JP2000250960A - 描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法 - Google Patents
描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法Info
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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- H01J37/3023—Programme control
- H01J37/3026—Patterning strategy
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 描画装置用データにおける検証時間を大幅に
短縮し、描画装置用データの作成におけるＴＡＴの低減
を図る。 【解決手段】 ステップＳＴ１において、第１の描画入
力データ１と第２の描画入力データ２とをそれらのデー
タフォーマット上で比較し、第１の描画入力データ１の
うちの第２の描画入力データ２と共通したデータを除い
たデータを第１の相違データ３として抽出する。第２の
描画入力データ２のうちの第１の描画入力データ１と共
通したデータを除いたデータを第２の相違データ４とし
て抽出する。第１の相違データ３と第２の相違データ４
とにデータが含まれていた場合、ステップＳＴ５におい
て、それらを図形的に相互に比較し、相違したデータを
第３の相違データ５として抽出する。第３の相違データ
５にデータが含まれていた場合に、第１の描画入力デー
タ１と第２の描画入力データ２との間に相違ありと判断
する。
短縮し、描画装置用データの作成におけるＴＡＴの低減
を図る。 【解決手段】 ステップＳＴ１において、第１の描画入
力データ１と第２の描画入力データ２とをそれらのデー
タフォーマット上で比較し、第１の描画入力データ１の
うちの第２の描画入力データ２と共通したデータを除い
たデータを第１の相違データ３として抽出する。第２の
描画入力データ２のうちの第１の描画入力データ１と共
通したデータを除いたデータを第２の相違データ４とし
て抽出する。第１の相違データ３と第２の相違データ４
とにデータが含まれていた場合、ステップＳＴ５におい
て、それらを図形的に相互に比較し、相違したデータを
第３の相違データ５として抽出する。第３の相違データ
５にデータが含まれていた場合に、第１の描画入力デー
タ１と第２の描画入力データ２との間に相違ありと判断
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、描画装置用デー
タの検証方法およびフォトマスクの製造方法に関し、特
に、フォトマスクの製造に用いられる描画装置用データ
の変換結果の検証に適用して好適なものである。
タの検証方法およびフォトマスクの製造方法に関し、特
に、フォトマスクの製造に用いられる描画装置用データ
の変換結果の検証に適用して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＬＳＩパターンは微細かつ複雑に
なってきている。そのため、ＬＳＩパターンデータから
作成される電子線描画装置用のデータも非常に膨大かつ
複雑になってきている。
なってきている。そのため、ＬＳＩパターンデータから
作成される電子線描画装置用のデータも非常に膨大かつ
複雑になってきている。
【０００３】そのため、作成した電子線描画装置用デー
タの正確性を保証するために、図形論理演算機能やリサ
イズ処理機能などを有する変換装置、または変換ソフト
ウェアなどの複数のデータ変換処理系において、ＬＳＩ
パターンから複数の電子線描画装置用データを作成し、
それらの複数の電子線描画装置用データが互いに一致す
るか否かの検証が一般的に行われている。
タの正確性を保証するために、図形論理演算機能やリサ
イズ処理機能などを有する変換装置、または変換ソフト
ウェアなどの複数のデータ変換処理系において、ＬＳＩ
パターンから複数の電子線描画装置用データを作成し、
それらの複数の電子線描画装置用データが互いに一致す
るか否かの検証が一般的に行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この電子線描画装置用
データは、通常、図６Ａに示すように、矩形の図形１０
１、１０２、１０３のデータおよび台形の図形１０４、
１０５から構成されている。ところが、異なるデータ変
換処理系で作成されたデータにおいては、図６Ｂに示す
ように、矩形の図形１０１、１０２および三角形の図形
１０６、１０７から構成されるものもあり、図形の分割
方法が異なる場合がある。そのため、上述の検証処理に
おいても、図形論理演算機能やリサイズ処理機能などを
有する変換装置、または変換ソフトウェアにおいて、図
形的な排他的論理和を行い、相違が生じていないかを確
認する方法が採用される。
データは、通常、図６Ａに示すように、矩形の図形１０
１、１０２、１０３のデータおよび台形の図形１０４、
１０５から構成されている。ところが、異なるデータ変
換処理系で作成されたデータにおいては、図６Ｂに示す
ように、矩形の図形１０１、１０２および三角形の図形
１０６、１０７から構成されるものもあり、図形の分割
方法が異なる場合がある。そのため、上述の検証処理に
おいても、図形論理演算機能やリサイズ処理機能などを
有する変換装置、または変換ソフトウェアにおいて、図
形的な排他的論理和を行い、相違が生じていないかを確
認する方法が採用される。
【０００５】そのため、通常の変換時間に加え、上述の
ように、２つの電子線描画装置用データが相互に同一の
パターンであるか否かの検証においても図形的論理演算
を行うため、その検証時間として膨大な処理時間を要す
る。これにより、電子線描画装置用データの作成に膨大
な時間が必要となり、そのターンアラウンドタイム（Ｔ
ＡＴ）が増加してしまうという問題が生じていた。
ように、２つの電子線描画装置用データが相互に同一の
パターンであるか否かの検証においても図形的論理演算
を行うため、その検証時間として膨大な処理時間を要す
る。これにより、電子線描画装置用データの作成に膨大
な時間が必要となり、そのターンアラウンドタイム（Ｔ
ＡＴ）が増加してしまうという問題が生じていた。
【０００６】したがって、この発明の目的は、検証時間
を大幅に短縮し、描画装置用データの作成におけるＴＡ
Ｔの低減を図ることができ、これによって、フォトマス
クを効率よく製造することができる描画装置用データの
検証方法およびフォトマスクの製造方法を提供すること
にある。
を大幅に短縮し、描画装置用データの作成におけるＴＡ
Ｔの低減を図ることができ、これによって、フォトマス
クを効率よく製造することができる描画装置用データの
検証方法およびフォトマスクの製造方法を提供すること
にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第１の発明は、複数の描画装置用データ
をデータフォーマットに基づいて相互に比較し、データ
フォーマットに基づいた比較の結果に応じて、複数の描
画装置用データのそれぞれの描画装置用データから、全
ての描画装置用データに共通しているデータを除いたデ
ータを、それぞれの描画装置用データに対応するそれぞ
れの相違データとして抽出し、それぞれの相違データを
相互に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特
徴とする描画装置用データの検証方法である。
に、この発明の第１の発明は、複数の描画装置用データ
をデータフォーマットに基づいて相互に比較し、データ
フォーマットに基づいた比較の結果に応じて、複数の描
画装置用データのそれぞれの描画装置用データから、全
ての描画装置用データに共通しているデータを除いたデ
ータを、それぞれの描画装置用データに対応するそれぞ
れの相違データとして抽出し、それぞれの相違データを
相互に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特
徴とする描画装置用データの検証方法である。
【０００８】この発明の第２の発明は、第１の描画装置
用データと第２の描画装置用データとをデータフォーマ
ットに基づいて比較し、データフォーマットに基づいた
比較の結果に応じて、データフォーマットにおける第１
の描画装置用データのうちの第２の描画装置用データと
共通したデータを除いたデータを第１の相違データとし
て抽出するとともに、データフォーマットにおける第２
の描画装置用データのうちの第１の描画装置用データと
共通したデータを除いたデータを第２の相違データとし
て抽出し、第１の相違データと第２の相違データとを相
互に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴
とする描画装置用データの検証方法である。
用データと第２の描画装置用データとをデータフォーマ
ットに基づいて比較し、データフォーマットに基づいた
比較の結果に応じて、データフォーマットにおける第１
の描画装置用データのうちの第２の描画装置用データと
共通したデータを除いたデータを第１の相違データとし
て抽出するとともに、データフォーマットにおける第２
の描画装置用データのうちの第１の描画装置用データと
共通したデータを除いたデータを第２の相違データとし
て抽出し、第１の相違データと第２の相違データとを相
互に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴
とする描画装置用データの検証方法である。
【０００９】この発明の第３の発明は、描画装置用デー
タに基づいて、フォトマスクを製造するようにしたフォ
トマスクの製造方法において、複数の描画装置用データ
をデータフォーマットに基づいて比較し、データフォー
マットに基づいた比較の結果に応じて、複数の描画装置
用データのそれぞれの描画装置用データから、全ての描
画装置用データに共通しているデータを除いたデータ
を、それぞれの描画装置用データに対応するそれぞれの
相違データとして抽出し、それぞれの相違データを相互
に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴と
するものである。
タに基づいて、フォトマスクを製造するようにしたフォ
トマスクの製造方法において、複数の描画装置用データ
をデータフォーマットに基づいて比較し、データフォー
マットに基づいた比較の結果に応じて、複数の描画装置
用データのそれぞれの描画装置用データから、全ての描
画装置用データに共通しているデータを除いたデータ
を、それぞれの描画装置用データに対応するそれぞれの
相違データとして抽出し、それぞれの相違データを相互
に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴と
するものである。
【００１０】この発明の第４の発明は、描画装置用デー
タに基づいて、フォトマスクを製造するようにしたフォ
トマスクの製造方法において、第１の描画装置用データ
と第２の描画装置用データとをデータフォーマットに基
づいて比較し、データフォーマットに基づいた比較の結
果に応じて、データフォーマットにおける第１の描画装
置用データのうちの第２の描画装置用データと共通した
データを除いたデータを第１の相違データとして抽出す
るとともに、データフォーマットにおける第２の描画装
置用データのうちの第１の描画装置用データと共通した
データを除いたデータを第２の相違データとして抽出
し、第１の相違データと第２の相違データとを相互に図
形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴とする
ものである。
タに基づいて、フォトマスクを製造するようにしたフォ
トマスクの製造方法において、第１の描画装置用データ
と第２の描画装置用データとをデータフォーマットに基
づいて比較し、データフォーマットに基づいた比較の結
果に応じて、データフォーマットにおける第１の描画装
置用データのうちの第２の描画装置用データと共通した
データを除いたデータを第１の相違データとして抽出す
るとともに、データフォーマットにおける第２の描画装
置用データのうちの第１の描画装置用データと共通した
データを除いたデータを第２の相違データとして抽出
し、第１の相違データと第２の相違データとを相互に図
形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴とする
ものである。
【００１１】この発明の第１および第３の発明におい
て、典型的には、検証は、複数の描画装置用データが相
互に図形的に同一のデータであるか否かを検証するもの
である。
て、典型的には、検証は、複数の描画装置用データが相
互に図形的に同一のデータであるか否かを検証するもの
である。
【００１２】この発明の第２および第４の発明におい
て、典型的には、検証は、第１の描画装置用データと第
２の描画装置用データが相互に図形的に同一のデータで
あるか否かを検証するものである。
て、典型的には、検証は、第１の描画装置用データと第
２の描画装置用データが相互に図形的に同一のデータで
あるか否かを検証するものである。
【００１３】この発明の第２および第４の発明におい
て、好適には、第１の相違データと第２の相違データと
を相互に図形的に比較することによって、第１の相違デ
ータと第２の相違データとにおいて共通していないデー
タを第３の相違データとして抽出し、第３の相違データ
にデータが含まれているか否かの検証を行うようにす
る。また、第２の描画装置用データが、第１の描画装置
用データに演算処理を行うことによって第１の描画装置
用データを補正したものであった場合、第３の相違デー
タを抽出した後、第３の相違データに対して、第１の描
画装置用データに行った演算処理と逆の演算処理を行う
ことによって、第４の相違データを作成する。そして、
第４の相違データにデータが含まれているか否かの検証
を行い、第４の相違データにデータが含まれている場合
に、第１の描画装置用データに行った補正が異常である
と判断し、含まれていない場合に第１の描画装置用デー
タに行った補正が正常であると判断する。
て、好適には、第１の相違データと第２の相違データと
を相互に図形的に比較することによって、第１の相違デ
ータと第２の相違データとにおいて共通していないデー
タを第３の相違データとして抽出し、第３の相違データ
にデータが含まれているか否かの検証を行うようにす
る。また、第２の描画装置用データが、第１の描画装置
用データに演算処理を行うことによって第１の描画装置
用データを補正したものであった場合、第３の相違デー
タを抽出した後、第３の相違データに対して、第１の描
画装置用データに行った演算処理と逆の演算処理を行う
ことによって、第４の相違データを作成する。そして、
第４の相違データにデータが含まれているか否かの検証
を行い、第４の相違データにデータが含まれている場合
に、第１の描画装置用データに行った補正が異常である
と判断し、含まれていない場合に第１の描画装置用デー
タに行った補正が正常であると判断する。
【００１４】この発明の第２および第４の発明におい
て、第１の描画装置用データと第２の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第１の相違データおよび第２の相
違データにデータが含まれていない場合に、第１の描画
装置用データと第２の描画装置用データとが図形的に同
一であると判断する。
て、第１の描画装置用データと第２の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第１の相違データおよび第２の相
違データにデータが含まれていない場合に、第１の描画
装置用データと第２の描画装置用データとが図形的に同
一であると判断する。
【００１５】この発明の第２および第４の発明におい
て、第１の描画装置用データと第２の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第１の相違データにデータが含ま
れており、第２の相違データにデータが含まれていない
場合に、第１の描画装置用データが第１の相違データに
おいて相違していると判断する。
て、第１の描画装置用データと第２の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第１の相違データにデータが含ま
れており、第２の相違データにデータが含まれていない
場合に、第１の描画装置用データが第１の相違データに
おいて相違していると判断する。
【００１６】この発明の第２および第４の発明におい
て、第１の描画装置用データと第２の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第２の相違データにデータが含ま
れており、第１の相違データにデータが含まれていない
場合に、第２の描画装置用データが第２の相違データに
おいて相違していると判断する。
て、第１の描画装置用データと第２の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第２の相違データにデータが含ま
れており、第１の相違データにデータが含まれていない
場合に、第２の描画装置用データが第２の相違データに
おいて相違していると判断する。
【００１７】この発明の第２および第４の発明におい
て、好適には、第３の相違データにデータが含まれてい
ない場合に、第１の描画装置用データと第２の描画装置
用データとが図形的に同一であると判断し、第３の相違
データにデータが含まれている場合に、第１の描画装置
用データと第２の描画装置用データとが図形的に第３の
相違データにおいて、図形的に異なるものであると判断
する。
て、好適には、第３の相違データにデータが含まれてい
ない場合に、第１の描画装置用データと第２の描画装置
用データとが図形的に同一であると判断し、第３の相違
データにデータが含まれている場合に、第１の描画装置
用データと第２の描画装置用データとが図形的に第３の
相違データにおいて、図形的に異なるものであると判断
する。
【００１８】上述のように構成されたこの発明による描
画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方
法によれば、複数の描画装置用データにおける互いの描
画装置用データをデータフォーマットに基づいて比較
し、この比較の結果に応じて、それぞれの描画装置用デ
ータから全ての描画装置用データに共通しているデータ
を除いたデータを、それぞれの描画装置用データにおけ
るそれぞれの相違データとして抽出し、それぞれの相違
データを図形的に相互に比較し検証を行っていることに
より、図形演算処理を、データフォーマットにおける相
違した描画装置用データにのみ行うことができ、図形演
算処理を行うデータ量を大幅に低減することができる。
画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方
法によれば、複数の描画装置用データにおける互いの描
画装置用データをデータフォーマットに基づいて比較
し、この比較の結果に応じて、それぞれの描画装置用デ
ータから全ての描画装置用データに共通しているデータ
を除いたデータを、それぞれの描画装置用データにおけ
るそれぞれの相違データとして抽出し、それぞれの相違
データを図形的に相互に比較し検証を行っていることに
より、図形演算処理を、データフォーマットにおける相
違した描画装置用データにのみ行うことができ、図形演
算処理を行うデータ量を大幅に低減することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態
の全図においては、同一または対応する部分には同一の
符号を付す。
て図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態
の全図においては、同一または対応する部分には同一の
符号を付す。
【００２０】まず、この発明の第１の実施形態による電
子線描画装置用データの検証方法について説明する。こ
の第１の実施形態においては、２つの異なるデータ変換
装置において処理が行われた２つの電子線描画装置用デ
ータの間に相違が存在するか否かの検証を行う場合につ
いて説明する。図１にこの第１の実施形態による検証方
法のフローチャートを示し、図２に電子線描画装置用デ
ータの描画入力データの一例を示す。
子線描画装置用データの検証方法について説明する。こ
の第１の実施形態においては、２つの異なるデータ変換
装置において処理が行われた２つの電子線描画装置用デ
ータの間に相違が存在するか否かの検証を行う場合につ
いて説明する。図１にこの第１の実施形態による検証方
法のフローチャートを示し、図２に電子線描画装置用デ
ータの描画入力データの一例を示す。
【００２１】図１に示すように、この第１の実施形態に
おいては、２つの異なるデータ変換装置において変換処
理が行われた、第１の描画入力データ１および第２の描
画入力データ２を入力し、パターンデータを読み込む。
ここで、図２Ａに示すように、第１の描画入力データ１
は、そのパターン形状が図形Ｆ1 、図形Ｆ2 、図形
Ｆ3 、図形Ｆ4 および図形Ｆ5 を有して構成されてお
り、そのデータフォーマットが図形Ｆ1 の記述、図形Ｆ
2 の記述、図形Ｆ3 の記述、図形Ｆ4 の記述およびＦ5
の記述を有して構成されているものとする。また、図２
Ｂに示すように、第２の描画入力データ２は、そのパタ
ーン形状が図形Ｆ1 、図形Ｆ6 、図形Ｆ7 および図形Ｆ
5 を有して構成されており、そのデータフォーマットが
図形Ｆ1 の記述、図形Ｆ6 の記述、図形Ｆ7 の記述およ
び図形Ｆ5 の記述を有して構成されているものとする。
なお、図形の記述には、その図形の座標、幅および高さ
などの情報が含まれている。
おいては、２つの異なるデータ変換装置において変換処
理が行われた、第１の描画入力データ１および第２の描
画入力データ２を入力し、パターンデータを読み込む。
ここで、図２Ａに示すように、第１の描画入力データ１
は、そのパターン形状が図形Ｆ1 、図形Ｆ2 、図形
Ｆ3 、図形Ｆ4 および図形Ｆ5 を有して構成されてお
り、そのデータフォーマットが図形Ｆ1 の記述、図形Ｆ
2 の記述、図形Ｆ3 の記述、図形Ｆ4 の記述およびＦ5
の記述を有して構成されているものとする。また、図２
Ｂに示すように、第２の描画入力データ２は、そのパタ
ーン形状が図形Ｆ1 、図形Ｆ6 、図形Ｆ7 および図形Ｆ
5 を有して構成されており、そのデータフォーマットが
図形Ｆ1 の記述、図形Ｆ6 の記述、図形Ｆ7 の記述およ
び図形Ｆ5 の記述を有して構成されているものとする。
なお、図形の記述には、その図形の座標、幅および高さ
などの情報が含まれている。
【００２２】次に、図１に示すように、ステップＳＴ１
において、第１の描画入力データ１および第２の描画入
力データ２のデータフォーマット上での比較処理を行
う。この比較処理においては、データフォーマット上に
おいて、第１の描画入力データ１と第２の描画入力デー
タ２とに共通なパターン記述部分を検出するとともに、
相違しているパターン記述部分を抽出する。これによっ
て、第１の描画入力データのうちの相違しているパター
ン記述部分が第１の相違データ３として抽出され、第２
の描画入力データ２のうちの相違しているパターン記述
部分が第２の相違データ４として抽出される。そして、
この第１の実施形態においては、図２Ａおよび図２Ｂに
示すように、データフォーマット上において、第１の描
画入力データ１および第２の描画入力データ２のうちの
図形Ｆ1 の記述と図形Ｆ5 の記述とが共通であると認識
され、それらの図形Ｆ1 の記述および図形Ｆ5 の記述以
外の図形の記述、すなわち、第１の描画入力データ１に
おける図形Ｆ2 の記述、図形Ｆ3 の記述および図形Ｆ4
の記述と、第２の描画入力データ２における図形Ｆ6の
記述および図形Ｆ7 の記述とが相違していると認識され
る。その結果、ステップＳＴ１における比較処理におい
て、図３Ａに示すように、第１の描画入力データ１にお
ける図形Ｆ2 の記述、図形Ｆ3 の記述および図形Ｆ5 の
記述が第１の相違データ３として抽出されるとともに、
図３Ｂに示すように、第２の描画入力データ２における
図形Ｆ6 の記述および図形Ｆ7 の記述が第２の相違デー
タ４として抽出される。
において、第１の描画入力データ１および第２の描画入
力データ２のデータフォーマット上での比較処理を行
う。この比較処理においては、データフォーマット上に
おいて、第１の描画入力データ１と第２の描画入力デー
タ２とに共通なパターン記述部分を検出するとともに、
相違しているパターン記述部分を抽出する。これによっ
て、第１の描画入力データのうちの相違しているパター
ン記述部分が第１の相違データ３として抽出され、第２
の描画入力データ２のうちの相違しているパターン記述
部分が第２の相違データ４として抽出される。そして、
この第１の実施形態においては、図２Ａおよび図２Ｂに
示すように、データフォーマット上において、第１の描
画入力データ１および第２の描画入力データ２のうちの
図形Ｆ1 の記述と図形Ｆ5 の記述とが共通であると認識
され、それらの図形Ｆ1 の記述および図形Ｆ5 の記述以
外の図形の記述、すなわち、第１の描画入力データ１に
おける図形Ｆ2 の記述、図形Ｆ3 の記述および図形Ｆ4
の記述と、第２の描画入力データ２における図形Ｆ6の
記述および図形Ｆ7 の記述とが相違していると認識され
る。その結果、ステップＳＴ１における比較処理におい
て、図３Ａに示すように、第１の描画入力データ１にお
ける図形Ｆ2 の記述、図形Ｆ3 の記述および図形Ｆ5 の
記述が第１の相違データ３として抽出されるとともに、
図３Ｂに示すように、第２の描画入力データ２における
図形Ｆ6 の記述および図形Ｆ7 の記述が第２の相違デー
タ４として抽出される。
【００２３】次に、図１に示すように、ステップＳＴ２
において、第１の相違データ３と第２の相違データ４と
の両方にそれぞれパターンデータが含まれているか否か
の判定を行う。この判定の結果、いずれの相違データ４
および相違データ５にもパターンデータが含まれていな
い場合、データフォーマット上において、描画入力デー
タ１と描画入力データ２との間は相違なしと判断され、
検証が終了する。この第１の実施形態においては、第１
の相違データ３に図形Ｆ2 、Ｆ3 、Ｆ4 のパターンデー
タが含まれ、第２の相違データ４に図形Ｆ6 、Ｆ7 のパ
ターンデータが含まれているため、次のステップＳＴ３
に移行する。
において、第１の相違データ３と第２の相違データ４と
の両方にそれぞれパターンデータが含まれているか否か
の判定を行う。この判定の結果、いずれの相違データ４
および相違データ５にもパターンデータが含まれていな
い場合、データフォーマット上において、描画入力デー
タ１と描画入力データ２との間は相違なしと判断され、
検証が終了する。この第１の実施形態においては、第１
の相違データ３に図形Ｆ2 、Ｆ3 、Ｆ4 のパターンデー
タが含まれ、第２の相違データ４に図形Ｆ6 、Ｆ7 のパ
ターンデータが含まれているため、次のステップＳＴ３
に移行する。
【００２４】ステップＳＴ３においては、一方の第２の
相違データ４にパターンデータが含まれておらず、かつ
他方の第１の相違データ３にパターンデータが含まれて
いるか否かの判定を行う。この判定の結果、第１の相違
データ３にのみパターンデータが含まれている場合に
は、第１の描画入力データ１のうちの第１の相違データ
３の部分が相違しているとして、第１の相違データ３が
抽出され、検証が終了する。この第１の実施形態におい
ては、上述したように、第１の相違データ３および第２
の相違データ４の両方にパターンデータが含まれている
ため、次のステップＳＴ４に移行する。
相違データ４にパターンデータが含まれておらず、かつ
他方の第１の相違データ３にパターンデータが含まれて
いるか否かの判定を行う。この判定の結果、第１の相違
データ３にのみパターンデータが含まれている場合に
は、第１の描画入力データ１のうちの第１の相違データ
３の部分が相違しているとして、第１の相違データ３が
抽出され、検証が終了する。この第１の実施形態におい
ては、上述したように、第１の相違データ３および第２
の相違データ４の両方にパターンデータが含まれている
ため、次のステップＳＴ４に移行する。
【００２５】ステップＳＴ４においては、一方の第１の
相違データ３にパターンデータが含まれておらず、かつ
他方の第２の相違データ４にパターンデータが含まれて
いるか否かの判定を行う。この判定の結果、第２の相違
データ４にのみパターンデータが含まれている場合に
は、第２の描画入力データ２のうちの第２の相違データ
４の部分が相違しているとして、第２の相違データ４が
抽出され、検証が終了する。この第１の実施形態におい
ては、上述したように、第１の相違データ３および第２
の相違データ４の両方にパターンデータが含まれている
ため、次のステップＳＴ５に移行する。
相違データ３にパターンデータが含まれておらず、かつ
他方の第２の相違データ４にパターンデータが含まれて
いるか否かの判定を行う。この判定の結果、第２の相違
データ４にのみパターンデータが含まれている場合に
は、第２の描画入力データ２のうちの第２の相違データ
４の部分が相違しているとして、第２の相違データ４が
抽出され、検証が終了する。この第１の実施形態におい
ては、上述したように、第１の相違データ３および第２
の相違データ４の両方にパターンデータが含まれている
ため、次のステップＳＴ５に移行する。
【００２６】ステップＳＴ５においては、第１の相違デ
ータ３および第２の相違データ４の両方に含まれている
パターンデータに対して、図形的な排他的論理和の演算
を行う。これによって、第１の相違データ３と第２の相
違データ４との間の異なった部分を第３の相違データ５
として出力する。その後、ステップＳＴ６に移行する。
ータ３および第２の相違データ４の両方に含まれている
パターンデータに対して、図形的な排他的論理和の演算
を行う。これによって、第１の相違データ３と第２の相
違データ４との間の異なった部分を第３の相違データ５
として出力する。その後、ステップＳＴ６に移行する。
【００２７】ステップＳＴ６においては、第３の相違デ
ータ５にパターンデータが含まれるか否かの判定が行わ
れる。第３の相違データ５にパターンデータが含まれて
いない場合には、第１の描画入力データ１と第２の描画
入力データ２との間に相違なしと判断され、検証が終了
する。
ータ５にパターンデータが含まれるか否かの判定が行わ
れる。第３の相違データ５にパターンデータが含まれて
いない場合には、第１の描画入力データ１と第２の描画
入力データ２との間に相違なしと判断され、検証が終了
する。
【００２８】一方、第３の相違データ５にパターンデー
タが含まれている場合には、第１の描画入力データ１と
第２の描画入力データ２との間に相違ありと判断され、
第３の相違データ５が出力されて、検証が終了する。そ
の後、第１の描画入力データ１または第２の描画入力デ
ータ２のうちの、第３の相違データ５に対応する部分を
修正し、所望の描画入力データを作成する。
タが含まれている場合には、第１の描画入力データ１と
第２の描画入力データ２との間に相違ありと判断され、
第３の相違データ５が出力されて、検証が終了する。そ
の後、第１の描画入力データ１または第２の描画入力デ
ータ２のうちの、第３の相違データ５に対応する部分を
修正し、所望の描画入力データを作成する。
【００２９】その後、この描画入力データを例えば電子
線描画装置などの描画装置に供給する。そして、従来公
知の方法により、上述の所望の描画入力データに基づい
たパターンを有するフォトマスクを製造する。
線描画装置などの描画装置に供給する。そして、従来公
知の方法により、上述の所望の描画入力データに基づい
たパターンを有するフォトマスクを製造する。
【００３０】以上説明したように、この第１の実施形態
によれば、２つの異なるデータ変換装置において変換さ
れた第１の描画入力データ１および第２の描画入力デー
タ２に対してデータフォーマット上での比較処理を行
い、第１の描画入力データ１と第２の描画入力データ２
との間の共通した部分を除いた部分を、それぞれ第１の
相違データ３と第２の相違データ５として抽出し、これ
らの第１の相違データ３および第２の相違データ４の両
方にパターンデータが含まれている場合にのみ、第１の
相違データ３と第２の相違データ４とに図形論理演算処
理を行うようにしていることにより、時間をあまり要し
ないデータフォーマット上での比較処理において第１の
描画入力データと第２の描画入力データとの間の共通し
た部分を排除して、時間を要する図形論理演算処理を必
要最低限のデータに対してのみ行うことができるので、
検証時間を大幅に短縮することができる。そのため、第
１の描画入力データ１、第２の描画入力データ２などの
電子線描画装置用データの作成におけるＴＡＴの増加を
防止することができ、フォトマスクの製造、開発に要す
る時間を大幅に短縮することができる。また、第１の相
違データ３または第２の相違データ４のどちらか一方に
のみパターンデータが含まれていた場合には、図形論理
演算処理を行う必要がなくなるため、検証時間をより一
層短縮することができる。
によれば、２つの異なるデータ変換装置において変換さ
れた第１の描画入力データ１および第２の描画入力デー
タ２に対してデータフォーマット上での比較処理を行
い、第１の描画入力データ１と第２の描画入力データ２
との間の共通した部分を除いた部分を、それぞれ第１の
相違データ３と第２の相違データ５として抽出し、これ
らの第１の相違データ３および第２の相違データ４の両
方にパターンデータが含まれている場合にのみ、第１の
相違データ３と第２の相違データ４とに図形論理演算処
理を行うようにしていることにより、時間をあまり要し
ないデータフォーマット上での比較処理において第１の
描画入力データと第２の描画入力データとの間の共通し
た部分を排除して、時間を要する図形論理演算処理を必
要最低限のデータに対してのみ行うことができるので、
検証時間を大幅に短縮することができる。そのため、第
１の描画入力データ１、第２の描画入力データ２などの
電子線描画装置用データの作成におけるＴＡＴの増加を
防止することができ、フォトマスクの製造、開発に要す
る時間を大幅に短縮することができる。また、第１の相
違データ３または第２の相違データ４のどちらか一方に
のみパターンデータが含まれていた場合には、図形論理
演算処理を行う必要がなくなるため、検証時間をより一
層短縮することができる。
【００３１】また、上述の第１の実施形態において、検
証しようとしている２つの第１の描画入力データ１およ
び第２の描画入力データ２が互いに異なるフォーマット
であっても、それらの第１の描画入力データ１および第
２の描画入力データ２をそれぞれ適切な相互に共通のフ
ォーマットに変換したのちに、上述と同様の処理を行う
ことによって、上述と同様の効果を得ることができる。
証しようとしている２つの第１の描画入力データ１およ
び第２の描画入力データ２が互いに異なるフォーマット
であっても、それらの第１の描画入力データ１および第
２の描画入力データ２をそれぞれ適切な相互に共通のフ
ォーマットに変換したのちに、上述と同様の処理を行う
ことによって、上述と同様の効果を得ることができる。
【００３２】次に、この発明の第２の実施形態による電
子線描画装置用データの検証方法について説明する。こ
の第２の実施形態においては、露光波長近傍のデザイン
ルールパターンをウェーハ上に転写する際に生じる光近
接効果の補正が、正しく行われているか否かを検証する
場合について説明する。図４に、この第２の実施形態に
よる検証方法のフローチャートを示し、図５に光近接効
果補正処理が行われた前後の描画入力データの一例を示
す。
子線描画装置用データの検証方法について説明する。こ
の第２の実施形態においては、露光波長近傍のデザイン
ルールパターンをウェーハ上に転写する際に生じる光近
接効果の補正が、正しく行われているか否かを検証する
場合について説明する。図４に、この第２の実施形態に
よる検証方法のフローチャートを示し、図５に光近接効
果補正処理が行われた前後の描画入力データの一例を示
す。
【００３３】図４に示すように、この第２の実施形態に
おいては、まず、近接効果補正前の描画入力データ１１
（図５Ａ参照）と近接効果補正後の描画入力データ１２
（図５Ｂ参照）とを入力し、パターンデータを読み込
む。
おいては、まず、近接効果補正前の描画入力データ１１
（図５Ａ参照）と近接効果補正後の描画入力データ１２
（図５Ｂ参照）とを入力し、パターンデータを読み込
む。
【００３４】次に、図４に示すように、ステップＳＴ１
１においては、これらの補正前の描画入力データ１１お
よび補正後の描画入力データ１２に対して、第１の実施
形態と同様にしてデータフォーマット上での比較処理を
行う。そして、この比較処理において、補正前の描画入
力データ１１および補正後の描画入力データ１２で互い
に共通したパターン記述部分を検出し削除するととも
に、相違しているパターン記述部分を抽出する。この第
２の実施形態においては、図５Ｃに示すように、図５Ａ
に示す補正前の描画入力データ１１と、図５Ｂに示す補
正後の描画入力データ１２との間において、打点部で共
通しているとともに、斜線部で相違している。そのた
め、図５Ａおよび図５Ｂに示すように、ステップＳＴ１
１において補正前の描画入力データ１１のうちの補正に
よって削られた補正パターン部１１ａが第１の相違デー
タ１３として出力され、補正後の描画入力データ１２の
うちの補正によって付加された補正パターン部１２ａが
第２の相違データ１４として出力される。通常、補正後
の描画入力データは、補正前の描画入力データに対して
補正パターン部が修正されたものであり、補正を要しな
い部分のパターンデータはそのままの記述で残されてい
る。そのため、第１の相違データ１３および第２の相違
データ１４には、それぞれ補正された部分のみが含まれ
ており、検証に必要な部分の最小限のデータが取り出さ
れたことになる。その後、図４に示すステップＳＴ１２
に移行する。
１においては、これらの補正前の描画入力データ１１お
よび補正後の描画入力データ１２に対して、第１の実施
形態と同様にしてデータフォーマット上での比較処理を
行う。そして、この比較処理において、補正前の描画入
力データ１１および補正後の描画入力データ１２で互い
に共通したパターン記述部分を検出し削除するととも
に、相違しているパターン記述部分を抽出する。この第
２の実施形態においては、図５Ｃに示すように、図５Ａ
に示す補正前の描画入力データ１１と、図５Ｂに示す補
正後の描画入力データ１２との間において、打点部で共
通しているとともに、斜線部で相違している。そのた
め、図５Ａおよび図５Ｂに示すように、ステップＳＴ１
１において補正前の描画入力データ１１のうちの補正に
よって削られた補正パターン部１１ａが第１の相違デー
タ１３として出力され、補正後の描画入力データ１２の
うちの補正によって付加された補正パターン部１２ａが
第２の相違データ１４として出力される。通常、補正後
の描画入力データは、補正前の描画入力データに対して
補正パターン部が修正されたものであり、補正を要しな
い部分のパターンデータはそのままの記述で残されてい
る。そのため、第１の相違データ１３および第２の相違
データ１４には、それぞれ補正された部分のみが含まれ
ており、検証に必要な部分の最小限のデータが取り出さ
れたことになる。その後、図４に示すステップＳＴ１２
に移行する。
【００３５】次に、ステップＳＴ１２においては、第１
の相違データ１３および第２の相違データ１４に対し
て、図形的な排他的論理和の演算が行われる。これによ
って、第１の相違データ１３と第２の相違データ１４と
の間の相違したデータが抽出され、第３の相違データ１
５として出力される。この第２の実施形態においては、
第１の相違データ１３と第２の相違データ１４とに重な
りがないため、第３の相違データ１５には、第１の相違
データ１３および第２の相違データ１４がそのまま含ま
れる。その後、ステップＳＴ１３に移行する。
の相違データ１３および第２の相違データ１４に対し
て、図形的な排他的論理和の演算が行われる。これによ
って、第１の相違データ１３と第２の相違データ１４と
の間の相違したデータが抽出され、第３の相違データ１
５として出力される。この第２の実施形態においては、
第１の相違データ１３と第２の相違データ１４とに重な
りがないため、第３の相違データ１５には、第１の相違
データ１３および第２の相違データ１４がそのまま含ま
れる。その後、ステップＳＴ１３に移行する。
【００３６】次に、ステップＳＴ１３において、第３の
相違データ１５に対して、上述の光近接効果補正と逆の
処理が行われる。この第２の実施形態においては、第３
の相違データ１５に対して、図５Ｂに示す補正後の描画
入力データ１２から図５Ａに示す補正前の描画入力デー
タに戻す処理が行われ、図５Ｃに示す所定の幅ｗの分だ
けアンダーサイジング処理が行われる。そして、第３の
相違データ１５にこのアンダーサイジング処理を施した
結果が、第４の相違データ１６として出力される。その
後、ステップＳＴ１４に移行する。
相違データ１５に対して、上述の光近接効果補正と逆の
処理が行われる。この第２の実施形態においては、第３
の相違データ１５に対して、図５Ｂに示す補正後の描画
入力データ１２から図５Ａに示す補正前の描画入力デー
タに戻す処理が行われ、図５Ｃに示す所定の幅ｗの分だ
けアンダーサイジング処理が行われる。そして、第３の
相違データ１５にこのアンダーサイジング処理を施した
結果が、第４の相違データ１６として出力される。その
後、ステップＳＴ１４に移行する。
【００３７】第４の相違データ１６にパターンデータが
含まれていない場合、補正は正常であると判断され、検
証が終了する。その後、補正後の描画入力データ１２を
例えば電子線描画装置などの描画装置に供給し、従来公
知の方法により、描画入力データ１２に基づいたパター
ンを有するフォトマスクを製造する。
含まれていない場合、補正は正常であると判断され、検
証が終了する。その後、補正後の描画入力データ１２を
例えば電子線描画装置などの描画装置に供給し、従来公
知の方法により、描画入力データ１２に基づいたパター
ンを有するフォトマスクを製造する。
【００３８】他方、第４の相違データ１６にパターンデ
ータが含まれている場合、補正は正常でないと判断さ
れ、出力された第４の相違データ１６のパターンデータ
が補正異常として検出される。補正異常が検出された場
合には、補正後の描画入力データ１２の第４の相違デー
タ１６の部分に対して、所定の修正処理を行うことによ
り、所望の描画入力データが作成される。
ータが含まれている場合、補正は正常でないと判断さ
れ、出力された第４の相違データ１６のパターンデータ
が補正異常として検出される。補正異常が検出された場
合には、補正後の描画入力データ１２の第４の相違デー
タ１６の部分に対して、所定の修正処理を行うことによ
り、所望の描画入力データが作成される。
【００３９】その後、この所望の描画入力データを例え
ば電子線描画装置などの描画装置に供給し、従来公知の
方法により、上述の所望の描画入力データに基づいたパ
ターンを有するフォトマスクを製造する。
ば電子線描画装置などの描画装置に供給し、従来公知の
方法により、上述の所望の描画入力データに基づいたパ
ターンを有するフォトマスクを製造する。
【００４０】以上説明したように、この第２の実施形態
によれば、補正前の描画入力データ１１と補正前の描画
入力データ１２とをデータフォーマット上で比較して、
これらの間の相違した部分を、それぞれ第１の相違デー
タ１３と第２の相違データ１４として出力し、これらの
第１の相違データ１３と第２の相違データ１４とに図形
的な排他的論理和の演算（ステップＳＴ１２）を行うよ
うにしていることにより、時間をあまり要しないデータ
フォーマット上での比較処理（ステップＳＴ１１）にお
いて共通した部分を排除して、時間を要する図形論理演
算を補正された部分の必要最低限のデータのみに行うこ
とができるので、第１の実施形態と同様の効果を得るこ
とができる。
によれば、補正前の描画入力データ１１と補正前の描画
入力データ１２とをデータフォーマット上で比較して、
これらの間の相違した部分を、それぞれ第１の相違デー
タ１３と第２の相違データ１４として出力し、これらの
第１の相違データ１３と第２の相違データ１４とに図形
的な排他的論理和の演算（ステップＳＴ１２）を行うよ
うにしていることにより、時間をあまり要しないデータ
フォーマット上での比較処理（ステップＳＴ１１）にお
いて共通した部分を排除して、時間を要する図形論理演
算を補正された部分の必要最低限のデータのみに行うこ
とができるので、第１の実施形態と同様の効果を得るこ
とができる。
【００４１】以上、この発明の実施形態について具体的
に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定され
るものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の
変形が可能である。
に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定され
るものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の
変形が可能である。
【００４２】例えば、上述の実施形態において挙げた描
画入力データのパターン形状、データフォーマットはあ
くまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なるパター
ン形状、データフォーマットであってもよい。
画入力データのパターン形状、データフォーマットはあ
くまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なるパター
ン形状、データフォーマットであってもよい。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、複数の描画装置用データにおける互いの描画装置用
データをデータフォーマットに基づいて比較し、この比
較によって、それぞれの描画装置用データから全ての描
画装置用データに共通しているデータを除いたデータ
を、それぞれの描画装置用データにおけるそれぞれの相
違データとして抽出し、それぞれの相違データに対して
図形論理演算処理を行って、それぞれの相違データを互
いに図形的に比較して検証を行っていることにより、処
理時間を要する図形論理演算を相違した部分に対しての
み行うことができるので、描画装置用データの検証に要
する時間を大幅に短縮することができ、描画装置用デー
タの作成におけるＴＡＴの短縮を図ることができる。
ば、複数の描画装置用データにおける互いの描画装置用
データをデータフォーマットに基づいて比較し、この比
較によって、それぞれの描画装置用データから全ての描
画装置用データに共通しているデータを除いたデータ
を、それぞれの描画装置用データにおけるそれぞれの相
違データとして抽出し、それぞれの相違データに対して
図形論理演算処理を行って、それぞれの相違データを互
いに図形的に比較して検証を行っていることにより、処
理時間を要する図形論理演算を相違した部分に対しての
み行うことができるので、描画装置用データの検証に要
する時間を大幅に短縮することができ、描画装置用デー
タの作成におけるＴＡＴの短縮を図ることができる。
【図１】この発明の第１の実施形態による描画装置用デ
ータの検証方法を説明するためのフローチャートであ
る。
ータの検証方法を説明するためのフローチャートであ
る。
【図２】この発明の第１の実施形態による描画装置用デ
ータの検証方法により検証が行われる描画装置入力デー
タの一例を示す略線図である。
ータの検証方法により検証が行われる描画装置入力デー
タの一例を示す略線図である。
【図３】この発明の第１の実施形態による相違データの
一例を示す略線図である。
一例を示す略線図である。
【図４】この発明の第２の実施形態による描画装置用デ
ータの検証方法を説明するためのフローチャートであ
る。
ータの検証方法を説明するためのフローチャートであ
る。
【図５】この発明の第２の実施形態による光近接効果補
正が行われるパターンの一例を示す略線図である。
正が行われるパターンの一例を示す略線図である。
【図６】電子線描画装置用データの一例を示す略線図で
ある。
ある。
１・・・第１の描画入力データ、２・・・第２の描画入
力データ、３、１３・・・第１の相違データ、４、１４
・・・第２の相違データ、５、１５・・・第３の相違デ
ータ、１１・・・補正前の描画入力データ、１２・・・
補正後の描画入力データ、１６・・・第４の相違データ
力データ、３、１３・・・第１の相違データ、４、１４
・・・第２の相違データ、５、１５・・・第３の相違デ
ータ、１１・・・補正前の描画入力データ、１２・・・
補正後の描画入力データ、１６・・・第４の相違データ
Claims (12)
- 【請求項１】 複数の描画装置用データをデータフォー
マットに基づいて相互に比較し、 上記データフォーマットに基づいた比較の結果に応じ
て、上記複数の描画装置用データのそれぞれの描画装置
用データから、全ての描画装置用データに共通している
データを除いたデータを、それぞれの上記描画装置用デ
ータに対応するそれぞれの相違データとして抽出し、上
記それぞれの相違データを相互に図形的に比較して検証
を行うようにしたことを特徴とする描画装置用データの
検証方法。 - 【請求項２】 上記検証が、上記複数の描画装置用デー
タが相互に図形的に同一のデータであるか否かを検証す
るものであることを特徴とする請求項１記載の描画装置
用データの検証方法。 - 【請求項３】 第１の描画装置用データと第２の描画装
置用データとをデータフォーマットに基づいて比較し、 上記データフォーマットに基づいた比較の結果に応じ
て、上記データフォーマットにおける上記第１の描画装
置用データのうちの上記第２の描画装置用データと共通
したデータを除いたデータを第１の相違データとして抽
出するとともに、上記データフォーマットにおける上記
第２の描画装置用データのうちの上記第１の描画装置用
データと共通したデータを除いたデータを第２の相違デ
ータとして抽出し、上記第１の相違データと上記第２の
相違データとを相互に図形的に比較して検証を行うよう
にしたことを特徴とする描画装置用データの検証方法。 - 【請求項４】 上記検証が、上記第１の描画装置用デー
タと上記第２の描画装置用データとが相互に図形的に同
一のデータであるか否かを検証するものであることを特
徴とする請求項３記載の描画装置用データの検証方法。 - 【請求項５】 上記第１の相違データと上記第２の相違
データとを相互に図形的に比較することによって、上記
第１の相違データと上記第２の相違データとにおいて共
通していないデータを第３の相違データとして抽出し、
上記第３の相違データにデータが含まれているか否かの
検証を行うようにしたことを特徴とする請求項３記載の
描画装置用データの検証方法。 - 【請求項６】 上記第２の描画装置用データが、上記第
１の描画装置用データに演算処理を行うことにより上記
第１の描画装置用データを補正したものであり、上記第
３の相違データを抽出した後、上記第３の相違データに
対して上記演算処理と逆の演算処理を行うことによっ
て、第４の相違データを作成するようにしたことを特徴
とする請求項５記載の検証方法。 - 【請求項７】 描画装置用データに基づいて、フォトマ
スクを製造するようにしたフォトマスクの製造方法にお
いて、 複数の描画装置用データをデータフォーマットに基づい
て比較し、 上記データフォーマットに基づいた比較の結果に応じ
て、上記複数の描画装置用データのそれぞれの描画装置
用データから、全ての描画装置用データに共通している
データを除いたデータを、それぞれの上記描画装置用デ
ータに対応するそれぞれの相違データとして抽出し、上
記それぞれの相違データを相互に図形的に比較して検証
を行うようにしたことを特徴とするフォトマスクの製造
方法。 - 【請求項８】 上記検証が、上記複数の描画装置用デー
タが相互に図形的に同一のデータであるか否かを検証す
るものであることを特徴とする請求項７記載のフォトマ
スクの製造方法。 - 【請求項９】 描画装置用データに基づいて、フォトマ
スクを製造するようにしたフォトマスクの製造方法にお
いて、 第１の描画装置用データと第２の描画装置用データとを
データフォーマットに基づいて比較し、 上記データフォーマットに基づいた比較の結果に応じ
て、上記データフォーマットにおける上記第１の描画装
置用データのうちの上記第２の描画装置用データと共通
したデータを除いたデータを第１の相違データとして抽
出するとともに、上記データフォーマットにおける上記
第２の描画装置用データのうちの上記第１の描画装置用
データと共通したデータを除いたデータを第２の相違デ
ータとして抽出し、上記第１の相違データと上記第２の
相違データとを相互に図形的に比較して検証を行うよう
にしたことを特徴とするフォトマスクの製造方法。 - 【請求項１０】 上記検証が、上記第１の描画装置用デ
ータと上記第２の描画装置用データとが相互に図形的に
同一のデータであるか否かを検証するものであることを
特徴とする請求項９記載のフォトマスクの製造方法。 - 【請求項１１】 上記第１の相違データと上記第２の相
違データとを相互に図形的に比較することによって、上
記第１の相違データと上記第２の相違データとにおいて
共通していないデータを第３の相違データとして抽出
し、上記第３の相違データにデータが含まれているか否
かの検証を行うようにしたことを特徴とする請求項９記
載のフォトマスクの製造方法。 - 【請求項１２】 上記第２の描画装置用データが、上記
第１の描画装置用データに演算処理を行うことにより上
記第１の描画装置用データを補正したものであり、上記
第３の相違データを抽出した後、上記第３の相違データ
に対して上記演算処理と逆の演算処理を行うことによっ
て、第４の相違データを作成するようにしたことを特徴
とする請求項１１記載のフォトマスクの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5385299A JP2000250960A (ja) | 1999-03-02 | 1999-03-02 | 描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法 |
| US09/516,184 US6550051B1 (en) | 1999-02-03 | 2000-03-01 | Lithographic data verification method and photo mask manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5385299A JP2000250960A (ja) | 1999-03-02 | 1999-03-02 | 描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000250960A true JP2000250960A (ja) | 2000-09-14 |
Family
ID=12954312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5385299A Pending JP2000250960A (ja) | 1999-02-03 | 1999-03-02 | 描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6550051B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000250960A (ja) |
Cited By (5)
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| US7577287B2 (en) | 2004-08-18 | 2009-08-18 | Nec Corporation | Early error detection during fabrication of reticles |
| US8300918B2 (en) | 2007-03-30 | 2012-10-30 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Defect inspection apparatus, defect inspection program, recording medium storing defect inspection program, figure drawing apparatus and figure drawing system |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040249940A1 (en) * | 2003-06-04 | 2004-12-09 | Sohn Matthias Eberhard | System and method for asynchronous resource management |
| US8291353B2 (en) * | 2010-09-07 | 2012-10-16 | Synopsys, Inc. | Non-linear rasterized contour filters |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP3042443B2 (ja) * | 1997-03-14 | 2000-05-15 | 日本電気株式会社 | マスクパターンデータの作成方法 |
| US6370679B1 (en) * | 1997-09-17 | 2002-04-09 | Numerical Technologies, Inc. | Data hierarchy layout correction and verification method and apparatus |
| US6316163B1 (en) * | 1997-10-01 | 2001-11-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Pattern forming method |
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- 1999-03-02 JP JP5385299A patent/JP2000250960A/ja active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6550051B1 (en) | 2003-04-15 |
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