TW202225739A - 光學薄膜之製造方法、光學薄膜、光學構件、影像顯示裝置、光學構件之製造方法及影像顯示裝置之製造方法 - Google Patents

光學薄膜之製造方法、光學薄膜、光學構件、影像顯示裝置、光學構件之製造方法及影像顯示裝置之製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明課題在於提供一種無損透明層之透明性的光學薄膜之製造方法。 其解決手段為一種光學薄膜10之製造方法，特徵在於： 該光學薄膜10係於非透明層12之貫通孔內形成有透明層13者； 該製造方法中，於遮罩材被覆步驟中，藉由形成有透明層形成用貫通孔21h之遮罩材21被覆基材11之一面； 於透明層形成步驟中，將透明層形成用液塗敷於透明層形成用貫通孔21h內而形成透明層13； 於遮罩材去除步驟中，從基材11去除遮罩材21；且 於非透明層形成步驟中，將非透明層形成用液塗敷於基材11之透明層13形成面上而形成非透明層12； 透明層形成用貫通孔21h外周之遮罩材21的最小厚度T2(µm)與透明層13之最薄部的厚度T1(µm)之比T2/T1為3以下。

Description

光學薄膜之製造方法、光學薄膜、光學構件、影像顯示裝置、光學構件之製造方法及影像顯示裝置之製造方法
本發明涉及光學薄膜之製造方法、光學薄膜、光學構件、影像顯示裝置、光學構件之製造方法及影像顯示裝置之製造方法。
針對影像顯示裝置等所用之光學薄膜，有藉由塗敷液體來形成防眩層等非透明層之情形(專利文獻1等)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2009-109683號公報
發明欲解決之課題 另一方面，針對所述光學薄膜，有對防眩層之一部分穿孔，並於該孔之部分形成透明硬塗層之情形。但此時，在光學薄膜之製造步驟上恐會發生如下問題。
圖4(a)~(b)之步驟截面圖係顯示如前所述般光學薄膜之製造步驟之一例。首先，如圖4(a)所示，以遮罩材21被覆基材11之一面。遮罩材21上形成有貫通孔21h。接著，從遮罩材21上塗敷(塗佈)透明硬塗層形成用液。藉由該透明硬塗層形成用液之固化，而如圖4(a)所示，於遮罩材21之貫通孔21h內形成透明硬塗層(透明層)13。於遮罩材21上，藉由透明硬塗層形成用液之固化而形成非需要層13b。
接著，如圖4(b)所示，將遮罩材21與非需要層13b一同從基材11剝離並去除。並且，於基材11之形成有透明硬塗層13之側的面上塗敷防眩層形成用液並使其固化，而如圖所示形成防眩層(非透明層)12。然而，此時，當透明硬塗層13表面之凹部深時，有防眩層形成用液殘留在透明硬塗層13表面之凹部內之虞。一旦該殘留之防眩層形成用液固化，便會如圖4(b)所示，於透明硬塗層13表面形成非透明部12d，而有損及透明硬塗層13之透明性之虞。
爰此，本發明目的在於提供一種無損透明層之透明性的光學薄膜之製造方法、光學薄膜、光學構件、影像顯示裝置、光學構件之製造方法及影像顯示裝置之製造方法。
用以解決課題之手段 為了達成前述目的，本發明光學薄膜之製造方法，係製造基材上積層有非透明層之光學薄膜之方法，該製造方法之特徵在於： 前述非透明層具有貫通孔，並且於該貫通孔內形成有透明層； 前述製造方法包含：遮罩材被覆步驟、透明層形成步驟、遮罩材去除步驟及非透明層形成步驟； 於前述遮罩材被覆步驟中，藉由形成有前述透明層形成用貫通孔之遮罩材被覆前述基材之一面； 在前述遮罩材被覆步驟後，於前述透明層形成步驟中，將透明層形成用液塗敷於前述透明層形成用貫通孔內而形成前述透明層； 於前述透明層形成步驟後，於前述遮罩材去除步驟中，從前述基材去除前述遮罩；且 在前述遮罩材去除步驟後，於前述非透明層形成步驟中，將非透明層形成用液塗敷於前述基材之前述透明層形成面上而形成前述非透明層； 前述透明層之最薄層的厚度與在前述透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的最小厚度滿足下述數學式(1)之關係： T2/T1≦3　　　　　　　　(1) 前述數學式(1)中，T1係前述透明層之最薄部的厚度(µm)，T2係在前述透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的最小厚度(µm)。
本發明光學薄膜係藉由前述本發明光學薄膜之製造方法而製造的光學薄膜。
本發明光學構件係包含本發明光學薄膜的光學構件。
本發明影像顯示裝置係包含本發明光學薄膜或本發明光學構件的影像顯示裝置。
本發明光學構件之製造方法係製造前述本發明光學構件之方法，該製造方法包含：藉由前述本發明光學薄膜之製造方法來製造前述本發明光學薄膜的步驟。
本發明影像顯示裝置之製造方法係製造前述本發明影像顯示裝置之方法，該製造方法包含：藉由前述本發明光學薄膜之製造方法來製造前述本發明光學薄膜的步驟。
發明效果 根據本發明，可提供一種無損透明層之透明性的光學薄膜之製造方法、光學薄膜、光學構件、影像顯示裝置、光學構件之製造方法及影像顯示裝置之製造方法。
接下來，舉例進一步具體說明本發明。惟，本發明不受以下說明任何限定。
本發明光學薄膜之製造方法中，例如前述透明層之長徑R1亦可為2.5mm以上。
本發明光學薄膜之製造方法中，例如前述透明層表面之水接觸角亦可為85°以上。
本發明光學薄膜之製造方法中，例如前述透明層中，最薄部的厚度與最厚部的厚度亦可滿足下述數學式(2)之關係。 H1/T1≦3.5　　　　　(2) 前述數學式(2)中，T1係前述透明層之最薄部的厚度(µm)，H1係前述透明層之最厚部的厚度(µm)。
本發明光學薄膜之製造方法中，例如前述透明層在波長550nm下之光透射率亦可為80%以上或81%以上。
本發明光學薄膜之製造方法中，例如前述透明層亦可為透明硬塗層。
本發明光學薄膜之製造方法中，例如前述非透明層在波長550nm下之光透射率亦可小於80%或為79%以下。
本發明光學薄膜之製造方法中，例如前述非透明層亦可為防眩層。
本發明光學薄膜之製造方法中，例如： 前述基材及前述遮罩材為長條狀； 該製造方法亦可一邊輸送前述基材，一邊連續進行前述遮罩材被覆步驟、前述透明層形成步驟、前述遮罩材去除步驟及前述非透明層形成步驟。
本發明光學構件亦可為例如偏光板。
此外，本發明中，「重量」與「質量」只要未特別說明，便定為可彼此相互替換適用。例如，「質量份」可替換適用為「重量份」，「重量份」可替換適用為「質量份」」，「質量%」可替換適用為「重量%」，且「重量%」可替換適用為「質量%」。
[1.光學薄膜之製造方法] 以下，舉例進一步具體說明本發明光學薄膜之製造方法。
[1-1.光學薄膜之製造方法的概要] 於圖1(a)~(d)之步驟截面圖顯示本發明光學薄膜之製造方法之一例。
首先，如圖1(a)所示，準備基材11。基材11例如亦可為樹脂薄膜。接著，如該圖所示，藉由形成有透明層形成用貫通孔21h之遮罩材21被覆基材11之一面(遮罩材被覆步驟)。然後，於遮罩材21上塗敷(塗佈)透明層形成用液。藉此，於透明層形成用貫通孔21h內塗敷透明層形成用液並使其固化，而如圖1(b)所示形成透明層13(透明層形成步驟)。此時，於遮罩材21上，藉由透明層形成用液之固化而形成非需要層13b。然後，如圖1(c)所示，將遮罩材21與非需要層13b一同從基材11剝離並去除(遮罩材去除步驟)。並在之後，於基材11之形成有透明層13之側的面塗敷防眩層形成用液並使其固化，而如圖1(d)所示形成非透明層12(非透明層形成步驟)。依上述方式，可製造圖1(d)所示之本發明光學薄膜10。此外，圖2係圖1(d)所示之本發明光學薄膜10的俯視圖(從上方觀看的圖)。又，圖1(d)中，非透明層12為防眩層，非透明層(防眩層)12係於樹脂層12a中包含有粒子12b而形成，且於樹脂層12a表面形成有凹凸。惟，該等為例示，在本發明中非透明層不受此限。
本發明中，前述「非透明層」係指例如在波長550nm下之光透射率小於80%之層。前述非透明層在波長550nm下之光透射率例如可為79%以下、78%以下、77%以下、76%以下或75%以下，且例如可為1%以上、2%以上、3%以上、4%以上或5%以上。
本發明中，前述非透明層無特別限定，例如如前述可為防眩層，亦可為保護層、光擴散層、表面塗覆層、硬塗層等。前述防眩層例如亦可為防眩性硬塗層。
本發明中，前述「透明層」係指例如在波長550nm下之光透射率為80%以上之層。本發明中，前述透明層在波長550nm下之光透射率例如可為81%以上、82%以上、83%以上、84%以上或85%以上，其上限無特別限定，且例如為100%以下，例如可為99%以下、98%以下、97%以下、96%以下或95%以下。
本發明中，前述透明層無特別限定，例如如前述可為透明硬塗層，亦可為保護層、表面塗覆層、硬塗層等。前述透明層亦可為例如影像顯示裝置之相機孔用透明層，亦可為透鏡等之透明層等。
本發明中，光透射率之測定方法無特別限定，可藉由後述實施例記載之測定方法測定。
又，本發明光學薄膜之製造方法如前述，其特徵在於：前述透明層之最薄部的厚度與在前述透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的最小厚度滿足下述數學式(1)之關係。 T2/T1≦3　　　　　　　　(1) 前述數學式(1)中，T1係前述透明層之最薄部的厚度(µm)，T2係在前述透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的最小厚度(µm)。此外，在前述透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的「最小厚度」係指在前述透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材之最薄部的厚度。
此外，本發明中，「最薄部」係指厚度最小之部分，「最厚部」係指厚度最大之部分。又，本發明中，厚度之測定方法無特別限定，例如可藉由後述實施例記載之測定方法測定。
圖3(a)及(b)之步驟截面圖係顯示本發明光學薄膜之製造方法之一例。圖3(a)係前述遮罩材被覆步驟及前述透明層形成步驟實施後之狀態，其顯示與圖1(b)相同之狀態。如圖所示，該製造方法中，透明層13之最薄部的厚度T1(µm)與在透明層形成用貫通孔21h外周之遮罩材21的最小厚度T2(µm)滿足T2/T1≦3(前述數學式(1))之關係。
前述圖4(a)係T2/T1大於3之例。T2/T1若大於3，如前述，透明層13表面之凹部會變深，因此便會於凹部內形成非透明部12d，而恐損及透明層13之透明性。另一方面，根據本發明，藉由T2/T1為3以下，能解決所述課題，而可提供一種無損透明層之透明性的光學薄膜。此外，本發明中，透明層之透明性的測定方法無特別限定，例如可藉由後述實施例記載之測定方法測定。
又，在本發明光學薄膜之製造方法中，前述遮罩材之厚度無特別限定，例如可為50µm以下、47µm以下、44µm以下、41µm以下或38µm以下，且例如可為2µm以上、5µm以上、8µm以上、11µm以上或14µm以上。例如，由下述[1]~[5]之觀點來看，宜盡可能使用厚度小(薄)之遮罩材。 [1]藉由使用薄遮罩材，可輕易提升遮罩材之開孔(貫通孔形成)的加工精度，藉此可輕易提升透明層端部之尺寸及形狀的精度(均一度)。 [2]藉由使用薄遮罩材，可輕易進行各種形狀之開孔加工。 [3]若遮罩材薄，開孔時便不易發生毛邊，且於與基材貼合時氣泡不易進入。 [4]藉由使用薄遮罩材，可抑制透明層之凹部的深度，因此可抑制透過透明層觀看影像時之變形。 [5]藉由使用薄遮罩材，可防止透明層部分之膜厚變得較預期更厚之情形。
本發明光學薄膜之製造方法中，T2/T1除了滿足前述數學式(1)之關係外，無特別限定。T2/T1的下限值無特別限定，為大於0之數值，例如可為0.7以上、0.8以上、0.9以上、1.0以上、1.1以上、1.2以上、1.3以上、1.4以上或1.5以上。T2/T1的上限值如前述為3以下，例如可為2.9以下、2.8以下、2.7以下、2.6以下或2.5以下。
又，本發明光學薄膜之製造方法如同前述，前述透明層之最薄部的厚度T1(µm)與最厚部的厚度H1(µm)亦可滿足H1/T1≦3.5(前述數學式(2))之關係。於圖3(b)顯示所述例。此外，在圖3(b)中，為了圖式簡潔，非透明層12係以表面呈平坦且不含粒子等之方式予以圖示。
藉由H1/T1為3.5以下，可抑制透明層之凹部的深度，因此可更抑制於透明層之凹部殘留非透明層形成用液而形成非透明部之現象。又，藉由抑制透明層之凹部的深度，可抑制透過透明層觀看影像時之變形。並且，藉由抑制透明層之凹部的深度，例如透明層之耐擦傷性會提高。H1/T1的下限值無特別限定，為1以上，例如可為1.2以上、1.4以上、1.6以上、1.8以上或2.0以上。H1/T1的上限值如前述為3.5以下，例如可為3.4以下、3.3以下、3.2以下、3.1以下或3.0以下。
又，前述透明層之最薄部的厚度無特別限定，例如可為1.0µm以上、1.2µm以上、1.4µm以上、1.6µm以上或1.8µm以上，且例如可為30µm以下、28µm以下、26µm以下、24µm以下或22µm以下。前述透明層之最厚部的厚度無特別限定，例如可為1.0µm以上、1.2µm以上、1.4µm以上、1.6µm以上或1.8µm以上，且例如可為50µm以下、48µm以下、46µm以下、44µm以下或42µm以下。
又，本發明光學薄膜之製造方法中，如前述，前述透明層之長徑R1亦可為2.5mm以上。此外，本發明中，「長徑」係指直徑最長之部分的直徑。例如，若為圓，則直徑為長徑，若為橢圓，則長軸之長度為長徑，若為矩形，則對角線之長度為長徑。前述透明層之直徑愈大，非透明層形成用液愈不易殘留在透明層之凹部內，從而有不易損及透明層之透明性(容易部分透明化)之傾向。藉由不易損及透明層之透明性，可抑制在透過前述透明層觀看影像時之模糊。前述透明層之長徑R1例如可為2.6mm以上、2.7mm以上、2.8mm以上、2.9mm以上或3.0mm以上，且例如可為100mm以下、90mm以下、80mm以下、70mm以下或60mm以下。
又，本發明光學薄膜之製造方法中，如前述，前述透明層表面之水接觸角亦可為85°以上。水接觸角大意指疏水性高。前述透明層表面之疏水性若高，便容易撥除非透明層形成用液，因此非透明層形成用液便不容易附著於前述透明層表面。藉由非透明層形成用液不容易附著，可抑制非透明部對前述透明層表面之形成。因此，可抑制在透過前述透明層觀看影像時之模糊。又，藉由前述透明層容易撥除非透明層形成用液(非透明層形成用液不容易附著)，可使用之非透明層形成用液之種類會變多，而可任意變更非透明層之特性。前述透明層表面之水接觸角例如可為85°以上、86°以上、87°以上、88°以上或89°以上，且例如可為115°以下、114°以下、113°以下、112111°以下或110°以下。此外，本發明中，水接觸角的測定方法無特別限定，例如可藉由後述實施例記載之測定方法測定。
以下，舉例進一步具體說明本發明光學薄膜之製造方法之各步驟。此外，以下主要係針對前述非透明層為防眩層且所製造之本發明光學薄膜為防眩性薄膜之例進行說明。惟，如前述，本發明不受此限。此外，以下有時會將屬防眩性薄膜之本發明光學薄膜稱為「本發明防眩性薄膜」。
[1-2.遮罩材被覆步驟] 首先，藉由形成有前述透明層形成用貫通孔之遮罩材被覆前述基材之一面(遮罩材被覆步驟)。
前述基材無特別限制，例如可為光透射性基材，具體上可舉例如透明塑膠薄膜基材等。前述透明塑膠薄膜基材無特別限制，宜為可見光之光線透射率佳(宜為光線透射率為90%以上)、透明性佳者(宜為霧度值為1%以下者)，可舉例如日本專利特開2008-90263號公報記載之透明塑膠薄膜基材。前述透明塑膠薄膜基材可適宜使用光學上雙折射少者。本發明光學薄膜例如亦可作為保護薄膜來用於偏光板，此時，前述透明塑膠薄膜基材宜為由三醋酸纖維素(TAC)、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物、具有環狀或降莰烯結構之聚烯烴等形成之薄膜。又，本發明中，前述透明塑膠薄膜基材亦可為偏光件本身。若為所述構成，便不需由TAC等構成之保護層而可使偏光板之結構單純化，因此可減少偏光板或影像顯示裝置之製造步驟數，而可力圖提升生產效率。又，若為所述構成，便可將偏光板更薄層化。此外，前述透明塑膠薄膜基材為偏光件時，例如前述非透明層會發揮作為保護層之功能。又，若為所述構成，則本發明光學薄膜例如在裝附於液晶單元表面時，將兼具作為覆蓋板之功能。
本發明中，前述基材之厚度無特別限制，若考量強度、處理性等作業性及薄層性等之觀點，例如為10~500µm、20~300µm或30~200µm之範圍。前述基材之折射率無特別限制。前述折射率例如為1.30~1.80或1.40~1.70之範圍。
此外，本發明中，「折射率」在未特別說明之前提下，意指波長550nm之折射率。又，本發明中，折射率之測定方法無特別限定，在為粒子等微細物質之折射率時，例如可使用貝克法(Becke method)來測定。貝克法係以下測定法：於載玻片上使測定試料分散於標準折射液中並以顯微鏡觀察時，以試料之輪廓消失或模糊時的標準折射液之折射率作為該試料之折射率。又，無法以貝克法測定之測定對象物(例如防眩性薄膜、防眩層或構成防眩層之樹脂等)之折射率的測定方法無特別限定，例如可使用一般之折射計(折射率測定用機器)來測定。前述折射計亦無特別限定，可舉例如阿貝折射計等。前述阿貝折射計可舉例如ATAGO CO., LTD.製之多波長阿貝折射計DR-M2/1550(商品名)。
本發明光學薄膜之製造方法及本發明光學薄膜中，例如前述基材所含樹脂亦可包含有丙烯酸樹脂。又，例如前述基材亦可為丙烯酸薄膜。
前述遮罩材無特別限定，例如可為PET(聚對苯二甲酸乙二酯)薄膜、PE(聚乙烯)薄膜、TAC(三醋酸纖維素)薄膜、COP(環烯烴)薄膜等。關於前述遮罩材之厚度例如如前所述。
以前述遮罩材被覆前述基材之一面時，例如可以黏著劑等貼合前述遮罩材與前述基材之一面。前述黏著劑無特別限定，可舉例如丙烯酸系黏著劑、聚乙烯系黏著劑、聚丙烯系黏著劑、聚烯烴系黏著劑等。在後續之遮罩去除步驟中，必須從前述基材去除前述遮罩材，因此前述黏著劑必須為可將被接著物再剝離者。前述黏著劑之塗佈厚度無特別限定，例如可為1µm以上、2µm以上、3µm以上、4µm以上或5µm以上，且例如可為10µm以下、9µm以下、8µm以下、7µm以下或6µm以下。又，例如亦可不使用黏著劑，而僅將前述遮罩材疊合在前述基材之一面上。
[1-3.透明層形成步驟] 在前述遮罩材被覆步驟後，於前述透明層形成用貫通孔內塗敷透明層形成用液而形成前述透明層(透明層形成步驟)。
透明層形成用液無特別限定，例如亦可與一般透明硬塗層之形成用液相同。前述透明層形成用液例如亦可為溶劑中溶解有可藉由加熱或光照射等而聚合(硬化)之單體者。前述單體無特別限定，可舉例如多官能丙烯酸酯、單官能丙烯酸酯等，可單獨使用1種，亦可併用2種以上。前述單體之含有率無特別限定，例如可為前述透明層形成溶液之固體成分(前述溶劑以外之成分)整體的1質量%以上、2質量%以上、3質量%以上、4質量%以上或5質量%以上，且例如可為60質量%以下、59質量%以下、58質量%以下、57質量%以下或56質量%以下。又，例如亦可使用可藉由加熱或光照射等而聚合(硬化)之任意物質來取代前述單體，或除前述單體外，還可使用可藉由加熱或光照射等而聚合(硬化)之任意物質。前述可藉由加熱或光照射等而聚合(硬化)之物質例如可為胺甲酸酯丙烯酸酯等預聚物。
又，前述透明層形成用液亦可包含有例如抗污材。藉由前述透明層形成用液包含抗污材，非透明層形成用液體便更不容易附著於前述透明層表面，從而可抑制損及前述透明層之透明性。前述抗污劑無特別限定，可舉例如氟系抗污劑、聚矽氧系抗污劑等，具體上可舉例如信越化學工業股份公司製之商品名「KY-1203」，共榮社化學股份公司製之商品名「LE-303」、DIC股份公司製之商品名「PC4100」等。前述抗污劑之含有率無特別限定，例如可為前述透明層形成溶液之固體成分(前述溶劑以外之成分)整體的0.1質量%以上、0.2質量%以上、0.3質量%以上、0.4質量%以上或0.5質量%以上，且例如可為20質量%以下、18質量%以下、16質量%以下、14質量%以下或12質量%以下。
前述溶劑無特別限制，可使用各種溶劑，可單獨使用一種亦可併用二種以上。前述溶劑具體上可列舉例如：甲醇、乙醇、異丙醇(IPA)、丁醇、三級丁醇(TBA)、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；二異丙基醚、丙二醇單甲基醚等醚類；乙二醇、丙二醇等甘醇類；乙賽璐蘇、丁賽璐蘇等賽璐蘇類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類等。又，例如前述溶劑亦可包含有烴溶劑與酮溶劑。前述烴溶劑例如亦可為芳香族烴。前述芳香族烴例如亦可為選自於由甲苯、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、乙苯及苯所構成群組中之至少一者。前述酮溶劑例如亦可為選自於由環戊酮及丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、二乙基酮、環己酮、異佛酮、苯乙酮所構成群組中之至少一者。
前述透明層形成用液之塗敷厚度無特別限定，例如適當設定成使前述透明層之厚度在前述範圍內即可。
又，塗佈於前述遮罩材上並固化之前述透明層形成用液(圖1及3中為非需要層13b)並不需要，之後將會與前述遮罩材一同被去除。因此，於塗敷前述透明層形成用液時，宜調整前述透明層形成用液之吐出位置，以使盡量不將前述透明層形成用液塗敷至前述透明層形成用貫通孔內之外。藉此，可抑制前述透明層形成用液浪費，而可削減前述透明層形成用液之使用量。
在前述透明層形成用液之塗敷後，例如亦可藉由使前述透明層形成用液乾燥及硬化而形成前述透明層。前述乾燥例如可為自然乾燥，可為噴吹風之風乾，可為加熱乾燥，亦可為組合該等之方法。
前述透明層形成用液之乾燥溫度例如亦可為30~200℃之範圍。前述乾燥溫度例如可為40℃以上、50℃以上、60℃以上、70℃以上、80℃以上、90℃以上或100℃以上，且可為190℃以下、180℃以下、170℃以下、160℃以下、150℃以下、140℃以下、135℃以下、130℃以下、120℃以下或110℃以下。乾燥時間無特別限定，例如可為30秒以上、40秒以上、50秒以上或60秒以上，且可為150秒以下、130秒以下、110秒以下或90秒以下。
藉由前述透明層形成用液之乾燥所形成之塗膜的硬化手段無特別限制，惟宜為紫外線硬化。能量線源的照射量以在紫外線波長365nm下之累積曝光量計宜為50~500mJ/cm 2。照射量若為50mJ/cm 2以上，硬化便容易充分進行，而所形成之透明層的硬度容易變高。又，若為500mJ/cm 2以下，便可防止所形成之透明層的著色。
[1-4.遮罩材去除步驟] 在前述透明層形成步驟後，從前述基材去除前述遮罩材(遮罩材去除步驟)。該方法無特別限定，例如可將前述遮罩材從前述基材剝離，藉此從前述基材去除即可。
[1-5.非透明層形成步驟] 在前述遮罩材去除步驟後，於前述基材之前述透明層形成面上塗敷非透明層形成用液，形成前述非透明層(非透明層形成步驟)。以下，主要針對前述非透明層為防眩層之情況進行說明，惟如前述，本發明中前述非透明層不僅限於防眩層，而為任意。
前述非透明層形成步驟例如亦可包含有：塗敷步驟，其係將非透明層形成用液(塗敷液)塗敷於前述基材之前述透明層形成面上；與塗膜形成步驟，其係使已塗敷之前述塗敷液乾燥而形成塗膜。又，前述非透明層形成步驟例如亦可更包含有使前述塗膜硬化之硬化步驟。前述硬化例如可在前述乾燥後進行，但不限於此。前述硬化可藉由例如加熱、光照射等來進行。前述光無特別限定，例如亦可為紫外線等。前述光照射之光源亦無特別限定，例如可為高壓水銀燈等。
前述非透明層形成用液例如亦可包含有非透明層形成用樹脂與溶劑。前述非透明層形成用液例如亦可為包含前述非透明層形成用樹脂、填料、觸變性賦予劑及前述溶劑之非透明層形成用液。
前述非透明層層形成用樹脂(以下有時僅稱為「樹脂」)無特別限定，例如可僅使用1種樹脂，亦可併用2種以上樹脂。前述樹脂例如可包含有丙烯酸酯樹脂(亦稱丙烯酸樹脂)，又例如亦可包含有胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂。前述樹脂亦可為例如硬化型胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂及多官能丙烯酸酯之共聚物。
前述樹脂不限於前述丙烯酸酯樹脂等，可舉例如熱硬化性樹脂、可藉由紫外線或光而硬化之游離輻射線硬化性樹脂。前述樹脂亦可使用市售之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。
前述熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂例如可使用可藉由熱、光(紫外線等)或電子束等硬化之具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的硬化型化合物，可列舉例如聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等寡聚物或預聚物等。該等可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
作為前述樹脂亦可使用例如具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的反應性稀釋劑。前述反應性稀釋劑例如可使用日本專利特開2008-88309號公報記載之反應性稀釋劑，例如包含單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。前述反應性稀釋劑宜為3官能以上丙烯酸酯、3官能以上甲基丙烯酸酯。其係因可使非透明層之硬度優異。前述反應性稀釋劑還可舉例如丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸的丙烯酸酯、異三聚氰酸的甲基丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
前述樹脂之折射率無特別限定，例如可為1.48以上、1.49以上、1.50以上或1.51以上，且例如可為1.60以下、1.59以下、1.58以下或1.57以下。
前述填料例如可為無機粒子或有機粒子，可單獨使用1種亦可併用2種以上。前述無機粒子可舉例如由矽膠、聚矽氧、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋅、碳酸鈣粒子等所形成之粒子。前述有機粒子可舉例如由樹脂所形成之粒子，前述樹脂可列舉例如：Pst(聚苯乙烯)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、Pst(聚苯乙烯)與PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)之共聚物、聚矽氧樹脂、聚碳酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂、聚酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚氟乙烯樹脂等。前述粒子之粒徑、折射率等無特別限定，例如可與一般之防眩層相同或依循其。
又，前述非透明層形成用液可包含有觸變性賦予劑或不包含有觸變性賦予劑，但包含觸變性賦予劑較易展現觸變性故為佳。又，藉由前述非透明層形成用液包含前述觸變性賦予劑，可獲得防止前述粒子沉降之效果(觸變性效果)。並且，藉由前述觸變性賦予劑本身的剪切凝集，亦可更廣泛地自由控制防眩層(非透明層)的表面形狀。
前述溶劑無特別限制，可使用各種溶劑，可單獨使用一種亦可併用二種以上。因應前述樹脂之組成、前述粒子及前述觸變性賦予劑之種類、含量等，為了獲得本發明防眩性薄膜亦可適當選擇最佳之溶劑種類或溶劑比率。溶劑無特別限定，可列舉例如：甲醇、乙醇、異丙醇(IPA)、丁醇、三級丁醇(TBA)、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；二異丙基醚、丙二醇單甲基醚等醚類；乙二醇、丙二醇等甘醇類；乙賽璐蘇、丁賽璐蘇等賽璐蘇類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類等。又，例如前述溶劑亦可包含有烴溶劑與酮溶劑。前述烴溶劑例如亦可為芳香族烴。前述芳香族烴例如亦可為選自於由甲苯、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、乙苯及苯所構成群組中之至少一者。前述酮溶劑例如亦可為選自於由環戊酮及丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、二乙基酮、環己酮、異佛酮、苯乙酮所構成群組中之至少一者。前述溶劑例如為了使觸變性賦予劑(例如增稠劑)溶解，宜包含前述烴溶劑(例如甲苯)。前述溶劑例如亦可為以90：10~10：90之質量比混合有前述烴溶劑與前述酮溶劑之溶劑。前述烴溶劑與前述酮溶劑之質量比例如亦可為80：20~20：80、70：30~30：70或40：60~60：40等。此時，例如前述烴溶劑為甲苯，而前述酮溶劑亦可為甲基乙基酮。又，前述溶劑例如包含甲苯的同時，更可包含有選自於由乙酸乙酯、乙酸丁酯、IPA、甲基異丁基酮、甲基乙基酮、甲醇、乙醇及TBA所構成群組中之至少一者。
例如採用丙烯酸薄膜作為基材時，可適宜使用對丙烯酸薄膜(丙烯酸樹脂)為良溶劑者。該溶劑例如可為包含烴溶劑與酮溶劑之溶劑。前述烴溶劑例如亦可為芳香族烴。前述芳香族烴例如亦可為選自於由甲苯、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、乙苯及苯所構成群組中之至少一者。前述酮溶劑例如亦可為選自於由環戊酮、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、二乙基酮、環己酮、異佛酮及苯乙酮所構成群組中之至少一者。前述溶劑例如亦可為以90：10~10：90之質量比混合有前述烴溶劑與前述酮溶劑之溶劑。前述烴溶劑與前述酮溶劑之質量比例如亦可為80：20~20：80、70：30~30：70或40：60~60：40等。此時，例如前述烴溶劑為甲苯，而前述酮溶劑亦可為甲基乙基酮。
例如採用三醋酸纖維素(TAC)作為基材時，可適宜使用對TAC為良溶劑者。該溶劑可舉例如乙酸乙酯、甲基乙基酮、環戊酮等。
又，藉由適當選擇溶劑，可在含有觸變性賦予劑時使其良好展現對防眩層形成材料(非透明層形成用液)的觸變性。例如使用有機黏土時，可適宜單獨使用或併用甲苯及二甲苯；例如使用氧化聚烯烴時，可適宜單獨使用或併用甲基乙基酮、乙酸乙酯、丙二醇單甲基醚；例如使用改質脲時，可適宜單獨使用或併用乙酸丁酯及甲基異丁基酮。
前述非透明層形成用液中可添加各種調平劑。前述調平劑可為了防止塗敷不均(塗敷面均勻化)而使用例如氟系或聚矽氧系調平劑。在本發明中，可因應對非透明層(例如防眩層)表面要求抗污性之情況、或如後述於非透明層上形成抗反射層(低折射率層)或含層間充填劑之層之情況等，適當選定調平劑。本發明中，例如可藉由包含前述觸變性賦予劑來使非透明層形成用液展現觸變性，因此不易發生塗敷不均。此時，例如具有可擴大前述調平劑之選項的優點。
相對於前述樹脂100重量份，前述調平劑之摻混量例如為5重量份以下、宜為0.01~5重量份之範圍。
前述非透明層形成用液中亦可因應需要在無損性能之範圍內添加顏料、充填劑、分散劑、塑化劑、紫外線吸收劑、界面活性劑、抗污劑、抗氧化劑等。該等添加劑可單獨使用一種，亦可併用二種以上。
前述非透明層形成用液中亦可使用例如日本專利特開2008-88309號公報記載之以往公知的光聚合引發劑。
將前述非透明層形成用液塗敷於前述基材上來形成塗膜之方法可使用例如噴注式塗佈法、模塗法、旋塗法、噴塗法、凹版塗佈法、輥塗法、棒塗法等塗敷法。
接著，如前述使前述塗膜乾燥及硬化，而形成非透明層(例如防眩層)。前述乾燥例如可為自然乾燥，可為噴吹風之風乾，可為加熱乾燥，亦可為組合該等之方法。
前述非透明層形成用液之乾燥溫度例如亦可為30~200℃之範圍。前述乾燥溫度例如可為40℃以上、50℃以上、60℃以上、70℃以上、80℃以上、90℃以上或100℃以上，且可為190℃以下、180℃以下、170℃以下、160℃以下、150℃以下、140℃以下、135℃以下、130℃以下、120℃以下或110℃以下。乾燥時間無特別限定，例如可為30秒以上、40秒以上、50秒以上或60秒以上，且可為150秒以下、130秒以下、110秒以下或90秒以下。
前述塗膜之硬化手段無特別限制，惟宜為紫外線硬化。能量線源的照射量以在紫外線波長365nm下之累積曝光量計宜為50~500mJ/cm 2。照射量若為50mJ/cm 2以上，硬化便容易充分進行，而所形成之非透明層的硬度容易變高。又，若為500mJ/cm 2以下，便可防止所形成之非透明層的著色。
[1-6.連續製法等] 本發明光學薄膜之製造方法可採連續製法。即，本發明光學薄膜之製造方法亦可為下述製造方法：如前述，前述基材及前述遮罩材為長條狀；該製造方法係一邊輸送前述基材，一邊連續進行前述遮罩材被覆步驟、前述透明層形成步驟、前述遮罩材去除步驟及前述非透明層形成步驟。更具體而言，例如前述長條狀基材及前述長條狀遮罩材各為捲狀，且亦可一邊從捲材釋出前述基材及前述遮罩材一邊實施本發明光學薄膜之製造方法。上述方法有時稱為例如捲對捲法。
前述遮罩材被覆步驟中，例如亦可一邊從捲材釋出在寬度方向及捲材行進方向上分別開有複數個孔之遮罩材，一邊貼合於基材捲材原板上。
前述透明層形成步驟中，亦可一邊輸送貼合有前述遮罩材(經以前述遮罩材被覆)之前述基材，一邊將透明層形成用液塗敷於前述遮罩材之前述透明層形成用貫通孔內而形成前述透明層。此時，如前述，塗佈於前述遮罩材上並固化之前述透明層形成用液(圖1及3中為非需要層13b)並不需要，之後將會與前述遮罩材一同被去除。因此，於塗敷前述透明層形成用液時，宜調整前述透明層形成用液之液吐出部之位置，以使盡量不將前述透明層形成用液塗敷至前述透明層形成用貫通孔內之外。藉此，可抑制前述透明層形成用液浪費，而可削減前述透明層形成用液之使用量。
前述遮罩材去除步驟及前述非透明層形成步驟亦可一邊輸送前述基材一邊連續進行。依上述方式，可將前述遮罩材被覆步驟、前述透明層形成步驟、前述遮罩材去除步驟及前述非透明層形成步驟全部一次連續進行，而製造出於基材上形成有前述透明層及前述非透明層之長條狀薄膜。藉由將該長條狀薄膜裁切成目標之尺寸，可製造出複數片目標之本發明光學薄膜。如所述，例如藉由在本發明光學薄膜之製造方法中使用捲對捲法，可有效率且低成本地製造本發明光學薄膜。
依以上方式實施本發明光學薄膜之製造方法，可製造本發明光學薄膜。惟，本發明光學薄膜之製造方法不受此限。例如，本發明光學薄膜之製造方法可適當包含有或可不包含有前述遮罩材被覆步驟、前述透明層形成步驟、前述遮罩材去除步驟及前述非透明層形成步驟以外之步驟。例如，可於非透明層上形成其他層，亦可不形成其他層。前述其他層無特別限定，例如亦可為低折射率層、抗反射層、高折射率層、硬塗層、黏著劑層等。前述其他層之形成方法亦無特別限定，例如可以與一般的低折射率層、抗反射層、高折射率層、硬塗層、黏著劑層等形成方法相同或依循其之方法來進行。
根據本發明光學薄膜之製造方法，例如亦可不使用非液態之防眩層形成材料，而與一般防眩性薄膜之製造方法同樣地使用塗敷液(非透明層形成用液)來形成防眩層(非透明層)。因此，本發明光學薄膜中例如可應用與一般防眩性薄膜相同之防眩層(非透明層)，藉此可實現與一般防眩性薄膜相同之外觀。在使用非液態之防眩層形成材料來形成防眩層時，有無法充分實現畫面顯示之黑度(純黑)而有白暈之虞。但根據本發明光學薄膜之製造方法，可使用液態之防眩層形成材料(非透明層形成用液)來形成防眩層(非透明層)，因此可解決所述問題。又，本發明光學薄膜之製造方法中，非透明層形成用液無特別限定，故可對應任何光學特性之防眩層及防眩性薄膜。
[2.光學薄膜、光學構件及影像顯示裝置] 本發明光學薄膜無特別限定，例如可為防眩性薄膜，亦可為保護薄膜、光擴散薄膜、硬塗層薄膜等。前述防眩性薄膜例如亦可為防眩性硬塗薄膜。
本發明光學薄膜中，前述透明層無特別限定，例如如前述可為透明硬塗層，亦可為保護層、表面塗覆層、硬塗層等。前述透明層亦可為例如影像顯示裝置之相機孔用透明層，亦可為透鏡等之透明層等。前述非透明層例如如前述可為防眩層，亦可為保護層、光擴散層、表面塗覆層、硬塗層等。前述防眩層例如亦可為防眩性硬塗層。
本發明光學構件無特別限定，例如亦可為偏光板。前述偏光板亦無特別限定，例如可包含有本發明防眩性薄膜及偏光件，並可更含有其他構成要素。前述偏光板之各構成要素例如亦可藉由接著劑或黏著劑等來貼合。
本發明影像顯示裝置亦無特別限定，可為任意影像顯示裝置，可舉例如液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置、電漿顯示裝置等。
本發明影像顯示裝置之構成無特別限定，例如亦可為與一般影像顯示裝置相同之構成。例如為LCD時，可藉由將液晶單元、偏光板等光學構件及因應需求的照明系統(背光件等)等各構成零件適當組裝後再組入驅動電路等來製造。
本發明影像顯示裝置之用途無特別限定，可用於任意用途上。其用途可列舉例如：電腦螢幕、筆記型電腦、輸入板、智慧型手機、複印機等OA機器、行動電話、時鐘、數位相機、攜帶型資訊終端機(PDA)、可攜式遊戲機等攜帶型機器、視訊攝影機、電視、微波爐等家庭用電氣機器、後照監視器、汽車導航系統用監測器、汽車音響等車載用機器、商業店鋪用資訊導覽用螢幕等展示機器、監視用螢幕等警報機器、看護用監測器、醫療用監測器等看護醫療機器、智慧型手機、VR機器等。本發明影像顯示裝置亦可為例如具有相機功能之影像顯示裝置。此時，例如如前述，本發明光學薄膜中之前述透明層亦可為影像顯示裝置之相機孔用透明層。根據本發明，如前述，可提供無損透明層之透明性的光學薄膜，因此例如可提供無損相機影像畫質的影像顯示裝置。
實施例 接下來，針對本發明實施例與比較例一同進行說明。惟，本發明不受以下實施例及比較例限制。
此外，以下實施例及比較例中，物質的份數在未特別說明之前提下，即為質量份(重量份)。
[測定方法(光透射率)] 關於以下實施例及比較例，光透射率係以下述方式測定。使用顯微分光系統(商品名名LvmicroZ2，LambdaVision公司製)，使用5倍的物鏡及100µm徑之針孔單元，在氣溫23度、濕度50%之測定條件下測定在波長550nm下之光透射率。
[測定方法(厚度)] 關於以下實施例及比較例，厚度(膜厚)係使用三維表面粗度測定器(股份公司小坂研究所)在溫度23℃、濕度30%RH之氣體環境下測定。此外，該測定器係觸針式測定器，可藉由用針描繪測定用試樣表面來測定膜厚及高低差。在測定透明層(在以下實施例及比較例中為透明硬塗層；以下有時稱作「透明HC」或「HC」)之厚度時，係將透明層形成步驟及遮罩材去除步驟後且非透明層(在以下實施例及比較例中為防眩層；以下有時稱為「AG」)形成步驟前的測定用試樣貼附於玻璃，並於此狀態下進行測定。具體而言，係從基材剝離(去除)遮罩材後，從基材部分描繪HC部分，並測定基材表面與透明HC部分之膜厚差。此外，針對完成品之光學薄膜(在以下實施例及比較例中為防眩性薄膜)測定HC厚度時，可利用SEM(Scanning Electron Microscope，掃描型電子顯微鏡)觀察光學薄膜之截面，以相同方式測定HC厚度，並可測定基材及AG之厚度。又，關於以下實施例及比較例，使用前述測定器之測定條件如下述。 測定速度：500µm/秒 觸針前端R：0.5µmR 測定壓力：100µN
[測定方法(水接觸角)] 關於以下實施例及比較例，HC之水接觸角係以下述方式測定。即，首先，使用水接觸角測定裝置(商品名「DM700」，協和界面化學公司製)，利用液滴法在溫度23℃、濕度30%RH之氣體環境下，對透明HC中心部滴下約2.8µL之水滴。然後，測定從滴下後1秒後之被黏著體表面與滴下水滴端部之切線構成之角度，作為「水接觸角(°)」。
[測定方法(透明性)] 關於以下實施例及比較例，HC之透明性(透明度)係以下述方式測定並評估。亦即，使用雷射顯微鏡(商品名「VK-X1000/1100」，KEYENCE公司製)，在溫度23℃、濕度30%RH之氣體環境下觀察測定用試樣，評估透明性(透明度)。前述測定用試樣係使用非透明層形成步驟後之防眩性薄膜。前述測定用試樣之觀察係使用5倍放大鏡進行，將於HC部分完全沒有500µm以上大小之AG硬化物(非透明部)者評估為○，將觀察有1個以上500µm以上且1mm以下之AG硬化物者評估為△，將觀察有1mm以上大小之AG硬化物者評估為×。
[實施例1] 依以下方式實施本發明光學薄膜之製造方法，而製造本發明光學薄膜。
[1.遮罩材被覆步驟] 於TAC基材(商品名「KC8UA」，Konica Minolta股份公司製，厚度80µm)之一面貼附形成有透明層形成用貫通孔(圓形，直徑2.5mm)之遮罩材(PET薄膜，厚度9µm)。該遮罩材係於厚度4µm PET薄膜之一面形成有厚度5µm之黏著劑層的遮罩材。該遮罩材之厚度(9µm)係PET薄膜與黏著劑層之合計厚度。此外，該遮罩材之厚度均一，因此在透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的最小厚度T2(µm)等於前述遮罩材整體之厚度(9µm)。當必須測定前述遮罩材的最小厚度T2(µm)時，可利用前述三維表面粗度測定器或SEM等來測定。
[2.透明層形成步驟] 準備下述成分(1)~(4)並全部混合而調製出透明層形成用液。該透明層形成用液之固體成分濃度(下述溶劑(4)以外之成分的含有率)為50質量%。 (1)添加有奈米二氧化矽之多官能丙烯酸酯(商品名「NC035」，荒川化學工業股份公司製)67質量份 (2)多官能丙烯酸酯(商品名「Binder A」，荒川化學工業股份公司製)33質量份 (3)抗污劑(商品名「KY-1203」，信越化學工業股份公司製)2質量份 (4)稀釋溶劑：乙酸丁酯
於前述「1.遮罩材被覆步驟」後之TAC基材之被遮罩材(PET薄膜)被覆之側的面，塗敷混合有前述成分(1)~(4)全部而成之前述透明層形成用液，然後以60℃之烘箱乾燥60秒鐘而形成塗膜。並且之後，以高壓水銀燈對前述塗膜以累積照射光量為300mJ/cm 2之方式照射波長365nm之紫外線，使前述塗膜硬化。藉此使前述透明層形成用貫通孔內之前述塗膜硬化而形成透明層(HC)。此外，利用前述測定方法測定該HC層之中心部(最薄部)的厚度，得7µm。
[3.遮罩材去除步驟] 於前述「2.透明層形成步驟」後，將前述遮罩材(PET薄膜)與形成於其上之非需要層(前述透明層形成用液之乾燥塗膜硬化而成者)一同剝離，從前述TAC基材去除。
[4.非透明層形成步驟] 準備下述成分(11)~(17)並全部混合而調製出非透明層形成用液。該非透明層形成用液之固體成分濃度(下述溶劑(17)以外之成分的含有率)為45質量%。 (11)添加有奈米二氧化矽之多官能丙烯酸酯(商品名「NC035」，荒川化學工業股份公司製)67質量份 (12)多官能丙烯酸酯(商品名「Binder A」，荒川化學工業股份公司製)33質量份 (13)聚甲基丙烯酸甲酯粒子(商品名「Techpolymer」，平均粒徑3µm，折射率1.525，積水化成品工業公司製)10質量份 (14)觸變性賦予劑(商品名「LOOSENTIGHT SAN」，有機黏土的合成膨潤石，Co-op Chemical Co., Ltd.製)1.5質量份 (15)光聚合引發劑(商品名「OMNIRAD907」，BASF公司製)3質量份 (16)調平劑(商品名「LE303」，共榮社化學公司製)0.15質量份 (17)稀釋溶劑：甲苯
於前述「3.遮罩材去除步驟」後之前述TAC基材之形成有透明層(HC)之側的面，塗敷混合有前述成分(11)~(17)全部而成之前述非透明層形成用液，然後以60℃之烘箱乾燥60秒鐘而形成塗膜。並且之後，以高壓水銀燈對前述塗膜以累積照射光量為300mJ/cm 2之方式照射波長365nm之紫外線，使前述塗膜硬化。藉此使前述塗膜硬化而形成非透明層(AG)。此外，測定該非透明層(AG)之總霧度值，得40%。
[實施例2~14、比較例1~4] 除了如下表1~3變更製造條件外，依與實施例1相同方式製出防眩性薄膜(本發明光學薄膜)。
下述表1~3中，基材皆為與實施例1相同之TAC基材(厚度80µm)，而「KC8UA」如前述，為Konica Minolta股份公司之商品名。
下述表1~3中，「HC抗污劑」意指透明層(HC)形成用液中之抗污劑。下述表1~3中之抗污劑之「KY-1203」如前述為信越化學工業股份公司之商品名，「LE-303」為協榮社化學股份公司之商品名。實施例2~14及比較例1~4之透明層形成用液之組成中，抗污劑方面除了使用表中之抗污劑來取代實施例1之「KY-1203」外，其餘與實施例1相同。
下述表1~3中，「AG液」意指非透明層(AG)形成用液。下述表1~3中之「有二氧化矽」意指有使用與實施例1相同組成之非透明層形成用液。「無二氧化矽」係指除了使用成分(12)多官能丙烯酸酯100質量份來取代實施例1之成分(11)添加有奈米二氧化矽之多官能丙烯酸酯67質量份及成分(12)多官能丙烯酸酯33質量份(亦即，不使用成分(11)而變更成該質量之成分(12))外，其餘係使用與實施例1相同組成之非透明層形成用液。
在下述表1~3中，「遮罩材厚度(T2)」意指各實施例及比較例中使用之遮罩材(PET薄膜)之厚度T2(µm)。此外，各實施例及比較例中使用之遮罩材皆為厚度在整體上均一。因此，將遮罩材整體之厚度視為與在透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的最小厚度T2(µm)相等。
下述表1~3中，「HC中心膜厚(T1)」係指藉由前述測定方法測定之透明層(HC)中心部(最薄部)的厚度T1(µm)。
下述表1~3中，「HC水接觸角」表示藉由前述測定方法測定之透明層(HC)的水接觸角。
下述表1~3中，「HC形狀」表示透明層(HC)之形狀及尺寸。該形狀及尺寸幾乎等於形成於遮罩上之透明層形成用貫通孔的形狀及尺寸。「○」表示透明層為圓形。「□」表示透明層為正方形。「△」表示透明層為正三角形。「直徑」及數值係表示透明層之長徑R1(mm)。「邊」及數值表示透明層之1邊的長度(mm)。此外，正三角形的1邊長度等於長徑。
下述表1~3中，「HC透明性評估」表示藉由前述測定方法測定及評估後之透明層(HC)之透明性(透明度)的評估結果。又，「透明部透射率」表示藉由前述測定方法測定之透明層(HC)的光透射率。
[表1]
Figure 02_image001
[表2]
Figure 02_image003
[表3]
Figure 02_image005
如前述表1~3所示，實施例1~14之在前述透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的最小厚度T2(µm)與前述透明層之最薄部的厚度T1(µm)之比值T2/T1皆為3以下。結果，實施例1~14之前述透明層(HC)之透明性(透明度)的評估結果皆為○或△，可確認透明性未受損害。相對於此，比較例1~4之T2/T1皆大於3。結果，比較例1~4之前述透明層(HC)之透明性(透明度)的評估結果皆為×，而透明性有受損害。
產業上之可利用性 以上，如同以上說明，根據本發明可提供一種無損透明層之透明性的光學薄膜之製造方法、光學薄膜、光學構件、影像顯示裝置、光學構件之製造方法及影像顯示裝置之製造方法。本發明例如適用於具有相機孔之影像顯示裝置用之用途，例如可提供無損相機影像畫質的影像顯示裝置。惟，本發明不受限於此用途，可應用在廣泛用途上。
本申請案係主張立基於2020年11月30日提申之日本申請案特願2020-199185之優先權，並將全部揭示內容納入於此。
10:光學薄膜 11:基材 12:非透明層 12a:樹脂層 12b:粒子 12d:非透明部 13:透明層 13b:非需要層 21:遮罩材 21h:透明層形成用貫通孔 H1:透明層之最厚部的厚度 T1:透明層之最薄部的厚度 T2:在透明層形成用貫通孔外周之遮罩材的最小厚度
圖1係顯示本發明光學薄膜及其製造方法之一例的步驟截面圖。 圖2係藉由圖1之製造方法製出之本發明光學薄膜的俯視圖。 圖3係顯示本發明光學薄膜之製造方法之一例的另一步驟截面圖。 圖4係顯示與本發明相關之光學薄膜之製造方法之一例的步驟截面圖。
10:光學薄膜
11:基材
12:非透明層
13:透明層
13b:非需要層
21:遮罩材
21h:透明層形成用貫通孔
H1:透明層之最厚部的厚度
T1:透明層之最薄部的厚度
T2:在透明層形成用貫通孔外周之遮罩材的最小厚度

Claims (15)

  1. 一種光學薄膜之製造方法，係製造基材上積層有非透明層之光學薄膜之方法，該製造方法之特徵在於： 前述非透明層具有貫通孔，並且於該貫通孔內形成有透明層； 前述製造方法包含：遮罩材被覆步驟、透明層形成步驟、遮罩材去除步驟及非透明層形成步驟； 於前述遮罩材被覆步驟中，藉由形成有前述透明層形成用貫通孔之遮罩材被覆前述基材之一面； 在前述遮罩材被覆步驟後，於前述透明層形成步驟中，將透明層形成用液塗敷於前述透明層形成用貫通孔內而形成前述透明層； 在前述透明層形成步驟後，於前述遮罩材去除步驟中，從前述基材去除前述遮罩材；且 在前述遮罩材去除步驟後，於前述非透明層形成步驟中，將非透明層形成用液塗敷於前述基材之前述透明層形成面上而形成前述非透明層； 前述透明層之最薄部的厚度與在前述透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的最小厚度滿足下述數學式(1)之關係： T2/T1≦3　　　　　　　　(1) 前述數學式(1)中，T1係前述透明層之最薄部的厚度(µm)，T2係在前述透明層形成用貫通孔外周之前述遮罩材的最小厚度(µm)。
  2. 如請求項1之光學薄膜之製造方法，其中前述透明層之長徑R1為2.5mm以上。
  3. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述透明層表面之水接觸角為85°以上。
  4. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述透明層中，最薄部的厚度與最厚部的厚度滿足下述數學式(2)之關係： H1/T1≦3.5　　　　　(2) 前述數學式(2)中，T1係前述透明層之最薄部的厚度(µm)，H1係前述透明層之最厚部的厚度(µm)。
  5. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述透明層在波長550nm下之光透射率為80%以上。
  6. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述透明層為透明硬塗層。
  7. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述非透明層在波長550nm下之光透射率小於80%。
  8. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述非透明層為防眩層。
  9. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述基材及前述遮罩材為長條狀； 該製造方法係一邊輸送前述基材，一邊連續進行前述遮罩材被覆步驟、前述透明層形成步驟、前述遮罩材去除步驟及前述非透明層形成步驟。
  10. 一種光學薄膜，係藉由如請求項1至9中任一項之製造方法製造。
  11. 一種光學構件，包含如請求項10之光學薄膜。
  12. 如請求項11之光學構件，其係偏光板。
  13. 一種影像顯示裝置，包含如請求項10之光學薄膜、或是如請求項11或12之光學構件。
  14. 一種光學構件之製造方法，係製造如請求項11或12之光學構件之方法，該製造方法包含藉由如請求項1至9中任一項之製造方法來製造如請求項10之光學薄膜的步驟。
  15. 一種影像顯示裝置之製造方法，係製造如請求項13之影像顯示裝置之方法，該製造方法包含藉由如請求項1至9中任一項之製造方法來製造如請求項10之光學薄膜的步驟。
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