JP2000250960A - 描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法 - Google Patents
描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法Info
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- G03F1/78—Patterning of masks by imaging by charged particle beam [CPB], e.g. electron beam patterning of masks
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
- H01J37/3026—Patterning strategy
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 描画装置用データにおける検証時間を大幅に
短縮し、描画装置用データの作成におけるTATの低減
を図る。 【解決手段】 ステップST1において、第1の描画入
力データ1と第2の描画入力データ2とをそれらのデー
タフォーマット上で比較し、第1の描画入力データ1の
うちの第2の描画入力データ2と共通したデータを除い
たデータを第1の相違データ3として抽出する。第2の
描画入力データ2のうちの第1の描画入力データ1と共
通したデータを除いたデータを第2の相違データ4とし
て抽出する。第1の相違データ3と第2の相違データ4
とにデータが含まれていた場合、ステップST5におい
て、それらを図形的に相互に比較し、相違したデータを
第3の相違データ5として抽出する。第3の相違データ
5にデータが含まれていた場合に、第1の描画入力デー
タ1と第2の描画入力データ2との間に相違ありと判断
する。
短縮し、描画装置用データの作成におけるTATの低減
を図る。 【解決手段】 ステップST1において、第1の描画入
力データ1と第2の描画入力データ2とをそれらのデー
タフォーマット上で比較し、第1の描画入力データ1の
うちの第2の描画入力データ2と共通したデータを除い
たデータを第1の相違データ3として抽出する。第2の
描画入力データ2のうちの第1の描画入力データ1と共
通したデータを除いたデータを第2の相違データ4とし
て抽出する。第1の相違データ3と第2の相違データ4
とにデータが含まれていた場合、ステップST5におい
て、それらを図形的に相互に比較し、相違したデータを
第3の相違データ5として抽出する。第3の相違データ
5にデータが含まれていた場合に、第1の描画入力デー
タ1と第2の描画入力データ2との間に相違ありと判断
する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、描画装置用デー
タの検証方法およびフォトマスクの製造方法に関し、特
に、フォトマスクの製造に用いられる描画装置用データ
の変換結果の検証に適用して好適なものである。
タの検証方法およびフォトマスクの製造方法に関し、特
に、フォトマスクの製造に用いられる描画装置用データ
の変換結果の検証に適用して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】近年、LSIパターンは微細かつ複雑に
なってきている。そのため、LSIパターンデータから
作成される電子線描画装置用のデータも非常に膨大かつ
複雑になってきている。
なってきている。そのため、LSIパターンデータから
作成される電子線描画装置用のデータも非常に膨大かつ
複雑になってきている。
【0003】そのため、作成した電子線描画装置用デー
タの正確性を保証するために、図形論理演算機能やリサ
イズ処理機能などを有する変換装置、または変換ソフト
ウェアなどの複数のデータ変換処理系において、LSI
パターンから複数の電子線描画装置用データを作成し、
それらの複数の電子線描画装置用データが互いに一致す
るか否かの検証が一般的に行われている。
タの正確性を保証するために、図形論理演算機能やリサ
イズ処理機能などを有する変換装置、または変換ソフト
ウェアなどの複数のデータ変換処理系において、LSI
パターンから複数の電子線描画装置用データを作成し、
それらの複数の電子線描画装置用データが互いに一致す
るか否かの検証が一般的に行われている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この電子線描画装置用
データは、通常、図6Aに示すように、矩形の図形10
1、102、103のデータおよび台形の図形104、
105から構成されている。ところが、異なるデータ変
換処理系で作成されたデータにおいては、図6Bに示す
ように、矩形の図形101、102および三角形の図形
106、107から構成されるものもあり、図形の分割
方法が異なる場合がある。そのため、上述の検証処理に
おいても、図形論理演算機能やリサイズ処理機能などを
有する変換装置、または変換ソフトウェアにおいて、図
形的な排他的論理和を行い、相違が生じていないかを確
認する方法が採用される。
データは、通常、図6Aに示すように、矩形の図形10
1、102、103のデータおよび台形の図形104、
105から構成されている。ところが、異なるデータ変
換処理系で作成されたデータにおいては、図6Bに示す
ように、矩形の図形101、102および三角形の図形
106、107から構成されるものもあり、図形の分割
方法が異なる場合がある。そのため、上述の検証処理に
おいても、図形論理演算機能やリサイズ処理機能などを
有する変換装置、または変換ソフトウェアにおいて、図
形的な排他的論理和を行い、相違が生じていないかを確
認する方法が採用される。
【0005】そのため、通常の変換時間に加え、上述の
ように、2つの電子線描画装置用データが相互に同一の
パターンであるか否かの検証においても図形的論理演算
を行うため、その検証時間として膨大な処理時間を要す
る。これにより、電子線描画装置用データの作成に膨大
な時間が必要となり、そのターンアラウンドタイム(T
AT)が増加してしまうという問題が生じていた。
ように、2つの電子線描画装置用データが相互に同一の
パターンであるか否かの検証においても図形的論理演算
を行うため、その検証時間として膨大な処理時間を要す
る。これにより、電子線描画装置用データの作成に膨大
な時間が必要となり、そのターンアラウンドタイム(T
AT)が増加してしまうという問題が生じていた。
【0006】したがって、この発明の目的は、検証時間
を大幅に短縮し、描画装置用データの作成におけるTA
Tの低減を図ることができ、これによって、フォトマス
クを効率よく製造することができる描画装置用データの
検証方法およびフォトマスクの製造方法を提供すること
にある。
を大幅に短縮し、描画装置用データの作成におけるTA
Tの低減を図ることができ、これによって、フォトマス
クを効率よく製造することができる描画装置用データの
検証方法およびフォトマスクの製造方法を提供すること
にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第1の発明は、複数の描画装置用データ
をデータフォーマットに基づいて相互に比較し、データ
フォーマットに基づいた比較の結果に応じて、複数の描
画装置用データのそれぞれの描画装置用データから、全
ての描画装置用データに共通しているデータを除いたデ
ータを、それぞれの描画装置用データに対応するそれぞ
れの相違データとして抽出し、それぞれの相違データを
相互に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特
徴とする描画装置用データの検証方法である。
に、この発明の第1の発明は、複数の描画装置用データ
をデータフォーマットに基づいて相互に比較し、データ
フォーマットに基づいた比較の結果に応じて、複数の描
画装置用データのそれぞれの描画装置用データから、全
ての描画装置用データに共通しているデータを除いたデ
ータを、それぞれの描画装置用データに対応するそれぞ
れの相違データとして抽出し、それぞれの相違データを
相互に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特
徴とする描画装置用データの検証方法である。
【0008】この発明の第2の発明は、第1の描画装置
用データと第2の描画装置用データとをデータフォーマ
ットに基づいて比較し、データフォーマットに基づいた
比較の結果に応じて、データフォーマットにおける第1
の描画装置用データのうちの第2の描画装置用データと
共通したデータを除いたデータを第1の相違データとし
て抽出するとともに、データフォーマットにおける第2
の描画装置用データのうちの第1の描画装置用データと
共通したデータを除いたデータを第2の相違データとし
て抽出し、第1の相違データと第2の相違データとを相
互に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴
とする描画装置用データの検証方法である。
用データと第2の描画装置用データとをデータフォーマ
ットに基づいて比較し、データフォーマットに基づいた
比較の結果に応じて、データフォーマットにおける第1
の描画装置用データのうちの第2の描画装置用データと
共通したデータを除いたデータを第1の相違データとし
て抽出するとともに、データフォーマットにおける第2
の描画装置用データのうちの第1の描画装置用データと
共通したデータを除いたデータを第2の相違データとし
て抽出し、第1の相違データと第2の相違データとを相
互に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴
とする描画装置用データの検証方法である。
【0009】この発明の第3の発明は、描画装置用デー
タに基づいて、フォトマスクを製造するようにしたフォ
トマスクの製造方法において、複数の描画装置用データ
をデータフォーマットに基づいて比較し、データフォー
マットに基づいた比較の結果に応じて、複数の描画装置
用データのそれぞれの描画装置用データから、全ての描
画装置用データに共通しているデータを除いたデータ
を、それぞれの描画装置用データに対応するそれぞれの
相違データとして抽出し、それぞれの相違データを相互
に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴と
するものである。
タに基づいて、フォトマスクを製造するようにしたフォ
トマスクの製造方法において、複数の描画装置用データ
をデータフォーマットに基づいて比較し、データフォー
マットに基づいた比較の結果に応じて、複数の描画装置
用データのそれぞれの描画装置用データから、全ての描
画装置用データに共通しているデータを除いたデータ
を、それぞれの描画装置用データに対応するそれぞれの
相違データとして抽出し、それぞれの相違データを相互
に図形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴と
するものである。
【0010】この発明の第4の発明は、描画装置用デー
タに基づいて、フォトマスクを製造するようにしたフォ
トマスクの製造方法において、第1の描画装置用データ
と第2の描画装置用データとをデータフォーマットに基
づいて比較し、データフォーマットに基づいた比較の結
果に応じて、データフォーマットにおける第1の描画装
置用データのうちの第2の描画装置用データと共通した
データを除いたデータを第1の相違データとして抽出す
るとともに、データフォーマットにおける第2の描画装
置用データのうちの第1の描画装置用データと共通した
データを除いたデータを第2の相違データとして抽出
し、第1の相違データと第2の相違データとを相互に図
形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴とする
ものである。
タに基づいて、フォトマスクを製造するようにしたフォ
トマスクの製造方法において、第1の描画装置用データ
と第2の描画装置用データとをデータフォーマットに基
づいて比較し、データフォーマットに基づいた比較の結
果に応じて、データフォーマットにおける第1の描画装
置用データのうちの第2の描画装置用データと共通した
データを除いたデータを第1の相違データとして抽出す
るとともに、データフォーマットにおける第2の描画装
置用データのうちの第1の描画装置用データと共通した
データを除いたデータを第2の相違データとして抽出
し、第1の相違データと第2の相違データとを相互に図
形的に比較して検証を行うようにしたことを特徴とする
ものである。
【0011】この発明の第1および第3の発明におい
て、典型的には、検証は、複数の描画装置用データが相
互に図形的に同一のデータであるか否かを検証するもの
である。
て、典型的には、検証は、複数の描画装置用データが相
互に図形的に同一のデータであるか否かを検証するもの
である。
【0012】この発明の第2および第4の発明におい
て、典型的には、検証は、第1の描画装置用データと第
2の描画装置用データが相互に図形的に同一のデータで
あるか否かを検証するものである。
て、典型的には、検証は、第1の描画装置用データと第
2の描画装置用データが相互に図形的に同一のデータで
あるか否かを検証するものである。
【0013】この発明の第2および第4の発明におい
て、好適には、第1の相違データと第2の相違データと
を相互に図形的に比較することによって、第1の相違デ
ータと第2の相違データとにおいて共通していないデー
タを第3の相違データとして抽出し、第3の相違データ
にデータが含まれているか否かの検証を行うようにす
る。また、第2の描画装置用データが、第1の描画装置
用データに演算処理を行うことによって第1の描画装置
用データを補正したものであった場合、第3の相違デー
タを抽出した後、第3の相違データに対して、第1の描
画装置用データに行った演算処理と逆の演算処理を行う
ことによって、第4の相違データを作成する。そして、
第4の相違データにデータが含まれているか否かの検証
を行い、第4の相違データにデータが含まれている場合
に、第1の描画装置用データに行った補正が異常である
と判断し、含まれていない場合に第1の描画装置用デー
タに行った補正が正常であると判断する。
て、好適には、第1の相違データと第2の相違データと
を相互に図形的に比較することによって、第1の相違デ
ータと第2の相違データとにおいて共通していないデー
タを第3の相違データとして抽出し、第3の相違データ
にデータが含まれているか否かの検証を行うようにす
る。また、第2の描画装置用データが、第1の描画装置
用データに演算処理を行うことによって第1の描画装置
用データを補正したものであった場合、第3の相違デー
タを抽出した後、第3の相違データに対して、第1の描
画装置用データに行った演算処理と逆の演算処理を行う
ことによって、第4の相違データを作成する。そして、
第4の相違データにデータが含まれているか否かの検証
を行い、第4の相違データにデータが含まれている場合
に、第1の描画装置用データに行った補正が異常である
と判断し、含まれていない場合に第1の描画装置用デー
タに行った補正が正常であると判断する。
【0014】この発明の第2および第4の発明におい
て、第1の描画装置用データと第2の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第1の相違データおよび第2の相
違データにデータが含まれていない場合に、第1の描画
装置用データと第2の描画装置用データとが図形的に同
一であると判断する。
て、第1の描画装置用データと第2の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第1の相違データおよび第2の相
違データにデータが含まれていない場合に、第1の描画
装置用データと第2の描画装置用データとが図形的に同
一であると判断する。
【0015】この発明の第2および第4の発明におい
て、第1の描画装置用データと第2の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第1の相違データにデータが含ま
れており、第2の相違データにデータが含まれていない
場合に、第1の描画装置用データが第1の相違データに
おいて相違していると判断する。
て、第1の描画装置用データと第2の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第1の相違データにデータが含ま
れており、第2の相違データにデータが含まれていない
場合に、第1の描画装置用データが第1の相違データに
おいて相違していると判断する。
【0016】この発明の第2および第4の発明におい
て、第1の描画装置用データと第2の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第2の相違データにデータが含ま
れており、第1の相違データにデータが含まれていない
場合に、第2の描画装置用データが第2の相違データに
おいて相違していると判断する。
て、第1の描画装置用データと第2の描画装置用データ
とが同一であるか否かの検証に要する時間を最小限にす
るために、好適には、第2の相違データにデータが含ま
れており、第1の相違データにデータが含まれていない
場合に、第2の描画装置用データが第2の相違データに
おいて相違していると判断する。
【0017】この発明の第2および第4の発明におい
て、好適には、第3の相違データにデータが含まれてい
ない場合に、第1の描画装置用データと第2の描画装置
用データとが図形的に同一であると判断し、第3の相違
データにデータが含まれている場合に、第1の描画装置
用データと第2の描画装置用データとが図形的に第3の
相違データにおいて、図形的に異なるものであると判断
する。
て、好適には、第3の相違データにデータが含まれてい
ない場合に、第1の描画装置用データと第2の描画装置
用データとが図形的に同一であると判断し、第3の相違
データにデータが含まれている場合に、第1の描画装置
用データと第2の描画装置用データとが図形的に第3の
相違データにおいて、図形的に異なるものであると判断
する。
【0018】上述のように構成されたこの発明による描
画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方
法によれば、複数の描画装置用データにおける互いの描
画装置用データをデータフォーマットに基づいて比較
し、この比較の結果に応じて、それぞれの描画装置用デ
ータから全ての描画装置用データに共通しているデータ
を除いたデータを、それぞれの描画装置用データにおけ
るそれぞれの相違データとして抽出し、それぞれの相違
データを図形的に相互に比較し検証を行っていることに
より、図形演算処理を、データフォーマットにおける相
違した描画装置用データにのみ行うことができ、図形演
算処理を行うデータ量を大幅に低減することができる。
画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方
法によれば、複数の描画装置用データにおける互いの描
画装置用データをデータフォーマットに基づいて比較
し、この比較の結果に応じて、それぞれの描画装置用デ
ータから全ての描画装置用データに共通しているデータ
を除いたデータを、それぞれの描画装置用データにおけ
るそれぞれの相違データとして抽出し、それぞれの相違
データを図形的に相互に比較し検証を行っていることに
より、図形演算処理を、データフォーマットにおける相
違した描画装置用データにのみ行うことができ、図形演
算処理を行うデータ量を大幅に低減することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態
の全図においては、同一または対応する部分には同一の
符号を付す。
て図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態
の全図においては、同一または対応する部分には同一の
符号を付す。
【0020】まず、この発明の第1の実施形態による電
子線描画装置用データの検証方法について説明する。こ
の第1の実施形態においては、2つの異なるデータ変換
装置において処理が行われた2つの電子線描画装置用デ
ータの間に相違が存在するか否かの検証を行う場合につ
いて説明する。図1にこの第1の実施形態による検証方
法のフローチャートを示し、図2に電子線描画装置用デ
ータの描画入力データの一例を示す。
子線描画装置用データの検証方法について説明する。こ
の第1の実施形態においては、2つの異なるデータ変換
装置において処理が行われた2つの電子線描画装置用デ
ータの間に相違が存在するか否かの検証を行う場合につ
いて説明する。図1にこの第1の実施形態による検証方
法のフローチャートを示し、図2に電子線描画装置用デ
ータの描画入力データの一例を示す。
【0021】図1に示すように、この第1の実施形態に
おいては、2つの異なるデータ変換装置において変換処
理が行われた、第1の描画入力データ1および第2の描
画入力データ2を入力し、パターンデータを読み込む。
ここで、図2Aに示すように、第1の描画入力データ1
は、そのパターン形状が図形F1 、図形F2 、図形
F3 、図形F4 および図形F5 を有して構成されてお
り、そのデータフォーマットが図形F1 の記述、図形F
2 の記述、図形F3 の記述、図形F4 の記述およびF5
の記述を有して構成されているものとする。また、図2
Bに示すように、第2の描画入力データ2は、そのパタ
ーン形状が図形F1 、図形F6 、図形F7 および図形F
5 を有して構成されており、そのデータフォーマットが
図形F1 の記述、図形F6 の記述、図形F7 の記述およ
び図形F5 の記述を有して構成されているものとする。
なお、図形の記述には、その図形の座標、幅および高さ
などの情報が含まれている。
おいては、2つの異なるデータ変換装置において変換処
理が行われた、第1の描画入力データ1および第2の描
画入力データ2を入力し、パターンデータを読み込む。
ここで、図2Aに示すように、第1の描画入力データ1
は、そのパターン形状が図形F1 、図形F2 、図形
F3 、図形F4 および図形F5 を有して構成されてお
り、そのデータフォーマットが図形F1 の記述、図形F
2 の記述、図形F3 の記述、図形F4 の記述およびF5
の記述を有して構成されているものとする。また、図2
Bに示すように、第2の描画入力データ2は、そのパタ
ーン形状が図形F1 、図形F6 、図形F7 および図形F
5 を有して構成されており、そのデータフォーマットが
図形F1 の記述、図形F6 の記述、図形F7 の記述およ
び図形F5 の記述を有して構成されているものとする。
なお、図形の記述には、その図形の座標、幅および高さ
などの情報が含まれている。
【0022】次に、図1に示すように、ステップST1
において、第1の描画入力データ1および第2の描画入
力データ2のデータフォーマット上での比較処理を行
う。この比較処理においては、データフォーマット上に
おいて、第1の描画入力データ1と第2の描画入力デー
タ2とに共通なパターン記述部分を検出するとともに、
相違しているパターン記述部分を抽出する。これによっ
て、第1の描画入力データのうちの相違しているパター
ン記述部分が第1の相違データ3として抽出され、第2
の描画入力データ2のうちの相違しているパターン記述
部分が第2の相違データ4として抽出される。そして、
この第1の実施形態においては、図2Aおよび図2Bに
示すように、データフォーマット上において、第1の描
画入力データ1および第2の描画入力データ2のうちの
図形F1 の記述と図形F5 の記述とが共通であると認識
され、それらの図形F1 の記述および図形F5 の記述以
外の図形の記述、すなわち、第1の描画入力データ1に
おける図形F2 の記述、図形F3 の記述および図形F4
の記述と、第2の描画入力データ2における図形F6の
記述および図形F7 の記述とが相違していると認識され
る。その結果、ステップST1における比較処理におい
て、図3Aに示すように、第1の描画入力データ1にお
ける図形F2 の記述、図形F3 の記述および図形F5 の
記述が第1の相違データ3として抽出されるとともに、
図3Bに示すように、第2の描画入力データ2における
図形F6 の記述および図形F7 の記述が第2の相違デー
タ4として抽出される。
において、第1の描画入力データ1および第2の描画入
力データ2のデータフォーマット上での比較処理を行
う。この比較処理においては、データフォーマット上に
おいて、第1の描画入力データ1と第2の描画入力デー
タ2とに共通なパターン記述部分を検出するとともに、
相違しているパターン記述部分を抽出する。これによっ
て、第1の描画入力データのうちの相違しているパター
ン記述部分が第1の相違データ3として抽出され、第2
の描画入力データ2のうちの相違しているパターン記述
部分が第2の相違データ4として抽出される。そして、
この第1の実施形態においては、図2Aおよび図2Bに
示すように、データフォーマット上において、第1の描
画入力データ1および第2の描画入力データ2のうちの
図形F1 の記述と図形F5 の記述とが共通であると認識
され、それらの図形F1 の記述および図形F5 の記述以
外の図形の記述、すなわち、第1の描画入力データ1に
おける図形F2 の記述、図形F3 の記述および図形F4
の記述と、第2の描画入力データ2における図形F6の
記述および図形F7 の記述とが相違していると認識され
る。その結果、ステップST1における比較処理におい
て、図3Aに示すように、第1の描画入力データ1にお
ける図形F2 の記述、図形F3 の記述および図形F5 の
記述が第1の相違データ3として抽出されるとともに、
図3Bに示すように、第2の描画入力データ2における
図形F6 の記述および図形F7 の記述が第2の相違デー
タ4として抽出される。
【0023】次に、図1に示すように、ステップST2
において、第1の相違データ3と第2の相違データ4と
の両方にそれぞれパターンデータが含まれているか否か
の判定を行う。この判定の結果、いずれの相違データ4
および相違データ5にもパターンデータが含まれていな
い場合、データフォーマット上において、描画入力デー
タ1と描画入力データ2との間は相違なしと判断され、
検証が終了する。この第1の実施形態においては、第1
の相違データ3に図形F2 、F3 、F4 のパターンデー
タが含まれ、第2の相違データ4に図形F6 、F7 のパ
ターンデータが含まれているため、次のステップST3
に移行する。
において、第1の相違データ3と第2の相違データ4と
の両方にそれぞれパターンデータが含まれているか否か
の判定を行う。この判定の結果、いずれの相違データ4
および相違データ5にもパターンデータが含まれていな
い場合、データフォーマット上において、描画入力デー
タ1と描画入力データ2との間は相違なしと判断され、
検証が終了する。この第1の実施形態においては、第1
の相違データ3に図形F2 、F3 、F4 のパターンデー
タが含まれ、第2の相違データ4に図形F6 、F7 のパ
ターンデータが含まれているため、次のステップST3
に移行する。
【0024】ステップST3においては、一方の第2の
相違データ4にパターンデータが含まれておらず、かつ
他方の第1の相違データ3にパターンデータが含まれて
いるか否かの判定を行う。この判定の結果、第1の相違
データ3にのみパターンデータが含まれている場合に
は、第1の描画入力データ1のうちの第1の相違データ
3の部分が相違しているとして、第1の相違データ3が
抽出され、検証が終了する。この第1の実施形態におい
ては、上述したように、第1の相違データ3および第2
の相違データ4の両方にパターンデータが含まれている
ため、次のステップST4に移行する。
相違データ4にパターンデータが含まれておらず、かつ
他方の第1の相違データ3にパターンデータが含まれて
いるか否かの判定を行う。この判定の結果、第1の相違
データ3にのみパターンデータが含まれている場合に
は、第1の描画入力データ1のうちの第1の相違データ
3の部分が相違しているとして、第1の相違データ3が
抽出され、検証が終了する。この第1の実施形態におい
ては、上述したように、第1の相違データ3および第2
の相違データ4の両方にパターンデータが含まれている
ため、次のステップST4に移行する。
【0025】ステップST4においては、一方の第1の
相違データ3にパターンデータが含まれておらず、かつ
他方の第2の相違データ4にパターンデータが含まれて
いるか否かの判定を行う。この判定の結果、第2の相違
データ4にのみパターンデータが含まれている場合に
は、第2の描画入力データ2のうちの第2の相違データ
4の部分が相違しているとして、第2の相違データ4が
抽出され、検証が終了する。この第1の実施形態におい
ては、上述したように、第1の相違データ3および第2
の相違データ4の両方にパターンデータが含まれている
ため、次のステップST5に移行する。
相違データ3にパターンデータが含まれておらず、かつ
他方の第2の相違データ4にパターンデータが含まれて
いるか否かの判定を行う。この判定の結果、第2の相違
データ4にのみパターンデータが含まれている場合に
は、第2の描画入力データ2のうちの第2の相違データ
4の部分が相違しているとして、第2の相違データ4が
抽出され、検証が終了する。この第1の実施形態におい
ては、上述したように、第1の相違データ3および第2
の相違データ4の両方にパターンデータが含まれている
ため、次のステップST5に移行する。
【0026】ステップST5においては、第1の相違デ
ータ3および第2の相違データ4の両方に含まれている
パターンデータに対して、図形的な排他的論理和の演算
を行う。これによって、第1の相違データ3と第2の相
違データ4との間の異なった部分を第3の相違データ5
として出力する。その後、ステップST6に移行する。
ータ3および第2の相違データ4の両方に含まれている
パターンデータに対して、図形的な排他的論理和の演算
を行う。これによって、第1の相違データ3と第2の相
違データ4との間の異なった部分を第3の相違データ5
として出力する。その後、ステップST6に移行する。
【0027】ステップST6においては、第3の相違デ
ータ5にパターンデータが含まれるか否かの判定が行わ
れる。第3の相違データ5にパターンデータが含まれて
いない場合には、第1の描画入力データ1と第2の描画
入力データ2との間に相違なしと判断され、検証が終了
する。
ータ5にパターンデータが含まれるか否かの判定が行わ
れる。第3の相違データ5にパターンデータが含まれて
いない場合には、第1の描画入力データ1と第2の描画
入力データ2との間に相違なしと判断され、検証が終了
する。
【0028】一方、第3の相違データ5にパターンデー
タが含まれている場合には、第1の描画入力データ1と
第2の描画入力データ2との間に相違ありと判断され、
第3の相違データ5が出力されて、検証が終了する。そ
の後、第1の描画入力データ1または第2の描画入力デ
ータ2のうちの、第3の相違データ5に対応する部分を
修正し、所望の描画入力データを作成する。
タが含まれている場合には、第1の描画入力データ1と
第2の描画入力データ2との間に相違ありと判断され、
第3の相違データ5が出力されて、検証が終了する。そ
の後、第1の描画入力データ1または第2の描画入力デ
ータ2のうちの、第3の相違データ5に対応する部分を
修正し、所望の描画入力データを作成する。
【0029】その後、この描画入力データを例えば電子
線描画装置などの描画装置に供給する。そして、従来公
知の方法により、上述の所望の描画入力データに基づい
たパターンを有するフォトマスクを製造する。
線描画装置などの描画装置に供給する。そして、従来公
知の方法により、上述の所望の描画入力データに基づい
たパターンを有するフォトマスクを製造する。
【0030】以上説明したように、この第1の実施形態
によれば、2つの異なるデータ変換装置において変換さ
れた第1の描画入力データ1および第2の描画入力デー
タ2に対してデータフォーマット上での比較処理を行
い、第1の描画入力データ1と第2の描画入力データ2
との間の共通した部分を除いた部分を、それぞれ第1の
相違データ3と第2の相違データ5として抽出し、これ
らの第1の相違データ3および第2の相違データ4の両
方にパターンデータが含まれている場合にのみ、第1の
相違データ3と第2の相違データ4とに図形論理演算処
理を行うようにしていることにより、時間をあまり要し
ないデータフォーマット上での比較処理において第1の
描画入力データと第2の描画入力データとの間の共通し
た部分を排除して、時間を要する図形論理演算処理を必
要最低限のデータに対してのみ行うことができるので、
検証時間を大幅に短縮することができる。そのため、第
1の描画入力データ1、第2の描画入力データ2などの
電子線描画装置用データの作成におけるTATの増加を
防止することができ、フォトマスクの製造、開発に要す
る時間を大幅に短縮することができる。また、第1の相
違データ3または第2の相違データ4のどちらか一方に
のみパターンデータが含まれていた場合には、図形論理
演算処理を行う必要がなくなるため、検証時間をより一
層短縮することができる。
によれば、2つの異なるデータ変換装置において変換さ
れた第1の描画入力データ1および第2の描画入力デー
タ2に対してデータフォーマット上での比較処理を行
い、第1の描画入力データ1と第2の描画入力データ2
との間の共通した部分を除いた部分を、それぞれ第1の
相違データ3と第2の相違データ5として抽出し、これ
らの第1の相違データ3および第2の相違データ4の両
方にパターンデータが含まれている場合にのみ、第1の
相違データ3と第2の相違データ4とに図形論理演算処
理を行うようにしていることにより、時間をあまり要し
ないデータフォーマット上での比較処理において第1の
描画入力データと第2の描画入力データとの間の共通し
た部分を排除して、時間を要する図形論理演算処理を必
要最低限のデータに対してのみ行うことができるので、
検証時間を大幅に短縮することができる。そのため、第
1の描画入力データ1、第2の描画入力データ2などの
電子線描画装置用データの作成におけるTATの増加を
防止することができ、フォトマスクの製造、開発に要す
る時間を大幅に短縮することができる。また、第1の相
違データ3または第2の相違データ4のどちらか一方に
のみパターンデータが含まれていた場合には、図形論理
演算処理を行う必要がなくなるため、検証時間をより一
層短縮することができる。
【0031】また、上述の第1の実施形態において、検
証しようとしている2つの第1の描画入力データ1およ
び第2の描画入力データ2が互いに異なるフォーマット
であっても、それらの第1の描画入力データ1および第
2の描画入力データ2をそれぞれ適切な相互に共通のフ
ォーマットに変換したのちに、上述と同様の処理を行う
ことによって、上述と同様の効果を得ることができる。
証しようとしている2つの第1の描画入力データ1およ
び第2の描画入力データ2が互いに異なるフォーマット
であっても、それらの第1の描画入力データ1および第
2の描画入力データ2をそれぞれ適切な相互に共通のフ
ォーマットに変換したのちに、上述と同様の処理を行う
ことによって、上述と同様の効果を得ることができる。
【0032】次に、この発明の第2の実施形態による電
子線描画装置用データの検証方法について説明する。こ
の第2の実施形態においては、露光波長近傍のデザイン
ルールパターンをウェーハ上に転写する際に生じる光近
接効果の補正が、正しく行われているか否かを検証する
場合について説明する。図4に、この第2の実施形態に
よる検証方法のフローチャートを示し、図5に光近接効
果補正処理が行われた前後の描画入力データの一例を示
す。
子線描画装置用データの検証方法について説明する。こ
の第2の実施形態においては、露光波長近傍のデザイン
ルールパターンをウェーハ上に転写する際に生じる光近
接効果の補正が、正しく行われているか否かを検証する
場合について説明する。図4に、この第2の実施形態に
よる検証方法のフローチャートを示し、図5に光近接効
果補正処理が行われた前後の描画入力データの一例を示
す。
【0033】図4に示すように、この第2の実施形態に
おいては、まず、近接効果補正前の描画入力データ11
(図5A参照)と近接効果補正後の描画入力データ12
(図5B参照)とを入力し、パターンデータを読み込
む。
おいては、まず、近接効果補正前の描画入力データ11
(図5A参照)と近接効果補正後の描画入力データ12
(図5B参照)とを入力し、パターンデータを読み込
む。
【0034】次に、図4に示すように、ステップST1
1においては、これらの補正前の描画入力データ11お
よび補正後の描画入力データ12に対して、第1の実施
形態と同様にしてデータフォーマット上での比較処理を
行う。そして、この比較処理において、補正前の描画入
力データ11および補正後の描画入力データ12で互い
に共通したパターン記述部分を検出し削除するととも
に、相違しているパターン記述部分を抽出する。この第
2の実施形態においては、図5Cに示すように、図5A
に示す補正前の描画入力データ11と、図5Bに示す補
正後の描画入力データ12との間において、打点部で共
通しているとともに、斜線部で相違している。そのた
め、図5Aおよび図5Bに示すように、ステップST1
1において補正前の描画入力データ11のうちの補正に
よって削られた補正パターン部11aが第1の相違デー
タ13として出力され、補正後の描画入力データ12の
うちの補正によって付加された補正パターン部12aが
第2の相違データ14として出力される。通常、補正後
の描画入力データは、補正前の描画入力データに対して
補正パターン部が修正されたものであり、補正を要しな
い部分のパターンデータはそのままの記述で残されてい
る。そのため、第1の相違データ13および第2の相違
データ14には、それぞれ補正された部分のみが含まれ
ており、検証に必要な部分の最小限のデータが取り出さ
れたことになる。その後、図4に示すステップST12
に移行する。
1においては、これらの補正前の描画入力データ11お
よび補正後の描画入力データ12に対して、第1の実施
形態と同様にしてデータフォーマット上での比較処理を
行う。そして、この比較処理において、補正前の描画入
力データ11および補正後の描画入力データ12で互い
に共通したパターン記述部分を検出し削除するととも
に、相違しているパターン記述部分を抽出する。この第
2の実施形態においては、図5Cに示すように、図5A
に示す補正前の描画入力データ11と、図5Bに示す補
正後の描画入力データ12との間において、打点部で共
通しているとともに、斜線部で相違している。そのた
め、図5Aおよび図5Bに示すように、ステップST1
1において補正前の描画入力データ11のうちの補正に
よって削られた補正パターン部11aが第1の相違デー
タ13として出力され、補正後の描画入力データ12の
うちの補正によって付加された補正パターン部12aが
第2の相違データ14として出力される。通常、補正後
の描画入力データは、補正前の描画入力データに対して
補正パターン部が修正されたものであり、補正を要しな
い部分のパターンデータはそのままの記述で残されてい
る。そのため、第1の相違データ13および第2の相違
データ14には、それぞれ補正された部分のみが含まれ
ており、検証に必要な部分の最小限のデータが取り出さ
れたことになる。その後、図4に示すステップST12
に移行する。
【0035】次に、ステップST12においては、第1
の相違データ13および第2の相違データ14に対し
て、図形的な排他的論理和の演算が行われる。これによ
って、第1の相違データ13と第2の相違データ14と
の間の相違したデータが抽出され、第3の相違データ1
5として出力される。この第2の実施形態においては、
第1の相違データ13と第2の相違データ14とに重な
りがないため、第3の相違データ15には、第1の相違
データ13および第2の相違データ14がそのまま含ま
れる。その後、ステップST13に移行する。
の相違データ13および第2の相違データ14に対し
て、図形的な排他的論理和の演算が行われる。これによ
って、第1の相違データ13と第2の相違データ14と
の間の相違したデータが抽出され、第3の相違データ1
5として出力される。この第2の実施形態においては、
第1の相違データ13と第2の相違データ14とに重な
りがないため、第3の相違データ15には、第1の相違
データ13および第2の相違データ14がそのまま含ま
れる。その後、ステップST13に移行する。
【0036】次に、ステップST13において、第3の
相違データ15に対して、上述の光近接効果補正と逆の
処理が行われる。この第2の実施形態においては、第3
の相違データ15に対して、図5Bに示す補正後の描画
入力データ12から図5Aに示す補正前の描画入力デー
タに戻す処理が行われ、図5Cに示す所定の幅wの分だ
けアンダーサイジング処理が行われる。そして、第3の
相違データ15にこのアンダーサイジング処理を施した
結果が、第4の相違データ16として出力される。その
後、ステップST14に移行する。
相違データ15に対して、上述の光近接効果補正と逆の
処理が行われる。この第2の実施形態においては、第3
の相違データ15に対して、図5Bに示す補正後の描画
入力データ12から図5Aに示す補正前の描画入力デー
タに戻す処理が行われ、図5Cに示す所定の幅wの分だ
けアンダーサイジング処理が行われる。そして、第3の
相違データ15にこのアンダーサイジング処理を施した
結果が、第4の相違データ16として出力される。その
後、ステップST14に移行する。
【0037】第4の相違データ16にパターンデータが
含まれていない場合、補正は正常であると判断され、検
証が終了する。その後、補正後の描画入力データ12を
例えば電子線描画装置などの描画装置に供給し、従来公
知の方法により、描画入力データ12に基づいたパター
ンを有するフォトマスクを製造する。
含まれていない場合、補正は正常であると判断され、検
証が終了する。その後、補正後の描画入力データ12を
例えば電子線描画装置などの描画装置に供給し、従来公
知の方法により、描画入力データ12に基づいたパター
ンを有するフォトマスクを製造する。
【0038】他方、第4の相違データ16にパターンデ
ータが含まれている場合、補正は正常でないと判断さ
れ、出力された第4の相違データ16のパターンデータ
が補正異常として検出される。補正異常が検出された場
合には、補正後の描画入力データ12の第4の相違デー
タ16の部分に対して、所定の修正処理を行うことによ
り、所望の描画入力データが作成される。
ータが含まれている場合、補正は正常でないと判断さ
れ、出力された第4の相違データ16のパターンデータ
が補正異常として検出される。補正異常が検出された場
合には、補正後の描画入力データ12の第4の相違デー
タ16の部分に対して、所定の修正処理を行うことによ
り、所望の描画入力データが作成される。
【0039】その後、この所望の描画入力データを例え
ば電子線描画装置などの描画装置に供給し、従来公知の
方法により、上述の所望の描画入力データに基づいたパ
ターンを有するフォトマスクを製造する。
ば電子線描画装置などの描画装置に供給し、従来公知の
方法により、上述の所望の描画入力データに基づいたパ
ターンを有するフォトマスクを製造する。
【0040】以上説明したように、この第2の実施形態
によれば、補正前の描画入力データ11と補正前の描画
入力データ12とをデータフォーマット上で比較して、
これらの間の相違した部分を、それぞれ第1の相違デー
タ13と第2の相違データ14として出力し、これらの
第1の相違データ13と第2の相違データ14とに図形
的な排他的論理和の演算(ステップST12)を行うよ
うにしていることにより、時間をあまり要しないデータ
フォーマット上での比較処理(ステップST11)にお
いて共通した部分を排除して、時間を要する図形論理演
算を補正された部分の必要最低限のデータのみに行うこ
とができるので、第1の実施形態と同様の効果を得るこ
とができる。
によれば、補正前の描画入力データ11と補正前の描画
入力データ12とをデータフォーマット上で比較して、
これらの間の相違した部分を、それぞれ第1の相違デー
タ13と第2の相違データ14として出力し、これらの
第1の相違データ13と第2の相違データ14とに図形
的な排他的論理和の演算(ステップST12)を行うよ
うにしていることにより、時間をあまり要しないデータ
フォーマット上での比較処理(ステップST11)にお
いて共通した部分を排除して、時間を要する図形論理演
算を補正された部分の必要最低限のデータのみに行うこ
とができるので、第1の実施形態と同様の効果を得るこ
とができる。
【0041】以上、この発明の実施形態について具体的
に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定され
るものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の
変形が可能である。
に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定され
るものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の
変形が可能である。
【0042】例えば、上述の実施形態において挙げた描
画入力データのパターン形状、データフォーマットはあ
くまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なるパター
ン形状、データフォーマットであってもよい。
画入力データのパターン形状、データフォーマットはあ
くまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なるパター
ン形状、データフォーマットであってもよい。
【0043】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、複数の描画装置用データにおける互いの描画装置用
データをデータフォーマットに基づいて比較し、この比
較によって、それぞれの描画装置用データから全ての描
画装置用データに共通しているデータを除いたデータ
を、それぞれの描画装置用データにおけるそれぞれの相
違データとして抽出し、それぞれの相違データに対して
図形論理演算処理を行って、それぞれの相違データを互
いに図形的に比較して検証を行っていることにより、処
理時間を要する図形論理演算を相違した部分に対しての
み行うことができるので、描画装置用データの検証に要
する時間を大幅に短縮することができ、描画装置用デー
タの作成におけるTATの短縮を図ることができる。
ば、複数の描画装置用データにおける互いの描画装置用
データをデータフォーマットに基づいて比較し、この比
較によって、それぞれの描画装置用データから全ての描
画装置用データに共通しているデータを除いたデータ
を、それぞれの描画装置用データにおけるそれぞれの相
違データとして抽出し、それぞれの相違データに対して
図形論理演算処理を行って、それぞれの相違データを互
いに図形的に比較して検証を行っていることにより、処
理時間を要する図形論理演算を相違した部分に対しての
み行うことができるので、描画装置用データの検証に要
する時間を大幅に短縮することができ、描画装置用デー
タの作成におけるTATの短縮を図ることができる。
【図1】この発明の第1の実施形態による描画装置用デ
ータの検証方法を説明するためのフローチャートであ
る。
ータの検証方法を説明するためのフローチャートであ
る。
【図2】この発明の第1の実施形態による描画装置用デ
ータの検証方法により検証が行われる描画装置入力デー
タの一例を示す略線図である。
ータの検証方法により検証が行われる描画装置入力デー
タの一例を示す略線図である。
【図3】この発明の第1の実施形態による相違データの
一例を示す略線図である。
一例を示す略線図である。
【図4】この発明の第2の実施形態による描画装置用デ
ータの検証方法を説明するためのフローチャートであ
る。
ータの検証方法を説明するためのフローチャートであ
る。
【図5】この発明の第2の実施形態による光近接効果補
正が行われるパターンの一例を示す略線図である。
正が行われるパターンの一例を示す略線図である。
【図6】電子線描画装置用データの一例を示す略線図で
ある。
ある。
1・・・第1の描画入力データ、2・・・第2の描画入
力データ、3、13・・・第1の相違データ、4、14
・・・第2の相違データ、5、15・・・第3の相違デ
ータ、11・・・補正前の描画入力データ、12・・・
補正後の描画入力データ、16・・・第4の相違データ
力データ、3、13・・・第1の相違データ、4、14
・・・第2の相違データ、5、15・・・第3の相違デ
ータ、11・・・補正前の描画入力データ、12・・・
補正後の描画入力データ、16・・・第4の相違データ
Claims (12)
- 【請求項1】 複数の描画装置用データをデータフォー
マットに基づいて相互に比較し、 上記データフォーマットに基づいた比較の結果に応じ
て、上記複数の描画装置用データのそれぞれの描画装置
用データから、全ての描画装置用データに共通している
データを除いたデータを、それぞれの上記描画装置用デ
ータに対応するそれぞれの相違データとして抽出し、上
記それぞれの相違データを相互に図形的に比較して検証
を行うようにしたことを特徴とする描画装置用データの
検証方法。 - 【請求項2】 上記検証が、上記複数の描画装置用デー
タが相互に図形的に同一のデータであるか否かを検証す
るものであることを特徴とする請求項1記載の描画装置
用データの検証方法。 - 【請求項3】 第1の描画装置用データと第2の描画装
置用データとをデータフォーマットに基づいて比較し、 上記データフォーマットに基づいた比較の結果に応じ
て、上記データフォーマットにおける上記第1の描画装
置用データのうちの上記第2の描画装置用データと共通
したデータを除いたデータを第1の相違データとして抽
出するとともに、上記データフォーマットにおける上記
第2の描画装置用データのうちの上記第1の描画装置用
データと共通したデータを除いたデータを第2の相違デ
ータとして抽出し、上記第1の相違データと上記第2の
相違データとを相互に図形的に比較して検証を行うよう
にしたことを特徴とする描画装置用データの検証方法。 - 【請求項4】 上記検証が、上記第1の描画装置用デー
タと上記第2の描画装置用データとが相互に図形的に同
一のデータであるか否かを検証するものであることを特
徴とする請求項3記載の描画装置用データの検証方法。 - 【請求項5】 上記第1の相違データと上記第2の相違
データとを相互に図形的に比較することによって、上記
第1の相違データと上記第2の相違データとにおいて共
通していないデータを第3の相違データとして抽出し、
上記第3の相違データにデータが含まれているか否かの
検証を行うようにしたことを特徴とする請求項3記載の
描画装置用データの検証方法。 - 【請求項6】 上記第2の描画装置用データが、上記第
1の描画装置用データに演算処理を行うことにより上記
第1の描画装置用データを補正したものであり、上記第
3の相違データを抽出した後、上記第3の相違データに
対して上記演算処理と逆の演算処理を行うことによっ
て、第4の相違データを作成するようにしたことを特徴
とする請求項5記載の検証方法。 - 【請求項7】 描画装置用データに基づいて、フォトマ
スクを製造するようにしたフォトマスクの製造方法にお
いて、 複数の描画装置用データをデータフォーマットに基づい
て比較し、 上記データフォーマットに基づいた比較の結果に応じ
て、上記複数の描画装置用データのそれぞれの描画装置
用データから、全ての描画装置用データに共通している
データを除いたデータを、それぞれの上記描画装置用デ
ータに対応するそれぞれの相違データとして抽出し、上
記それぞれの相違データを相互に図形的に比較して検証
を行うようにしたことを特徴とするフォトマスクの製造
方法。 - 【請求項8】 上記検証が、上記複数の描画装置用デー
タが相互に図形的に同一のデータであるか否かを検証す
るものであることを特徴とする請求項7記載のフォトマ
スクの製造方法。 - 【請求項9】 描画装置用データに基づいて、フォトマ
スクを製造するようにしたフォトマスクの製造方法にお
いて、 第1の描画装置用データと第2の描画装置用データとを
データフォーマットに基づいて比較し、 上記データフォーマットに基づいた比較の結果に応じ
て、上記データフォーマットにおける上記第1の描画装
置用データのうちの上記第2の描画装置用データと共通
したデータを除いたデータを第1の相違データとして抽
出するとともに、上記データフォーマットにおける上記
第2の描画装置用データのうちの上記第1の描画装置用
データと共通したデータを除いたデータを第2の相違デ
ータとして抽出し、上記第1の相違データと上記第2の
相違データとを相互に図形的に比較して検証を行うよう
にしたことを特徴とするフォトマスクの製造方法。 - 【請求項10】 上記検証が、上記第1の描画装置用デ
ータと上記第2の描画装置用データとが相互に図形的に
同一のデータであるか否かを検証するものであることを
特徴とする請求項9記載のフォトマスクの製造方法。 - 【請求項11】 上記第1の相違データと上記第2の相
違データとを相互に図形的に比較することによって、上
記第1の相違データと上記第2の相違データとにおいて
共通していないデータを第3の相違データとして抽出
し、上記第3の相違データにデータが含まれているか否
かの検証を行うようにしたことを特徴とする請求項9記
載のフォトマスクの製造方法。 - 【請求項12】 上記第2の描画装置用データが、上記
第1の描画装置用データに演算処理を行うことにより上
記第1の描画装置用データを補正したものであり、上記
第3の相違データを抽出した後、上記第3の相違データ
に対して上記演算処理と逆の演算処理を行うことによっ
て、第4の相違データを作成するようにしたことを特徴
とする請求項11記載のフォトマスクの製造方法。
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