JPH11194480A - 描画用マスクパタンデータ生成方法とその装置 - Google Patents

描画用マスクパタンデータ生成方法とその装置

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JPH11194480A
JPH11194480A JP156498A JP156498A JPH11194480A JP H11194480 A JPH11194480 A JP H11194480A JP 156498 A JP156498 A JP 156498A JP 156498 A JP156498 A JP 156498A JP H11194480 A JPH11194480 A JP H11194480A
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Takashi Takenouchi
隆司 竹之内
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  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】設計マスクパタンデータを電子ビーム描画用マ
スクパタンデータに変換する処理に時間がかかり、より
高速化したい。 【解決手段】図形演算処理の処理単位とされる各線分
は、パタンデータ全体を複数分割して得られる部分領域
ごとに、平衡二分木構造のデータとして記憶する。この
部分領域は、パタンデータをＸ軸方向にｍ個に均等に分
割して形成する。その領域の中で線分が集中している領
域は、さらにこれを分割して、分割された各領域ごとに
平衡二分木構造のデータを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置のフォ
トマスク製造時に、原マスクパタンデータから電子線ビ
ームにより描画を行うための描画用マスクパタンデータ
を高速に生成することのできるマスクパタンデータ生成
方法、および、マスクパタンデータ生成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子線レジストが膜材料上に塗布された
フォトマスク基板に、電子ビームを照射することにより
マスクパタンを転写する際には、設計された原マスクパ
タンデータを描画装置用のマスクパタンデータに変換す
る必要がある。このマスクパタンデータの変換処理にお
いては、たとえば多重描画防止のため設計マスクパタン
データで許されているパタンの重なりを除去する処理
や、他の層のマスクパタンデータに基づいてパタンデー
タを生成する層間処理などの図形演算処理が行われる。
【０００３】このような図形演算処理を高速に効率よく
行うために、様々な方法が考えられているが、その中に
平面走査法を用いたものがある。この平面走査法につい
て、図７を参照して説明する。図７（Ａ）に示すような
パタンデータを処理対象とする場合、図７（Ｂ）に示す
ようにＸ軸またはＹ軸（図７（Ｂ）ではＸ軸）に平行な
走査線と呼ぶ線を各パタンの頂点に沿って移動させてい
く。そして、現在の走査線とその直前の走査線との間に
ある図形に対して、任意の図形演算処理を行う。図７
（Ａ）に示すパタンデータに、図７（Ｂ）のように走査
線が設けられた場合、走査線を移動させながらその走査
線で区切られた各領域ごとに、たとえば重なりを判定し
て除去する処理などを行う。その結果、図７（Ｃ）に示
すような重なりのない矩形または台形の集合として記述
される描画用のマスクパタンデータが生成される。
【０００４】このような平面走査法による処理において
は、各走査線で区切られた線分を単位として処理が行わ
れる。そのため、各線分はＸ座標でソートされて管理さ
れており、また走査線が移動して所望の図形演算処理な
どが行われるごとに、線分の削除・挿入を行う必要があ
る。そして、このような線分の管理を効率よく行い、削
除・挿入を容易に行うために、これらの線分のデータは
通常、図８に示すような、平衡二分木構造で記憶されて
いる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、半導
体装置のパタンが微細かつ複雑になっており、このよう
な設計マスクパタンデータを電子ビーム描画用マスクパ
タンデータに変換する処理にかかる時間が膨大になって
おり、より高速化したいという要望がある。
【０００６】前述したような変換処理においては、多重
描画防止のためのパターンの重なりを除去する処理や、
他のマスク層のデータからマスク描画用データを作成す
る層間処理などの図形演算処理に、描画装置用データ作
成のためのほとんどの時間を費やしている。そして、そ
れらの処理の中でも特に時間がかかっているのが、前述
した平衡二分木構造の線分データに対するアクセス、す
なわち、データの挿入、削除、検索の処理である。平衡
二分木構造のデータにおいては、図８に示すように、格
納されているデータの数をｎとすると、平衡二分木構造
の深さはｌｏｇｎとなる。したがって、データアクセス
の際、最悪の場合はその一番深い部分をアクセスするこ
とになり、ｌｏｇｎの比較が必要となり、その分、アク
セスに時間がかかることになる。そして、このアクセス
時間が、前述したような電子ビーム描画用マスクパタン
データの変換処理全体に大きな影響を及ぼしている。
【０００７】したがって、本発明の目的は、線分データ
に対するアクセスをより高速にすることにより、電子ビ
ーム描画用のマスクパタンデータを高速に生成すること
ができるマスクパタンデータ生成方法を提供することに
ある。また本発明の他の目的は、線分データに対するア
クセスをより高速にすることにより、電子ビーム描画用
のマスクパタンデータを高速に生成することができるマ
スクパタンデータ生成装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、平面走査法を用いた図形演算処理において、ベクト
ル化した線分データを、線分存在区間で分類し、その区
間ごとの線分データを平衡二分木構造で記憶するように
した。
【０００９】したがって、本発明の描画用マスクパタン
データ生成方法は、まず、少なくともマスクパタンの輪
郭を示す線分を含む線分で示されたマスクパタンデータ
より、所定の方向の線分以外の線分を抽出し、その抽出
された各線分を、当該各線分の両端点を通過するその所
定の方向と平行な線で分割し、そのマスクパタンの領域
をその所定の方向に複数の領域に分割し、その分割され
た各領域ごとに、当該領域に存在するその分割された各
線分を平衡二分木構造により記憶し、その各領域ごとに
平衡二分木構造により記憶されている各線分をアクセス
し、当該分割された各線分を処理単位として所望の図形
演算処理を行い、その図形演算処理の結果に基づいて、
マスクパタンの輪郭が線分で示された描画用マスクパタ
ンデータを生成する。
【００１０】このような描画用マスクパタンデータ生成
方法によれば、図形演算処理を行う際には、処理対象の
線分が存在する領域に基づいてその線分のデータが記憶
されている平衡二分木構造の記憶データをまず選択し、
その後その選択された平衡二分木構造の記憶データより
所望の線分のデータをアクセスする。そして、順次線分
をアクセスして所望の図形演算処理を行い、最終的にそ
の図形演算処理の結果に基づいて描画用マスクパタンデ
ータを生成する。
【００１１】また、本発明の描画用マスクパタンデータ
生成装置は、少なくともマスクパタンの輪郭を示す線分
を含む線分で示されたマスクパタンデータより、描画用
マスクパタンデータを生成する装置であって、そのマス
クパタンデータの線分より所定の方向の線分以外の線分
を抽出する線分抽出手段と、その抽出された各線分を、
当該各線分の両端点を通過するその所定の方向と平行な
線で分割する線分分割手段と、そのマスクパタンの領域
をその所定の方向に複数の領域に分割する領域分割手段
と、その分割された各領域ごとに、当該領域に存在する
その分割された各線分を、平衡二分木構造により記憶す
る線分記憶手段と、その各領域ごとに平衡二分木構造に
より記憶されている各線分をアクセスし、当該分割され
た各線分を処理単位として所望の図形演算処理を行う図
形演算処理手段と、その図形演算処理の結果に基づい
て、マスクパタンの輪郭が線分で示された描画用マスク
パタンデータを生成する描画用データ生成手段とを有す
る。
【００１２】このような描画用マスクパタンデータ生成
装置においては、線分抽出手段において、元のマスクパ
タンの線分より所定の方向の線分以外の線分を抽出し、
その抽出された各線分を線分分割手段においてさらに各
線分の両端点を通過する前記所定の方向と平行な線で分
割する。一方で、領域分割手段でマスクパタンの全体領
域を前記所定の方向に複数の領域に分割しておく。そし
て、線分記憶手段は、その分割された各領域ごとに、そ
の領域に存在するその分割された各線分を、平衡二分木
構造により記憶する。図形演算処理手段は、処理対象の
線分が存在する領域に基づいてその線分のデータが記憶
されている平衡二分木構造の記憶データをまず選択し、
その後その選択された平衡二分木構造の記憶データより
所望の線分のデータをアクセスして、たとえば、マスク
パタンデータの重なり部分を除去する重なり除去処理
や、他の層のマスクパタンデータに基づいたマスクパタ
ンデータを生成する層間処理などの、所望の図形演算処
理を行う。そして、描画用データ生成手段は、その図形
演算処理の結果に基づいて、マスクパタンの輪郭が線分
で示された描画用マスクパタンデータを生成する。
【００１３】なお、好適には、本発明の描画用マスクパ
タンデータ生成装置は、前記分割された各領域におい
て、当該領域に存在する前記分割された線分が所定数よ
り多い場合に、１の領域に存在する線分が所定数以下と
なるように当該領域をさらに分割する領域細分手段をさ
らに有し、前記線分記憶手段は、前記さらに分割された
領域ごとに、当該領域に存在する前記分割された各線分
を平衡二分木構造により記憶する。また好適には、前記
描画用データ生成手段は、前記図形演算処理の結果得ら
れた線分より、前記各領域において同一のマスクパタン
の輪郭を示す対の線分を検出する対応線分検出手段と、
前記検出された対の線分のうち、当該対の線分がともに
連続する前記分割された領域間で連続している場合に
は、当該連続している部分を統合して前記分割された領
域間を横断する新たな対の線分を形成する線分統合手段
と、前記形成された新たな対の線分、および、前記検出
され統合されなかった対の線分について、当該線分の対
応する端点を前記所定の方向の線分で連結する矩形形成
手段とを有する。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態を図１〜図
５を参照して説明する。図１は、本実施の形態のマスク
パタンデータ生成方法を示すフローチャートである。な
お、実際のパタンデータの生成の処理は、たとえば汎用
の計算機装置などに、図１に示すようなマスクパタンデ
ータ生成の処理手続きが設定されて構成された、本発明
に係わるマスクパタンデータ生成装置により実施され
る。
【００１５】まず、図１を参照して、本実施の形態のマ
スクパタンデータ生成方法の各ステップについて説明す
る。設計の結果得られる、たとえば重なりを許すような
形式のマスクパタンデータが入力されると、まず、その
パタンデータの線分ベクトル化処理を行う（ステップＳ
１１）。具体的には、入力されたパタンデータよりＸ軸
に平行な線分を切り捨てて、それ以外の線分のみのデー
タとする。この時、元のパタンの頂点列の順番をそろえ
てから線分化することにより、線分の左右どちら側が図
形の内側部分であるかを分かるようにしておく。
【００１６】このように抽出された各線分のデータに対
して、順次所望の図形演算処理を行う（ステップＳ１２
〜ステップＳ１５）。まず、処理対象とする線分を、平
面走査法による図形演算処理に適した順序に並べるため
に、線分ソート処理を行う（ステップＳ１２）。すなわ
ち、各線分の端点をＹ軸方向でソートする。
【００１７】次に、ソートされた線分に対してその端点
に沿って走査線を動かしていきながら、現在の走査線と
その直前の走査線の間に存在する線分に対して所望の図
形演算処理を行う（ステップＳ１３，Ｓ１４）。本実施
の形態においては、まず第１の図形演算処理として、多
重露光を防止するために重なっているパタンデータを除
去する重なり除去の処理を行う。具体的には、現在の走
査線とその直前の走査線の間に存在する線分に対して、
パタンの内部にさらにパタンが存在するような関係の線
分を検出し、検出された場合にはその内部の線分を除去
して最も外側の線分のみを残すような線分の取捨選択の
処理を行う（ステップＳ１３）。
【００１８】この図形演算処理の時の最初の走査線の移
動に伴って、走査線間に存在する線分は、Ｘ座標にてソ
ートされて平衡二分木構造で格納される。したがって、
実際の重なり除去処理は、平衡二分木構造のデータ群よ
りＸ座標の小さい線分データを順に読み出して、重なり
除去処理を施して線分データの削除を適宜行い、平衡二
分木構造のデータ群を更新する処理を行うことになる。
【００１９】各図形演算処理において、最後の走査線に
ついて重なり除去処理を終了したら、さらに他の図形演
算処理を行うか否かをチェックし（ステップＳ１５）、
行う場合にはステップＳ２に戻ってその次の所望の図形
演算処理を行う。本実施の形態においては、重なり除去
処理の次に、第２の図形演算処理として層間処理を行
う。これら２番目以降の各図形演算処理においても、Ｘ
座標にてソートされた平衡二分木構造の線分データを用
いて所望の処理を行い、適宜その線分データの更新を行
う。
【００２０】そして、全ての図形演算処理が終了したら
（ステップＳ１５）、描画用マスクパタンデータを生成
するために、線分の矩形／台形化処理を行う（ステップ
Ｓ１６）。具体的には、最終的に得られた二分木構造の
線分データを参照して、左右対の線分を検出する。そし
て、連続して対になっている線分データを接続させ、さ
らに得られた線分の端点同士をＸ軸に平行な線分で結
び、矩形または台形のパタンデータを得る。得られた矩
形または台形のパタンデータは、描画用パタンデータと
して出力される。
【００２１】次に、このマスクパタンデータ生成方法に
ついて、図２および図３を参照して具体的に説明する。
図２および図３は、図１に示した設計の結果のマスクパ
タンデータを描画用マスクパタンデータに変換する処理
の具体例を示す図である。図２（Ａ）に示すような、設
計の結果得られる重なりを許すような形式のマスクパタ
ンデータが入力されると、まず、そのパタンデータより
Ｘ軸に平行な線分を切り捨てて、図２（Ｂ）に示すよう
な、それ以外の線分のみのデータに変換する。なお、図
２（Ｂ）においては、各パタンの頂点は時計回りでソー
トされており、矢印方向に対して右側が図形内部を示し
ている。
【００２２】このように抽出された各線分のデータに対
して、第１の図形演算処理として重なり除去処理を行
う。そこでまず、各線分の端点をＸ軸方向でソートし、
ソートされた線分に対してその端点に沿って走査線を動
かしていきながら、現在の走査線とその直前の走査線の
間に存在する線分に対して、パタンの内部にさらにパタ
ンが存在するような関係の線分を除去して、最も外側の
左右の線分のみを残す。全ての走査線に対してこのよう
な処理が終了すると、図２（Ｂ）に示したパタンデータ
からは図２（Ｃ）に示すような重なり除去され線分が統
合された結果のパタンデータが得られる。
【００２３】このような、走査線で区切られた各線分デ
ータは、平衡二分木構造で格納されており、この線分デ
ータを処理単位として、層間処理などの所望の図形演算
処理を順次行う。
【００２４】図形演算処理が全て終了したら、得られた
線分データより、左右が対になっている線分の組を抽出
し、連続して対応している線分データをつなげる処理を
施して、図３（Ｄ）に示すように左右が対応して線分が
統合されたパタンデータを得る。そして最後に、その端
点同志をＸ軸に平行な線分で結合することにより、図３
（Ｅ）に示すような矩形または台形で示される電子描画
用のパタンデータが得られる。
【００２５】次に、このような処理を行う際の、線分デ
ータの記憶方法について、図４および図５を参照して説
明する。図４は、線分データの記憶方法を模式的に説明
するための図である。まず、前述したような、走査線で
分割され図形演算処理の処理単位とされる各線分は、パ
タンデータ全体を複数分割して得られる部分領域ごと
に、平衡二分木構造のデータとして記憶される。この部
分領域は、パタンデータを、前述した線分ベクトル化の
処理で切り捨てた線分の方向に複数の領域に分割して構
成する。本実施の形態においては、図４に示すように、
パタンデータの領域をＸ軸方向にｍ個に均等に分割し、
分割領域Ｂ1 〜Ｂm を形成する。
【００２６】また、その領域の中で線分が集中している
領域は、さらにこれを分割して、分割された各領域ごと
に平衡二分木構造のデータを形成する。すなわち、図４
の領域Ｂ3 のように、その領域をさらに細分したレベル
２の分割領域ごとに平衡二分木構造を構成する。その領
域の中でさらに線分が集中していれば、その領域をさら
に細分したレベル３の分割領域を形成し、その各領域ご
とに平衡二分木構造を構成する。
【００２７】このような平衡二分木構造の各データに対
して、データを挿入する際の処理手順について図５のフ
ローチャートを参照して説明する。まず、挿入したい線
分データが発生した場合には、その線分データの位置よ
り、いちばん上の階層（レベル１）での挿入区間を算出
する（ステップＳ２１）。そして、その区間に、さらに
分割されている下のレベルの分割領域があるか否かをチ
ェックし（ステップＳ２２）、下のレベルがある場合に
は処理対象を下のレベルに移し（ステップＳ２３）、再
びその領域での挿入区間の算出を行う（ステップＳ２
１）。
【００２８】このような処理を繰り返し、平衡二分木が
構成されているレベルに達したら（ステップＳ２２）、
そのレベルの該当領域の平衡二分木に線分データを挿入
する（ステップＳ２４）。データの挿入が終了したら、
その平衡二分木に格納されたデータ数がある一定値をこ
えているか否かを調べ（ステップＳ２５）、越えている
場合には、その区間の平衡二分木を分割して下のレベル
の平衡二分木を作成し（ステップＳ２６）一連の処理を
終了する。
【００２９】なお、図５においては、データの挿入につ
いて説明したが、データの削除も同様の処理により実行
できる。データの削除の場合は、ステップＳ２４の処理
がそのデータの削除になり、ステップＳ２５の処理はそ
の平衡二分木に格納されたデータ数がある一定値以下と
なったか否かを調べる処理となり、ステップＳ２６の処
理は、複数の平衡二分木を統合して１つの平衡二分木に
戻す処理となる。また、単なるデータの検索の場合は、
ステップＳ２４でそのデータを読み出せばよく、ステッ
プＳ２５およびステップＳ２６に相当する処理は不要と
なる。
【００３０】このように、本実施の形態においては、描
画用マスクパタンデータを生成する際に、線分データが
存在する区間を複数の部分区間に分割し、その部分区間
ごとに平衡二分木構造のデータ記憶手段を用意しこれに
線分データを記憶している。したがって、平衡二分木の
深さが、従来の全体を１つの平衡二分木で構成した場合
に比較して削減でき、データの挿入、削除、検索の実行
時間を短縮することができる。また、存在する線分デー
タの量が多い領域は、その領域をさらに分割して平衡二
分木を形成するようにしているので、１つの平衡二分木
におけるデータの深さを一定値以下に保つことができ、
データのばらつきがあったとしても、前述したようなデ
ータの挿入、削除、検索の時間の短縮を維持できる。そ
の結果、全体の図形演算処理を高速化することができ、
描画用マスクパタンデータの生成処理自体を高速に効率
よく行うことができる。
【００３１】なお、本発明は本実施の形態に限られるも
のではなく、種々の改変が可能である。たとえば、本実
施の形態においては、線分が集中している場合には適宜
その領域をさらに細分し平衡二分木を増やしたり、また
線分が削減された場合には平衡二分木を減らしたりする
ようにしていた。しかし、より簡単には、そのような平
衡二分木の数を制御する手段などを保持せず、図６に示
すように、パタンデータの存在する領域を予め分割した
領域ごとに、１つの平衡二分木を形成しておき、これに
対して単純にアクセスするようにすればよい。線分デー
タが均等に配置されている場合などにはそのような基本
的な方法でもよく、このような方法も本発明の範囲内で
あることは明らかである。
【００３２】また、本実施の形態においては、領域の分
割はパタンの存在する領域を所定数に均等に分割するも
のとしたが、この分割の方法は任意である。たとえば、
予め線分データの集中の状態がある程度把握できている
のであれば、その状態に合わせて領域分割を行ってもよ
い。そのようにすれば、前述したようなさらなる細分処
理などを行わずとも、単純な処理で線分データが均等に
配置された平衡二分木を構成することができ、好適であ
る。また、処理を行う上では、領域の分割位置は、パタ
ンの存在する範囲を予め定めた所定数に均等に分割する
位置に最も近い走査線の位置とするのが好適であり、こ
のようにしてもよい。
【００３３】また、図形演算処理の具体的内容として本
実施の形態においては、重なり除去処理と層間処理を例
示したが、これ以外の任意の処理を行ってよい。また、
本発明のマスクパタンデータ生成装置は、汎用の計算機
装置などにより構成するものとしたが、専用の装置によ
り構成してもよい。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
線分データに対するアクセスをより高速にすることがで
き、電子ビーム描画用のマスクパタンデータを高速に生
成することができるマスクパタンデータ生成方法を提供
することができる。また線分データに対するアクセスを
より高速にすることにより、電子ビーム描画用のマスク
パタンデータを高速に生成することができるマスクパタ
ンデータ生成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態の描画用マスクパタンデ
ータ生成方法を説明するためのフローチャートである。
【図２】図１に示したマスクパタンデータ生成方法の具
体例を示す図であり、（Ａ）は入力パタンデータの例を
示す図であり、（Ｂ）は線分ベクトル化の処理結果を示
す図であり、（Ｃ）は図形演算処理結果を示す図であ
る。
【図３】図１に示したマスクパタンデータ生成方法の具
体例を示す図であり、（Ｄ）は矩形／台形化処理におけ
る線分つなぎ処理結果を示す図であり、（Ｅ）は生成さ
れた電子ビーム描画用のマスクパタンデータを示す図で
ある。
【図４】線分データの記憶方法を模式的に説明するため
の図である。
【図５】図４に示すような構成の記憶手段に新たに線分
データを挿入する場合の処理を説明するためのフローチ
ャートである。
【図６】線分データの記憶方法の変形例を模式的に説明
するための図である。
【図７】平面走査法を説明するための図であり、（Ａ）
はパタンデータの例を示す図であり、（Ｂ）は走査線を
説明するための図であり、（Ｃ）は（Ａ）に示したパタ
ンデータに対して（Ｂ）に示した走査線に基づく処理を
した結果の状態を示す図である。
【図８】従来の線分データの記憶方法を模式的に説明す
るための図である。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】少なくともマスクパタンの輪郭を示す線分
    を含む線分で示されたマスクパタンデータより、描画用
    マスクパタンデータを生成する方法であって、 前記マスクパタンデータの線分より所定の方向の線分以
    外の線分を抽出し、 前記抽出された各線分を、当該各線分の両端点を通過す
    る前記所定の方向と平行な線で分割し、 前記マスクパタンの領域を前記所定の方向に複数の領域
    に分割し、 前記分割された各領域ごとに、当該領域に存在する前記
    分割された各線分を、平衡二分木構造により記憶し、 前記各領域ごとに平衡二分木構造により記憶されている
    各線分をアクセスし、当該分割された各線分を処理単位
    として所望の図形演算処理を行い、 前記図形演算処理の結果に基づいて、マスクパタンの輪
    郭が線分で示された描画用マスクパタンデータを生成す
    る描画用マスクパタンデータ生成方法。
  2. 【請求項２】前記図形演算処理は、重なりの許容された
    マスクパタンデータより重なり部分を除去し、重なりの
    無いマスクパタンデータに変換する処理を包含する請求
    項１記載の描画用マスクパタンデータ生成方法。
  3. 【請求項３】前記図形演算処理は、他の層のマスクパタ
    ンデータに基づいて、当該層のマスクパタンデータを生
    成する処理を包含する請求項１記載の描画用マスクパタ
    ンデータ生成方法。
  4. 【請求項４】前記分割された各領域において、当該領域
    に存在する前記分割された線分が所定数より多い場合
    に、１の領域に存在する線分が所定数以下となるように
    当該領域をさらに分割し、 前記分割された各線分の記憶は、当該さらに分割された
    領域ごとに、当該領域に存在する前記分割された各線分
    を平衡二分木構造により記憶することにより行う請求項
    １記載の描画用マスクパタンデータ生成方法。
  5. 【請求項５】前記図形演算処理の結果に基づく描画用マ
    スクパタンデータの生成は、 前記図形演算処理の結果得られた線分より、前記各領域
    において同一のマスクパタンの輪郭を示す対の線分を検
    出し、 前記検出された対の線分のうち、当該対の線分がともに
    連続する前記分割された領域間で連続している場合に
    は、当該連続している部分を統合して前記分割された領
    域間を横断する新たな対の線分を形成し、 前記形成された新たな対の線分、および、前記検出され
    統合されなかった対の線分について、当該線分の対応す
    る端点を前記所定の方向の線分で連結することにより行
    う請求項１記載の描画用マスクパタンデータ生成方法。
  6. 【請求項６】少なくともマスクパタンの輪郭を示す線分
    を含む線分で示されたマスクパタンデータより、描画用
    マスクパタンデータを生成する装置であって、 前記マスクパタンデータの線分より所定の方向の線分以
    外の線分を抽出する線分抽出手段と、 前記抽出された各線分を、当該各線分の両端点を通過す
    る前記所定の方向と平行な線で分割する線分分割手段
    と、 前記マスクパタンの領域を前記所定の方向に複数の領域
    に分割する領域分割手段と、 前記分割された各領域ごとに、当該領域に存在する前記
    分割された各線分を、平衡二分木構造により記憶する線
    分記憶手段と、 前記各領域ごとに平衡二分木構造により記憶されている
    各線分をアクセスし、当該分割された各線分を処理単位
    として所望の図形演算処理を行う図形演算処理手段と、 前記図形演算処理の結果に基づいて、マスクパタンの輪
    郭が線分で示された描画用マスクパタンデータを生成す
    る描画用データ生成手段とを有する描画用マスクパタン
    データ生成装置。
  7. 【請求項７】前記図形演算処理手段は、重なりの許容さ
    れたマスクパタンデータより重なり部分を除去し、重な
    りの無いマスクパタンデータに変換する重なり除去手段
    を有する請求項６記載の描画用マスクパタンデータ生成
    装置。
  8. 【請求項８】前記図形演算処理は、他の層のマスクパタ
    ンデータに基づいて、当該層のマスクパタンデータを生
    成する層間処理手段を有する請求項６記載の描画用マス
    クパタンデータ生成装置。
  9. 【請求項９】前記分割された各領域において、当該領域
    に存在する前記分割された線分が所定数より多い場合
    に、１の領域に存在する線分が所定数以下となるように
    当該領域をさらに分割する領域細分手段をさらに有し、 前記線分記憶手段は、前記さらに分割された領域ごと
    に、当該領域に存在する前記分割された各線分を平衡二
    分木構造により記憶する請求項６記載の描画用マスクパ
    タンデータ生成装置。
  10. 【請求項１０】前記描画用データ生成手段は、 前記図形演算処理の結果得られた線分より、前記各領域
    において同一のマスクパタンの輪郭を示す対の線分を検
    出する対応線分検出手段と、 前記検出された対の線分のうち、当該対の線分がともに
    連続する前記分割された領域間で連続している場合に
    は、当該連続している部分を統合して前記分割された領
    域間を横断する新たな対の線分を形成する線分統合手段
    と、 前記形成された新たな対の線分、および、前記検出され
    統合されなかった対の線分について、当該線分の対応す
    る端点を前記所定の方向の線分で連結する矩形形成手段
    とを有する請求項６記載の描画用マスクパタンデータ生
    成装置。
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