 기판의 상대적인 위치는 주사 방향에서 상기 마스크 또는 감광성 기판의 위치에 따른 제 1 방향에서의 직각 에러량으로 연속적으로 변화된다.

Description

주사형 노광 장치 및 노광 방법
본 발명은 주사형 노광장치 및 노광방법에 관한 것으로, 특히 액정 디스플레이 장치를 제작하기 위해 이용되는 감광 기판상에 큰 면적의 패턴을 노광시키는데 바람직하게 적용되는 주사형 노광장치 및 노광방법에 관한 것이다.
종래의 큰 면적의 패턴을 노광하기 위한 노광장치는 마스크의 작은 전사 이미지를 단일 투영 광학 시스템을 통하여 감광 기판으로 반복하여 투영하는 스텝 앤드 리피트 형식, 또는 원호 슬릿 조명빔에 의해 얻어진 마스크와 등배의 전사 이미지를 단일 투영 광학 시스템을 통하여 감광 기판으로 투영하는 미러 프로젝션 방식 등의 주사형 노광장치를 포함하고 있다.
한편 단일 투영 광학 시스템 대신에 다수의 투영 광학 시스템이 배열되는 것이 고려되고 있다. 주로 이러한 방식의 노광장치는 다수의 조명 광학 시스템으로부터 방사된 광빔이 상기 마스크상의 다수의 소영역을 조명하도록 배열된다. 이와 같은 다수의 소영역에서의 전사 이미지는 각 투영 광학 시스템을 통하여 상기 감광 기판으로 동시에 투영된다.
제 6 도에 도시된 바와 같이 다수의 소영역에서의 전사 이미지(P1-P5)는 전사 이미지(P1, P3, P5)을 포함하는 제 1 전사 이미지 열과 ; 전사 이미지(P2, P4) 를 포함하는 제 2 전사 이미지 열로 분리되어 전송된다. 제 1 전사 이미지 열의 방향은 상기 마스크와 감광 기판의 주사방향(이하는 X 방향으로 표기함)에 거의 수직하고 감광 기판면내인 Y 방향에 평행한다. 전사 이미지(P1, P3, P5)는 그 중심 사이가 간격 2Ly으로 되도록 배열된다. 또한 제 2 전사 이미지 열의 방향은 제 1 전사 이미지 열의 방향에 평행하고 전사 이미지(P2, P4) 는 그 중심 사이가 간격 2Ly이 되도록 배열된다. 그리고 나서 전사 이미지(P1-P5)은 X 방향으로 주사함으로써 Y 방향으로 부분적으로 중첩하여 전사된다. 이와 같이 함으로써, 마스크 및 감광 기판이 동시에 주사될 때 큰 면적의 패턴은 감광 기판으로 투영된다.
본 발명의 주사형 노광장치는 패턴이 형성된 마스크상의 다수의 영역(M1-M5)을 각각 조명하기 위한 다수의 조명 광학 시스템과, 제 1 방향 Y을 따라 1열로 광축을 배열한 다수의 투영 광학 시스템을 가지는 제 1 광학 시스템과, 상기 제 1 광학 시스템으로부터 소정의 거리 D 만큼 떨어져 1 열로 광축을 배열한 다수의 투영 광학 시스템을 가지며, 다수의 영역(M1-M5) 의 전사 이미지(P1-P5) 중의 일부(P1, P3, P5)과 나머지 이미지(P2, P4)는 각각 제 1 광학 시스템과 제 2 광학 시스템으로 통하여 감광 기판으로 동시에 투영되는 제 2 광학 시스템을 구비하며, 상기 마스크와 감광 기판은 감광 기판의 면내에서 그리고 제 1 방향 Y에 거의 수직인 방향 X로 동기하여 주사되고, 마스크 또는 감광 기판면에서 마스크와 감광 기판 사이를 상대적으로 회전시키기 위한 회전수단과, 마스크 또는 감광 기판의 주사 방향 X에서의 위치에 따라 상기 마스크와 감광 기판의 상대적인 위치를 제 1 방향 Y로 변화시키기 위한 위치 변위 수단과, 상기 제 1 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지(P1, P3, P5)의 위치 및 상기 제 1 방향으로 제 2 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지(P2, P4)의 위치를 상대적으로 변화시키기 위한 이미지 위치 변경 수단을 더 포함한다.
상기 이미지 위치 변경 수단은 주사 방향 X와 상기 주사 방향 X에 수직인 방향 Y에 의해 결정된 소정의 제 2 좌표계에 대해 상기 마스크상에 형성된 패턴의 배열에 관련되는 제 1 좌표계에서의 각의 편차에 기초를 두어 상대적인 변화를 수행하도록 배열되는 것이 바람직하다.
상기 감광 기판상에, 상기 마스크 패턴의 제 1 이미지가 미리 형성되어 있고 마스크 패턴의 제 2 이미지가 상기 제 1 이미지와 중첩하여 노광을 위하여 투영되는 경우, 제 2 이미지의 위치는 주사 방향 X와 주사 방향 X에 수직인 방향으로 결정된 제 2 좌표계에 대하여 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초를 두어 상대적으로 변화된다.
상기 감광 기판상에, 상기 마스크 패턴의 제 1 이미지가 미리 형성되어 있고 마스크 패턴의 제 2 이미지가 상기 제 1 이미지와 중첩하여 노광을 위하여 투영되는 경우, 제 2 이미지의 위치는 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 2 좌표계에 대해 상기 마스크 패턴의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초를 두어 상대적으로 변화된다.
또한 본 발명은 패턴이 형성된 마스크상의 다수의 영역(M1-M5)을 각각 조명하기 위한 다수의 조명 광학 시스템과; 제 1 방향 Y에 따라 1열로 광축을 배열한 다수의 투영 광학 시스템을 가지는 제 1 광학 시스템과 ; 상기 제 1 광학 시스템과 평행하게 배열되고 제 1 광학 시스템으로부터 소정의 거리로 떨어져 1열로 광축을 배열한 다수의 투영 광학 시스템을 가지며; 다수의 영역(M1-M5)의 이미지(P1-P5)중에 몇 개의 이미지(P1, P3, P5)와 나머지 이미지(P2, P4)는 각각 상기 제 1 광학 시스템과 제 2 광학 시스템을 통하여 감광 기관으로 투영되는 제 2 광학 시스템을 포함하며, 상기 마스크와 감광 기판은 감광 기판의 면내에서 제 1 방향 Y에 거의 수직인 방향 X로 동기하여 주사되는 주사형 노광 장치를 구비한다. 상기한 본 발명에 따른 주사형 노광장치에는 제 1 방향 Y 에 대해 상기 제 1 광학 시스템과 제 2 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지(P1-P5)의 배열 방향을 소정의 각만큼 변화시키고, 제 1 광학 시스템을 통해 투영된 이미지(P1, P3, P5) 간의 간격 2Ly 과 제 2 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지(P2, P4) 간의 변화 간격 2Ly을 변화시키고, 상기 광축에 대하여 회전방향으로 각각의 이미지(P1-P5)의 위치를 변화시키기 위한 이미지 위치 변화 수단(9A-9E)이 설치된다.
감광 기판상에, 마스크 패턴의 제 1 이미지가 미리 형성되어 있고 마스크 패턴의 제 2 이미지는 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되는 경우, 상기 이미지 위치 변화 수단은 주사 방향 X와 주사 방향 X에 수직인 방향 Y로 결정된 제 2 좌표계에 대해 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 배열 방향의 변화와, 이미지 간격의 변화와, 회전 방향의 위치의 변화를 수행한다.
감광 기판상에, 마스크 패턴의 제 1 이미지가 미리 형성되어 있고 마스크 패턴의 제 2 이미지는 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되는 경우, 상기 이미지 위치 변화 수단은 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 2 좌표계에 대해 상기 패턴의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 배열 방향의 변화와,이미지 간격의 변화와, 회전 방향의 위치의 변화를 수행한다
본 발명에 따른 주사형 노광방법은 패턴이 형성된 마스크상의 다수의 영역(M1-M5)을 각각 조명하는 다수의 조명 광학 시스템과, 광축이 제 1 방향 Y 에 따라 1열로 배열된 다수의 투영 광학 시스템을 가진 제 1 광학 시스템과, 제 1 광학 시스템에 평행하게 배열되고 광축이 제 1 광학 시스템으로부터 소정의 거리만큼 떨어져 1열로 배열되는 다수의 투영 광학 시스템을 가지며, 다수 영역(M1-M5)의 이미지(P1-P5)중 몇개의 이미지(P1, P3, P5)와 나머지 이미지(P2, P4)은 각각 제 1 광학 시스템과 제 2 광학 시스템을 통하여 감광 기판에 투영되는 제 2 광학 시스템을 구비하며, 상기 마스크와 감광 기판은 감광 기판의 면내에서 제 1 방향 Y에 거의 수직인 방향 X으로 동시에 주사되는 장치에 의해 수행된다. 상기한 본 발명의 주사형 노광방법은 마스크 또는 감광 기판의 면내에서 상기 마스크 및 감광 기판을 상대적으로 회전시키는 회전단계와; 상기 마스크 및 감광 기판의 주사 방향 X 의 위치에 따라 마스크(1)과 감광 기판(8)의 상대적인 위치를 제 1 방향 Y로 변화시키는 위치 변화 단계와; 제 1 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지(P1, P3, P5)의 위치와 제 2 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지(P2, P4)의 위치를 상대적으로 변화시키는 이미지 위치 변화 단계를 포함한다.
상기 이미지 위치 변환단계는 주사 방향 X와 상기 주사 방향 X에 수직인 방향 Y으로 결정된 제 2 좌표계에 대해 마스크상에 형성된 패턴의 배열에 관련된 제 1 광학 시스템의 각의 편차에 기초하여 상대적인 변화를 수행하도록 배열되는 것이 바람직하다.
상기 감광 기판상에, 마스크 패턴의 제 1 이미지가 미리 형성되어 있고 마스크 패턴의 제 2 이미지는 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되는 경우, 이미지 위치 변화 단계는 주사 방향 X와 상기 주사 방향 X에 수직인 방향 Y으로 결정된 제 2 좌표계에 대해 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 상대적인 변화를 수행한다.
상기 감광 기판상에, 마스크 패턴의 제 1 이미지가 미리 형성되어 있고 마스크 패턴의 제 2 이미지는 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되는 경우, 이미지 위치 변화 단계는 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 2 좌표계에 대해 마스크 패턴의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 상대적인 이동을 수행 한다.
본 발명에 따른 노광방법은 패턴이 형성된 마스크상의 다수의 영역(M1-M5)을 각각 조명하는 다수의 조명 광학 시스템과; 광축이 제 1 방향 Y에 따라 1열로 배열되는 다수의 투영 광학 시스템을 가진 제 1 광학 시스템과, 제 1 광학 시스템과 평행하게 배열되고 광축이 제 1 광학 시스템으로부터 소정의 거리만큼 떨어져 1열로 배열되는 다수의 투영 광학 시스템을 가지며, 다수의 영역(M1-M5)의 이미지(P1-P5)중 몇 개의 이미지(P1, P3, P5)와 나머지 이미지(P2, P4)은 각각 제 1 광학 시스템과 제 2 광학 시스템을 통하여 감광 기판으로 투영되는 제 2 투영 광학 시스템을 구비하며, 상기 마스크와 감광 기판은 감광 기판의 면내에서 제 1 방향 Y에 거의 수직인 방향 X 로 동기하여 주사되는 장치에 의해 수행된다. 또한 상기 노광방법은 제 1 방향에 대해 제 1 광학 시스템과 제 2 광학 시스템을 통해 투영된 이미지의배열방향을 소정의 각만큼 변화시키고, 제 1 광학 시스템을 통해 투영된 이미지(P1, P3, P5)간의 간격 및 제 2 광학 시스템을 통해 투영된 이미지(P2, P4) 간의 간격을 변화시키고, 광축에 대하여 회전방향으로 각각의 이미지(P1-P5)의 위치를 변화시키는 이미지 위치 변화 단계를 포함한다.
상기 감광 기판상에, 마스크 패턴의 제 1 이미지가 미리 형성되어 있고 마스크 패턴의 제 2 이미지는 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되는, 이미지 위치 변화 단계는 주사 방향 X와 상기 주사 방향 X에 수직인 방향 Y으로 결정된 제 2 좌표계에 대해 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 배열 방향의 변화, 이미지 간격의 변화, 회전 방향의 위치변화를 수행한다.
상기 감광 기판상에, 마스크 패턴의 제 1 이미지가 미리 형성되어 있고 마스크 패턴의 제 2 이미지는 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되는 경우, 이미지 위치 변화 단계는 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 2 좌표계에 대해 마스크 패턴의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 배열 방향의 변화, 이미지 간격의 변화, 회전 방향의 위치변화를 수행한다.
본 발명은 아래에 설명될 상세한 설명과 첨부도면에 의해 더욱 잘 이해될 것이고 하기의 설명은 단지 예로서 나타낸 것으로 본 발명은 그것에 제한되지 않는다.
더욱이 본 발명의 적용 범주는 아래에 기재된 상세한 설명에 의해 명백하게 될 것이다. 하지만 상세한 설명과 특정예는 본 발명의 바람직한 실시예로서 단지 예로서 나타내었고 본 발명이 속하는 기본 정신과 범주를 벗어나지 않는다면 상세한 설명으로부터 당업자가 용이하게 이해할 수 있다.
제 7 도에 도시된 바와 같이 X 방향을 따른 에지가 +X 방향으로 나아감에 따라 상기 에지가 +Y 방향으로 각 α만큼 벗어나는 직교도 에러를 가지는 마스크(1)상에 형성된 마스크 패턴(2)를 고려한다. 이 경우에 제 8 도에 도시된 바와 같이 상기 마스크(1)와 감광 기판이 동시에 X 방향으로 이동함에 따라 만약 마스크(1)가 Y 방향에 연속적으로 변위되면, 마스크 패턴(2)은 주사 단부로부터 제 1 및 제 2 전사 이미지 열을 가진 감광 기판에 투영되어 직교도 에러 (α)를 제거하면서 정상적인 전사 이미지가 투영될 수 있다.
하지만, 제 1 및 제 2 전사 이미지 열은 광축이 서로 소정의 거리 D로 분리된 2 열로 배열되어 있는 다수의 투영 광학 시스템에 의해 투영된다. 그래서 제 1 전사 이미지 열의 중심과 제 2 전사 이미지 열의 중심 사이의 거리 D는 투영 광학 시스템용 거리와 동일하다. 이것은 비록 마스크와 감광 기판이 X 방향으로 동기하여 이동함에 따라 마스크가 Y 방향으로 연속적으로 변위되더라도 감광 기판으로 투영된 전사 이미지(P1-P5) 의 결합패턴이 마스크 패턴(2)을 정확히 재생할 수 없다는 것을 의미한다.
더욱 상세히는, 상기 열간 거리 D 때문에, 주사하는 동안의 Y방향 이동은 중심 거리(상기 중심들의 궤적사이의 거리), 예를들어, 제 6 도에 도시된 바와 같이 Ly에서 (Ly ± Dtana)까지 전사 이미지(P1 및 P2)사이의 중심 거리가 변한다. 마스크 패턴(2)과 비교할 때, 상기 감광 기판으로의 노광후 전사 이미지(P1-P5)의 결합패턴은 Y방향으로의 과도한 접합상태로 노광된 부분들(예를들어, P2 및 P3)과, 불충분한 접합 상태로 노광된 부분들(예: P1, P2)을 포함한다. 이것은 전사 이미지(P1-P5) 사이의 위치관계는 감광 기판상에서 이탈하게 되고, 결과적으로 노광 영역의 연결 부분에서 상기 감광 기판에 대한 노광 과잉 또는 노광 부족이 발생하는 것을 의미한다. 이것 때문에 디바이스의 패턴 선폭은 소정의 값으로부터 변하거나 단선된다.
이하에 본 발명의 일실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제 1 도는 액정 디스플레이 장치의 제작에 필요한 감광 기판상에 큰 면적의 패턴을 노광하기 위한 주사형 노광 장치(3)를 도시하고 있다.
다수의 대응 조명 광학 시스템으로부터 방사된 다수의 광빔(L1A-L1E)은 각각 마스크 스테이지(5)상에 고정된 마스크(1) 위에 있는 상이한 다수의 소영역(M1-M5)을 각각 조명한다.
그리고 나서 마스크(1)에 의해 전송된 다수의 광범(L1A-L1E)은 다수의 대응 투영 광학 시스템(6A-6E)을 통과하여 캐리지(7)상에 탑재된 감광 기판(8)을 조명한다. 이것 때문에 마스크 패턴(2)의 관련된 소영역(M1-M5)에 대응하는 전사 이미지(P1-P5)가 감광성 패턴(8)으로 투영된다.
각 투영 광학 시스템(6A-6E)에는 전사 이미지(P1-P5)을 광축에 대해 회전방향으로 이동시키는 예를들어 도브(Dove) 프리즘과 같은 메카니즘과, 전사 이미지(P1-P5)의 확대를 조절하기 의한 예를들어 줌 렌즈시스템과 같은 메카니즘이 제공된다. 또한 전사 이미지(P1-P5)을 X와 Y 방향으로 이동시키기 위한 메카니즘(9A-9E)은 각 투영 광학 시스템(6A-6E)과 감광 기판(8) 사이에 위치한다.메카니즘(9A-9E)은 각각 경사가능하게 지지되는 2개의 유리 판으로 구성된다. 이 메카니즘(9A-9E)은 이미지 시프트/회전/배율 조정메카니즘을 구성한다 (조정 메커니즘).
상기 감광 기판(8)상의 복수의 전사 이미지(P1-P5)는 제 6 도에 도시된 바와 같이 사다리꼴 패턴으로 형태가 이루어진다. 전사 이미지(P1, P3, P5)으로 구성된 제 1 전사 이미지 열과 전사 이미지(P2, P4)으로 구성된 제 2 전사 이미지 열을 대면시키는 측상에 각 사다리꼴 패턴의 상부 에지가 위치한다. 인접한 2개의 전사 이미지, 예를들면 전사 이미지(P1)와 전사 이미지(P2) 또는 전사 이미지(P2)와 전사 이미지(P3)은 그 중심이 X 방향 및 Y 방향으로 열간 거리 D와 이미지간 거리 Ly로 서로 각각 떨어져 있으며 삼각형상의 단부는 서로 Y 방향에서 중첩하도록 배열된다.
전사 이미지(P1-P5)의 중심부의 배열에 대응하여, 투영 광학 시스템(6A-6E)의 광축은 X 방향 및 Y 방향으로 각각 서로로부터 열간 거리 D와 이미지간 거리 Ly 만큼 떨어져 있다. 조명 광학 시스템(4A-4E)은 마스크(1)상의 소영역(M1-M5)이 전사 이미지(P1-P5)와 동일한 배열을 가지도록 배열된다.
마스크 스테이지(5)는, C 형상 단면으로 형성된 캐리지(7)의 대향하는 두 판부재중의 하나이며 광빔(L1A-L1E)이 통과할 수 있도록 사각구멍을 갖는 부재상에 탑재된다. 마스크 스테이지(5)는 3개의 구동 모터(10-12)에 의해 X 방향, Y 방향 및 투영 광학 시스템(6A-6E)의 광축 방향(또는 Z방항)에 대한 회전 방향으로 구동되도록 배치된다.
제 2 도에 도시된 바와 같이, 캐리지(7)와 마스크 스테이지(5) 각각에는 측정 간섭계(G1,G2)가 설치되어 있고 X 방향에서 캐리지(7)와 마스크 스테이지(5)의 위치는 각 간섭계(G1,G2)으로부터의 출력에 기초를 두어 제어된다. 또한, 한 쌍의 측정간섭계(G4)는 감광 기판을 갖는 기판 스테이지(13) 와 마스크 스테이지(5) 와의 X 방향 단부 부근에 배치된다. 또한 다른 쌍의 측정간섭계(G5)는 스테이지(13)의 다른 X 방향 단부 부근에 배치된다. 이러한 배열은 2 쌍의 측정 간섭계(G4및G5)로 이루어진 차동 간섭계로부터 보내진 출력(G4및G5)으로 부터 얻은 출력(G4+G5)/2, (G4-G5)/2에 기초를 두어 연산함으로써 감광 기판(8)에 대한 마스크(1)의 회전량과 Y방향 위치를 구한다.
상기한 배열하에서, 제 7 도에 도시된 바와 같이 마스크(1)의 직교도 에러 α는 사전에 알려져 있다고 가정한다. 직교도 에러 α의 보정으로 감광 기판으로의 이미지를 보정하기 위하여, 제어 유니트(도시안됨)는 제 3 도에 도시된 바와 같이 조정 메카니즘을 이용하여 Y방향에서 시프트량 △y 만큼 전사 이미지(P2, P4) 를 미리 시프트시킨다. 상기 시프트량 △y는 열간 거리 D를 이용하여 △y=D·tana로 얻어진다. 더우기 제어 유니트는 구동 모터(10-12)을 이용하여 마스크 스테이지 (5) 를 회전시킴으로써 마스크 (1) 를 위치시켜서 마스크 (1) 의 패턴 (2) 의 4개의 에지중 주사 시작측과 주사 종료측의 2 개 에지가 제 7 도에 도시된 바와 같이 Y방향에 평행하게 되도록 한다.
또한 제어 유니트는 캐리지(7)상에 유지된 감광 기판(8)과 마스크(1) 사이의X 방향으로 상대 위치 관계를 유지하면서 X 방향으로 일정한 속도로 주사 노광을 행한다. 이와 동시에 제어 유니트는 구동 모터(10-12)를 이용하고 주사 노광하는 동안 제 8 도에 도시된 바와 같이 마스크(1)의 이동량에 따라 마스크(1)를 Y 방향으로 감광 기판(8)에 대해 연속적으로 이동시킨다.
제어 유니트가 이러한 방법으로 마스크(1)의 궤적을 제어할 때, 그 중심의 간격은 항상 제 1 전사 이미지(P1)과 제 2 전사 이미지(P2)사이, 제 2 전사 이미지(P2)과 제 3 전사 이미지(P3)사이, 제 3 전사 이미지(P3)과 제 4 전사 이미지(P4)사이, 제 4 전사 이미지(P4)과 제 5 전사 이미지(P5)사이에서 서로 동일하다. 이것에 의하여, 전사 이미지(P1-P5)은 정확히 접합된다. 또한 제 7 도에 도시된 바와 같이 마스크 패턴(2)의 직교도 에러 α가 보정되어 마스크 패턴(2)이 감광 기판(8)으로 정확하게 전사될 수 있다.
상기한 구성에 따르면, 마스크(1)를 마스크(1)의 평면내에 있는 감광 기판(8)으로 상대적으로 회전시키고 마스크(1)와 감광 기판(8)의 X방향 위치에 따른 Y방향으로 마스크(1)와 감광 기판(8)의 상대적인 위치를 변화시키기 위한 구동 모터(10-12)와 마스크 스테이지(5)와; 투영 광학 시스템(6A, 6C, 6E)을 통하여 투영된 전사 이미지(P1, P2, P5)의 위치를 투영 광학 시스템(6B,6D)을 통하여 투영된 전사 이미지(P2, P4)의 위치로 Y 방향으로 상대적으로 변화시키기 위한 조정 메카니즘(9A-9E)에 의하여 이미 알려진 마스크 패턴(2)의 직교도 에러 α가 보정되어 마스크 패턴(2)이 감광 기판(8)으로 정확히 전사될 수 있다.
상기한 실시예는 마스크 (1) 의 마스크 패턴 (2) 이 갖는 직교도 에러 α가보정되어 마스크 패턴(2)을 감광 기판(8)으로 정확히 전사하는 일예를 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예에 제한되지 않는다. 예를 들면 본 발명은 제 7 도에 도시된 바와 같이 마스크 (1) 의 직교도 에러 α를 보정하지 않고 마스크 패턴 (2) 이 감광 기판(8)상에 미리 묘화된 후 마스크 패턴(2)상에 겹쳐서 직교도 에러가 없는 제 2 패턴이 감광 기판(8)으로 전사되는 경우에도 적용될 수 있다.
이 경우에 제 1 도에 도시된 바와 같이 제어 유니트는 2 개의 얼라인먼트 센서(15A,15B)를 이용하여 마스크(1)에서의 얼라인먼트를 위한 마크(MA1)와 마크(MA2)사이와, 감광 기판(8)에서의 얼라인먼트를 위한 마크(PA1)와 마크(PA2)사이의 위치관계를 먼저 측정한다.
그래서 마스크(1)와 감광 기판(8) 사이에서 얻어진 상대적인 위치관계를 기초로 하여, 제어 유니트는 X방향 시프트 에러 △x, Y방향 시프트 에러 △y및 회전에러를 얻는다. 그 후에 시프트 에러 △x, △y및 회전에러로 제어 유니트는 구동 모터(10-12)를 이용하여 마스크 스테이지(5)를 위치시키고 주사 노광을 수행한다.
상기의 실시예는 마스크(1)의 마스크 패턴(2)이 갖는 직교도 에러 α가 보정되어 마스크 패턴(2)을 감광 기판(8)으로 정확히 전사하는 예를 설명하였지만, 본 발명은 상기예에만 제한되지 않고 또한 제 7 도에 도시된 바와 같이 감광 기판(8) 상에 미리 묘화된 패턴과 마스크 패턴 사이에 상대적인 직교도 에러 α가 존재하는 경우에도 적용될 수 있다. 이 경우에 또한 상기한 동일 과정으로 미리 묘화된 패턴상에 겹쳐서 새로운 패턴이 감광 기판(8)에 전사할 수 있다.
더우기, 상기의 실시예는 마스크(1)상에 형성된 마스크 패턴(2)이 +X 방향으로 감에 따라 +Y 방향으로 각 α만큼 벗어나는 직교도 에러 α를 갖는 경우에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 상기에만 제한되지 않고 또한 제 4 도에 도시된 바와 같이 감광 기판(8)에 미리 묘화된 패턴의 Y 방향에 따른 에지가 +X 방향으로 각 β이 어긋나는 직교도 에러 β가 존재하고, 이 패턴에 겹쳐서 새로운 패턴을 감광성 패턴(8)으로 전사하는 경우에도 적용될 수 있다.
제어 유니트는 상기한 얼라인먼트 센서(15A,15B)를 이용하여 3 또는 그 이상 세트의 얼라인먼트 마크(MA1, PA1, MA2, PA2, MA3, PA3)를 측정함으로써 직교도 에러 β를 얻는다.
그리고 나서 제어 유니트는 조정 메카니즘을 이용하여 각 투영 광학 시스템(6A-6E)를 통하여 감광성 패턴(8)상에 초점화되는 전사 이미지(P1-P5)의 상대 위치를 세트한다. 조정하기 전에, 제 1 및 제 2 전사 이미지 열의 중심의 Y 방향 위치가 제 5 도에 점선으로 나타낸 것과 같이 0일 때 제어 유니트는 전사 이미지(P1-P5)의 중심의 Y방향 위치를 각각 +2Ly,+Ly,0,-Ly,-2Ly로 세트된다.
조정 후에, 제어 유니트는 전사 이미지(P1-P5)의 중심의 Y방향 위치를 각각 +2Ly·cosβ, +Ly·cosβ, 0, -Ly·cosβ, -2Ly·cosβ로 세트한다. 그리고, 제어 유니트는 제 1 및 제 2 전사 이미지 열의 중심의 X방향 위치는 제 5 도에서 실선으로 나타낸 것과 같이 0일때, 전사 이미지(P1-P5)의 중심의 X방향 위치를 각각 +2Ly·sinβ, +Ly·sinβ, 0, -Ly·sinβ, -2Ly·sinβ로 세트한다.
그리고 나서, 제어 유니트는 각 투영 광학 시스템(6A-6E)용 조정 메카니즘을 이용하여 전사 이미지(P1-P5)의 위치를 β 만큼 회전시킨다. 그 후 제어 유니트는캐리지(7)의 주사 방향(X 방향)에 대해 직교도 에러를 일으키지 않는 위치에 마스크(1)를 유지하고 이 상태에서 주사 노광을 수행한다. 이것에 의하여 마스크 패턴(2)은 직교도 에러 β를 부여받아 감광 기판(8)으로 전사된다.
말하자면, 이 방법은 -cosβ의 배율 에러를 일으킨다. 만약 이것이 문제가 되면, 조정 메카니즘은 배율 에러를 제거하기 위해 그리고 이미지간 거리(Ly)와 같은 전사 이미지(P1-P5)의 중심 간격을 세트하기 위해 이용될 수 있다.
더우기, 상기한 실시예는 감광 기판(8)에 미리 묘화된 상기 패턴이 제 4 도에 도시된 바와 같이 직교도 에러 β를 가지고 새로운 마스크 패턴은 묘화된 패턴상에 겹쳐져 전사되는 예를 설명하였지만, 본 발명은 상기의 실시예에만 제한되지 않으며, 상기 마스크 패턴과 감광성 패턴(8)에 미리 묘화된 상기 패턴 사이 직교도 에러 β가 존재하고 새로운 마스크 패턴이 상기 묘화된 패턴상에 중첩되어 전사되는 경우에도 적용될 수 있다.
상기한 방법에 있어서, 마스크(1)상의 마스크 패턴(2)의 직교도 에러는 주사 노광 장치(3)에 포함되는 검출시스템(얼라인먼트 센서)을 이용하여 마스크(MA1,PA1등)를 측정함으로써 완전히 보정된다. 또한 감광 기판(8)의 직교도 에러 α 또는 에러 β는 또한 감광 기판(8)상에 형성된 패턴(14)으로 투영된 전사 이미지((P1-P5)의 위치를 측정하여 보정량을 구하거나 상기 주사 노광 장치(3)에 보정량을 미리 제공함으로써 보정된다. 더우기 다수의 각 감광 기판(8)의 고유의 직교도 에러 α 또는 에러 β도 또한 정정된다. 이것은 다수의 장치사이에 중첩 정밀도를 향상시킬 수 있다.
또한, 직교도 에러 α없는 상기 마스크상의 마스크패턴을 이용하여 노광한 감광 기판(8)상의 전사 이미지(P1-P5)의 위치를 측정하고, 장치의 고유의 에러로서 얻어진 직교도 에러를 제어하고, 주사 노광 조작시 상기 방법에 의해 그 에러를 보정함으로써, 조정 작업 시간의 단축과 중첩 정밀도가 개선될 수 있다.
또한, 직교도, 스케일링, 배율 등과 같은 에러성분은 3 또는 더 많은 수의 세트의 얼라인먼트 마크( MA1,MA2,PA1,PA2 등)를 세팅하고 상기의 측정결과를 사용하여 최소 자승법 등에 의해 에러성분을 연산함으로써 보정될 수 있다.
더우기, 상기한 실시예는 하나의 감광 기판(8)을 처리하기 위한 경우를 설명하였지만, 본 발명은 상기의 실시예에만 제한되지 않고 다수의 감광 기판(8)을 연속적으로, 동일하게 처리하기 위한 경우에도 적용될 수 있다. 이 경우에 상기한 절차에서 모든 감광 기판(8)에서 포토마스크 패턴(2)의 직교도 에러 α 또는 패턴(14)의 직교도 에러 β를 계산하는 대신에, 최초 몇개의 감광 기판(8)를 이용하여 직교도 에러 α 또는 에러 β를 구할 수 있고, 그래서 후속 감광 기판(8)은 상기 측정에 기초를 두어 얻어진 직교도 에러를 이용하여 처리될 수 있다. 이것은 작업시간을 단축시킨다.
상기한 바와 같이 본 발명에 의하면, 본 발명은 다수의 방법으로 변형될 수 있다. 이러한 변형은 본 발명의 정신 및 범주로 부터의 시작으로 간주되지는 않는다. 본 발명이 속하는 기술분야에 통상의 지식을 가진 당업자에게 명백하게 되는 것과 같이 모든 변형은 다음의 청구범위의 범주내에서 포함되는 것으로 의도된다.
제 1 도는 액정 디스플레이 장치를 제작하는데 필요한 감광 기판상에 큰 면적의 패턴을 노광시키기 위한 주사형 노광장치의 사시도.
제 2 도는 캐리지, 마스크 스테이지 및 간섭계의 배열을 도시한 사시도.
제 3 도는 본 발명에 따른 전사 이미지의 위치를 도시한 도면.
제 4 도는 감광 기판에 미리 묘화된 패턴의 Y방향을 따른 에지들이 각의 편차를 갖는 경우를 도시한 도면.
제 5 도 및 제 6 도는 본 발명에 따른 전사 이미지의 위치를 도시한 다른 도면.
제 7 도는 본 발명에 따른 감광 기판에 미리 묘화된 패턴의 X방향을 따른 에지들이 각의 편차를 갖는 경우를 도시한 도면.
제 8 도는 구동 모터에 의한 마스크의 이동량을 도시한 그래프이다.
※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 마스크 2: 마스크 패턴
5: 마스크 스테이지 7: 캐리지
8: 감광 기판 10-12: 구동 모터
15A, 15B: 배열 센서 P1-P5: 전사 이미지

Claims (28)

  1. 마스크상의 패턴을 감광 기판상에 전사하는 주사형 노광장치로서,
    마스크상의 다수의 영역을 각각 조명하는 조명 광학 시스템과;
    광축이 제 1 방향에 평행한 면에서 상기 제 1 방향에 수직이고 서로 평행하게 배열된 다수의 투영 광학 시스템을 가지는 제 1 광학 시스템과;
    광축이 상기 제 1 광학 시스템의 투영 광학 시스템의 광축과 평행하게 배치되고 상기 제 1 광학 시스템의 투영 광학 시스템의 광축을 따르는 열로부터 소정의 거리만큼 떨어져 1열로 배열되는 다수의 투영 광학 시스템을 가지며, 상기 마스크상의 다수의 영역중의 몇개의 이미지 및 나머지 이미지를 각각 상기 제 1 광학 시스템 및 제 2 광학 시스템을 통하여 동시에 상기 기판상에 투영하는 제 2 광학 시스템과;
    상기 마스크 및 상기 기판을 상기 기판의 면내에서 상기 제 1 방향과 수직인 방향으로 이동시켜 상기 마스크 및 상기 기판이 주사되는 주사 메카니즘과;
    상기 마스크 및 상기 기판중의 하나의 면내에서 상기 마스크 및 상기 기판 사이를 상대적으로 회전시키는 회전 메카니즘과;
    상기 마스크 및 상기 기판의 상대 위치를 상기 마스크 및 상기 기판중 하나의 주사 방향의 위치에 따라 상기 제 1 방향으로 상대적으로 변화시키는 위치 변화 메카니즘과;
    상기 제 1 방향으로 상기 제 1 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지의 위치와 상기 제 2 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지의 위치를 상대적으로 변화시키는 이미지 위치 변화 메카니즘을 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 이미지 위치 변화 메카니즘에 의한 상대적인 변화는 주사 방향 및 상기 주사 방향에 수직인 방향으로 결정된 제 2 좌표계에 대해 상기 마스크상에 형성된 상기 패턴의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 수행되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크상의 패턴의 제 1 이미지는 상기 기판상에 미리 형성되어 있고, 상기 마스크상의 패턴의 제 2 이미지가 상기 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되고,
    상기 이미지 위치 변화 메카니즘에 의한 상기 제 2 이미지 위치의 상대적인 변화는 상기 주사 방향 및 상기 주사 방향에 수직인 방향으로 결정된 제 2 좌표계에 대해 상기 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 수행되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크상의 패턴의 제 1 이미지는 상기 기판상에 미리 형성되어 있고 상기 마스크상의 패턴의 제 2 이미지는 상기 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되고,
    상기 이미지 위치 변화 메카니즘에 의한 상기 제 2 이미지 위치의 상대적인 변화는 상기 제 1 이미지 배열에 관련된 제 2 좌표계에 대하여 상기 마스크상의 패턴의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 수행되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  5. 마스크상의 패턴을 감광 기판상에 전사하는 장치로서,
    상기 마스크상의 다수의 영역을 각각 조명하는 다수의 조명 광학 시스템과;
    광축이 제 1 방향에 평행한 평면에서 상기 제 1 방향에 수직이고 서로 평행하게 배열된 다수의 투영 광학 시스템을 가지는 제 1 광학 시스템과;
    광축이 상기 제 1 광학 시스템의 투영 광학 시스템의 광축과 평행하게 배치되고 상기 제 1 광학 시스템의 투영 광학 시스템의 광축을 따르는 열로부터 소정의 거리만큼 떨어져 1열로 배열되는 다수의 투영 광학 시스템을 가지며, 상기 마스크상의 다수의 영역중의 몇 개의 이미지 및 나머지 이미지를 각각 상기 제 1 광학 시스템 및 제 2 광학 시스템을 통하여 상기 기판상에 투영하는 제 2 광학 시스템과;
    상기 마스크 및 상기 기판을 상기 기판의 면내에서 상기 제 1 방향과 수직인 방향으로 이동시켜 상기 마스크 및 상기 기판이 주사되는 주사 메카니즘과;
    상기 제 1 방향에 대해 상기 제 1 광학 시스템과 제 2 광학 시스템을 통해 투영된 이미지의 배열 방향을 소정의 각만큼 변화시키고, 상기 제 1 광학 시스템을 통해 투영된 이미지간의 간격과 상기 제 2 광학 시스템을 통해 투영된 이미지간의간격을 변화시키고, 상기 제 1 광학 시스템과 상기 제 2 광학 시스템의 투영 광학 시스템의 광축에 대하여 회전 방향으로 각각의 이미지의 위치를 변화시키는 이미지 위치 변화 메카니즘을 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 마스크상의 패턴의 제 1 이미지는 상기 기판상에 미리 형성되어 있고, 상기 마스크상의 패턴의 제 2 이미지는 상기 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되고,
    상기 이미지 위치 변화 메카니즘은 상기 주사 방향 및 상기 주사 방향에 수직인 방향으로 결정된 제 2 좌표계에 대해 상기 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여, 배열 방향의 변화, 이미지 간격의 변화, 회전 방향의 위치 변화를 수행하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광장치.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 마스크상의 패턴의 제 1 이미지는 상기 기판상에 미리 형성되어 있고, 상기 마스크상의 패턴의 제 2 이미지는 상기 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되고,
    상기 이미지 위치 변화 메카니즘은 상기 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 2 좌표계에 대하여 상기 마스크상의 패턴의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여, 배열 방향의 번화, 이미지 간격의 변화, 회전 방향의 위치 변화를 수행하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  8. 패턴이 형성된 마스크상의 다수의 영역을 각각 조명하는 다수의 조명 광학 시스템과; 광축이 제 1 방향에 평행한 면에서 상기 제 1 방향에 수직이고 서로 평행하게 배열된 다수의 투영 광학 시스템을 가지는 제 1 광학 시스템과; 광축이 상기 제 1 광학 시스템의 투영 광학 시스템의 광축과 평행하게 배치되고 상기 제 1 광학 시스템의 투영 광학 시스템의 광축을 따르는 열로부터 소정의 거리만큼 떨어져 1열로 배열되는 다수의 투영 광학 시스템을 가지며, 상기 마스크상의 다수의 영역중의 몇 개의 이미지 및 나머지 이미지를 각각 상기 제 1 광학 시스템 및 제 2 광학 시스템을 통하여 상기 기판상에 투영하는 제 2 광학 시스템과; 상기 마스크 및 상기 기판을 상기 기판의 면내에서 상기 제 1 방향과 거의 수직인 방향으로 이동시켜 상기 마스크 및 상기 기판이 주사되는 주사 메카니즘을 구비하는 주사형 노광 장치에 의해 수행되는 노광방법으로서,
    상기 마스크 및 상기 기판중의 하나의 면내에서 상기 마스크 및 상기 기판을 상대적으로 회전시키는 회전 단계와;
    상기 마스크 및 상기 기판의 상대 위치를 상기 마스크 및 상기 기판중 하나의 주사 방향의 위치에 따라 제 1 방향으로 상대적으로 변화시키는 위치 변화 단계와;
    상기 제 1 방향으로 상기 제 1 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지의 위치와 상기 제 2 광학 시스템을 동하여 투영된 이미지의 위치를 상기 제 1 방향으로상대적으로 변화시키는 이미지 위치 변화 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 이미지 위치 변화 단계는 주사 방향 및 상기 주사방향에 수직인 방향으로 결정된 제 2 좌표계에 대하여 상기 마스크상에 형성된 패턴 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 상대적인 변화를 수행하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 마스크상의 패턴의 제 1 이미지는 상기 기판상에 미리 형성되어 있고 상기 마스크상의 패턴의 제 2 이미지는 상기 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되고,
    상기 이미지 위치 변화 단계는 주사 방향 및 상기 주사방향에 수직인 방향으로 결정된 제 2 좌표계에 대하여 상기 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 상대적인 변화를 수행하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 마스크상의 패턴의 제 1 이미지는 상기 기판상에 미리 형성되어 있고 상기 마스크상의 패턴의 제 2 이미지는 상기 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되고,
    상기 이미지 위치 변화 단계는 상기 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 2 좌표계에 대해 상기 마스크상의 패턴의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여 상대적인 변화를 수행하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  12. 패턴이 형성된 마스크상의 다수의 영역을 조명하는 다수의 조명 광학 시스템과; 광축이 제 1 방향에 평행한 면에서 상기 제 1 방향에 수직이고 서로 평행하게 배열된 다수의 투영 광학 시스템을 가지는 제 1 광학 시스템과; 광축이 상기 제 1 광학 시스템의 투영 광학 시스템의 광축과 평행하게 배치되고 상기 제 1 광학 시스템의 투영 광학 시스템의 광축을 따르는 열로부터 소정의 거리만큼 떨어져 1열로 배열되는 다수의 투영 광학 시스템을 가지며, 상기 마스크상의 다수의 영역중의 몇개의 이미지 및 나머지 이미지를 각각 상기 제 1 광학 시스템 및 제 2 광학 시스템을 통하여 상기 기판상에 투영하는 제 2 광학 시스템과; 상기 마스크 및 상기 기판을 상기 기판의 면내에서 상기 제 1 방향과 거의 수직인 방향으로 이동시켜 상기 마스크 및 상기 기판이 주사되는 주사 메카니즘을 구비하는 주사형 노광 장치에 의해 수행되는 노광방법으로서,
    상기 제 1 방향에 대하여 상기 제 1 광학 시스템과 상기 제 2 광학 시스템을 통해 투영된 배열 방향을 소정의 각만큼 변화시키고, 상기 제 1 광학 시스템을 통해 투영된 이미지간의 간격과 상기 제 2 광학 시스템을 통하여 투영된 이미지간의 간격을 변화시키고, 상기 제 1 광학 시스템과 상기 제 2 광학 시스템의 투영 광학시스템의 광축에 대하여 회전 방향으로 각각의 이미지의 위치를 변화시키는 이미지 위치 변화 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 마스크상의 패턴의 제 1 이미지는 상기 기판상에 미리 형성되어 있고, 상기 마스크상의 패턴의 제 2 이미지는 상기 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되고,
    상기 이미지 위치 변화 단계는 상기 주사 방향 및 상기 주사 방향에 수직인 방향으로 결정된 제 2 좌표계에 대해 상기 제 1 이미지의 배열과 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여, 배열 방향의 변화, 이미지 간격의 변화, 회전 방향의 위치 변화를 수행하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 마스크상의 패턴의 제 1 이미지는 상기 기판상에 미리 형성되어 있고, 상기 마스크상의 패턴의 제 2 이미지는 상기 제 1 이미지와 중첩되어 노광을 위하여 투영되고,
    상기 이미지 위치 변화 단계는 상기 제 1 이미지의 배열에 관련된 제 2 좌표계에 대하여 상기 마스크상의 패턴의 배열에 관련된 제 1 좌표계의 각의 편차에 기초하여, 배열 방향의 변화, 이미지 간격의 변화, 회전 방향의 위치 변화를 수행하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  15. 주사형 노광 장치로서,
    주캐리지로서 패턴과 기판을 갖는 마스크를 일체적으로 유지하는 캐리지와,
    상기 캐리지상에 설치되어 상기 마스크와 상기 기판의 상대적인 위치를 조정하도록 배치된 서브스테이지와,
    상기 마스크 및 상기 기판사이에 배치되고 소정형상의 필드를 갖는 투영 시스템과,
    상기 투영 시스템의 결상 특성을 조정하는 결상 특성 보정 메카니즘을 구비하며,
    상기 주사형 노광 장치는 상기 소정형상의 필드의 중첩부분을 사용하여 중첩 전사법에 의해 상기 기판상에 상기 패턴을 전사하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 서브스테이지는 상기 마스크 및 상기 기판이 상기 캐리지에 의해 일체적으로 유지되는 동안 상기 마스크와 상기 기판의 상대 위치를 조정하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 서브스테이지는 상기 주사형 노광 장치가 패턴을 기판상에 전사하는 동안 구동되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 서브스테이지는 상기 마스크를 유지하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  19. 제 15 항에 있어서, 상기 서브스테이지는 상기 서브스테이지의 축상의 제 1 직선 방향, 제 2 직선 방향, 회전 방향의 면내의 이동을 포함하는 2차원 평면내에서 구동되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  20. 제 15 항에 있어서, 상기 캐리지는 상기 마스크 및 상기 기판을 거의 수평 위치에 유지하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  21. 제 15 항에 있어서, 상기 투영 시스템은 광학적으로 패턴을 투영하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  22. 제 15 항에 있어서, 상기 결상 특성 보정 메커니즘은 상기 투영 시스템의 배율을 보정하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  23. 제 15 항에 있어서, 상기 결상 특성 보정 메카니즘은 투영 시스템내에 놓인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  24. 제 15 항에 있어서, 상기 결상 특성 보정 메카니즘은 상기 투영 시스템의 기판측에 놓인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  25. 제 15 항에 있어서, 상기 소정 형상의 필드는 사각형 형상인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  26. 제 25 항에 있어서, 상기 사각형 형상은 사다리꼴형상인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  27. 제 15 항에 있어서, 상기 주사 노광 장치는 복수의 투영 시스템을 갖는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  28. 제 27 항에 있어서, 상기 복수의 투영 시스템은 5개의 투영 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
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