TWI280918B - Removable antireflection film - Google Patents

Description

1280918 玖、發明說明： · 技術領域 本發明係關於—種可移除式抗反射薄膜，詳言之，係關 於用於資訊顯示器之抗反射薄膜。 先前技術 為各種物件(例如’透鏡、陰極射線管、光學顯示哭 戶薄膜和擔風坡璃等）設置抗反射薄膜會有很大益處。，。因為 抗反射薄膜可降低物件表面反射光量，並藉此減少或消除 由起的「幻象」。另外’為各種物件(例如光學顯 薄膜或防汗薄膜頗有益處，其可減少物件表 :::或貝壞。舉例而言，用於個人數位助 冩式電話、觸敏式瞽蓋、革扣槪― 哭筈裝㈣Μ 可移除式電腦滤光 m寺裝置用先學顯示器經常受到使用者臉、手 珠寶及/或其他物品觸摸或接觸 日 對光學顯示器之反差比、彩色飽和度及亮=表=會 由正常使用導致的劃痕、磨損、汗斑和“亦：：：.： 顯示器之解析度和清晰度降低 ‘、曰f先學 涂太、人^ *主曰不可？買或無法使用。 4 —2—基材上之抗反射塗層通常包括多層無機層，例 如一至屬或金屬氧化物層和一氧化矽 ^ 中之正當音Μ ^ , (據/、杬反射技藝 正吊思我，本又中所用術語「氧化 子式跑之物質，其中χ並不一定 J係▲具有刀 皆知睡 .疋寺於2。凡熟諳此項技藝者 ’此類氧切層通常藉由化 種::：、真空沉積碎或物等方法而製成，因此，此 月物並非精確符合純氧切之化學分子式吨）。通常， 84746 1280918 氧化碎層之一表面暴露在外，且該暴露表面（其具有高表面 能量’其表現為與水的接觸角小）對指紋和其他痕跡極為敏 感，且孩些痕跡很難清除，通常需要使用化學清洗劑。 一種有效的抗反射薄膜可自southwall TechndQgies _ CA)購得。該材料包括18〇 μιη聚對苯二甲酸乙二酯基材，該 基材上設置有耐磨硬塗層，並依次設置有1711111氧化銦錫（ιτ〇) 層、23nm氧化石夕層、95nmIT〇層、84nm氧化石夕層，最後為 -薄「潤滑」f，該潤滑層由一種氟聚合物構成，旨在提 高抗劃痕性能，並減小表面對痕跡的敏感性。 此種複合薄膜具有極佳的抗反射特性，但由於它價格昂 貴（約US$10/平方英尺，us$100平方公尺）以致於阻礙了其在 許多需要抗反射薄膜方面之應用。該薄膜之高成本主要歸 因於95福刺和84·氧化石夕層，因為該些層通常藉由㈣ 形成，而每一濺鍍層之費用與其厚度成正比。此外，若欲 在生產線上大！生產孩種複合薄膜，則需要4個單獨的賤鍛 台，每台皆須保持於高真空狀態下，從而導致儀器複雜且 成本高。 其是當無機層藉由濺鍍或化學氣體沉 布裝置中之停留時間與所需層厚度成 現在發現’藉由在-個或多個無機層上提供—其折射率 受到仔細控制之「厚」（即，有旋光性)聚合物層，無機層之 厚度可大大祕’因而可降低整個&反射塗層之費用，尤 積製備時，基材在塗 正比。而且，一使用 該厚聚合物層的抗反射塗層可藉由溶解或其他塗布技術 .得！好之均句性，因而具有良好的耐劃痕或耐磨損性及 84746 1280918 好的防汙點、防汙斑和防汙垢性。 發明内容 概口之本4月之㉟樣之特徵為一抗反射薄膜及其製 備方法。該抗反射薄膜包括具有第—表面和第二表面之基 材、沉積於該基材第—表面上之無機層及藉由固化一可“ 化組合物形成於無機層上之旋光性聚合物層（該聚合物層之 折射率在400〜700 nm的波長範圍内小於或等於】·53，該聚合物 層之厚度介於20〜200 nm之間）及沉積在基材第二表面上之黏 合層。 概言之，本發明之另一態樣之特徵為一光學系統及其製 備方法。忒光學系統包括一顯示裝置和至少沉積在顯示裝 置之 4为上之抗反射薄膜，其中該抗反射薄膜包括具有 第表面和第二表面之基材、沉積於該基材第一表面上之 播機層及一藉由固化一可固化組合物形成於無機層上之旋 光性聚合物層（該聚合物層之折射率在4〇〇〜7〇〇nm的波長範圍 内小於或等於1.53，該聚合物層之厚度介於2〇〜2〇〇11111之間）及 沉積在基材第二表面上之黏合層。 概5之，本發明之另一態樣之特徵為一種製備一可移除 义抗反射薄膜疊層之方法。多個抗反射薄膜之製作方法如 下··提供具有第一表面和第二表面之基材，在基材第一表 面上沉積一無機層，在無機層上沉積一可固化組合物層且 固化已沉積可固化組合物以形成旋光性聚合物層（該旋光性 &合物層之厚度介於約20 nm〜約200 nm之間且在400〜700 nm波 長範圍内其折射率小於或等於1.53)，及在基材第二表面上 84746 1280918 沉積黏合層。多層抗反射薄膜係相互毗鄰放置，其中，一 抗反射薄膜的黏合層與另—個抗反射薄膜的聚合物層 鄰。 曰 附圖及下列說明中描述了本發明一個或多個具體實施例 的細節、。藉由說明書、附圖及申請專利範圍可清晰地瞭解 本發明之其他特點、目的和優點。 實施方式 本％明《可移除式抗反射薄膜及其元件之圖示和描述中 =用到一些方位詞(例如：「上部」、「頂部」、上方」 或「前方」等），該些及其它類似術語僅為方便起見用於指 朝向-顯不裝置觀看者之—般方向（相對於穿過抗反射薄膜 2光路徑)。同樣’本文中有關本發明之可移除式抗反射薄 「及其凡件<圖示及描述亦常用到若干方位詞，例如「部」、 語「履層」或「後方」等’該些和其他類似術 :、·、万便起見用於指朝向薄膜之-般方向（相對於該光 用二1。：、，藝者所知’本發明可移除式抗反射薄膜可 用於各種万向和位置。 =發明之抗反射薄膜可料各種具有多個資 „示器上。該類顯示器係包括多字元尤其是多 :夕’’泉型顯不器、多線型顯示器例如液晶顯示器、 二:器、前方及後方投影顯示器、陰極射線管 (及「=系統）’及單字元或二進位顯示器（例如，發光二極體 本發明抗反射薄膜尤其可用在下列顯示器上： 心區域為觀看勞幕形式，勞幕具有在正常使用期間 84746 1280918 對損壞和炫光敏感之觀看表面。 本森明之抗反射薄膜可用於各 裝置，龙中包括PDA ^ ‘ V銮或非攜帶型顯示 觸敏f幕、手錶^蜂萬電話（包括組合购蜂窩電話）、

測器1算哭1 =華航系統、全球定位系、统、深度探 4异W 旱上型電子遊戲機、哈三θ 4 播放機、投影電視螢裏^ 电子圖書、CD或DVD 儀界— 監測器、筆記本電腦顯示器、 例如同/ — CD私視、儀錶盤蓋、標記系統， 圖形顯示器（包括室内和室外圖 、， 此奘 卜固形）和其他類似裝置。該 心可平面觀看面，或非平面觀看面，例如，-旅 裂CRT之輕微彎曲面。通當， 一· 〆、 、# ”，、不兀件位於一資訊顯示裝置 足硯看面上或物理靠近嗜顴暑 距離。 …硯看面，而非離開該觀看面一定 —本發明之抗反射薄膜亦可與一光偏振器儀器使用，例如 —線性偏光板或圓形偏光板（通常，圓形偏光板結合四分之 —波長延遲器設置為-線性偏光板）。具有光偏振器之抗反 射薄膜可用於各種顯示以，例如PDAs、蜂窩電話（包括組 $PDA/蜂窩電話）、觸敏螢幕、手錶、汽車導航系統、全球 疋位系統、深度探測器、計算器，手持電子遊戲機、電子 圖書、CD或DVD播放機、投影電視螢幕、電腦監測器、筆 记本電腦顯π裔、儀器儀錶、臺式個人電腦、LCD電視、儀 錶盤蓋、標記系統，例如圖形顯示器（包括室内和室外圖形） 和其他類似裝置。 圖1所示為一設計用於顯示裝置螢幕之典型先前技術之螢 幕保護器10。螢幕保護器10為一塗有黏合劑14且黏貼在襯材 84746 -10- 1280918 16上尤乙缔基薄膜單片12。此種螢幕保護器通常以一組黏 貼在襯材上的薄片出售，鬆散地放置在盒子裏或封裝在一 零售懸掛卡上。該疊片通常與顯示裝置分開存放，且當使 用者欲在顯示裝置上放置一新的螢幕保護器時，必須能找 到它。螢幕保護器1G具有—相對較軟之表面，該表面不具 有耐刮磨性和防汙性，i不能減小炫光強度。反之，螢幕 保護器10主要作為一犧牲隔膜，用以屏蔽底層顯示裝置螢 幕之頂部隔膜。

圖2.所示為先前技術之另一種螢幕保護器2〇，其具有彎曲 底4邊、.彖21及適合用於pda裝置（例如，由paim製造的pALMTM VPDA)上之總體尺寸。如同螢幕保護器1〇，出售的螢幕保護 器20作為塗布有黏合劑24且黏貼在襯材如上之一單薄膜片u 出售。但是，螢幕保護器20之頂部表面27之一部分有一無 光澤表面區域28，該區域可提供某些防炫光性能，並可在 -定程度上改良PDA螢幕上書寫區域對指示筆之觸感。區域 28不能提供防汗斑或防汗損性，因此對汗跡、指紋、墨水 痕跡和錯筆芯敏感。螢幕保護器2Q之頂部表面於剩餘部 分相對較軟，因此不能提供防劃痕性和防汙斑性。 圖3為本發明之一實施例之抗反射薄膜3〇。抗反射薄膜3〇 包括基材32、黏合層34、無機層36和外部旋光性聚合物層％。 基材32之下表面塗布有黏合層34，而黏合層34上施加保護襯 材40。黏合層34之下表面可視需要實施微觀結構處理。當 抗反射薄膜30施加於-表面(例1 ’ 一顯示屏幕)上時，微觀 結構可幫助氣泡從該薄膜下方逃逸’並可幫助在抗反射薄 84746 -11 - 1280918 膜3〇與裝置表面之間提供良好之光學偶合。 土才、上表面塗布有無機層36。無機層36可包括一或多 藉由迄今用於抗反射塗層之任何無機材料組成： Γ成典機層之較佳材料有金屬氧化物、氮化物、鎳、鉻和 ，化秒。Μ《金屬氧化物有氧化銦、二氧化鈇、氧化錫、 :化~ ^:化物、-氧化鎘、氧化鎵錮、五氧化二鈮、 乳化銦錫、氧化錫，及其它氧化物，其中氧化銦錫尤佳。 幸乂佳之氮化物有氮化矽、氮化鈦及其組合物。 旋光性聚合物層38塗布在無機層36上，旋光性聚合物之 厚度較佳介於20〜· nm之間，其折射率在铜〜聰可見光 波長範圍内小於或等於⑸。聚合物層38較佳藉由在無機層 36上沉積並原位固化—可固化組合物之方法而沉積在無機 層36上。藉由溶液塗布或其他習用之塗布技術，可保證施 加相對車父厚之可固化組合物具有較好的均勻性。另外，設 置〉厚水$物層可使供機層厚度減小，並可藉此降低無機 層之成本。舉例說明，與上述s〇mhwall Techn〇1〇驭之抗反射薄 膜相比，下文所述本發明之一實施例中包括191^^丁〇層、 氧化矽層和85 nm聚合物層。該本發明之實施例中，每單位 面積薄膜濺鍍材料之需用量減少了 8〇%，因此薄膜之成本降 低了 50%以上。 圖4所示為根據本發明另一實施例之抗反射薄膜3〇。基材 32又下表面上塗布有黏合層34(該層已施加了一保護襯材 40)。如圖3所示，與微觀結構處理相比，黏合層之下表面4〇 相對較光滑。視需要，可在基材32之上表面塗布一硬塗層 84746 -12- 1280918 42。硬塗層42可為抗反射薄膜3〇提供耐劃痕和耐磨損性能， 有助於保護裝置表面免遭損壞。硬塗層42之厚度自約丨至 約15μιη，較佳厚度自約2μιη至約3μιη。硬塗層犯可具有一粗 糙之上表面44。無機層36和聚合物層38足夠薄，以致於硬塗 層42之粗糙上表面44複製在觀看表面46上，藉此在抗反射薄 膜30上形成一無光澤表面，以使抗反射薄膜％上容易寫入。 若硬塗層42之上表面糾相t光滑（未圖示），則抗反射薄膜％ 具有一光亮表面。 參見圖3或圖4，柷靜電塗層（未顯示出）可視需要施加在聚 口物層38《頂邵’或聚合物層38中可視需要包含抗靜電劑， 以，止灰塵和其他污染物吸附在抗反射薄膜％上。視需要， 百葉囱式塑膠層（未圖不）亦可施加：^基材力與黏合層％之間 或可用作基材以保護隱私並增強反差比。百葉窗式塑膠層 :2膠薄膜’其包括可控制視角之緊密排列之黑色微 _ 彳土自茱廉尽度和頻率決定。該層模擬 :小型wtian百葉簾，以擒住非吾人樂見之環境光且導引 顯不益發射的光。合適之市售薄膜為光量控制薄膜，其 :自3M Company (st. Paul，讀)購得。基材咖黏合層料 ❹圓形偏光板（未圖示）或該圓形偏光板可用作基材。 万；基材與黏合層之間時，美 田 土材32可形成於線性偏光板上， = 434則可形成細分之—波長延遲器上。當用作美 材時，無機層36可形成於線性偏并 土 成於四分之一波長延遲器上。板上，而黏合層34則形 圖5所不為本發明一實施例之—可移除抗反射薄㈣的最 84746 -13- 1280918 層50 τ層50具有一襯材40 ’其保護位於最下層之抗反射薄 膜30的黏合層34a。剩餘抗反射薄膜3〇可藉由黏合層3牝、3如 和34d之底邵表面分別壓貼在聚合物層38a、3牝和38c之上表 面而相互黏著。 圖6所不為一已施加一抗反射薄膜30之PDA 60。若為單層 抗反射薄膜30，則使用者可自黏合層34上移除襯材4〇，將抗 反射薄膜30對準PDA 60顯示屏幕62之中心並壓貼就位。若為 抗反射薄膜30之疊層50，使用者可藉由自聚合物層％之上表 面剝離黏合層34之下表面，而自疊層5〇移除最上層的抗反 射薄膜30,並將抗反射薄膜3〇黏著在上述顯示屏幕^上。若 日後精由此方法施加之抗反射薄膜3〇受到磨損或破壞，薄 膜30可自顯示屏幕62上剝離下來，且藉由前面所述任一方 法更換另一抗反射薄膜30。當抗反射薄膜3〇以此方式使用 時，抗反射薄膜30較佳預裁剪為稍小之尺寸，以使抗反射 薄膜30之邊緣幾乎延伸至顯示屏幕心之周邊，且，若需要， 日後.仍可容易地將薄膜3〇移除。 使用者可將抗反射薄膜30之疊層5〇儲存在任一方便地 方。舉例而言’叠層50可藉由移除其觀材4〇且壓貼就位之 万法直接黏附在顯示裝置螢幕或其殼體或蓋上。圖6顯示一 抗反射薄膜30之疊層5〇黏附在pDA前蓋從之内表面科上。雖 然圖6中未顯示’該疊層亦可黏著在pDA6〇之顯示屏幕上、 :二：《背面或一單獨PDA殼體之任一可用表面。若疊層 所包：的保護陶較少(例如，1〇或更少，更佳為5或更 幻、不會使…面之印刷圖形(例如，隨某些她提供 84746 -14- 1280918 的印刷GRAFFITI·™字母符號指南）過分變暗，且若施加於内表 面’其不會妨礙顯示裝置蓋或殼體關閉。 許多材料可用作本發明之基材。基材應該相當透明，換 舌 基材在預期波長和預期觀看條件或視角下應具有足 夠《透明性或半透明性，如此抗反射薄膜不會過分妨礙下 面顯示裝置螢幕之使用和觀看。黏合層及/或基材可染著一 合適顏色(例如’灰色或淺棕色），以給予抗反射薄膜一吾人 所樂見之顏色。合適之基材材料包括熱固性聚合物或熱塑 性聚合物’例如聚碳酸酯、聚甲基丙稀酸酯(例如，聚甲基 丙烯酸甲酯或「PMMA」）、聚烯烴(例如聚丙烯或「pp」）、 聚胺基曱酸酯、聚酯（例如聚對苯二甲酸乙二醇酯或「ρΕτ」）、 聚醯胺、聚ϋ亞胺、㈣樹脂、」乙酸纖維素、三乙酸纖 維素、聚苯乙晞、乙缔_丙缔猜共聚物、環氧樹脂及類似物 質。通常，基材有部分係依據擬定用途所需之光學性質和 機械性能進行選擇，該機械性能通常包括可撓性、形穩性 和耐：擊性。基材厚度一般視擬定用途而 <，就大多數用 ^ " I材厚度以小於約Q.5 *米較佳，更佳約0.02至約0.2 毫米之間。採用自支撐聚合物薄膜較佳。採用由聚酉旨例如ρΕτ 或聚埽烴例如ΡΡ(聚丙埽）、ΡΕ(聚乙缔）、pvc(聚氯乙缔）製 成的薄膜更佳°基材可藉由習用之薄膜製作技術（例如，基 材樹脂擠壓成薄膜和擠㈣膜之單㈣雙軸取向（視需 形成一薄膜。 基材之-個或兩個表面皆可具有塗層，以提高其硬度和 ’刮磨性’改艮無機層或视需要而施加的硬塗層與基材間 84746 1280918 2黏合性’或提供其他所需性能，例如過濾紫外 為-氣體及/或水汽障壁層。舉例說明，基材可藉由物理處 理（诸如電暈處理，包括空氣 # θ 光化Π … 軍、電漿體、火焰或 先化七射寺万法）改艮無機層或硬塗層與基材間之黏人 Γ;Γ於基材與無機層或硬塗層之間施加化學處：例 如’底漆）’以增強層間黏合。 ⑼ 多硬塗層材料可用於本發明。硬塗層 之奈米級無機氧化物粒子，亦稱作「陶 趣上。硬塗層可藉由在基材上塗布可固化液體陶堯 ==物，並進行原位固化以形成硬質薄膜而形成。 布万法包括：例如，旋轉塗m m 屬絲塗、流塗、乳塗、喑" 用和其他類財法。 Jn職、泡沐應 :多無：氧化物粒子可用於硬塗層。粒子 =寸相對均勻。粒子可具有實質上單分散二 k刀佈’或猎由摻合兩種或多種乂 之多學性分佈。較佳早7刀政性分佈所得 聚集狀態（實質上㈣/π 實質上為且保持非 血機氣化物# 月）因為揲機氧化物粒子的聚集會引起 佳係具有膠體尺寸，換士 ^ 幾氧化物粒子較 米〜約0.2微米之間輕佳 1子平均粒徑介於約〇·001微 米最佳。該歧尺==、於約0.05微米更佳，小於_^ 樹脂中，且使陶二：助於無機氧化物粒子分散到黏合 1是月豆材料且有杀云夕士 度。無機氧化物粒子：；面性能和光學透明 十勾权k 了精由透射式電子顯微鏡 84746 -16- 1280918 計算一特定直徑之氧化物粒子的數目來測量。較佳之無機 氧化物粒子包括：膠態氧化矽、膠態二氧化鈦、膠態氧化 紹、膠態氧化锆、膠態氧化釩、膠態氧化鉻、膠態氧化鐵、 膠態氧化銻、膠態氧化錫及其混合物。無機氧化物粒子可 基本上由或確實係由單一氧化物（例如二氧化石夕）所組成，或 可包含氧化物之組合物，例如氧化矽和氧化鋁，或一種類 型之氧化物核芯（或除金屬氧化物外之材料的核芯），其上層 沉積另一種類型之氧化物。二氧化矽為一種尤其較佳之無 機粒子。如美國專利第5,648,407號（頒予Goetz等人，，4〇7)和第 5,677,050號（頒予Bilkadi等人，’〇50)(該些發明之内容皆以引用 方式併入本文）中所述，無機氧化物粒子較佳以溶膠形式提 供，溶膠中含有無機氧化物在液體介質中之膠態分散物。 溶膠可採用多種技術製備且具有多種形式，包括水溶膠（其 中，水作為液體介質）、有機溶膠（其中，有機溶劑作為介質） 和混合溶膠（其中，液體介質包括水和一有機液體）等。非晶 形二氧化矽之水溶膠尤其較佳。較佳之溶膠一般包含以溶 膠總重計約2%至約50%重量百分比之膠態無機氧化物粒子， 較佳從約25%到約45%重量百分比之膠態無機氧化物粒子。 較佳溶膠之供應商有ONDEO Nalco Co.(例如NALCO™ 1040， 1042，1050，1060，2327 和 2329 膠態二氧化石夕），Nyac〇i Nano Technologies，Inc·(例如 NYACOL™ AL20膠態氧化铭和 NYACOL™ A1530，A1540N 和 A1550膠態五氧化二銻）及 W.R.GraceandCo.(例 如LUDOXTM膠態二氧化矽）。如頒予Bilkadi等人之，〇5〇專利中 所述，無機粒子之表面可「經丙烯酸酯官能化」。如美國 84746 -17- 1280918 專利第6,238/798Bl號（頒 與黏合劑之pH相匹配 (例如銘酸鋼）。 丁 Kang等人，，798)中所述，溶膠亦可 且可包含抗衡離子或水溶性化合物 硬塗層可方便地藉一 A， ”，、機虱化物粒子之水溶膠盥一 自由基可固化之黏合劑前驅二 、女、 、4 7口 一或多種在曝露在人 通 < 固化能源下可參盥交聯及旛从a 仗口 一人知反應的自由基可固化單體、 氷物或聚合物）混合之方法製。 I備侍到之組合物在使用前诵 常需乾燥，以實質上哈丰阶古u γ ^ 佘去所有水5。此一乾燥步驟有時亦 稱作「汽提」。在使用冑，得到之陶究體材料組合物中可 加：-有機溶劑，〃改善其黏度特性，且有助於將陶资體 材料、、.且口物塗布在基材上。塗布後，可對陶资體材料組合 物進行乾燥，以除去所有加入的溶劑，隨後乾燥的複合物 可因曝露在合適之能源下而至少部分硬化，以使自由基可 固化黏合劑前驅物至少部分固化。 以黏合劑重量為100份計，硬塗層較佳包含約10〜約50份重 里 < 典機氧化物粒子，更佳為約25〜約4〇份重量之無機氧化 物粒子。硬塗層來自於一包含約15%〜約40%丙晞酸官能化膠 一氧化矽之陶瓷體材料組合物更佳，所含丙烯酸官能化 膠態二氧化矽為約15%〜約35%最佳。 許多黏合劑可用於硬塗層。黏合劑較佳來自於一自由基 可固化黏合劑前驅物；當硬塗層組合物塗布在基材上後， 該自由基可固化黏合劑前驅物可立即感光固化。黏合劑前 驅物’例如美國專利第5，1〇4,929 (頒予Bilkadi等人，，929)中所 述質子基團取代酯或一丙烯酸之醯胺，或如頒予Bilkadi等人 84746 -18 - 1280918 之專利Ό50中所述烯鍵不飽和單體尤其較佳。合適之黏合劑 削驅物包括：多元醇的丙烯酸或甲基丙烯酸酯，例如二元 醇的一丙烯酸或二甲基丙烯酸酯，其中二醇包括乙二醇、 三甘醇、2,2-二甲基丙二醇、丨，3_環戊二醇、l乙氧基_2,3-丙二醇、2-甲基_2,4-戊二醇、M-環己二醇、1，6-己二醇、n 每己二醇、1，6_環己烷二甲醇、間苯二酚、鄰苯二酚、雙酉分 A和雙（2-輕乙基）對苯二甲酸酯；三元醇的三丙晞酸或三甲 基丙烯酸酯，其中三元醇包括丙三醇、^3-三羥甲基丙烷、 1，2,4-丁三醇、ι，2,5-戊三醇、；ι，3,6-己三醇、1，5，1〇-癸三醇、連 苯三驗、均苯三酚和孓苯基-2,2_羥甲基乙醇；四元醇的四丙 烯鉍或四甲基丙晞酸酯，其中四元醇包括丨，2,3,4_ 丁四醇、 1，1，2,2-四羥甲基乙烷、丨山3,3-四羥甲基丙烷和異戊四醇四丙 烯酸酯；五元醇的五丙晞酸或五甲基丙烯酸酯，其中五元 醇有戊五醇，六元醇的六丙烯酸或六甲基丙稀酸酯，其中 六元醇包括山梨糖醇、二聚異戊四醇、二羥乙基己内醯胺？， 及其混合物。如頒予Kang等人之專利798中所述，黏合劑亦 可由一個或少個單|能團卓體獲得。如頒予Biikadi等人之專 利Ό50中所述，黏合劑較佳包含一個或多個N，N-雙取代丙烯 醯胺或N·單取代的乙烯基醯胺單體。硬塗層更佳係自陶 瓷體材料組合物衍生，其含有以陶瓷體材料組合物中固體 總重量計約20%〜約80%的烯鍵不飽和單體，及約5%至約40% 的N，N-二取代丙烯醯胺單體或N_單取代乙烯基醯胺單 體。 硬塗層内無機粒子、黏合劑和其他成分之較佳選擇應可 84746 -19- 1280918 使固化後之硬塗層具有—與基材相近之折射率，藉此，可 有力方、降低莫阿干涉條紋（Moid坪伽叫或其他可見光干涉條 紋之概率。 ^ ' 如上所述，硬塗層可藉由含水塗層混合物形成，該含水 塗布混合物需在塗布前汽提移除水分，且可視情況藉:溶 劑稀釋，以幫助组合物之塗布。熟諳此藝者應瞭解，所需 溶劑和溶劑等級之選擇取決於硬塗層内各成分之性質及: 需基材和塗布條件。 、硬塗層可與各種試劑交聯，以提高硬塗層内部黏合強度 或耐久性。較佳之交聯劑具有相當大數量之可交聯官能團， 且包括三或四丙烯酸酯，例如異戊四醇三丙烯酸酯和異戊 四醇四丙晞酸酯。使用時，交聯劑較佳用量約每丨〇〇重量份 數黏合劑小於約60份，更佳為約3〇至約5〇份之間。 刀 热謂此藝者亦應瞭解，硬塗層可有選擇性地包含其他辅 力诏例如表面處理劑、表面活性劑、抗靜電劑（例如導電 聚合物）、勻平劑、起始劑（例如感光起始劑）、光敏劑、紫 外吸收劑、穩足劑、抗氧化劑、填充劑、潤滑劑、顏料、 染料、增塑劑、懸浮劑及其類者。 右硬塗層藉由組合膠態無機氧化物粒子之水溶膠與黏合 劑前驅物製備而成，則溶膠應較佳具有可使粒子具有負表 面電荷之pH值。舉例說明，若無機粒子以二氧化矽粒子為 主，溶膠較佳為PH〉7的鹼，更佳為pH>8，最佳為阳>9。溶膠 較佳包括氫氧化銨或類似物質，藉此Nh4+可作為具有負表面 電荷之粒子之抗衡陽離子。如美國專利第6,245,833抝號（頒予 84746 -20. 1280918

Kang等人卿(其發明内容^㈣ 需對膠態無機氧化物粒予 本又中)所述，若 面處理劑混入溶勝中。爾可將-合適之表 驅物加入陶究體材料组合物中^由^固化之黏合劑前 瓷髀材抖相人榀七〃 猎此’貫質上汽提去除陶

允材科組合物内的所有水分。 W 約98%的水分(在陶瓷髀材 牛° ’頃發現：脫除 佳。-曰實質上= 物中留下約2%的水分)較 ―只貝上脫除了全部水分，加入—定量 專利798中所述鋼型之右媸& w g寺人在 勺入 '有機洛劑，以使陶瓷體材料组合物中 已έ、.，勺5〇/〇至約990/。的固體w f @ 7n〇/ , 、 7U月迁（以重I計），較佳為約10%至約 70%。加入溶劑後，可視需 、产 而要在/m合硬箜層中加入低表面能 《贶化物，隨後加入任-其他需要的輔助劑。 :二完成後，可藉由加熱、抽真空及/或其他方法閃蒸出 令劑（右有的話）。已塗布之陶瓷體材料組合物可藉由一合適 形式之能量(例如熱能、可見光、紫外光或電予束輕射)：輻 照而固化。在環境條件下用紫外光照射乃當前較佳之方法， 其原因為該固化技術費.用相對較低且固化速度快。如前所 述，硬塗層之表面應打磨粗糙或具有微觀結構，以提供一 無光澤表面。此一作業可採用各種熟諳此藝者所熟知之方 法疋成，包括：使用一經喷珠處理或採用其他方法粗糙化 <合適工具在硬塗層上壓花，或將合適之小顆粒填充劑（例 如一氧化矽沙）或玻璃珠填加到硬塗層上，或者將硬塗層麗 S在一合適之粗糙標準模體上實施固化。 如热讀薄膜光學和抗反射塗層設計之技術人士所知，本 發明中無機層36和聚合物層38之厚度應相互關聯，藉此， 84746 -21 - 1280918 對於一較佳不大於1.53之折射率，兩層之總厚度約為波長範 圍中心值之λ/4，例如，當吾人希望在4⑻至700 nm整個可見 範圍内均具有抗反射性能時，總厚度應約為135〜145 nm。另 外，無機層和聚合物層之厚度可彼此調整，以使組合薄膜 之折射率降至最低。 在本發明一實施例中，無機層是一金屬氧化物層，厚度 為約10 nm至30 nm，較佳約17 nm至約23 nm，而伴隨之聚合物 層之厚度為約80 nm至約150 nm，較佳約110 nm至約130 nm。該 實施例兼具低製造成本與良好之抗反射性。 在本發明另一實施例中，無機層36由以下幾層組成：第 一金屬氧化物層，沉積在第一金屬氧化物層上之二氧化石夕 層和沉積在二氧化矽層上之第二金屬氧化物層。聚合物層38 沉積在第二金屬氧化物層上。在該結構中，第一金屬氧化 物層之所需厚度為約20 nm至約35 nm，更佳約25 nm至約30 nm ，二氧化碎層之所需厚度為約10 nm至約25 nm，較佳約15 nm 至約20 nm，第二金屬氧化物層之所需厚度在約50腿至約 100 nm，較佳約65 nm至約80 nm，聚合物層之所需厚度為約 70 nm至約120 nm，較佳約85 nm至約100 nm。該種較佳之三無 機層結構所提供之抗反射性能實質上相當於前面所述 Southwall Technology四無機層結構，且同時卻因取消了四無機 層結構中之厚二氧化矽層、IT0層和薄潤滑層而大大降低了 製造費用。 在本發明另一實施例中，無機層36由一金屬氧化物層和 沉積在金屬氧化物層上之二氧化矽層組成。聚合物層38沉 84746 -22- 1280918 積在二氧化石夕層上。在該種二無機層結構中，金屬氧化物 層《所需厚度為約10 nm至約30 nm，較佳約1〇 nm至約2〇邮， 二氧化矽層之所需厚度約1〇 nm至约12〇 nm，較佳約ι〇 至約 50_聚合物層約50nm至約13〇㈣，較佳約6〇啦至約觸啦。 、儘管其他技術（例如電子束和熱蒸發）亦可用於沉積本發明 之無機層，但本發明之無機層藉由濺鍍或化學氣體沉積方 法沉積較佳，採用直流賤鍍尤其更佳，雖然射頻㈣、磁控 管和反應性減鍍及低壓、電漿增強和雷射增強化學氣體沉 積方法亦可使用。根據所用基材，無機層之沉積應在不致 破壞基材之溫度下進行，溫度限制隨所用具體基材材料之 變化而變化。 如前面所述’本發明之聚合物層較佳具有一在啦至 7〇〇mn波長範圍内小於或等於i 53之折射率且一約加邮至約 2〇〇腿之厚度。聚合物層之較佳厚度範圍為约50啦至約130nm :較:至約卿。具有該些範園内厚度之聚合物層 I万便地猎由下財式製備：使用㈣之溶液塗布法（例如 缝隙塗布法）在-有機溶劑中沉積一合適可固化材料(之溶 欣，除去溶劑，且固化所產生之可固化材料層。 較佳情㈣’聚合物層之折射率應盡可能^且符合該層 ”他可接又《性能’尤其是硬度、耐刮磨性和防冷染性。θ 聚合物層亦應耐受可用於薄膜上之清洗溶劑（例如乙醇〆 水、丙酮、汽油和異丙醇)，及食物和化妝 ： 層可能接觸到的花生醬和辰古 曰〜 」如^合物 右良将心 $。取後’聚合物層％亦應具 ’久性’其可藉由測量，例如，聚合物層耐受鋼 84746 -23- 1280918 散作用，因此，其非常適合用於本發明之可固化組合物。 雖然吾人期望聚合物層中包含—提供低折射率之氟代缔聚 合物’且期望丙烯_旨或甲基㈣酸@旨交聯劑提供該聚合 物層之硬度，然而此一期望可能暗示，聚合物層之性質不 可避免地牵涉-兩種性質間之妥協。儘管如此，傾發現， 若仔細選擇可固化組合物之調配，在固化過程中材料會出 現自發分離現象’藉此生成—聚合物層，其具有富含丙稀 酸醋或富含甲基丙稀酸酿聚合物之外層部分(藉此提高硬度 和防污染性)’及富含氟代烯聚合物之内層部分(藉此減小折 射率)。丙缔酸醋或甲基丙埽酸酿聚合物材料固化過程中分 離之另-個好處在於交聯反應可在有氧氛園（例如空氣）中進 行，藉此，在薄膜紫外固化時無需通常慣用之氮氣層，因 而降低了抗反射薄膜之製造費用。然而1需要，仍可使 用氮氣。 可固化組合物可藉由任一習用方法固化，但採用自由基 固化較佳’因為自由基固化既可熱起始，_可採用紫外線 輪射起始（後-起始方式較佳）。凡熟諳聚合物技術領域之人 士皆热知合週之起始劑、氧清除劑及自由基固化中所用其 他成分。然而，應注意：由於本發明制程中欲製成之聚合 ’所需起始劑之類型及比例可不料擬定用於製 備較厚聚合物層之典型調配物。 如前面所述，抗反射薄膜3〇包括一位於基材背部之黏合 層。黏合層透明或充分半透明較佳，以使其不過度妨礙觀 看下層之顯示裝置。黏合劑可為一天然製品(例如一橡膠基 84746 -25 - 1280918 黏合劑），亦可為一合成材料，例如均聚物、無規共聚物、 接枝共聚物或嵌段共聚物。黏合劑可為已交聯的，亦可為 未交聯的，且若需要，其可具有壓敏性。Dahlquist判據給出 了 一公認的壓敏黏合劑（PSAs)定量說明，其指明，儲能模量（G，) 小於約3xl05帕斯卡（在1〇弧度/秒、室溫約20 °C〜22 °C下測量） 之材料具有壓敏黏合性；而（G》〉約3xl05帕斯卡之材料則無 壓敏黏合性’在本文中稱作非壓敏性黏合劑。非壓敏性黏 合劑較佳，尤其彼等可提供選擇性黏合之黏合劑，例如對 皮膚具有低黏著性或無黏著性，但對一目標表面（例如顯示 器表面）具有高黏著性之黏合劑。塗布有此等非壓敏選擇性 黏合劑之顯示器元件便於用手拿持並黏著至顯示器表面 上，且若需要，可清除乾淨。合適之低黏著性或非黏著性 黏合劑包括彼等美國專利第5,389,438號（頒予Miller等人）、第 5,851，664號（頒予Bennett等人）、第6,004,670號（頒予Kobe等人）及 第6,099,682號（頒予Krampe等人）中所述之黏合劑。 熱塑性嵌段共聚物彈性體（其A鏈段和B嵌段或鏈段之共聚 物，兼具有熱固性及彈性）尤其較佳。可利用之熱塑性嵌段 共聚物彈性體包括具有放射型、線型Α·Β二嵌段和線型A-B-Α三嵌段結構之多嵌段共聚物及此類共聚物之混合物。可自 市場購得之熱塑性嵌段聚合物彈性體包括：SOLPRENE™系 列材料（Philips Petroleum Co.)、FINAPRENE™ 系列材料（FINA)、

丁UFPREKE™和 ASAPRENETM 系歹J 才才淨牛（Asahi) 、 SIHEREON™ 系歹U 材 料（Firestone Synthetic Rubber & Latex Co·)、EUROPRENE SOL TTM 系 列材料（Enichem)、VECTOR™ 系列材料（Dexco Polymers)和 CARIFLEX 84746 -26- 1280918 認為本發明僅用於此。除非另有說明，所有等份和百分數 皆以重量計。 實施例1 具有不光滑硬塗層之聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜（約5 mils 厚）自 Kimoto Tech，Inc· (Cedartown，GA)購得。19 nm氧化錮錫層 (ITO)和20 nm SiOx層藉由直流濺鍍法沉積在PET薄膜硬塗層表 面上。塗布流體由三種溶液混合而成。表1所示為三種溶液 及塗布流體之化學組成。 原料 溶液1 溶液2 溶液3 塗布液體 丁酮(wt%) 17.224 97.615 96.088 19.750 2-戊酮(wt°/〇) 40.764 39.500 環己酮(wt%) 40.794 39.500 Kynar 7201 (wt%) 0.645 0.625 Paraloid A-21 (wt%) 0.052 0.050 Sartomer SR399 (wt%) 0.387 0.375 Sartomer CD9051 (wt%) 0.077 0.075 TegoRad 2500 (wt%) 0.026 0.025 Silquest A-174 (wt%) 2.385 0.038 KIP 100F (wt%) 3.912 0.063 固體(wt%) 1.187 2.385 3.912 1.251 表1

Kynar 7201 由 Atofina Chemical，Inc· (Philadelphia，PA)提供，Paraloid A-21 (100%)樹脂（Acryloid A-21)由 Rhom & Haas Co· (Philadelphia，PA) 提供，Sartomer SR399、Sartomer CD9051 和 Esacure Kip 100F 由 Sartomer 84746 -28- 1280918

Company Inc· (Exton，PA)提供，Silane Α· 174 (silquest A-174)由〇Si Specialties，Inc_ (Danbury，CT)提供，TegoRad 2500 由 Goldschmidt AG (Essen，Germany)提供 ° 塗布流體藉由模塗法沉積在濺鍍層上。塗布流體中之溶 劑藉由薄膜以約30英尺/分鐘之速度及在120°F溫度下通過40 英尺長之浮爐（爐喷嘴處的空氣速度約為8000-10000英尺/分 鐘）而蒸發掉。然後，薄膜在一惰性氛圍下在紫外燈室中固 化，得到之聚合物塗層厚度約為90-100 nm。 熱塑性嵌段共聚物藉由刮塗機（其間隙整定為8 mil)塗布在 PET基材底部與硬塗層、ITO和SiOx層及聚合物層相對之表面 上。熱塑性嵌段共聚物塗布流體之化學成分為28% Kraton G-1657 和 72% 甲苯。KratonG-1657 由 KratonPolymers(Westhollow，TX)提 供。然後，熱塑性嵌段共聚物在一 45 °C爐中乾燥20分鐘。 自Loparex Inc. (Willowbrook，IL)購得之塗矽PET隔離襯材藉由 手動滚筒層積在已乾燥熱塑性嵌段共聚物上。抗反射薄膜 樣品黏在背面貼有黑色膠布的玻璃片上。表2概括了依據本 發明一實施例製成之抗反射薄膜最終性質。 84746 29- 1280918 性質 數值 第一表面反射率(450 nm-650 nm) 1.43% 總反射率(450 nm-650 nm) 4.61% 透射率 95.7% 濁度 5.6% 鉛筆硬度 3H 耐久性 >40幹摩擦 剝離強度(玻璃） 13g/l英寸條片 剝離強度(PalmV) 0g/0.5英寸條片 表2 試驗後，使用分光光度計量測了反射係數，並對總反射 率和第一表面之反射率進行了測量，且以入射光照度之百 分數予以記錄。平均可見適光透射比係採用BYK-Gardner，USA (Columbia，MD)製造之HAZE-GARD PLUSTM透射率測量裝置測 量° 鉛筆硬度採用硬度範圍在2H-6H的一系列鉛筆測量。每一 硬度之錯筆在1公斤施加負載下固定於手持滾動試驗臺上且 滾過經塗布的基材。塗層依據不劃傷塗層之最高鉛筆硬度 做出評定。 耐久性採用包著200克砝碼的0000級鋼絲絨進行測定。將 絨毛在塗布基材上來回摩擦數次。定期停止摩擦並用Sanford Corp. (Bellwood，IL)製造的黑色SHARPIE™細頭永久性標記筆在 摩擦表面上畫寫。 84746 -30- 1280918 面^離強度扭用將抗反射薄膜條黏合劑面黏貼在一破璃平 面和Palm，W· (Santa Clara，CA)製造的Palm VTM顯示器表面上之 万法測疋。允許抗反射薄膜條停留1〇分鐘，爾後 /分鐘且剝離角度為18。。的剝離試驗機將： 反射薄膜條剝離下來。 ::背離本發明範，和要旨之前提下，熟諳此技藝者可 务明做各種改進和改良。本發明不應受限於文中為說 月·^目的所作闡述。 圖式簡單說明 圖1為一先前技術螢幕保護器之侧面示意圖。 圖2為另一先前技術螢幕保護器之透視圖。 圖3為本發明一實施例之抗反射薄膜側面示意圖。 圖4為本發明另一實施例另一抗反射薄膜側面示意圖。 圖5為本I明一貫施例之一可移除抗反射薄膜疊層透視 圖，及 圖6為-PDA透視圖，其顯示屏幕上覆蓋一層本發明一實 施例之抗反射薄膜’且其内側前蓋依據本發明之另—實施 例黏貼有抗反射薄膜疊層。 、 圖式代表符號說明 10 螢幕保護器 12 乙婦基薄膜 14 黏合劑 16 襯材 20 螢幕保護器 84746 ^ 彎曲底部邊緣 薄膜 黏合劑 襯材 頂部表面 無光澤表面區域 抗反射薄膜 基材 黏合層 無機層 旋光性聚合物層 保護襯材 黏合層 黏合層 黏合層 黏合層 聚合物層 聚合物層 聚合物層 硬塗層 疊層 個人數位助理 顯示屏幕 内表面 前蓋 -32-

Claims (1)

1. 工28嫩1另08931號專利申請案 申請專利範圍替換本(95年12月） 拾、申請專利範圍： 1· 一種抗反射薄膜，其包括： 一基材，具有第一表面和第二表面； 一播機層’沉積於該基材之第一表面上； 一旋光性聚合物層’其藉由使可固化組合物進行原位固 化而形成於該無機層上，該聚合物層具有在4〇〇11111至7〇〇_波 長範圍内不大於約1.53之折射率及介於約20邮至約2〇()啦之 厚度；及 一黏合層，其沉積於該基材之第二表面上，其中該黏合 層係經微觀結構處理。 2·如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該無機層包括 金屬氧化物、氮化物、鎳、鉻、二氧化矽或其任一組合。 3·如申請專利範圍第2項之抗反射薄膜，其中該金屬氧化物 為氧化錮、二氧化鈦、氧化鎳、氧化鉻、氧化鎘、氧化鎵 銦、五氧化二鈮、氧化銦錫、二氧化錫、或其任一組合。 4·如申請專利範圍第3項之抗反射薄膜，其中該金屬氧化物 層具有一介於約10 nm至約30 nm之厚度，該聚合物層具有 一介於約80 nm至約150 nm之厚度。 5·如申請專利範圍第4項之抗反射薄膜，其中該金屬氧化物 層具有介於約17 nm至約23 nm之厚度，該聚合物層具有介 於約110 nm至約130 nm之厚度。 6·如申請專利範圍第2項之抗反射薄膜，其中該氮化物為氮 化石夕、氮化鈇或其任一組合。 7·如申請專利範圍第2項之抗反射薄膜，其中該無機層包括 84746-951214.doc 1280918 第一金屬氧化物層、二氧化矽層和第二金屬氧化物層，其 中該二氧化矽層設置於該第一金屬氧化物層與該第二金 屬氧化物層之間，且其中該第一金屬層氧化物層沉積於該 基材之第一表面上。 8. 如申請專利範圍第7項之抗反射薄膜，其中該第一金屬氧 化物層具有介於至約20 nm至約35 nm之厚度，該二二氧化 碎層具有介於約10 nm至約25 nm之厚度，該第二金屬氧化 物具有介於約50 nm至約100 nm之厚度，該聚合物層具有介 於約70 nm至約120 nm之厚度。 9. 如申請專利範圍第8項之抗反射薄膜，該第一金屬氧化層 具有介於約25 nm至約30 nm之厚度，該二二氧化碎層具有 介於約15 nm至約20 nm之厚度，該第二金屬氧化物層具有 介於約65 nm至約80 nm之厚度，該聚合物層具有介於約85 nm 至約100 nm之厚度。 10. 如申請專利範圍第2項之抗反射薄膜，其中該無機層包括 金屬氧化物層和二氧化矽層，其中該金屬氧化物層沉積於 該基材之第一表面上，該二氧化矽層沉積於該金屬氧化物 層上。 11. 如申請專利範圍第10項之抗反射薄膜，該金屬氧化物層具 有介於約10 nm至約30 nm之厚度，該二氧化碎層具有介於 約10 nm至約120 nm之厚度，該聚合物層具有介於約50 nm至 約130 nm之厚度。 12. 如申請專利範圍第11項之抗反射薄膜，該金屬氧化物層具 有介於約10 nm至約20 nm之厚度，該二二氧化矽層具有介 84746-951214.doc -2- 1280918 於約10nm至約50nm之厚度，該聚合物層具有介於約⑼贈到 約100 nm之厚度。 13. 如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該聚合物層具 有在400 nm〜700 nm波長範圍内不大於約ι ·5〇之折射率。 14. 如申請專利範圍第丨項之抗反射薄膜，其中該聚合物層包 含自氟缔烴、含有聚矽氧之丙晞酸、甲基丙烯酸、多官能 團丙晞酸單體或其任一組合衍生之重現單元。 15·如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該聚合物層包 含自氟烯烴衍生之重現單元和自含有聚矽氧的丙缔酸衍 生之重現單元’且其中該聚合物層具有富含有含聚矽氧的 丙烯酸之外層部分和富含氟晞烴之内層部分。 16·如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該聚合物層包 含自氟烯烴衍生之重現單元和自甲基丙烯酸衍生之重現 單元’且其中該聚合物層具有一富含甲基丙烯酸之外層部 分和一富含氟晞煙之内層部分。 17.如申叫專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該聚合物層尚 包含抗靜電劑。 18·如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其尚包含沉積在該 聚合物層上之抗靜電塗層。 19.如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其尚包含沉積在該 基材之第一表面與該無機層間的硬塗層。 20·如申睛專利範圍第19項之抗反射薄膜，其中該硬塗層具有 微觀結構。 21.如申請專利範圍第19項之抗反射薄膜，其中該硬塗層具有 84746-951214.doc 1280918 介於約1 μιη至約15μιη之厚度。 22.如申請專利範圍第19項之抗反射薄膜，其中該硬塗層包含 分散在經自由基固化之黏結劑中的膠態無機氧化物粒子。 23·如申請專利範圍第22項之抗反射薄膜，其中該膠態無機氧 化物粒子包括膠態二氧化矽粒子。 24·如申請專利範圍第22項之抗反射薄膜，其中該黏結劑係自 一種或多種可共聚和可自由基固化之單體、寡聚物、 /J'C 口 物或其任一組合衍生。 25. 如申請專利範圍第22項之抗反射薄膜，其中該黏結劑係包 含導電性聚合物。 26. 如申請專利範圍第！項之抗反射薄膜，其中該基材為熱固 1生聚合物、熱塑性聚合物或其組合。 27·如申請專利範圍第26項之抗反射薄膜，其中該基材為聚對 苯二甲酸乙二醇酯。 28.如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該基材為一百 葉簾型塑膠膜。 29·如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其尚包含沉積在該 基材之第二表面與該黏合層間之百葉簾型塑膠層。 30.如申睛專利範圍第1項之抗反射薄膜，其中該基材為圓形 偏光板’其包括一線性偏光板和一 1/4波長延遲器，其中 该供機層沉積在該線性偏光板上，而該黏合層沉積在該 1/4波長延遲器上。 31·如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜，其尚包含設置在該 基材之弟一表面與該黏合層間之圓形偏光板，其中該圓形 84746-951214.doc -4- 1280918 偏光板由一線性偏光板和一 1/4波長延遲器組成，且其中 該線性偏光板毗鄰該基材之第二表面，該1/4波長延遲器 毗鄰該黏著層。 32·如申請專利範圍第之抗反射薄膜，其尚包含沉積在該 黏合層上之保護觀材。 33.如申請專利範圍第β之抗反射薄膜，其中該黏合劑層係 具有微觀結構。 34·如申請專利範圍“項之抗反射薄膜，其中該黏合劑層包 含非壓敏性黏合劑。 35.如申請專利範圍第34項之抗反射薄膜，其中該非壓敏性黏 合劑係熱塑性彼段共聚物彈性體。 36·如申請專利範圍第丨項之抗反射薄膜，其尚包含沉積在該 基材之第一表面的硬塗層，其中該硬塗層具有一粗糙上表 面，且該無機層及旋光性聚合物層復製於該硬塗層之粗糙 上表面，使得該抗反射薄膜具有一無光澤表面。 37·如申請專利範圍第！項之抗反射薄膜，其中該聚合物層包 含聚矽氧丙烯酸酯單體。 38. —種抗反射薄膜，其包括： 一基材，其具有第一表面和第二表面； | 一無機層，其沉積於該基材之第一表面上； 一旋光性聚合物層，其藉由固化形成於該無機層上；和 一黏合層’其沉積於該基材之第二表面上。 39_ —種光學系統，其包括： 一顯示裝置；和 84746-951214.doc _ 5 - 1280918 一沉積於該顯示裝置上之抗反射薄膜，其中該抗反射薄 膜包括具有第一表面和第二表面之基材、沉積於該基材之 第一表面上之無機層、藉由原位固化一可固化組合物而形 成於該無機層上之旋光性聚合物層及一沉積於該基材之 第一表面上之黏合層，該聚合物層具有在4〇〇 ^波長範 圍内不大於約1.53之折射率及介於約2〇 nm至約200 nm之厚 度。 40·如申請專利範圍第39項之光學系統，其中該顯示裝置為一 個人數位助理、蜂窩電話、觸敏顯示屏幕、手錶、汽車導 航系統、全球定位系統、深度探測器、計算器、掌上型電 子遊戲機、電子圖書、CD、DVD、投影電視機顯示屏幕、 電腦監視器、筆記本電腦顯示器、儀器儀錶、臺式個人電 腦或LCD電視。 41. 如申請專利範圍第39項之光學系統，其中該抗反射薄膜位 於該顯示裝置之顯示屏幕上。 42. 如申請專利範圍第39項之光學系統，其中該顯示裝置上設 置有多層抗反射薄膜。 43·如申请專利範圍第42項之光學系統，其中該多層抗反射薄 膜位於該顯示裝置之顯示屏幕上、蓋板上或背板上。 44. 如申請專利範圍第3 9項之光學系統，其中該基材係由一線 性偏光板和一 1/4波長延遲器組成之圓形偏光板，其中該 無機層沉積在該線性偏光板上，該黏合層沉積在該1/4波 長延遲器上。 45. 如申請專利範圍第39項之光學系統，其中該抗反射薄膜尚 84746-951214.doc 1280918 包括設置在該基材之第二表面與該黏合層間之圓形偏光 板，其中該圓形偏光板由一線性偏光板和一 1/4波長延遲 器組成，且該線性偏光板毗鄰該基材之第二表面，該1/4 波長延遲器毗鄰該黏合層。 46· —種光學系統，其包括： 一顯示裝置，和 一位於該顯示裝置上之抗反射薄膜，其中該抗反射薄膜 包括具有第一表面和第二表面之基材、沉積於該基材之第 一表面上之無機層、形成於該無機層上之旋光性聚合物層 φ 和沉積於該基材之第二表面之黏合層。 - 47· —種抗反射薄膜製作方法，其包括·· 提供具有第一表面和第二表面之基材； . 沉積一無機層於該基材之第一表面上； 沉積一層可固化組合物於該無機層上； 固化咸已，儿積可固化組合物，以形成旋光性聚合物層， 巧氷口物層具有介於約2〇啦至約2⑻邮間之厚度及在 40〇nm〜70〇nm波長範圍内不大於約153之折光率；及 φ 將一黏合層沉積在該基材之第二表面上。 48·如申請專利範圍第47項之方法，其中該無機層係由金屬氧 化物、氮化物1、鉻、二氧化石夕或其任一組合形成。 49. 如申請專利範園第侧之方法，其中該金屬氧化物係氧化 銦、二氧化鈦、氧化鎳、氧化鉻、氧化鎘，氧化鎵銦、五- 氧化二魏、氧化鋼錫、二氧化錫或其任-組合。 50. 如申請專利範圍第、、 固罘48項 < 万法，其中該金屬氧化物層具有 84746-951214.doc -7- 1280918 介於約10至約30 nm間之厚度，該聚合物層具有介於約80 nm 至約150 nm間之厚度。 51. 如申請專利範圍第50項之方法，其中該金屬氧化物層具有 介於約17 nm至約23 nm間之厚度，該聚合物層具有介於約 llOnm至約130nm間之厚度。 52. 如申請專利範圍第48項之方法，其中該氮化物為氮化矽、 氮化鈦或其組合。 53. 如申請專利範圍第48項之方法，其中該無機層包括第一金 屬氧化物層、二氧化矽層和第二金屬氧化物層；該方法尚 包括： 將該第一金屬氧化物層沉積在該基材之第一表面上； 將該二氧化矽層沉積在該第一金屬氧化物層上；及 將該第二金屬化物層沉積在該二氧化矽層上。 54. 如申請專利範圍第53項之方法，其中該第一金屬氧化物層 具有介於約20 nm至約35 nm間之厚度，該二氧化矽層具有 介於約10 nm至約25 nm間之厚度，該第二金屬氧化物層具 有介於約50 nm至約100 nm間之厚度，該聚合物層具有介於 70 nm至120 nm間之厚度。 55. 如申請專利範圍第54項之方法，其中該第一金屬氧化物層 具有介於約25 nm至約30 nm間之厚度，該二氧化矽層具有 介於約15 nm至約20 nm間之厚度，該第二金屬氧化物層具 有介於約65 nm至約80 nm間之厚度，該聚合物層具有介於85 nm至100 nm間之厚度。 56. 如申請專利範圍第48項之方法，其中該無機層包括金屬氧 84746-951214.doc 1280918 化物層和二氧化矽層，該方法尚包括： 將該金屬氧化物層沉積於該基材之第一表面上；和 將該二氧化矽層沉積於該金屬氧化物層上。 57. 如中請專利範圍第56項之方法’其中該金屬氧化物層具有 介於約10 nm至約30 nm間之厚度，該二氧化矽層具有^於 約lOnm至約120nm間之厚度，該聚合物層具有介於別邮至 約130 nm間之厚度。 58. 如申請專利範圍第57項之方法，其中該金屬氧化物層具有 介於約10 nm至約20 nm間之厚度，該二氧化矽層具有介於 約10nm至約5〇nm之間之厚度，該聚合物層具有介於⑼啦至 約100 nm間之厚度。 59. 如申請專利範圍第47項之方法，其中該聚合物層具有在 400 nm至700 nm波長範圍内不大於約15〇之折射率。 60. 如申請專利範圍第47項之方法，其中該可固化組合物包含 氟烯烴聚合物、含有聚矽氧之丙浠酸聚合物、甲基丙晞酸 聚合物、多官能團丙烯酸單體或其任一組合。 61. 如申請專利範圍第47項之方法，其中該可固化組合物包含 氟晞烴聚合物和含有聚矽氧的丙烯酸聚合物，其中該固化 導致聚合物層内材料分離，從而生成一富含有含聚碎氧的 丙烯酸之外層部分和一富含氟烯烴之内層部分。 62·如申請專利範圍第47項之方法，其中該可固化組合物包含 氟晞烴聚合物和甲基丙晞酸聚合物，其中該固化導致聚合 物層内材料分離，從而生成一富含甲基丙晞酸之外層部分 和一冨含氟晞烴之内層部分。 84746-951214.doc 1280918 63. 如申凊專利範圍第*7項之方法’該方法尚包括： 在沉積無機層之前，將硬塗層沉積在該基材之第一表面 上。 64. 如申請專利範圍第47項之方法，其中該可固化組合物之固 化在空氣或氮氣中進行。 65·如申請專利範圍第47項之方法，其中該可固化組合物之固 化藉由自由基固化方式實施。 66. 如申清專利範圍第4 7項之方法，其中該基材為一百葉簾型 塑膠膜。 67. 如申請專利範圍第47項之方法，其尚包括： 在沉積黏合劑層之前，將一百葉簾型塑膠層沉積在該基 材之弟二表面上。 68·如申請專利範圍第47項之方法，其中該基材係由一線性偏 光板和一 1/4波長延遲器組成之圓形偏光板；其中該無機 層沉積在該線性偏光板上，該黏合層沉積在該1/4波長延 遲器上。 69. 如申請專利範圍第47項之方法，其尚包括： 在沉積該黏合層之前，將一圓形偏光板黏著在該基材之 第二表面上，其中該圓振振器包括一線性偏光板和一 1/4 波長延遲器；其中該線性偏光板毗鄰該基材之該第二表 面’該1/4波長延遲器毗鄰該黏合層。 70. 如申請專利範圍第47項之方法，其尚包括 將一保護襯材沉積在黏合層上。 71·—種製作抗反射薄膜之方法，其包括·· 84746-951214.doc -10- 1280918 提供具有第一表面和第二表面之基材； 沉積一無機層於該基材之第一表面上； 在該無機層上形成一旋光性聚合物層；和 在該基材之第二表面上沉積一黏合層。 72. —種製作光學系統之方法，其包括： 提供一顯示器裝置；和 至少在该顯不裝置之一部位設置一抗反射薄膜；其中該 抗反射薄膜包括具有第一表面和第二表面之基材、一沉積 於該基材之第一表面上之無機層、籍由可固化組合物進行 原位固化而形成在該無機層上之旋光性聚合物層及沉積 於該基材之第二表面上之黏合層，該聚合物層具有在4〇〇 nm至700 nm波長範圍内不大於約153之折光率及介於約2〇 nm至約200 nm間之厚度。 73. 如申請專利範圍第72項之方法，其中該顯示裝置為一個人 數位助理、蜂窩電話、觸敏顯示屏幕、手錶、汽車導航系 統、全球定位系統、深度探測器、計算器、掌上型電子遊 戲機、電子圖書、CD、DVD、投影電視機顯示屏幕、電腦 監視器、筆記本電腦顯示器、儀器儀錶、臺式個人電腦或 LCD電視。 74·如申請專利範圍第72項之方法，其中該抗反射薄膜位於該 顯示裝置之一顯示屏幕上。 75·如申請專利範圍第72項之方法，其中該抗反射薄膜尚包括 一硬塗層’其設置於該基材之第一表面與該無機層之間。 76·如申請專利範圍第72項之方法，其中該基材為一圓形偏光 84746-951214.doc -11- 1280918 板，其包括一線性偏光板和一 1/4波長延遲器，其中該無 機層沉積於該線性偏光板上，該黏合層深積在該1/4波長 延遲器上。 77.如申請專利範圍第72項之方法，其中該抗反射薄膜尚包括 叹置在該基材之第二表面與該黏合層間之圓形偏光板；其 中该圓形偏光板包括一線性偏光板和一 1/4波長延遲器， 且其中遠線性偏光板毗鄰該基材之該第二表面，該1/4波 長延遲器毗鄰該黏合層。 78·如申清專利範圍第72項之方法，其進一步包括 將多層抗反射薄膜設置於該顯示裝置上。 79.如申請專利範圍第72項之方法，其中該多層抗反射薄膜位 於該顯示裝置之顯示屏幕上、蓋板或背板上。 80·—種製作可移除式抗反射薄膜疊層之方法，其包括：按照 申請專利範圍第47項之方法形成多層抗反射薄膜；及 將多層抗反射薄膜彼此相鄰放置，其中一抗反射薄膜之 黏合層眺鄰另一抗反射薄膜之聚合物層。 81·如申請專利範圍第80項之方法，其尚包括： 將保護襯材沉積在抗反射薄膜之黏合層上。 82·如申請專利範圍第8〇項之方法，其中該多層抗反射薄膜之 母層尚包括設置在該基材之第一表面與該無機層間之 硬塗層。 83· —種製作一可移除式抗反射薄膜疊層之方法，其包括： 按照申請專利範圍第71項之方法形成多層抗反射薄 膜，及 84746-951214.doc -12- 1280918 一抗反射薄膜 將該多層抗反射薄膜彼此相鄰放置；其中 之黏合層她鄰另一抗反射薄膜之聚合物層。 84746-951214.doc 13-