TWI321430B - - Google Patents

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1321430 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關使用機能液滴噴頭（噴墨頭）之有機電 激發光裝置的製造方法及製造裝置，以及有機電激發光裝 置’電子機器及液滴噴出裝置。 【先前技術】 以往利用此類的機能液滴噴頭之有機電激發光裝置的 鲁 製造方法及製造裝置雖未到達實用階段，但理論上爲已知 。此情況’是在機能液滴噴頭中導入液體的發光材料（機 能液）’且予以噴出至多數個的畫像領域，然後使發光材 料中的溶劑汽化（乾燥），而來形成有機電激發光的發光 層。 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 Φ 但，在使用機能液滴噴頭之以往的有機電激發光裝置 的製造裝置中，若使用容易與空氣中的氧氣等反應者來作 爲發光材料，則於通常的環境下自機能液滴噴頭噴出的發 光材料會以較廣的面積來接觸於空氣中，而會有容易造成 ， 變質的問題發生。並且，著落後的發光材料會與氧氣等反 應，在乾燥的過程中會有容易發生龜裂等的問題。 有鑑於此，本發明的課題是在於提供一種在噴出發光 材料來形成有機電激發光機能層的過程中，可有效地防止 -4 - (2) (2)1321430 其變質或損傷的有機電激發光裝置的製造方法及製造裝置 ，以及有機電激發光裝置，電子機器及液滴噴出裝置。 〔用以解決課題之手段〕 本發明之有機電激發光裝置的製造方法，是屬於一種 使導入發光機能材料的機能液滴噴頭對基板進行相對性的 掃描，且選擇性地噴出發光機能材料，而分別於基板上的 多數個畫素領域中形成有機電激發光機能層之有機電激發 光裝置的製造方法，其特徵爲： 在惰性氣體的環境中進行噴出發光機能材料的噴出過 又，就惰性氣體而言，最好爲：氮，二氧化碳，氦， 氖，氬，氪，氙，及氡的其中之一。 若利用此構成，則由於是使機能液滴噴頭對基板噴出 發光機能材料的噴出過程進行於惰性氣體的環境中，因此 &由發光機能材料.的噴出來形成有機電激發光機能層的過 程中’發光機能材料與大氣（空氣）的接觸會被隔絕，而 使能夠防止發光機能材料變質或損傷。 此情況’有機電激發光機能層至少爲電激發光層及正 孔注入層中之電激發光層。 若利用此構成，則由於可使用機能液滴噴頭來形成有 機電激發光裝置之發光機能的主體部份，因此可高精度地 形成更微小的畫素，製造出高解像且高畫質的有機電激發 光裝置。 -5- (3) (3)1321430 該等情況’最好是在上述環境中，惰性氣體的氣流會 與形成噴出過程的噴出區域交叉。 若利用此構成’則由於處理環境中之惰性氣體的氣流 會與一邊噴出發光機能材料一邊進行掃描的機能液滴噴頭 的噴出區域交叉，因此發光機能材料與大氣（空氣）的接 觸會確實地被隔絕，而使能夠確實地防止發光機能材料變 質等。 該等情況’最好是藉由經常進行惰性氣體的補給與排 氣來維持環境。 若利用此構成，則可安定地維持惰性氣體的環境，且 可使汽化後的發光材料的溶劑適當地排至裝置外。並且， 排氣後的溶劑最好是使用處理裝置來回收。 該等情況，最好是經由所被導入的惰性氣體來使環境 維持於預定的溫度。 該等情況，最好是該預定的溫度爲2 0 °C ± 0.5。匚。 若利用此構成，則在由發光機能材料的噴出來形成有 機電激發光機能層的過程中，由於處理環境會被維持於— 定的溫度，因此可取得品質經常保持安定的有機電激發光 機能層，進而能夠提高有機電激發光裝置的良品率。 該等情況，最好是環境爲維持於預定的氧氣濃度以下 〇 又，該預定的氧氣濃度最好爲lOppm。 若利用此構成，則幾乎可以排除由發光機能材料的噴 出來形成有機電激發光機能層的過程之氧氣的影響。藉此 -6 - (4) (4)1321430 可以提高有機電激發光裝置的良品率。 該等情況，最好是環境爲維持於預定的水分濃度以下 〇 又，該預定的水分濃度最好爲lOppm。 若利用此構成，則幾乎可以排除由發光機能材料的噴 出來形成有機電激發光機能層的過程之水分的影響，亦即 水分中所含之氧氣或氫氣的影響。藉此可以提高有機電激 發光裝置的良品率。 該等情況，最好是更具備：使著落於畫素領域的發光 機能材料的溶劑汽化之乾燥過程，使乾燥過程進行於惰性 氣體的環境中。 若利用此構成，則因爲乾燥過程（使著落後之發光機 能材料的溶劑汽化）也是在情性氣體的環境中進行，所以 能夠有效地防止乾燥過程的發光機能材料因氧化等而產生 變質或損傷。 該等情況，最好是更具備：在形成噴出過程的噴出區 域與形成乾燥過程的乾燥區域之間搬送基板之搬送過程， 使搬送過程進行於惰性氣體的環境中。 若利用此構成，則因爲搬送過程也是在惰性氣體的環 境中進行，所以能夠有效地防止搬送中的發光機能材料因 氧化等而產生變質。 本發明之有機電激發光裝置的特徵是利用上述本發明 之有機電激發光裝置的製造方法來製造。 本發明之電子機器的特徵是具備上述本發明之有機電 -7- (5) (5)1321430 激發光裝置。 若利用該等構成，則可簡單地製造在多數的畫素領域 中安定地植入高品質的有機電激發光機能層之有機電激發 光裝置本身，進而能夠提供一種低成本且具有可靠度的有 機電激發光裝置及使用該有機電激發光裝置的電子機器。 在此’有機電激發光裝置爲所謂的平面顯示器，此情況的 電子機器爲行動電話，或個人電腦等具備平面顯示器的各 種機器。 φ 本發明之有機電激發光裝置的製造裝置的特徵是具備 液滴噴出機構；該液滴噴出機構是使導入發光機能材 料的機能液滴噴頭對基板進行相對性的掃描，且選擇性地 噴出發光機能材料’而於基板上的多數個畫素領域中形成 有機電激發光機能層，·及 處理室機構；該處理室機構是供以在惰性氣體的環境 中收容液滴噴出機構》 鲁 又’就惰性氣體而言，最好爲：氮，二氧化碳，氨， 氖，氬，氪，氙，及氡的其中之一。 右利用此構成’則因爲液滴噴出裝置會被收容於構成 惰性氣體的處理環境之處理室中，所以液滴噴出機構之發 光機能材料的噴出是在惰性氣體的處理環境中進行◊因此 ’在由發光機能材料的噴出來形成有機電激發光機能層的 過％中’發光機能材料與大氣（空氣）的接觸會被隔絕， 而使能夠防止發光機能材料變質或損傷。 -8 - (6) (6)1321430 此情況，有機電激發光機能層至少爲電激發光層及正 孔注入層中之電激發光層。 若利用此構成，則由於可使用機能液滴噴頭來形成有 機電激發光裝置之發光機能的主體部份，因此可高精度地 形成更微小的畫素，製造出高解像且高晝質的有機電激發 光裝置。 該等情況，最好處理室機構是一起收容液滴噴出機構 及其附帶裝置。 若利用此構成，則由於可極力減少外氣容易侵入之處 理室的密封部份，因此能夠安定地維持處理室內部之惰性 氣體的處理環境。並且，附帶裝置包含直接連結於液滴噴 出機構的機能液供給系，電力•控制系，氣體供給系，及 淸掃等維修系的裝置。 此情況，最好是處理室機構具有： 處理室；及 氣體供給設備：該氣體供給設備是經由送氣口來將惰 性氣體供應給處理室：及 氣體排氣設備；該氣體排氣設備是經由排氣口來從處 理室排出惰性氣體。 若利用此構成，則可藉由氣體供給設備來對收容液滴 噴出機構的處理室供給惰性氣體，以及藉由氣體排氣設備 來排出惰性氣體，因此可在處理室內順暢地構成惰性氣體 的處理環境，且能夠容易進行處理環境的控制等。 此情況，最好在處理室的中心部設定有液滴噴出機構 -9- (7) (7)1321430 的噴出區域’且連結送氣口與排氣口的氣流主流路會與噴 出區域交叉。 若利用此構成’則由於處理環境中之惰性氣體的氣流 會與一邊噴出發光機能材料一邊進行掃描的機能液滴噴頭 的噴出區域交叉，因此發光機能材料與大氣（空氣）的接 觸會確實地被隔絕’而使能夠確實地防止發光機能材料變 質等。 此情況’最好處理室是形成約直方體形狀，且送氣口 與排氣口是配設於彼此約呈對角的位置。 若利用此構成，則於處理室內難以發生處理環境的滯 留，可安定地供給惰性氣體。並且，能夠維持良好的惰性 氣體的處理環境。 該等此情況’最好在處理室中，點檢用面板會被設成 可自由裝卸，且點檢用面板具有內外雙重面板構造。 若利用此構成，則可在雙重構造的點檢用面板下，不 但不會妨礙液滴噴出裝置的維修，而且還能夠氣密構成處 理室’極力防止惰性氣體的洩漏等。 此情況，最好在處理室中，點檢用面板會被設置於兩 處’一方的點檢用面板是面向液滴噴出機構，另一方的點 檢用門是面向附帶裝置β 若利用此構成，則在液滴噴出機構及附帶裝置的維修 時，不會降低作業性。 該等情況，最好氣體供給設備具有： 氣體供給機器；及 -10- (8) (8)1321430 氣體調和機器；該氣體調和機器是在氣體供給機器與 送氣口之間的氣體流路上配設冷氣機’加熱器，風扇及過 濾器。 若利用此構成，則可藉由氣體調和機器來對從氣體供 給機器經由送氣口而供應給處理室的惰性氣體進行溫度調 節及溼度調節，且可取出惰性氣體中的塵埃等雜質。 此情況，最好氣體調和機器會使環境維持於預定的溫 度。 φ 又，預定的溫度最好爲20°C ± 0.5°C。 若利用此構成，則在由發光機能材料的噴出來形成有 機電激發光機能層的過程中，由於處理環境會被維持於一 定的溫度，因此可取得品質經常保持安定的有機電激發光 機能層。藉此，而能夠提高有機電激發光裝置的良品率》 此情況，最好氣體供給機器會使環境維持於預定的氧 氣濃度以下。 又，預定的氧氣濃度最好爲l〇Ppm。 φ 若利用此構成，則幾乎可以排除由發光機能材料的噴 出來形成有機電激發光機能層的過程之氧氣的影響。藉此 可以提高有機電激發光裝置的良品率。 此情況，最好氣體供給機器會使環境維持於預定的水 分濃度以下。 又，預定的水分濃度最好爲lOppm。 若利用此構成，則幾乎可以排除由發光機能材料的噴 出來形成有機電激發光機能層的過程之水分的影饗，亦即 -11 - 1321430 Ο) 水分中所含之氧氣或氫氣的影響。藉此可以提高有機電激 發光裝置的良品率。 該等情況，最好氣體排氣設備具有：連接於排氣口的 排氣流路，及介設於排氣流路的排氣氣閘，且排氣氣閘會 經常被控制成「開」。 若利用此構成，則因爲處理室內的處理環境會被一點 一點地排氣，所以與部份惰性氣體一起汽化後的發光機能 材料的溶劑也會適當地被排除於裝置外。因此，可安定地 維持惰性氣體的濃度。並且’排氣後的溶劑最好是使用處 理裝置來回收。 該等情況，最好處理室機構更具有：外氣供給設備； 該外氣供給設備是取代惰性氣體來供應外氣給處理室。 若利用此構成，則於液滴噴出機構的維修中，可藉由 外氣供給設備來順暢地將外氣取入處理室內。亦即，可簡 單地使處理室內的處理環境由惰性氣體替換成外氣。 此情況，最好外氣供給設備是經由送氣口來連通至處 理室。 若利用此構成，則於處理室內不必形成專用的外氣取 入口’可簡單地構成外氣供給設備。 本發明之有機電激發光裝置的特徵是利用上述本發明 之有機電激發光裝置的製造裝置來製造。 本發明之電子機器的特徵是具備上述本發明之有機電 激發光裝置。 右利用該等構成’則可簡單地製造在多數的畫素領域 -12- 1321430 no) 中安定地植入高品質的有機電激發光機能層之有機電激發 光裝置本身，進而能夠提供—種低成本且具有可靠度的有 機電激發光裝置及使用該有機電激發光裝置的電子機器。 在此’有機電激發光裝置爲所謂的平面顯示器，此情況的 電子機器爲行動電話’或個人電腦等具備平面顯示器的各 種機器。 本發明之液滴噴出裝置的特徵是具備： 液滴噴出機構；該液滴噴出機構是使導入發光機能材 鲁 料的機能液滴噴頭對基板進行相對性的掃描，且選擇性地 將機能材料噴出至基板上，而來形成機能膜；及 處理室機構；該處理室機構是供以在惰性氣體的環境 中收容液滴噴出機構。 若利用此構成’則因爲液滴噴出裝置會被收容於構成 惰性氣體的處理環境之處理室中，所以液滴噴出機構之發 光機^材料的噴出是在惰性氣體的處理環境中進行。因此 ’在由發光機能材料的噴出來形成有機電激發光機能層的 鲁 過程中，發光機能材料與大氣（空氣）的接觸會被隔絕， 而使能夠防止發光機能材料變質或損傷。 並且，就機能材料而言，爲撥液（撥水）用，金屬配 線用，配向膜用等的有機材肖（液體），當然可使用機能 液滴噴頭（噴墨頭）來噴出。 【實施方式】 〔發明之實施形態〕 -13- (11) (11)1321430 以下，參照附圖來說明本發明的實施形態。由於噴墨 列印機的噴墨頭（液滴噴出頭）可高精度地將微小的墨滴（液 滴）噴成點狀，因此可期待藉由在液滴（噴出對象物）中使用 例如特殊墨水、或發光性，感光性的樹脂等來應用於各種 零件的製造領域。 本實施形態之有機電激發光裝置的製造裝置爲組裝於 所謂平板顯示器之一種的有機電激發光裝置的製造線，使 用複數個機能液滴噴頭，從其噴嘴來噴出發光材料等的機 能液後（噴墨方式），形成具備有機電激發光裝置的發光 機能之各畫素的有機電激發光層以及正孔注入層》 在此，本實施形態中是先針對有機電激發光裝置的構 造及其製造方法來進行說明。然後，再針對由描繪裝置（ 掃描搭載的機能液滴噴頭）及其周邊設備所構成的有機電 激發光裝置的製造裝置及其製造方法。就周邊設備而言， 雖含處理室裝置，搬送裝置及乾燥裝置，但在本實施形態 中主要是針對其中的處理室裝置來進行說明，而有關搬送 裝置及乾燥裝置方面則予以簡單地說明。 第1〜13圖是表示包含有機電激發光元件的有機電激 發光裝置之製造過程及其構造。此製造過程是具備：觸排 部形成過程，電漿處理過程，及由正孔注入/輸送層形層 過程及發光層形成過程所構成的發光元件形成過程，及對 向電極形成過程，及封裝過程》 在觸排部形成過程中，會在預先形成於基板501的電 路元件部502上以及電極511 (亦稱爲畫素電極）上的預 (12) 定位置，藉由層疊無機物觸排層512 a及有機物觸排層 5 1 2 b來形成具有開口部5丨2 g的觸排部5 1 2。如此，在 觸排部形成過程中包含：在電極5 1 1的一部份形成無機物 觸排層5 12 a的過程，及形成有機物觸排層5 1 2 b的過程 〇 首先，在形成無機物觸排層512 a的過程中，如第1 圖所示，在電路元件部502的第2層間絕緣膜544 b上及 畫素電極511上，形成無機物觸排層512 a。無機物觸排 層5 12 a是例如利用CVD法，塗敷法，濺鍍法，蒸鍍法 等’在第2層間絕緣膜544 b及畫素電極5 1 1的全面上形 成SiCh、TiCh等的無機物膜。 其次，利用蝕刻等來形成該無機物膜圖案後，設置對 應於電極5 11的電極面5 1 1 a的形成位置之下部開口部 5 1 2 c。此刻，必須使無機物觸排層5 1 2 a能夠與電極 5 1 1的周緣部重疊。如此，以電極5 1 1的周緣部（一部份 )能夠與無機物觸排層512 a能夠重疊之方式來形成無機 物觸排層5 1 2 a下，將可控制發光層5 1 0的發光領域。 接著，在形成有機物觸排層512 b的過程中，如第2 圖所示，在無機物觸排層512 a上形成有機物觸排層512 b。並且，利用光蝕刻微影技術等來蝕刻有機物觸排層 5 1 2 b，而形成有機物觸排層5 1 2 b的上部開口部5 1 2 d 。上部開口部512 d是設置在對應於電極面511 a及下部 開口部512 c的位置。 上部開口部512 d ’如第2圖所示’最好是形成比下 (13) (13)1321430 部開□部5 1 2 c還要寬，且形成比電極面5 1 1 a還要狹窄 。藉此，圍繞無機物觸排層5 1 2 a的下部開口部5 1 2 c的 第1積層部5 1 2 e會形成比有機物觸排層5 1 2 b還要延伸 於電極5 1 1的中央側。如此一來，藉由連通上部開口部 5 1 2 d ，下部開口 5 1 2 c來形成貫通無機物觸排層5 1 2 a 及有機物觸排層5 1 2 b的開口部5 1 2 g。 其次，在電漿處理過程中，會在觸排部512的表面及 畫素電極的表面5 1 1 a形成顯示親液性的領域及顯示撥墨 φ 性的領域。 並且，此電漿處理過程大致區分爲：預加熱過程；及 以觸排部512的上面（5 12 f )及開口部512 g的壁 面以及畫素電極5 1 1的電極面5 1 1 a能夠具有親墨性的方 式來進行加工之親墨化過程；及 以有機物觸排層512 b的上面512 f及上部開口部 5 1 2 d的壁面能夠具有撥墨性的方式來進行加工之撥墨化 過程；及 ® 冷卻過程。 首先，在預加熱過程中，將包含觸排部5 12的基板 50 1加熱到預定的溫度。在此，加熱是例如在乘載基板 501的台座上安裝加熱器，而利用該加熱器來對每一台座 上的基板501進行加熱》具體而言，最好是將基板501的 預加熱溫度設定在70〜80°C的範圍內。 其次，在於親墨化過程中，是在大氣的環境中進行以 氧氣作爲處理氣體的電漿處理（〇2電漿處理）。藉此〇2 -16- (14) (14)1321430 電漿處理，如第3圖所示，畫素電極511的電極面511 a ，無機物觸排層5 12 a的第1觸排部5 1 2 e ，及有機物觸 排層5 1 2 b的上部開口部5 1 2 d的壁面及上面5 1 2 f會被 施以親墨處理。利用此親墨處理，在該等各面中導入氫酸 基，而來賦予親墨性。在第3圖中，是以一點虛線來表示 被親墨處理的部份" 接著，在於撥墨化過程中，是在大氣的環境中進行以 4氟化甲烷當作處理氣體的電漿處理（CF<電漿處理）。 藉此CB電漿處理，如第4圖所示，上部開口部512 d的 壁面及有機物觸排層的上面512 f會被施以撥墨處理。藉 此撥墨處理，該等各面會被導入氟素基，而賦予撥墨性。 在第4圖中，是以兩點虛線來表示顯現撥墨性的領域。 其次，在冷卻過程中，是將爲了進行電漿處理而被加 熱的基板501冷卻至室溫，或者噴墨過程（液滴噴出過程 )的管理溫度。藉由將電漿處理過後的基板501冷卻至室 溫或預定的溫度（例如進行噴墨過程的管理溫度）來使其 次的正孔注入/輸送層形成過程能夠在一定的溫度下進行 〇 接著，在發光元件形成過程中，藉由在畫素電極511 上形成正孔注入/輸送層及發光層來形成發光元件。在發 光元件形成過程中，包含4個過程。 亦即，包含：將形成正孔注入/輸送層用的第1組成 物噴出到各畫素電極上之第1液滴噴出過程；及 使被噴出的第1組成物乾燥，而於上述畫素電極上形 -17- (15) (15)1321430 成正孔注入/輸送層之正孔注入/輸送層形成過程；及 將形成發光層用的第2組成物噴出到上述正孔注入/ 輸送層上之第2液滴噴出過程；及 使被噴出的第2組成物乾燥，而於正孔注入/輸送層 上形成發光層之發光層形成過程。 首先，在於第1液滴噴出過程中，藉由噴墨法（液滴 噴出法）來將含正孔注入/輸送層形成材料的第1組成物 噴出到電極面511 a上。並且，在此第1液滴噴出過程以 後，最好是在無氫 '氧的氮氣環境，或者是在氬的環境等 惰性氣體的環境下進行。（並且，在僅於畫素電極上形成 正孔注入/輸送層時，鄰接於有機物觸排層而形成的正孔 注入/輸送層不會形成）。 如第5圖所示’在噴墨頭（機能液滴噴頭）η中充塡 包含正孔注入/輸送層形成材料的第1組成物，且使噴墨 頭Η的噴嘴對向於位在下部開口部5 1 2 c內的電極面5 1 1 a ，一邊使噴墨頭Η與基板501相對移動，一邊從噴嘴來 將被控制每1滴的液量之第1組成物滴5 10 c噴出至電極 面 51 1 a上。 就在此所使用的第1組成物而言，例如可使用將聚乙 烧一經基噻吩（PEDOT)等的聚噻吩衍生物與擴化聚苯乙 烯（PSS )等的混合物溶解於極性溶媒的組成物。又，就 極性溶媒而言’例如有：異丙醇（IPA )、標準丁醇、r _ 丁內酯、N -甲基咯吡烷酮（NMP) 、1，3-二甲院-2-咪哩 啉酮（D ΜI ) ’及其衍生物，乙酸卡必醇酯；丁基卡必醇 -18- (16) (16)1321430 酯等的乙二醇醚類等。又，正孔注入/輸送層形成材料， 亦可對R · G · B的各發光層5 10 b使用相同的材料，或 者按照每一發光層來予以變更。 如第5圖所示，被噴出的第1組成物滴510 c會被擴 散到親墨處理過的電極面511 a及第1積層部512 e上， 充滿於下部，上部開口部512 c ，512 d內。並且，噴出 到電極面5 1 1 a上的第1組成物量是根據下部，上部開□ 部5 1 2 c ，5 1 2 d的大小，及所欲形成的正孔注入/輸送 層的厚度，以及第1組成物中的正孔注入/輸送層形成材 料的濃度等來決定。而且，第1組成物滴5 10 c並非只限 於一次，亦可分成數次來噴出至同一電極面511 a上。 接著，在正孔注入/輸送層形成過程中，如第6圖所 示，針對噴出後的第1組成物進行乾燥處理及熱處理，而 使第1組成物中所含的極性溶媒蒸發，藉此在電極面5 1 1 a上形成正孔注入/輸送層5 1 0 a。若進行乾燥處理，則 第1組成物滴5 1 0 c中所含的極性溶媒的蒸發會主要在接 近無機物觸排層512 a及有機物觸排層512 b處發生，與 極性溶媒的蒸發一起濃縮析出正孔注入/輸送層形成材料 〇 藉此，如第6圖所示，藉由乾燥處理，即使在電極面 5 1 1 a上也會發生極性容媒的蒸發，藉此在電極面5 1 1 a 上形成由正孔注入/輸送層形成材料所構成的平坦部510 a。由於在電極面511 a上極性溶媒的蒸發速度幾乎均一 ，因此正孔注入/輸送層形成材料會在電極面511 a上均 -19- (17) (17)1321430 一濃縮，藉此會形成均一厚度的平坦部5 1 0 a。 其次，在第2液滴噴出過程中，利用噴墨法（液滴噴 出法）來將含發光層形成材料的第2組成物噴出到正孔注 入/輸送層510 a上》在此第2液滴噴出過程中，爲了防 止正孔注入/輸送層510 a的再度溶解，而使用不溶解正 孔注入/輸送層5 1 0 a的非極性溶媒來作爲發光層形成時 所使用的第2組成物的溶媒。 但另一方面，由於正孔注入/輸送層5 1 0 a對非極性 溶媒的親和性低，因此即使將含非極性溶媒的第2組成物 噴出到正孔注入/輸送層5 1 0 a上，也可以無法使正孔注 入/輸送層510 a與發光層 510 b密著，或者無法將發 光層5 1 0 b均勻塗佈。在此，爲了提高對非極性溶媒及發 光層形成材料之正孔注入/輸送層5 1 0 a的表面親和性， 最好在形成發光層之前進行表面改質過程。 在此，首先針對表面改質過程來加以說明。表面改質 過程是利用噴墨法（液滴噴出法），旋轉塗佈或浸漬法來 將表面改質用溶媒（與發光形成時所使用的第丨組成物的 非極性溶媒相同的溶媒或者類似的溶媒）塗佈於正孔注入 /輸送層510 a上之後進行乾燥。 例如，噴墨法的塗佈，如第7圖所示，在噴墨頭η中 充墳表面改質用溶媒，且使噴墨頭Η的噴嘴對向基板（亦 即’形成有正孔注入/輸送層510 a的基板），一邊使噴 墨頭Η與基板501相對移動，一邊從噴嘴Η來將表面改質 溶媒5 10 d噴出到正孔注入/輸送層5 10 a上。然後，如 -20- (18) (18)1321430 第8圖所示，使表面改質用溶媒5 1 〇 d乾燥。 其次，在於第2液滴噴出過程中，利用噴墨法（液滴 噴出法）來將含發光層形成材料的第2組成物噴出到正孔 注入/輸送層510 a上。如第9圖所示，在噴墨頭η中充 塡含有藍色（Β )發光層形成材料的第2組成物，且使噴 墨頭Η的噴嘴對向於位在下部、上部開口部5 1 〇 c ，5 1 2 d內的正孔注入/輸送層510 a ，一邊使噴墨頭η與基板 50 1相對移動’一邊從噴嘴來將被控制每1滴的液量之第 2組成物滴5 1 0 e噴出到正孔注入/輸送層5丨〇 3上。 就發光層形成材料而言，例如可使用在聚戊烯系高分 子衍生物、或（聚）對苯乙烯撐衍生物、聚二苯衍生物、 聚乙烯咔唑、聚噻吩衍生物、二萘嵌苯系色素、甜香素系 色素 '若丹明系色素、或在上述高分子中摻雜有機電激發 光材料者。例如，可藉由摻雜紅熒烯、二萘嵌苯、9，10 二苯基葸、四苯基丁二烯、甜香素6、哇吖酮等來使用。 就非極性溶媒而言，最好是使用不溶解正孔注入/輸 送層510 a者，例如，可使用環乙基苯、三甲基苯、四甲 基苯等β藉由在發光層510 b的第2組成物中使用如此的 非極性溶媒，將可不必再溶解正孔注入/輸送層5丨〇 a來 塗佈第2組成物。 如第9圖所示，被噴出的第2組成物510 e會擴散於 正孔注入/輸送層5 1 〇 a上，而充滿於下部、上部開口部 512 c ’512 d內。並且，第2組成物510 e並非只限於 噴出一次，亦可分成多次來噴出至同一正孔注入/輸送層 -21 - (19) (19)1321430 5 10 a上》此情況，每次的第2組成物的量可相同，或者 亦可改變每次的第2組成物的量。 其次，在於發光層形成過程中，在噴出第2組成物後 實施乾燥處理及熱處理，而於正孔注入/輸送層510 a上 形成發光層510 b。在此，乾燥處理是藉由乾燥處理噴出 後的第2組成物來蒸發含第2組成物的非極性溶媒，而形 成如第10圖所不的藍色（B )發光層510 b。 接著，如第11圖所示，與藍色（B)發光層510 b 的情況同樣的，形成紅色（R )發光層510 b，最後形成 綠色（G )發光層510 b。並且，發光層510 b的形成順 序，並非只限於上述順序，亦可依任何一種順序來形成》 例如，也可以因應發光層形成材料決定形成的順序。 其次，在於對向電極形成過程中，如第12圖所示， 在發光層510 b及有機物觸排層512 b的全面形成陰極 503(對向電極）。並且，陰極503亦可層疊多數材料來 形成。例如，最好在接近發光層側形成工作函數小的材料 ，例如可使用Ca ，Ba等，又，亦可依材料的不同，在 下層形成薄薄的LiF。而且’最好使用上部側（封裝部） 的工作函數比下部側的工作函數還要高者。該等陰極（陰 極層）503最好是使用蒸鑛法、灑鑛法、CVD法等來形成 ，特別是蒸鍍法可防止發光層510b的熱所造成的損傷。 又，氟化鋰亦可只形成於發光層510 ，或者只形 成於藍色（B )發光層510 b上。此情況’在其他的紅色 (R)發光層及綠色（G)發光層51〇 b，510 b會與由 (20) (20)1321430

LiF所形成的上部陰極層503 b接觸。並且，在陰極503 的上部，最好是使用藉由蒸鍍法、濺鍍法、C V D法等所形 成的A1膜，Ag膜等。而且，在陰極503上，亦可設置供 以防止氧化的Si〇2或SiN等的保護層。 最後，在第13圖所示的封裝過程中，在氮氣、氬氣 '氦氣等的惰性氣體環境中，將封裝用基板5 0 5層疊於有 機電激發光元件504上。在此’封裝過程最好是在氮氣、 氬氣、氦氣等的惰性氣體環境下進行。若於大氣中進行， 則當陰極503中發生氣孔等的缺陷時，水或氧氣等會從此 缺陷部份侵入到陰極503，而導致陰極503會被氧化。最 後，將陰極503連接於可撓性基板的配線，且於驅動IC 連接電路元件部5 0 2的配線’藉此來取得本實施形態的有 機電激發光裝置500 » 又，上述撥墨膜，陰極503，畫素電極511等中，亦 可分別使用液體材料，藉由噴墨法來形成。 其次，說明有關有機電激發光裝置的製造裝置。如上 述’在有機電激發光裝置的製程中，形成正孔注入/輸送 層（正孔注入層）的正孔注入/輸送層形成過程（第1液 滴噴出過程+乾燥過程）’及表面改質過程，形成發光層 的發光層形成過程（第2液滴噴出過程+乾燥過程）是藉 由使用機^液滴噴頭的噴墨法來進行。因應於此，在本實 施形態之有機電激發光裝置的製造裝置中會利用一邊使機 能液滴噴頭噴出發光機能材料一邊進行掃描的描繪裝置。 更具體而言，如第14圖所示，進行正孔注入/輸送 -23- (21) (21)1321430 層形成過程（必要時含表面改質過程）的正孔注入層形成 設備A具備：搭載導入第丨液滴（發光機能材料：正孔注 入層材料）的機能液滴噴頭之描繪裝置1 a ，及乾燥裝置 2 a ，以及基板搬送裝置3 a ，且具備收容該等裝置的處 理室裝置4 a。如上述，正孔注入/輸送層形成過程最好 是在惰性氣體的環境中進行，且設有處理室裝置4 a。 處理室裝置4 a是由：收容描繪裝置1 ^的主處理室 4 a a ’及收容乾燥裝置2 3與基板搬送裝置3 a ，且將 該等的連結部份（搬送路）予以收容成隧道狀的副處理室 4 a b所構成。並且，主處理室4 a 3是採用連續流動惰 性氣體而來構成良好的處理環境之方式（詳細情形會在往 後敘述），副處理室4 a b是採用使惰性氣體循環而來構 成良好的處理環境之方式。圖中的元件符號5是表示基板 移載裝置。 同樣的，如第1 5圖所示’進行發光層形成過程的發 光層形成設備B具備：搭載導入第2液滴（發光機能材料 :R· G· B發光層材料）的機能液滴噴頭之描繪裝置1 b ’及乾燥裝置2 b，以及基板搬送裝置3 b (該設備B會 依色別具備3組），且具備3組收容該等裝置的處理室裝 置4 b。又’與上述同樣的，發光層形成過程最好是在惰 性氣體的環境中進行，且設有處理室裝置4 b。又，此情 況的處理室裝置4 b是由：收容各描繪裝置1 b的3個主 處理室4b a ，及收容乾燥裝置2b與基板搬送裝置3b ’且將該等的連結部份（搬送路）予以收容成隧道狀的3 -24- (22) (22)1321430 個副處理室4 b b所構成。 正孔注入層形成設備A的描繪裝置1 a及發光層形成 設備B的各描繪裝置1 b會只有分別導入機能液滴噴頭的 發光層材料不同，其餘則具有同樣的構造。並且，各乾燥 裝置2 a ’2 b，各基板搬送裝置3 a ，3 b及各處理室 裝置4 a ’ 4 b具有同樣的構造。因此，若無視機能液滴 噴頭的更換或發光機能材料的供給系的更換所費的工夫， 則可使用任意的1組設備（描繪裝置丨，乾燥裝置2，基 板搬送裝置3及處理室裝置4)來製造有機電激發光裝置 〇 在此，就本實施形態而言，是以第1 5圖左端的1組 設備，亦即形成B色發光層的描繪裝置1 b，乾燥裝置2 b ’基板搬送裝置3 b及處理室裝置4 b爲例來說明各構 成裝置，其他設備則省略說明。 藉由圖外的裝置，經過上述觸排部形成過程及電漿處 理過程的基板會從位於第15圖左端的基板移載裝置5來 搬送至基板搬送裝置3(3 b)，在此轉換方向及姿勢來 搬送至描繪裝置l(lb)。自基板搬送裝置3(3b)傳 遞至描繪裝置1(1b)的基板會被設定於描繪裝置ι(ι b)。在描繪裝置1(1 b)中，藉由該機能液滴噴頭來 將B色的發光材料（液滴）噴出至基板的多數個畫素領域 (開口部5 12 g )(第2液滴噴出過程）。 其次>被塗著發光材料的基板會從描繪裝置1(1 b )傳遞至基板搬送裝置3(3 b)，藉由基板搬送裝置3 -25- (23) (23)1321430 (3 b)，來導入乾燥裝置2(2 b)。在乾燥裝置2(2 b )中’將基板暴露於高溫的惰性氣體環境中，而使發光 材料中的溶劑汽化（乾燥過程）。在此，再度將基板導入 描繪裝置1 ( 1 b )，進行第2液滴噴出過程。亦即，此 第2液滴噴出過程與乾燥過程會重複複數次，在發光層形 成所期望的膜厚下，基板會經由基板搬送裝置3 ( 3 b ) 來搬送至應形成R色的發光層之中間的描繪裝置i(i b )’最後搬送至應形成G色的發光層之右端的描繪裝置1 (lb)。又’該等的作業會在上述處理室裝置4(4 b )內的惰性氣體環境中進行。並且，供以形成B，G，r 的各色發光層的作業順序可任意。 又’乾燥裝置2及基板搬送裝置3的詳細說明雖省略 ，但實際上該乾燥裝置2除了吹附惰性氣體的吹風乾燥或 真空乾燥以外’亦可利用熱板或使用燈（紅外線燈）者。 又’乾燥溫度最好爲4(TC〜200°C ± 2°C。 其次’詳細說明有關以本發明爲主的描繪裝置1及主 處理室（處理室機構）4。如第16〜19圖所示，描繪裝置 1具備液滴噴出裝置（液滴噴出機構）1〇及其附帶裝置 11° 附帶裝置1 1具有： 將發光機能材料（發光材料：機能液）供應給液滴噴 出裝置1 〇 ’且回收不要的機能液之機能液供給回收裝匱 1 3，及 對各構件供應驅動•控制用等的壓縮空氣之空氣供給 (24) (24)1321430 裝置14 ;及 吸引空氣之真空吸引裝置15 ;及 供以維修機能液滴噴頭7之維修裝置1 6等。 又，液滴噴出裝置10具有： 設置於地板的台架21 ;及 設置於台架21上的石定盤22;及 設置於石定盤22上的X軸台23及與彼垂直的Y軸台 24 ;及 以能夠吊設於Y軸台24之方式來設置的主搬運器25 :及 搭載於主搬運器25的噴頭單元26。 並且，在噴頭單元26中會經由副搬運器（搬運器） 41而搭載有複數個機能液滴噴頭7。而且’對應於此機能 液滴噴頭7，在X軸台2 3的吸著台2 8 1上設定有基板（ 機能液滴噴出對象物）W (有關此部份會在往後詳細說明 )° 就本實施形態的液滴噴出裝置1 〇而言，是與機能液 滴噴頭7的驅動（機能液滴的選擇性噴出）同步移動基板 W，且機能液滴噴頭7的所謂主掃描是藉由往復運動於X 軸台23的X軸方向的兩個動作來進行者。並且，對應於 此，所謂副掃描是藉由利用Y軸台24往機能液滴噴頭7 的Y軸方向動作而進行者。此外’亦可僅以往動（或復動 )的方式來使上述的主掃描進行於X軸方向。 另一方面，噴頭單元26的原來位置是在第17圖及第 -27- (25) (25)1321430 19圖的圖示左端位置’且由此液滴噴出裝置1〇的左方來 進行噴頭單元2 6的運行或更換（詳細情形會在往後敘述 )。並且，在圖示的前方側設有基板搬送裝置（圖示省略 )’基板W會從此前方側搬入•搬出。而且，在此液滴噴 出裝置10的圖示右側，一體設有上述附帶裝置n的主要 構成裝置。 又，附帶裝置1 1具備： 箱型的共通機台31;及 收容於共通機台31內的一方半部之空氣供給裝置14 及真空吸引裝置15 ;及 在共通機台31內的一方半部收容主要裝置之機能液 供給回收裝置13 ;及 在共通機台31上收容主要裝置之維修裝置16。 又，維修裝置16具有： 接受機能液滴噴頭7的定期性淸洗（由全噴嘴來噴掉 機能液）之大小兩個的淸洗單元33 ;及 進行機能液滴噴頭7的機能液吸引及保管之掃除單元 34 ;及 擦拭機能液滴噴頭7的噴嘴形成面之擦拭單元35。 又，掃除單元34及擦拭單元35是被設置於上述共通 機台31上。並且，較小的淸洗單元33 A是配設於基板W 的近旁，較大的淸洗單元33 B是配設於噴頭單元26的原 來位置近旁（詳細情形會在往後敘述）。 另一方面，如第14圖及第15圖所示，主處理室4是 -28- (26) (26)1321430 具有在處理室37中倂設電氣室38及機械室39之所謂無 塵室的形態。在處理室3 7中導入有惰性氣體的氮氣，且 收容於此的上述液滴噴出裝置1 〇及附帶裝置1 1會全體暴 露於氮氣的環境中，在氮氣的環境中作動。 在此，參照第20圖的模式圖來簡單說明在氮氣的環 境中作動之描繪裝置1的一連串動作。首先，就準備階段 而言，噴頭單元26會運入液滴噴出裝置丨〇，這將會被設 定於主搬運器25中。若噴頭單元26被設定於主搬運器 25，則Y軸台24會使噴頭單元26移動至圖外的噴頭辨識 攝影機的位置，藉由噴頭辨識攝影機來辨識噴頭單元26 的位置。在此，會根據該辨識結果來對噴頭單元2 6進行 Θ修正，且噴頭單元26的X軸方向及Y軸方向的位置修 正會根據資料來進行。在位置修正後，噴頭單元26 (主 搬運器25 )會回到原來位置。 另一方面，若在X軸台23的吸著台81上導入.基板（ 此情況爲每個被導入的基板）W，則後述的主機板辨識攝 影機9 0會在此位置（傳遞位置）辨識基板位置。在此， 會根據該辨識結果來對基板W進行β修正，且基板w的X 軸方向及Υ軸方向的位置修正會根據資料來進行。在位置 修正後，基板W (吸著台81 )會回到原來位置。並且， 在X軸台23及Υ軸台24的初期調整時會在吸著台81上 導入對準標記，藉由後述的副機板辨識攝影機108來進行 初期調整（位置辨識）。 如此一來，若準備完成，則於實際的液滴噴出作業中 -29 - (27) (27)1321430 ，首先X軸台23會驅動，使基板W往復運動於主掃描方 向，且驅動複數個機能液滴噴頭7 ’而來對基板W進行選 擇性的機能液滴噴出動作。在基板w復動後’輪到驅動γ 軸台24，使噴頭單元26移動於副掃描方向（移動1間距 分），再度進行往基板W的主掃描方向的往復運動及機能 液滴噴頭7的驅動。然後’在予以數次重複進行之下’由 基板w的一端到另一端（全領域）進行液滴噴出。 此外，在本實施形態中’對噴頭單元2 6而言’雖是 使該噴出對象物的基板w移動於主掃描方向（x方向）’ 但亦可使噴頭單元26移動於主掃描方向。並且，亦可固 定噴頭單元26，而使基板W移動於主掃描方向及副掃描 方向。 其次，依次說明有關上述液滴噴出裝置10，附帶裝 置11及主處理室4的各構成裝置。在此，爲了易於理解 ，而先從噴頭單元26來開始說明。 第21〜24圖是表示噴頭單元的構造圖。如這些圖所 示，噴頭單元26具備：副搬運器41，及搭載於副搬運器 41的複數個（1 2個）機能.液滴噴頭7，及供以分別將各 機能液滴噴頭7安裝於副搬運器41的複數個（12個）噴 頭保持部42。並且，12個的機能液滴噴頭7會被分成左 右各6個，以預定的角度來傾斜配置於主掃描方向。 又，各6個的機能液滴噴頭7會彼此偏移配設於副掃 描方向，且12個機能液滴噴頭7的全體噴嘴68 (後述） 會連續於副掃描方向（一部份重複）。亦即，實施形態的 -30- (28) (28)1321430 噴頭配列是在副搬運器4 1上，使傾斜於同一方向而配置 的6個機能液滴噴頭7形成2列，且於各噴頭列間，機能 液滴噴頭7會形成彼此旋轉1 80°的配置。 但，此配列形式只不過是一個例子，例如亦可使各噴 頭列之鄰接的機能液滴噴頭7，7彼此具有90°的角度來 配置（鄰接噴頭彼此呈「门」字狀），或者可使各噴頭列 間之機能液滴噴頭7具有90°的角度來配置（列間噴頭彼 此呈「Π」字狀）。無論如何，只要12個機能液滴噴頭 φ 7的全體噴嘴68之噴頭爲連續於副掃描方向即可。 又，若機能液滴噴頭7爲專用零件（對各種基板W而 言），則無須傾斜設定機能液滴噴頭7，只要配設成鋸齒 狀或階梯狀即可。又，只要能夠構成預定長度的噴嘴列（ 點列），則無論是以單一的機能液滴噴頭7來構成，或者 以複數的機能液滴噴頭7來構成皆可。亦即，機能液滴噴 頭7的個數或列數，甚至配列形式皆可爲任意者。 又，副搬運器41具有： φ 一部份缺口之大致呈方形的本體板44 ;及 設置於本體板44的長邊方向的中間位置之左右一對 的基準插銷45，45;及 安裝於本體板44的兩長邊部份之左右一對的支持構 件46 ， 46 ;及 設置於各支持構件4 6的端部之左右一對的手把4 7， 47 〇 在此，左右一對的手把47, 47是在使噴頭單元26載 -31 - (29) (29)1321430 入上述液滴噴出裝置1 〇時，供以手持噴頭單元2 6的部位 。又，左右一對的支持構件4 6，4 6是在將副搬運器4 1固 定於液滴噴出裝置1 〇的設定部時的部位（皆會在往後詳 述）。又，一對的基準插銷45 ’ 45是以辨識畫像爲前提 ，供以將副搬運器41 (噴頭單元26 )定位於X軸’ Y軸 及Θ軸方向（辨識位置）的基準者。 又，在副搬運器4 1中設有：位於分成兩部份的機能 液滴噴頭群7 S的上側’而來連接於該等機能液滴噴頭7 φ 的左右一對配管連接組件49 ’ 49及左右一對配線連接組 件50，50。各配管連接組件49是連接於描繪裝置1的機 能液供給回收裝置1 3，同樣的’各配線連接組件5 0是連 接於描繪裝置1的控制裝置（噴頭驅動器’圖示省略）° 並且，在第2 2圖中，是省略一方（左側）的配管組件49 來予以繪圖。 又，如第21及23圖所示，在此噴頭單元26中更設 有一基板蓋5 1，使能夠覆蓋兩配線連接組件5 0。基板蓋 © 5 1是由··覆蓋各配線連接組件5 0側面的一對側面蓋5 3 ’ 及形成於一對側面蓋53，53間的上面蓋54所構成。其中 ，上面蓋54是在將噴頭單元26設定於液滴噴出裝置1〇 後安裝。 又，如第25圖所示，機能液滴噴頭7爲兩連，具備 :具有兩連的連接針62，62的液體導入部6 1，及連接於 液體導入部61側方的兩連噴頭基板63，及連接於液體導 入部6 1下方的兩連泵部64 ’及連接於泵部64的噴嘴形 -32- (30) (30)1321430 成板65。並且，液體導入部61連接有上述配管連接構件 49，在噴頭基板63的兩連的連接器66，66連接有上述配 線連接組件50。另一方面，藉由此泵部64與噴嘴形成板 65來構成突出於副搬運器4 1的背面側的方形噴頭本體60 。並且，在噴嘴形成板65的噴嘴形成面67形成有列設多 數個噴嘴68的兩列噴嘴列69，69。 其次，依次說明液滴噴出裝置1 0的其他構成裝置， 附帶裝置11及主處理室4個各構成裝置。 第26〜29圖是表示搭載X軸台的滴噴出裝置的台架 21及石定盤22。如這些圖所示，台架21是以角鋼材料等 來組裝成方形，具有分散配置於下部之附調整螺栓的複數 個（9個）支持腳71。並且，在台架21的上部，對各邊 以兩個的比例來搬運等移動時，供以固定石定盤22的複 數個（8個）固定構件72會以能夠突出於側方的方式來 安裝。各固定構件72是形成「L」字狀’將基端側固定 於台架21的上部側面，且經由調整螺栓73來使前端側抵 接於石定盤22的下部側面。石定盤22對台架21而言’ 是以非締結狀態來予以承載’在搬運石定盤22時’藉由 固定構件72來使石定盤22對台架2 1固定不動於X軸方 向及Y軸方向（前後左右）° 石定盤22是以使機能液滴噴頭7移動的X軸台23及 Y軸台24不會因周圍的環境條件或振動等而產生精度上 的偏差之方式來支持者’是由平面長方形的無垢石材來構 成。並且，在石定盤22的下部設有予以支持於台架21上 -33- (31) (31)1321430 之附有調整螺栓的3個主支持腳75及6個輔助腳76。其 中，3個主支持腳75是以3點來支持石定盤22，供以產 生其表面的平行度（含水平度）者。6個輔助腳76是供 以支持偏離石定盤2 2的3個主支持腳7 5的部份，防止產 生彎曲者。 因應於此’如第29圖的模式圖所示，3個主支持腳 75，75，75會配置成二等邊三角形，成爲該底邊的兩個 主支持腳75會配置成位於石定盤22的基板搬入側（同圖 中左側’第1 6圖中前側）。並且，6個輔助腳7 6，7 6， 76，76’ 76’ 76是以包含上述3個主支持腳75，75，75 能夠形成縱橫3x3的方式來均一且分散地配置。 此情況，在石定盤22上分別設有X軸台23 (使軸線 一致於沿著該長邊的中心線而設置者）及γ軸台24 (使 軸線合致於沿著該短邊的中心線而設置者）。因應於此， X軸台23會被直接固定於石定盤22上，Y軸台24的4 根支柱7 8會分別經由間隔塊來固定於石定盤2 2上。藉此 ’ Y軸台24是以能夠橫跨X軸台23而與其上側正交之方 式來配設。並且，第27圖中的符號80是供以固定後述之 主基板辨識攝影機的4個小區塊，主基板辨識攝影機也會 被固定於石定盤22上 如第26〜28圖的X軸移動系及第30〜32圖的β移動 系所示’ X軸台23是由：延伸於石定盤22的長邊方向’ 藉由空氣吸引來吸附基板W的吸著台8 1，及支持吸著台 81的0台82(參照第30〜32圖），及使Θ台82能夠自 -34- (32) (32)1321430 由地支持於X軸方向的X軸氣動滑件83，及經由0台82 來使吸著台8 1上的基板W移動於X軸方向的X軸線性馬 達8 4 ’及倂設於X軸氣動滑件8 3的X軸線性度盤8 5 (參 照第2 6〜2 9圖）所構成。 X軸線性馬達8 4是位於X軸氣動滑件8 3的噴頭單元 2 6搬入側’ X軸線性度盤8 5是位於X軸氣動滑件$ 3的 附帶裝置1 1側，該等會彼此平行設置。並且，X軸線性 馬達84，X軸氣動滑件83及X軸線性度盤85是直接支 持於石定盤22上。而且，在吸著台81連接有一真空管道 (圖示省略）’該真空管道是連接於上述真空吸引裝置 1 5，以藉由空氣吸引而被設定的基板W能夠維持平坦度之 方式來予以吸附。 此外，在X軸線性度盤85的附帶裝置1 1側配設有X 軸纜線支架87，該X軸纜線支架87是在石定盤22上收 容於箱體88的狀態下配設。並且，在X軸纜線支架87中 ，吸著台8 1的真空管道或0台82用的纜線等是以能夠追 從吸著台81及0台82的移動之方式來收容（參照第27 及28圖）。 如此構成的X軸台23會藉由X軸線性馬達84的驅動 來使吸附基板W的吸著台8 1及0台82能夠引導X軸氣動 滑件8 3來移動於X軸方向。並且，在此X軸方向的往復 移動中，會藉由往動動作（由基板搬入側往裏側作動）來 進行機能液滴噴頭7之相對性的主掃描。而且，根據後述 之主基板辨識攝影機90的辨識結果來進行0台82之基板 -35- (33) (33)1321430 W的0補正（水平面內之角度補正）。 第3 3圖是表示主基板辨識攝影機。如同圖所示’在 吸著台81的正上部，以能夠面向基板W的搬入位置（傳 遞位置）之方式來配設有一對的主基板辨識攝影機90 ’ 9〇。並且，一對的主基板辨識攝影機90，90可同時辨識 基板W的兩個基準位置（圖示省略）。 如第34，35及36圖所示，Y軸台24具備：延伸於 石定盤22的短邊方向，供以吊設上述主搬運器25的橋接 板9 1，及使橋接板9 1能夠自由地滑動於Y軸方向的一對 Y軸滑動件92，92，及倂設於Y軸滑動件92的Y軸線性 度盤93，及引導一對的Y軸滑動件92，92來使橋接板91 移動於Y軸方向的Y軸螺桿94，及使Y軸螺桿94正逆旋 轉的Y軸馬達9 5。並且，位於一對Y軸滑動件9 2，9 2的 兩側’一對Y軸纜線支架96，96會在分別收容於箱體97 ，97的狀態下配設。 Y軸馬達9 5是由伺服馬達所構成，若γ軸馬達9 5正 逆旋轉’則經由Y軸螺桿94而予以螺合的橋接板9 1會引 導一對Y軸滑動件92 ’ 92移動於Y軸方向。亦即，主搬 運器25會隨著橋接板91往Y軸方向的移動而移動於γ軸 方向。在此主搬運器25(噴頭單元26)的Y軸方向的往 復移動中，會藉由往動動作（從原來位置往附帶裝置} ι 側的移動）來進行機能液滴噴頭7的副掃描。 另一方面’在上述4根支柱78上支撐有載置台板98 (以主搬運器25的移動路徑部份作爲長方形開口 98 a ) -36- (34) (34)1321430 ，且於載置台板9 8上，一對Y軸滑動件9 2，9 2及Y軸螺 桿94會被配設成互相平行。並且，在從載置台板98突出 於外側的一對支持板99，99上，上述一對Υ軸纜線支架 96，96會與其箱體97，97 —起載置。 在基板搬入側的Υ軸纜線支架9 6中主要收容有連接 於噴頭單元2 6的纜線，在相反側的Υ軸纜線支架9 6中主 要收容有連接於噴頭單元26的機能液用的管道（皆圖示 省略）。並且，這些纜線及管道會經由上述橋接板91來 連接於噴頭單元26的複數個機能液滴噴頭7。 如第37及38圖所示，主搬運器25是由：由下側固 定於上述橋接板91之外觀呈「I」形的吊設構件101， 及安裝於吊設構件1 0 1的下面之Θ台1 02，及安裝成能夠 吊設於Θ台1 02的下面之搬運器本體1 03所構成。並且， 該吊設構件1 01會面向上述載置台板98的長方形開口 98 a ° 搬運器本體103具備：噴頭單元26所座落的基座板 104，及供以垂設基座板104的臂構件105，及突出於基座 板104的一方端部的一對暫置角鋼106，106，及設置於基 座板104的另一方端部的擋板107。並且’在擋板107的 外側配設有辨識基板w的一對副基板辨識攝影機1 08。 在基座板104中形成有一方形開口 111’噴頭單元26 的本體板44會崁遊於該方形開口 111。並且，在構成該 方形開口 1 1 1的基座板1 04的左右各開口緣部1 1 2中設有 :供以定位噴頭單元2 6的螺孔1 1 3，1 1 3，兩個貫通孔 -37- (35) (35)1321430 1 1 4，1 1 4，及定位銷1 1 5。 在如此構成的主搬運器25中，噴頭單元26會藉由該 兩手把47，47來搬入，然後予以設定。亦即，所被搬入 的噴頭單元26會一旦載置於兩暫置角鋼106，106上（暫 置）。在此，會將連接於配設在橋接板91上的機能液供 給回收裝置1 3的管道予以連接於噴頭單元26的配管連接 組件49，且將控制系的纜線予以連接於配線連接組件50 。並且，安裝上面蓋54。然後，再度握持手把47，47， 引導兩暫置角鋼106，106，而來將噴頭單元26推進前方 ，予以設定於基板1 04的左右的開口緣部1 1 2，1 1 2。 其次，說明有關附帶裝置1 1的共通機台31。如第39 〜42圖所示，共通機台3 1具備：隔著隔壁來形成大小兩 個收容室122 a ，122 b的機台本體121，及設置於機台 本體121上的移動台123，及固定於移動台123上的共通 基座124，及設置於偏離機台本體121上的移動台123的 端位置的槽基座125。並且，在共通基座124上載置有掃 除單元34及擦拭單元35，在槽基座125上載置有後述之 機能液供給回收裝置1 3的中間槽1 26 » 在機台本體121的下面設有附調整螺栓的6個支持角 128及4個腳輪129，且於液滴噴出裝置1〇側設有供以和 液滴噴出裝置10的台架21連結的一對連結拖架13〇，130 。藉此來使液滴噴出裝置1〇與附帶裝置n (共通機台31 )一體化’且因應所需來分離附帶裝置π，而使能夠移 動。 -38- (36) (36)1321430 在機台本體121的較小一方的收容室122 b中，收容 有空氣供給裝置1 4及真空吸引裝置1 5的主要部份，在較 大一方的收容室122 a中，收容有機能液供給回收裝置 1 3的槽。並且，供以連接於該槽的接頭群1 3 1會面臨形 成於機台本體121的端部上面的矩形開口 121 a (第42 圖左端）。而且，位於該矩形開口 121 a的近旁，而設有 後述的廢液泵1 5 2 (參照第1 6圖）。 移動台123是延伸於機台本體121的長度方向，具備 鲁 :供以支持共通基座124的方形台133，及可自由滑動方 形台1 3 3的一對移動台1 3 4，1 3 4，及配設於一對移動台 134 ’ 134間的螺桿135，及使螺桿135正反旋轉的移動馬 達136。並且，移動馬達136會經由耦合器137來連接於 螺桿1 3 5的端部’方形台1 3 3會螺合於螺桿1 3 5。藉此， 若移動馬達136正反旋轉，則方形台133及共通基座124 會經由螺桿1 35來進退於X軸方向。 移動台123會使載置於共通基座！ 24上的掃除單元34 φ 及擦拭單元35移動，當移動台123驅動時，噴頭單元26 會藉由上述X軸台24來到達掃除單元34的正上部。若掃 除單元34密接於噴頭單元26的複數個機能液滴噴頭7來 吸引機能液’則各機能液滴噴頭7的噴嘴形成面67會被 污染，因此擦拭單元35會接著利用移動台123來接近複 數個機能液滴噴頭7，擦拭噴嘴形成面67所受到的污染 (詳述情形會在往後敘述）。 又，在移動台123的旁邊設有平行的纜線支架139。 -39- (37) (37)1321430 纜線支架139是被固定於共通機台31上，且前端部會被 固定於共通基座124，而來收容兩單元34，35用的纜線， 氣體管道，或後述的洗淨用管道及廢液用（再利用）的管 道等（圖示省略）。 其次，參照第4 3〜4 6圖來說明機能液供給回收裝置 1 3。如第43圖的配管系統圖所示，機能液供給回收裝置 1 3是由：用以將機能液供應給噴頭單元26的各機能液滴 噴頭7之機能液供給系14 1，及用以回收掃除單元3 4所 吸引後的機能液之機能液回收系1 4 2，及用以將機能液的 溶劑（洗淨用）供應給擦拭單元35之洗淨液供給系143 ’及自淸洗單元33回收機能液的廢液之廢液回收系144 所構成。 第44及45圖是表示收容於上述共通機台31的較大 一方的收容室1 22 a的槽群，在抽出形式的防液盤丨46上 載置有複數個槽。並且，在防液盤146上，構成槽群之洗 淨液供給系1 43的洗淨槽1 47，機能液回收系1 42的再利 用槽148及機能液供給系141的加壓槽149會橫排配設， 且於洗淨槽147及再利用槽148的近旁配設有形成小型的 廢液回收系144的廢液槽150 » 如第43圖所示，廢液槽150會經由廢液泵152來連 接於淸洗單元33，將利用各機能液滴噴頭7而噴出至淸 洗單元33的機能液予以回收於廢液槽1 50。又，再利用 槽148是被連接於掃除單元34的吸引泵153，回收吸引泵 1 5 3所自各機能液滴噴頭7吸引後的機能液。並且，如第 -40- (38) (38)1321430 4 6圖所示，廢液泵1 5 2與後述的中間槽1 2 6上流側的開閉 閥154會被固定於支持板155，且如上述，安裝於機台本 體121的端部上面（參照第1 6圖）。 如第4 3圖所示，在洗淨槽14 7中，流入側會被連接 於空氣供給裝置1 4，流出側會被連接於擦拭單元3 5的洗 淨液噴霧頭噴霧嘴（後述）19 5。亦即，洗淨槽14 7會利 用從空氣供給裝置1 4所導入的壓縮空氣來施壓供應內部 的洗淨液給洗淨液噴霧頭1 9 5。並且，洗淨液噴霧頭1 9 5 所噴出的洗淨液會含於擦拭機能液滴噴頭7的擦拭薄片 182中。而且，在洗淨槽丨47中更連接有加壓用的管道 156。 在加壓槽1 49中，流入側會被連接於空氣供給裝置 1 4，流出側會被連接於機能液供給系丨4 1的中間槽1 26， 且該中間槽1 2 6與噴頭單元2 6 ( —對配管連接組件4 9， 49 )會以複數條的管道157來連接。加壓槽149爲機能液 的主槽’利用自空氣供給裝置14所導入的壓縮空氣來施 壓供應內部的機能液給中間槽1 26。並且，在加壓槽1 49 中更連接有加壓用的管道158。 此情況’機能液雖是以預定的水壓來從加壓槽1 49供 應至中間槽126，但在中間槽126中，此加壓槽149側的 水壓會被切斷，而主要藉由機能液滴噴頭7的泵動作，亦 即壓電元件的泵動作來供給機能液。這是爲了防止機能液 由機能液滴噴頭7的噴嘴68滴落。因此，中間槽126的 高度位置會藉由上述槽基座125等來調節，而使沒有用的 (39) (39)1321430 水壓不會自中間槽1 26施加於機能液滴噴頭7。 第47〜49圖是表示中間槽126。在此，中間槽126具 備：固定於上述槽基座125上，兩側具有液位窗162，162 ，且以凸緣形式來閉蓋之矩形的槽本體1 6 1，及面對兩液 位窗162，1 62來檢測出機能液的液位（水位）的液位檢 測器1 63，及載置槽本體1 6 1的盤1 64，及隔著盤1 64來 支持槽本體161的槽架165。 槽架165是由：安裝板167，及立設於安裝板167上 的兩根支柱狀構件1 68，1 68所構成。可藉由該兩根的支 柱狀構件168，168來微調槽本體161的高度及水平。在 槽本體（的蓋體）161的上面連接有與加壓槽149連接的 供給管道169，且設有與噴頭單元26連接的管道（第43 圖元件符號1 5 8 )用的6個連接器1 70及大氣開放用的1 個連接器170 b。 液位檢測器1 63是由：上下僅離開些微而配設的滿液 檢測器163 a ，及減液檢測器163 b所構成，此滿液檢測 器1 63 a及減液檢測器1 63 b可分別於基部側自由調節高 度。又，滿液檢測器163 a及減液檢測器163 b皆具有： 延伸於槽本體1 6 1的兩液位窗1 62，1 62的一對板狀臂1 63 c ，163 c ，且一對板狀臂163 c ，163 c的一方安裝有 面對一方的液位窗1 62之發光元件1 63 d ，另一方則安裝 有面對另一方的液位窗162之發光元件163 e。亦即，藉 由該發光元件163 d及發光元件163 e來構成透過型的液 位感測器。 -42- (40) (40)1321430 在連接於中間槽1 26的上述供給管道1 69的上游側， 介設有開閉閥154 (參照第43圖及第46圖），藉由該開 閉閥1 54來控制往中間槽1 26之機能液的供給。亦即，根 據滿液檢測器163 a的液位感測器（滿位檢測）及減液檢 測器163 b的液位感測器（減水檢測）來控制開閉閥154 的開閉，中間槽1 26的液位會經常被調整於滿液與減液之 間，藉此可極力減少自中間槽1 26供應給各機能液滴噴頭 7的機能液之水壓的變動。 φ 又，如第43圖所示，自中間槽126往複數個（12個 ，24噴嘴列69 )機能液滴噴頭7的配管會分歧成1 2條， 亦即來自中間槽1 2 6的6條管道1 5 7會經由集管1 6 6來分 歧成12條，且各管道會在各機能液滴噴頭7的近旁藉由 Y字接頭來個別分歧成兩條（合計24條）。藉此’在由 中間槽126至複數個機能液滴噴頭7的各個管路中，管路 長會形成相同，而使得壓力損失（管摩擦損失）會形成相 同。 鲁 其次，依擦拭單元35，掃除單元34’及淸洗單元33 的順序來說明維修裝置1 6。 如第50〜55圖所示，擦拭單元35是由個別獨立構成. 的卷取單元（第50〜52圖）171及擦去單元（第53〜55 圖）1 7 2來構成，以彼此對向的狀態來配設於上述共通基 座1 24上。卷取單元1 7 1是配設於共通基座1 24的前側， 擦去單元1 7 2是配設於共通基座1 24的後側’亦即掃除單 元34側。 -43- (41) (41)1321430 實施形態的擦拭單元3 5對掃除單元3 4的正上部，亦 即停止於掃除位置的噴頭單元26而言，是一邊使後述的 擦拭薄片182行進，一邊藉由上述移動台123來全體移動 於X軸方向，擦拭複數個機能液滴噴頭7。因應於此，擦 拭單元35會從卷取單元171抽出，爲了進行擦去動作， 而周旋於擦去單元172，卷取於卷取單元丨71。 如第50’ 51及52圖所示，卷取單元171具備：單邊 支持形式的框體1 7 4，及可自由旋轉支持於框體丨7 4的上 側的抽出卷筒1 7 5及下側的卷取卷筒1 7 6，及使卷取卷筒 176卷取旋轉的卷取用馬達177。並且，在框體174的上 側部固定有副框體1 7 8，在此副框體1 7 8中，速度檢測滾 筒179及中間滾筒180會以能夠位於抽出卷筒175的前方 之方式來支持於兩側。又，在這些構件的下側配設有供以 接受洗淨液的洗淨液盤1 8 1。 在抽出卷筒175上會被插塡滾筒狀的擦拭薄片182, 從抽出卷筒1 7 5抽出的擦拭薄片1 8 2會經由速度檢測滾筒 179及中間滾筒180來送入擦去單元172。並且，在抽出 卷筒175及卷取卷筒176之間會掛上同步皮帶183，卷取 卷筒176會藉由卷取用馬達177來旋轉，而卷取擦拭薄片 182。 在擦去單元172也會設置供以傳送擦拭薄片182的馬 達（擦去用馬達194)，且抽出卷筒175會藉由設置於此 的轉矩限制器1 84來牽制擦去用馬達1 94轉動。速度檢測 滾筒179是由可自由旋轉的上下兩個滾筒179 a ，179 b -44- (42) (42)1321430 所構成的夾持滾筒’藉由設置於此的速度檢測器1 8 5來控 制卷取用馬達1 7 7。亦即，抽出卷筒1 7 5會在繃緊擦拭薄 片1 82的狀態下送出，卷取用馬達1 76會以能夠使擦拭薄 片182不會產生鬆弛的方式來卷取。 如第53’ 54及55圖所示，擦去單元172具備：左右 一對的台架191，191，及支持於一對台架191，191的基 座框體1 9 2 (剖面約呈U字形），及可自由旋轉支持於基 座框體192兩邊的擦去滾筒193，及使擦去滾筒193旋轉 的擦去用馬達194 ’及平行對峙於擦去滾筒193的洗淨液 噴霧頭195，及使擦去滾筒193升降的複動形式的一對汽 缸 1 9 6，1 9 6。 一對的台架1 9 1，1 9 1是由：分別位於外側的固定架 198，及可上下方向自由滑動安裝於固定架198內側的可 動架199所構成，且各固定架198的基部設有上述汽缸 196。各汽缸196的柱塞196 a是被固定於可動架199，藉 由同時驅動的一對汽缸196，196來使基座框體192及支 持於該基座框體192的擦去滾筒193及擦去用馬達194等 升降。 擦去滾筒193是由：經由同步皮帶201來連結於擦去 用馬達194的驅動滾筒202，及夾著擦拭薄片182來接觸 於驅動滾筒202的從動滾筒203所形成的夾持滾筒來構成 。又’驅動滾筒202是由捲繞芯部具有彈性或柔軟性橡膠 的橡膠滾筒所構成’使旋轉於其周圍的擦拭薄片182能夠 —邊行進一邊按壓於機能液滴噴頭7的噴嘴形成面67。 -45- (43) (43)1321430 洗淨液噴霧頭195會在擦去滾筒193 (驅動滾筒202 )的近旁，將洗淨液（由機能液的溶劑等所構成）吹至由 上述中間滾筒1 8 0所傳送來的擦拭薄片丨8 2。因此，在洗 淨液噴霧頭1 9 5的前面’亦即擦去滾筒1 9 3側，複數個噴 霧噴嘴2〇4會配合擦拭薄片182的寬度來橫排設置，且於 後面設有連接於上述洗淨槽147的管道連接用的複數個連 接器205 。 被吹著洗淨液的擦拭薄片1 8 2會含浸洗淨液，而使能 夠面對機能液滴噴頭7來予以擦拭。並且，位於擦去滾筒 193的下方’在基座框體192亦設有一洗淨液盤，與卷取 單元171的洗淨液盤181—起受取從擦拭薄片182滴下的 洗淨液。 在此’參照第5 6圖的模式圖來簡單說明一連串的擦 去動作。若噴頭單元26完成掃除，則移動台1 23會驅動 ’使擦拭單元35前進，充分接近噴頭單元26。若擦去滾 筒1 9 3移動至機能液滴噴頭7的近旁，則會停止移動台 123，驅動兩汽缸196’ 196來使擦去滾筒193上升，而使 能夠接觸（按壓）於機能液滴噴頭7。 在此’驅動卷取用馬達177及擦去用馬達194來傳送 擦拭薄片1 82 ’且開始進行洗淨液的噴霧。並且，予以同 時再度驅動移動台丨23，一邊進行擦拭薄片丨82的傳送， —邊使擦去滾筒193前進，而使能夠擦拭複數個機能液滴 噴頭7的下面。若擦去動作完成，則會停止擦拭薄片1 82 的傳送’且使擦去滾筒丨93下降，藉由移動台123來使擦 (44) (44)1321430 拭單元3 5退回原來的位置。 其次，參照第57〜60圖來說明掃除單元34。掃除單 元3 4具備：對應於12個機能液滴噴頭7來使12個蓋體 212配置於蓋體基座213的蓋體單元211，及支持蓋體單 元2 1 1的支持構件2 1 4，以及經由支持構件2 1 4來使蓋體 單元21 1升降的升降機構215。又，如第43圖所示，在掃 除單元34中設有：連接於各蓋體212的吸引管道216，及 連接有12條吸引管道216的噴頭管道217，及設置於噴頭 管道217下游側的吸引泵153。又，吸引泵153會連通於 再利用槽1 4 8。 支持構件2 1 4具備：上端具有支持蓋體單元2 1 1的支 持板241之支持構件本體242，及可使支持構件本體242 自由滑動於上下方向的台架243。並且，在支持板241的 長度方向的兩側下面，固定有一對的大氣開放汽缸（空壓 汽缸）244，2 44，可藉由此一對的大氣開放汽缸244，244 來經由操作板2 4 5使後述的大氣開放閥2 3 1能夠開閉（下 動爲「開」，上動爲「閉」）。 升降機構2 1 5是由上升降機構（空壓汽缸）246及下 升降機構（空壓汽缸）247所構成，下升降機構247會被 固定於台座248上，而使上升降機構24 6升降，上升降機 構2 46的柱塞會被固定於支持板24 1，而使支持構件本體 24 2升降。此情況，在噴頭單元26的下面（機能液滴噴 頭7的噴嘴形成面67)與蓋體單元211的上面具有預定 的蓋體，且以上升降機構246來進行此蓋體的升降，而供 -47- (45) (45)1321430 以調整此蓋體的升降會藉由下升降機構247來進行。因此 ’在通常運轉時只有上升降機構246會驅動。 1 2個的蓋體2 1 2會對應於1 2個機能液滴噴頭7的噴 頭本體60，與12個的噴頭本體60同樣排列，且以同樣 的傾斜姿勢來固定於蓋體基座2 1 3。如第6 1圖所示，各 蓋體212是由蓋體本體219及蓋體保持具220來構成，蓋 體本體219會以兩個彈簧221，221來彈壓於上方，且以 只可上下動的狀態來保持於蓋體保持具220。此外，在蓋 體基座213中會對應於12個蓋體212而形成有12個安裝 開口 223 ’且以能夠包含此安裝開口 223的方式來形成1 2 個淺溝224。又，各蓋體212會將下部插入安裝開口 223 ’在使其蓋體保持具220定位於淺溝224的狀態下，以螺 絲固定於淺溝2 2 4的部份（參照第6 0圖）。 在各蓋體本體219的表面形成有包含噴頭本體60的 兩條噴嘴列69 ’ 69的凹部226，在此凹部226的周緣部安 裝有密封襯墊227 ’且於底部位鋪設有吸收材228。又， 於凹部226的底部位形成有小孔229，此小孔229會連通 連接有吸引管道216的L字接頭230。在吸引機能液時， 會將密封襯墊227推壓於機能液滴噴頭7的噴頭本體60 ’而來密封噴頭本體60的噴嘴形成面67 (包含兩個噴嘴 列69 )。並且，圖中的元件符號231爲大氣開放閥，在 機能液的吸引動作的最終階段，藉由上述大氣開放汽缸來 形成「開」狀態’而使含於吸收材228的機能液也能夠吸 引。 -48- (46) (46)1321430 如此構成的掃除單元34是藉由移動台123來移動至 掃除單元，相對於此’噴頭單元26會藉由Y軸台24來移 動，而使面對掃除單元34的正上部。在此’升降機構 21 5 (上升降裝置246 )會驅動’由下側來將1 2個的蓋體 2 1 2按壓於噴頭單元2 6的1 2個機能液滴噴頭7。被按壓 於機能液滴噴頭7的蓋體2 1 2會對抗本身的雨個彈簧22 ! ，22 1，而使得其蓋體本體2 1 9多少會下沈，進而使其密 封襯墊2 1 7能夠均一地密著於噴頭本體60的噴嘴形成面 67 ° 接著，驅動吸引泵1 5 3，經由蓋體單元2 1 1來從1 2個 機能液滴噴頭7的全噴嘴68吸引機能液。然後，在吸引 終了那，開啓大氣開放閥231，而完成吸引。若吸引動作 完成，則會再度驅動升降機構215 (上升降裝置246 )來 使蓋體單元21丨下降。並且，在停止裝置的作動時等的噴 頭保管時’會使上述蓋體單元211上升，以各蓋體212來 密封各機能液滴噴頭7，而形成保管狀態。 其次’黎照第6 2〜6 6圖來說明淸洗單元3 3。淸洗單 元33是在於接受機能液滴噴頭7所噴出的機能液滴者， 在實施形態的描繪裝置1中搭載有：藉由X軸台23來一 起和基板W (吸著台8丨）移動之可動形式的小型淸洗單 元33 A (第62圖及第63圖），及直接固定於上述石定 盤22上之固定形式的大型淸洗單元33 b (第64〜66圖 )° 可動形式的淸洗單元33 A主要是使用於噴頭單元26 -49- (47) (47)1321430 的液滴噴出動作時的淸洗，固定形式的淸洗單元3 3 B則 主要是使用於噴頭單元26待機時的淸洗。 在此，首先參照第62圖及第63圖來說明可動形式的 淸洗單元33 A。此淸洗單元33 A是被設置於上述X軸纜 線支架87的箱體88上（參照第30圖）。淸洗單元33 A 是由：固定於X軸纜線支架87上的滑動基座25 1，及可 自由進退於滑動基座251上的長板狀滑件252，及固定於 滑件25 2的兩端郭的一對淸洗箱2 5 3，2 5 3，及鋪設於淸洗 箱2 5 3內的一對機能液吸收材254，254等所構成。 —對的淸洗箱2 5 3，25 3是具有對應於噴頭單元26的 各機能液滴噴頭群7 a的寬度，以及具有對應於各機能液 滴噴頭群7 a的副掃描方向的移動範圍的長度，而形成細 長形狀。並且，一對的淸洗箱25 3，253會由滑件252直 角延伸於X軸台23的上側，且配設成能夠夾持吸著台8 1 。而且，在各淸洗箱253，25 3的中央部底面安裝有構成 排水溝口的排水接頭256。此連接於該排水接頭256的排 水管道（圖示省略）會通過X軸纜線支架87來連接於上 述廢液槽150。 在滑件252中固定有一對的安裝片257，257，該一對 的安裝片257，257是位於一對的淸洗箱253，253之間， 然後延伸於X軸台23的Θ台82，且該一對的安裝片257 ，257的前端部會被固定於Θ台82的基部。亦即，一對 的淸洗箱253，253會經由滑件252來引導至滑動基座251 ，而使能夠與Θ台8 2 —起移動。 -50- (48) (48)1321430 在如此構成的可動形式的淸洗單元3 3 A中，如第3 0 圖所示，若淸洗單元33 A與β台82 —起往前行進，則最 初圖示右側的淸洗箱253會通過噴頭單元26的正下方。 此刻，複數個（12個）機能液滴噴頭7會依次進行清洗 動作，噴頭單元26會維持通常的液滴噴出動作。同樣的 ’右淸洗單兀33 Α回程行進’則則最初左側的淸洗箱 253會通過噴頭單元26的正下方。此刻，複數個機能液 滴噴頭7會依次進行淸洗動作，噴頭單元26會維持通常 φ 的液滴噴出動作。 亦即’在可動形式的淸洗單元33 A中，噴頭單元26 會在主掃描的往復動作中適當地進行淸洗處理。由於噴頭 單元26等’只會在爲了淸洗時不移動，因此淸洗處理不 會對間歇時間造成影響》 其次，參照第64，65及66圖來說明固定形式的淸洗 單元3 3 B。淸洗單元3 3 B具備：爲了接受機能液滴而開 放上面的淸洗箱2 6 1，2 6 1，及鋪設於淸洗箱2 6 1內的2組 鲁 機能液吸收材262，262，及使淸洗箱261升降的升降汽缸 263，及支持淸洗單元33 Β的箱座264。 淸洗箱2 61爲形成方形的淺托盤狀者，在內部，對應 於噴頭單元26的兩列機能液滴噴頭群7 a ，7 a ，而離 間配設有兩組機能液吸收材2 6 2，2 6 2。並且，在淸洗箱 26 1內設有供以防止淸洗時的機能液滴飛散之飛散防止板 266 (由兩側來夾持各機能液吸收材262 )。並且，在淸 洗箱261的底板，對應於各機能液吸收材262而設有合計 -51 - (49) (49)1321430 4處形成排水溝口的排水接頭267 β又，連接於此排水接 頭267的排水管道（圖示省略）會連接於上述廢液槽ι5〇 〇 箱座264是由：固定架268，及可上下方向自由滑動 安裝於固定架268側面的可動架269，及支持固定架268 的台座270所構成。並且在台座270上，以能夠對峙於固 定架26 8的方式來立設上述升降汽缸263，而且升降汽缸 263的柱塞263 a會經由拖架271來固定於可動架269。 裝置作動時的淸洗箱261雖會藉由升降汽缸263來位 於上升位置，但在非作動時，會移動至下降位置，而使不 會妨礙到維修等作業。又，就實施形態的液滴噴出裝置 10而言，會在機能液滴的噴出及基板的往動進行後，在 基板W復動的期間，噴頭單元26會藉由Y軸台24來移動 至淸洗單元3 3 B的位置，而使能夠進行淸洗。 其次，參照第67〜71圖來說明主處理室4。並且， 在主處理室4的說明中，會將第67圖的圖面下側敘述爲 「前」，將上側敘述爲「後」，將左側敘述爲「左」’將 右側敘述爲「右」。主處理室4具備：收容上述描繪裝置 1的處理室37，及倂設於處理室37的右前部的電氣室38 ，及倂設於處理室37的右後部的機械室（氣體供給設備 )39。並且，就充塡於處理室37內的惰性氣體而言’最 好是使用氮，二氧化碳，氦，氖，氬，氪，氙’及氡的其 中之一。基於成本及安全性的考量’在本實施形態中是使 用氮（氮氣）。 -52- (50) (50)1321430 惰性氣體（氮氣）是由圖外的氣體製造裝置來經由氣 體導入單元301導入機械室39，在此調和處理後導入處 理室37。並且，處理室37內的惰性氣體會從添設於處理 室3 7的左前部的排氣通道3 〇2適當地排出，且送至圖外 的氣體處理裝置。亦即，藉由氣體製造裝置，氣體導入單 元30 1及機械室39等來構成氣體供給設備，藉由排氣通 道3 02及氣體處理裝置來構成氣體排氣設備。 處理室37是以氣密材來互相密封左側壁3 1 1，右側 φ 壁312 ’前部雙重面板3n，後部雙重面板314，地板315 及頂板3 1 6而組成預制形式者。另一方面，收容於處理室 3 7內部的液滴噴出裝置1 〇是以前後方向爲γ軸方向，左 右方向爲X軸方向的姿勢來收容。前部雙重面板313及後 部雙重面板3 1 4爲裝卸面板，基於維修的考量，描繪裝置 1的附帶裝置1 1會面向前部雙重面板3 1 3，以及基於噴頭 單元26搬入的考量，噴頭單元26的原來位置會面向後部 雙重面板3 1 4。並且’在左側壁3 1 1形成有供以進行基板 馨 W的搬入搬出之附有遮蔽構件的傳遞開口 3 1 7。 前部雙重面板3 1 3及後部雙重面板3 1 4皆是由附有裝 卸形式的窗之兩片外面板313 a ，314 a及兩片內面板 313 b，314 b所構成’且只在外氣導入處理室37時開放 ，其他時候則內鎖。並且’在右側壁3 1 2的後上部形成有 連接於機械室3 9的送氣口 3 1 9，對應於此，在左側壁的 前下部形成有連接於排氣通道302的排氣口 3 20。 在本實施形態中，是使惰性氣體的補給（送氣）及排 -53- (51) (51)1^21430 氣連續進行，而於處理室37內構成惰性氣體的環境，且 由送氣口 3 1 9流入的惰性氣體會在處理室37內流動於對 角方向，而至排氣口 320。並且，在此對角方向上，進行 '液滴噴出裝置1 0之液滴噴出動作的領域，亦即噴出區域 會' @向對於氣流的主流路上。 在機械室39的上部設有連接於氣體製造裝置的氣體 導入單元301，且機械室39的內部會適當地以隔壁321來 區隔’形成一由氣體導入單元301至上述送氣口 319的氣 φ 體流路3 22。氣體流路3 22是由：在氣體導入單元301的 下游側分歧，且通過後述的氣體調和機器303至送氣口 3 1 9的一方之主氣體流路3 2 3，及經由氣體調和機器3 0 3 的過濾器330直接至送氣口 319的另一方之旁通流路324 所構成（參照第67圖）。 又，主氣體流路323與旁通流路324在設置於主處理 室4時是藉由手動氣閘325，325來進行流量調整。因此 ，在通常運轉時的惰性氣體是適切地由主氣體流路323及 φ 旁通流路324來送入處理室37。 在此主氣體流路323中介設有一氣體調和機器303， 該氣體調和機器303是由：冷氣機（冷卻單元）327，加 熱器（電氣加熱器）328，風扇（筒型風扇）3 29及過濾 器（空調用過濾器）330所構成。藉此，處理室37內的 惰性氣體環境會被維持於預定的溫度及溼度。例如，實施 形態的環境會被維持於20°C ± 0.5 °C。並且，爲了取更廣 的過濾面積，亦可將過濾器3 30設置於頂板3 1 6的正下方 -54- (52) (52)1321430 。亦即，在處理室3 7內’如隔壁一般，將過濾器3 3 0設 置於頂板3 1 6的正下方。 又，在氣體調和機器3 0 3的上游側，外氣流路3 3 2會 合流於主氣體流路3 2 3。外氣流路3 3 2的外氣取入口 3 3 3 是開口於機械室3 9的下部側面，外氣流路3 3 2的下游立而 是在冷氣機3 2 7的上游側合流於主氣體流路3 2 3。並且’ 在外氣流路3 3 2中介設有兩個高氣密氣閘334，334及電 磁閥342，而使能夠確實地阻止通常運轉時的外氣流入。 例如，在進行描繪裝置1的維修時，會在開放上述各 雙重門3 1 3，3 1 4之前，必須使處理室3 7的環境由惰性氣 體替換成外氣。此情況，會關閉氣體導入單元30 1的氣閘 3 3 5，電動閥343及電磁閥344，且開啓外氣流路332的兩 商氣密氣閘334，334，然後再開啓後述之排氣氣閘340， 340，驅動風扇329來將外氣送入處理室37。如此一來， 由於會強制性地送入外氣，因此可在短時間進行外氣置換 〇 另一方面，在處理室37內設置有氧氣濃度計337及 水分計3 3 8，根據該等計器的計測結果來控制氣體導入單 元301的電動閥343，而使氧氣濃度及水分濃度會皆能維 持於lOppm以下。 在排氣通道302中介設有兩個排氣氣閘340，340，一 方的氣閘340會進行開閉控制，另一方的氣閘340會根據 處理室37內的壓力計34 1來使處理室37內能夠經常形成 正壓。藉此來防止外氣從密封部份（氣密材的不良部份） -55- (53) (53)1321430 等流入處理室37內。 如此一來，由於可將液滴噴出裝置1 〇及附帶裝置i i 收容於處理室3 7，而於惰性氣體的環境中進行液滴噴出 裝置1 〇的液滴噴出作業，因此著落於基板W上的機能液 滴（發光材料）不會變質或損傷，可安定地製造有機電激 發光裝置。 〔發明之效果〕 若利用本發明之有機電激發光裝置的製造方法及製造 裝置’則由於可使機能液滴噴頭之發光機能材料的噴出過 程進行於惰性氣體的環境中，因此可有效防止發光機能材 料的變質，簡單地製造高品質的有機電激發光裝置。 又，若利用本發明之有機電激發光裝置的製造方法及 電子機器，則可以低成本來提供高品質且可靠度高的有機 電激發光裝置。 又，若利用本發明之液低噴出裝置，則由於從機能材 料的噴出來形成機能膜的過程中，機能材料與大氣（空氣 )的接觸會被隔絕，因此即使是容易在空氣中受損的機能 材料，還是可以有效地防止其變質或損傷。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的製造方 法之觸排部形成過程（無機物觸排）的剖面圖。 第2圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的製造方 -56- (54) (54)1321430 法之觸排部形成過程（有機物觸排）的剖面圖》 第3圖是表示實施形態之有機電激發光裝# @ $ 法之電漿處理過程（親水化處理）的剖面圖。 第4圖是表示實施形態之有機電激發光裝置 法之電漿處理過程（撥水化處理）的剖面圖。 第5圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的_ ^ $ 法之正孔注入層形成過程（液滴噴出）的剖面_。 第6圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的^ 法之正孔注入層形成過程（乾燥）的剖面圖。 第7圖是表示實施形態之有機電激發光裝聱的 法之表面改質過程（液滴噴出）的剖面圖。 第8圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的 法之表面改質過程（乾燥）的剖面圖。 第9圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的製造方 法之B發光層形成過程（液滴噴出）的剖面圖。 第10圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的製造 籲 方法之B發光層形成過程（乾燥）的剖面圖。 第11圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的製造 方法之R. G· B發光層形成過程的剖面圖。 第12圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的製造 方法之對向電極形成過程的剖面圖。 第13圖是表示實施形態之有機電激發光裝置的製造 方法之封裝過程的剖面圖。 第14圖是表示實施形態之正孔注入層形成設備的槪 -57- (55) (55)1321430 念圖。 第1 5圖是表示實施形態之發光層形成設備的槪念圖 〇 第1 6圖是表示實施形態之描繪裝置的外觀立體圖。 第1 7圖是表示實施形態之描繪裝置的外觀正面圖。 第1 8圖是表不實施形態之描繪裝置的外觀側面圖。 第19圖是表示實施形態之描繪裝置的外觀平面圖。 第20圖是表示實施形態之描繪裝置的液滴噴出裝置 的模式圖。 第21圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的噴頭單元 的全體立體圖。 第22圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的噴頭單元 的平面圖。 第23圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的噴頭單元 的側面圖。 第24圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的噴頭單元 的正面圖。 第2 5圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的機能液滴 噴頭的外觀立體圖。 第26圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的石定盤周 圍的側面圖。 第27圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的石定盤周 圍的平面圖。 第28圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的石定盤周 -58- (56) (56)1321430 圍的正面圖。 第29圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的石定盤的 支持形態模式圖。 第3 0圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的X軸工作 台的平面圖。 第3 1圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的X軸工作 台的側面圖。 第3 2圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的X軸工作 φ 台的正面圖。 第3 3圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的主基板辨 識攝影機周圍的立體圖。 第3 4圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的Y軸工作 台的平面圖。 第3 5圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的Y軸工作 台的側面圖。 第3 6圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的Y軸工作 φ 台的正面圖。 第37圖是表示實施形態之Y軸工作台的主搬運器的 立體圖。 ’ 第3 8圖是表示實施形態之Y軸工作台的主搬運器的 平面圖。 第39圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的共通機台 的立體圖。 第40圖是表示實施形態之取去液滴噴出裝置的共通 -59- (57) (57)1321430 基座的共通機台的立體圖。 第4 1圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的共通機台 的側面圖。 第4 2圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的共通機台 的平面圖。 第43圖是表示實施形態之液滴噴出裝置的機能液供 給回收裝置的配管系統圖。 第44圖是表示實施形態之機能液供給回收裝置的泵 φ 群周圍的立體圖。 第45圖是表示實施形態之機能液供給回收裝置的泵 群周圍的平面圖。 第46圖是表示實施形態之機能液供給回收裝置的廢 液泵群周圍的立體圖。 第47圖是表示實施形態之機能液供給回收裝置的中 間槽的立體圖。 第4 8圖是表示實施形態之機能液供給回收裝置的中 鲁 間槽的側面圖。 第49圖是表示實施形態之機能液供給回收裝置的中 間槽的正面圖。 第50圖是表示擦拭單元之卷取單元的立體圖。 - 第51圖是表示擦拭單元之卷取單元的平面圖。 第52圖是表示擦拭單元之卷取單元的正面圖。 第53圖是表示擦拭單元之擦去單元的立體圖。 第54圖是表示擦拭單元之擦去單元的平面圖。 -60- (58) (58)1321430 第55圖是表示擦拭單元之擦去單元的正面圖。 第5 6圖是表示實施形態之擦拭單元的動作模式圖。 第57圖是表示實施形態之掃除單元的外觀立體圖。 第5 8圖是表示實施形態之掃除單元的正面圖。 第59圖是表示實施形態之掃除單元的側面圖。 第60圖是表示實施形態之掃除單元的平面圖。 第61圖是表示掃除單元的罩蓋的擴大剖面圖。 第62圖是表示實施形態之淸洗單元（可動型）的立 體圖。 第63圖是表示實施形態之淸洗單元（可動型）的平 面圖。 第64圖是表示實施形態之淸洗單元（固定型）的立 體圖。 第65圖是表示實施形態之淸洗單元（固定型）的平 面圖。 第66圖是表示實施形態之淸洗單元（固定型）的側 面圖。 第67圖是表示實施形態之主處理室的系統圖。 第68圖是表示實施形態之主處理室的平面圖。 第69圖是表示實施形態之主處理室的正面圖。 第70圖是表示實施形態之主處理室的右側面圖。 第7 1圖是表示實施形態之主處理室的左側面圖。 【主要元件對照表】 -61 - (59) (59)1321430 A :正孔注入層形成設備 B :發光層形成設備 W :基板 1 :掃描裝置 4 :主處理室 7 :機能液滴噴頭 1 0 :液滴噴出裝置 1 1 :附帶裝置 φ 1 3 :機能液供給回收裝置 1 4 :空氣供給裝置 1 5 :真空吸引裝置 1 6 :維修裝置 2 3 : X軸工作台 24 : Y軸工作台 25 :主搬運器 26 :噴頭單元 _ 37 :處理室 3 8 :電氣室 39 :機械室 301 :氣體導入單元 302 :排氣氣閘 303 :氣體調和機器 3 1 3 :前部雙重門 3 1 4 :後部雙重門 -62 - (60) (60)1321430 3 1 7 :傳遞開口 3 1 9 :送氣口 3 2 0 :排氣口 3 22 :氣體流路 3 27 :冷氣機 3 2 8 :加熱器 3 29 :風扇 3 3 0 :過濾器 φ 3 3 2 :外氣流路 3 3 3 :外氣取入口 3 3 5 :氣閘 3 3 7 :氧氣濃度計 3 3 9 :水分計 340 :排氣氣閘 3 4 1 :壓力計 500 :有機電激發光裝置 φ 5 0 1 :基板 502 :電路元件部 504 :有機電激發光元件 ' 5 1 0 a :正孔注入/輸送層 . 510 b :發光層 -63-

Claims (1)

1321430 -Α· - — I - ^曰修(更)正本 拾、申請專利範圍 第93 109607號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國98年7月20日修正 1. —種有機電激發光裝置的製造裝置，其特徵是具備 、液滴噴出機構；該液滴噴出機構是使導入發光機能材 料的機能液滴噴頭對基板進行相對性的掃描，且選擇性地 噴出上述發光機能材料，而於上述基板上的多數個畫素領 域中形成有機電激發光機能層；及 處理室機構；該處理室機構是供以在惰性氣體的環境 中收容上述液滴噴出機構， 連結送氣□與排氣口的氣體主流路會與噴出區域交叉 〇 2. 如申請專利範圍第1項之有機電激發光裝置的製造 裝置’其中上述有機電激發光機能層至少爲電激發光層及 正孔注入層中之上述電激發光層。 3. 如申請專利範圍第1項之有機電激發光裝置的製造 裝置’其中上述處理室機構是一起收容上述液滴噴出機構 及其附帶裝置。 4_如申請專利範圍第3項之有機電激發光裝置的製造 裝置，其中上述處理室機構具有： 處理室：及 1321430 % 氣體供給設備；該氣體供給設備是經由送氣口來將上 述惰性氣體供應給上述處理室；及 氣體排氣設備；該氣體排氣設備是經由排氣口來從上 述處理室排出上述惰性氣體。 5. 如申請專利範圍第4項之有機電激發光裝置的製造 裝置，其中在上述處理室的中心部設定有上述液滴噴出機 構的噴出區域； 連結上述送氣口與上述排氣口的氣流主流路會與上述 噴出區域交叉。 6. 如申請專利範圍第5項之有機電激發光裝置的製造 裝置，其中上述處理室是形成約直方體形狀； 上述送氣口與上述排氣口是配設於彼此約呈對角的位 置。 7. 如申請專利範圍第4項之有機電激發光裝置的製造 裝置，其中在上述處理室中，點檢用面板會被設成可自由 裝卸； 上述點檢用面板具有內外雙重面板構造。 8. 如申請專利範圍第7項之有機電激發光裝置的製造 裝置，其中在上述處理室中，上述點檢用面板會被設置於 兩處； 一方的上述點檢用面板是面向上述液滴噴出機構，另 一方的點檢用面板是面向上述附帶裝置。 9. 如申請專利範圍第4項之有機電激發光裝置的製造 裝置，其中上述氣體供給設備具有： -2 - ⑧ 1321430 氣體供給機器；及 氣體調和機器；該氣體調和機器是在上述氣體供給機 器與上述送氣口之間的氣體流路上配設冷氣機，加熱器， 風扇及過濾器。 10.如申請專利範圍第9項之有機電激發光裝置的製 造裝置’其中上述氣體調和機器會使上述環境維持於預定 的溫度。 11·如申請專利範圍第10項之有機電激發光裝置的製 造裝置’其中上述預定的溫度爲20 °c ±0.5 °c。 12. 如申請專利範圍第9項之有機電激發光裝置的製 造裝置’其中上述氣體供給機器會使上述環境維持於預定 的氧氣濃度以下。 13. 如申請專利範圍第丨2項之有機電激發光裝置的製 造裝置’其中上述預定的氧氣濃度爲10ppm。 14·如申請專利範圍第9項之有機電激發光裝置的製 造裝置’其中上述氣體供給機器會使上述環境維持於預定 的水分濃度以下。 15.如申請專利範圍第14項之有機電激發光裝置的製 ia衣置’其中上述預定的水分濃度爲i〇ppm。 16·如申請專利範圍第4項之有機電激發光裝置的製 造裝置’其中上述氣體排氣設備具有：連接於上述排氣口 的排氣流路’及介設於上述排氣流路的排氣氣閘； 上述排氣氣閘會經常被控制成「開」。 17.如申請專利範圍第4項之有機電激發光裝置的製 -3- 1321430 造裝置，其中上述處理室機構更具有：外氣供給設備；該 外氣供給設備是取代上述惰性氣體來供應外氣給上述處理 室。 18. 如申請專利範圍第17項之有機電激發光裝置的製 造裝置，其中上述外氣供給設備是經由上述送氣口來連通 至上述處理室。 19. 如申請專利範圍第1項之有機電激發光裝置的製 造裝置，其中上述惰性氣體爲：氮，二氧化碳，氦，氖， 氬，氪，氙，及氡的其中之一。 20. —種有機電激發光裝置，其特徵是利用申請專利 範圍第1項所記載之有機電激發光裝置的製造裝置來製造 〇 21. —種電子機器，其特徵是具備申請專利範圍第20 項所記載之有機電激發光裝置。 22. —種液滴噴出裝置，其特徵是具備： 液滴噴出機構；該液滴噴出機構是使導入發光機能材 料的機能液滴噴頭對基板進行相對性的掃描，且選擇性地 將上述機能材料噴出至上述基板上，而來形成機能膜；及 處理室機構；該處理室機構是供以在惰性氣體的環境 中收容上述液滴噴出機構。