TWI361889B - Defect inspection apparatus, pattern drawing apparatus, pattern drawing system and recording medium storing defect inspection program - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007090093 | 2007-03-30 | ||
| JP2007276775A JP5015721B2 (ja) | 2007-03-30 | 2007-10-24 | 欠陥検査装置、欠陥検査プログラム、図形描画装置および図形描画システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200900684A TW200900684A (en) | 2009-01-01 |
| TWI361889B true TWI361889B (en) | 2012-04-11 |
Family
ID=39995562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW097102547A TWI361889B (en) | 2007-03-30 | 2008-01-23 | Defect inspection apparatus, pattern drawing apparatus, pattern drawing system and recording medium storing defect inspection program |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5015721B2 (enExample) |
| KR (1) | KR100938324B1 (enExample) |
| CN (1) | CN101275917B (enExample) |
| TW (1) | TWI361889B (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5373518B2 (ja) * | 2009-09-15 | 2013-12-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
| JP5371658B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2013-12-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
| TW201314376A (zh) | 2011-09-30 | 2013-04-01 | Dainippon Screen Mfg | 直接描繪裝置用之圖像顯示裝置及記錄媒體 |
| JP6034112B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-11-30 | 株式会社Screenホールディングス | 支援装置、描画システム、および、支援方法 |
| JP2015103226A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-04 | 株式会社Screenホールディングス | データ演算方法、データ演算装置および欠陥検査装置 |
| JP6460660B2 (ja) * | 2014-07-01 | 2019-01-30 | 株式会社Screenホールディングス | データ演算装置、データ演算方法および欠陥検査装置 |
| JP6350204B2 (ja) | 2014-10-21 | 2018-07-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ検証方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
| CN104463928B (zh) * | 2014-12-15 | 2018-01-05 | 重庆市勘测院 | 利用Region类代替AutoCAD面域进行图形计算的方法 |
| US11450122B2 (en) | 2017-12-31 | 2022-09-20 | Asml Netherlands B.V. | Methods and systems for defect inspection and review |
| TWI764770B (zh) * | 2021-06-29 | 2022-05-11 | 倍利科技股份有限公司 | 用於判定電路之線路區域的方法 |
| JP7685395B2 (ja) * | 2021-08-27 | 2025-05-29 | 株式会社Screenホールディングス | 描画装置、描画方法およびプログラム |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6097482A (ja) * | 1983-10-31 | 1985-05-31 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | パタ−ン認識装置 |
| KR100268777B1 (ko) | 1993-11-12 | 2000-11-01 | 김영환 | 반도체소자의 패턴결함 검사방법 |
| JP2816091B2 (ja) * | 1994-01-31 | 1998-10-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | デジタル検版装置 |
| JPH1083452A (ja) * | 1996-09-09 | 1998-03-31 | Kokusai Gijutsu Kaihatsu Kk | パターン欠陥検出装置 |
| JPH10171093A (ja) * | 1996-12-10 | 1998-06-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 検版装置 |
| JP2000155408A (ja) * | 1998-09-14 | 2000-06-06 | Matsushita Electronics Industry Corp | パタ―ンデ―タ検証方法およびパタ―ンデ―タ補正方法 |
| JP2000250960A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Sony Corp | 描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法 |
| JP4538135B2 (ja) * | 2000-05-30 | 2010-09-08 | 株式会社メック | 欠陥検査装置 |
| JP2001344302A (ja) * | 2000-06-02 | 2001-12-14 | Nec Corp | 電子線露光装置用データの検証方法およびその検証装置 |
| JP2002071330A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-08 | Seiko Instruments Inc | パターン欠陥検査方法及び装置 |
| JP3952358B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2007-08-01 | 大日本スクリーン製造株式会社 | データ変換装置およびその方法、並びに当該方法を用いたプログラム |
| JP2003099771A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | データ変換装置およびその方法、並びに当該方法を用いたプログラム |
| JP4281314B2 (ja) * | 2002-09-02 | 2009-06-17 | 日本電気株式会社 | レチクル製造方法 |
| US6878495B1 (en) * | 2003-10-15 | 2005-04-12 | Eastman Kodak Company | Producing an image data to be used by a laser thermal transfer apparatus for use in making color emissive sites |
| JP4518835B2 (ja) * | 2004-05-13 | 2010-08-04 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 欠陥検出装置、配線領域抽出装置、欠陥検出方法および配線領域抽出方法 |
| JP4648660B2 (ja) * | 2004-07-21 | 2011-03-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像の領域分割による物体の表面領域配置の取得 |
| JP2006078421A (ja) * | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Olympus Corp | パターン欠陥検出装置及びその方法 |
| JP4695942B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2011-06-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | データの検証方法 |
| JP2007081326A (ja) | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 配線形成システムおよびその方法 |
-
2007
- 2007-10-24 JP JP2007276775A patent/JP5015721B2/ja active Active
-
2008
- 2008-01-23 TW TW097102547A patent/TWI361889B/zh active
- 2008-03-07 KR KR1020080021639A patent/KR100938324B1/ko active Active
- 2008-03-25 CN CN200810086302.XA patent/CN101275917B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW200900684A (en) | 2009-01-01 |
| JP2008277730A (ja) | 2008-11-13 |
| KR20080089175A (ko) | 2008-10-06 |
| CN101275917A (zh) | 2008-10-01 |
| KR100938324B1 (ko) | 2010-01-22 |
| CN101275917B (zh) | 2013-03-06 |
| JP5015721B2 (ja) | 2012-08-29 |
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