TW202248028A - 硬塗薄膜、光學構件及影像顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之目的在於提供一種硬度高、捲曲受到抑制且視辨側表面與其他層之密著性高的硬塗薄膜、光學構件及影像顯示裝置。 為了達成前述目的，本發明之硬塗薄膜100a及100b之特徵在於：其包含基材110、第1硬塗層101、第2硬塗層102及第3硬塗層103，且係從視辨側起依序積層第1硬塗層101、第2硬塗層102、基材及第3硬塗層103；第1硬塗層101及第2硬塗層102分別含有奈米二氧化矽粒子，第1硬塗層101中所含奈米二氧化矽粒子101P之重量平均粒徑大於第2硬塗層102中所含奈米二氧化矽粒子102P之重量平均粒徑。

Description

硬塗薄膜、光學構件及影像顯示裝置

發明領域 本發明是有關於硬塗薄膜、光學構件及影像顯示裝置。

背景技術 硬塗薄膜是在薄膜表面設置硬塗層而提高耐擦傷性等的薄膜，並且廣泛運用在影像顯示裝置中(專利文獻1等)。

先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開2008-221746號公報

發明概要 發明欲解決之課題 然而，若提高硬塗層之硬度，便會有因硬化收縮而於硬塗薄膜引起捲曲之虞。另一方面，若減低硬化收縮，則會有硬塗層之硬度降低之虞。即，硬塗薄膜中，會有硬度與捲曲之抑制必須權衡的問題。

又，於硬塗層之視辨側表面有時會進一步地積層防反射層等其他層。然而，若提高硬塗層表面之硬度，便會有視辨側表面與其他層之密著性降低之虞。

故，本發明之目的在於提供一種硬度高、捲曲受到抑制且視辨側表面與其他層之密著性高的硬塗薄膜、光學構件及影像顯示裝置。

用以解決課題之手段 為了達成前述目的，本發明之硬塗薄膜之特徵在於：其包含基材、第1硬塗層、第2硬塗層及第3硬塗層，且係從視辨側起依序積層前述第1硬塗層、前述第2硬塗層、前述基材及前述第3硬塗層；前述第1硬塗層及前述第2硬塗層分別含有奈米二氧化矽粒子，前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑大於前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑。

本發明之光學構件係包含本發明之硬塗薄膜的光學構件。

本發明之影像顯示裝置係包含本發明之硬塗薄膜或本發明之光學構件的影像顯示裝置。

發明效果 依據本發明，可提供一種硬度高、捲曲受到抑制且視辨側表面與其他層之密著性高的硬塗薄膜、光學構件及影像顯示裝置。

用以實施發明之形態 接著，舉例進一步具體說明本發明。不過，本發明並未因以下說明而有任何限制。

本發明之硬塗薄膜例如前述第3硬塗層亦可不含奈米二氧化矽粒子。

本發明之硬塗薄膜例如前述第3硬塗層之厚度亦可小於前述第1硬塗層之厚度與前述第2硬塗層之厚度的合計厚度。

本發明之硬塗薄膜例如前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑可為30~50nm，且前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑可為5~30nm。

本發明之硬塗薄膜例如前述硬塗薄膜整體於波長550nm下的透光率可為90%以上。

本發明之光學構件例如可為偏光板。

另，本發明中，只要未特別事先聲明，「重量」與「質量」設為可相互替代適用。例如，「質量份」可替代適用成「重量份」，「重量份」可替代適用成「質量份」，「質量%」可替代適用成「重量%」，「重量%」可替代適用成「質量%」。

[1.硬塗薄膜] 本發明之硬塗薄膜如前所述，前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑大於前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑。即，前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑與前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑滿足下述式(1)之關係。

Ra＞Rb      (1) 前述式(1)中，Ra為前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑[nm]。Rb為前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑[nm]。

於圖1(a)之截面圖中，顯示本發明之硬塗薄膜構造之一例。如圖示，該硬塗薄膜100a包含基材110、第1硬塗層101、第2硬塗層102及第3硬塗層103。又，如圖示，係從視辨側起依序積層有第1硬塗層101、第2硬塗層102、基材110及第3硬塗層103。換言之，於基材110之一面(視辨側的面)上，依序積層有第2硬塗層102與第1硬塗層101，且於基材110之另一面(視辨背面側的面)上積層有第3硬塗層103。第1硬塗層101含有奈米二氧化矽粒子101P。第2硬塗層102含有奈米二氧化矽粒子102P。又，第1硬塗層101中所含奈米二氧化矽粒子101P之重量平均粒徑(前述數學式(1)之Ra)會大於第2硬塗層102中所含奈米二氧化矽粒子102P之重量平均粒徑(前述數學式(1)之Rb)。

又，於圖1(b)之截面圖中，顯示本發明之硬塗薄膜構造之另一例。如圖示，該硬塗薄膜100b除了第3硬塗層103含有奈米二氧化矽粒子103P外，與圖1(a)之硬塗薄膜100a相同。

本發明之硬塗薄膜如前所述，硬度高且捲曲受到抑制。具體而言，例如於基材兩側積層有硬塗層，藉此可使捲曲受到抑制，再者，於表面側(視辨側)積層有前述第1硬塗層及前述第2硬塗層，藉此可使硬度高。因此，本發明之硬塗薄膜不僅可使用作為例如偏光板之構件，亦可使用作為前面板。

本發明之硬塗薄膜例如可使用作為透明薄膜或防眩性薄膜(亦稱作AG薄膜)。舉例言之，為了用作防眩性薄膜，只要令視辨側最表層(例如前述第1硬塗層)具防眩性(AG性)即可。

又，本發明之硬塗薄膜亦可包含前述基材、前述第1硬塗層、前述第2硬塗層及前述第3硬塗層以外的其他層，亦可不包含。例如，前述基材、前述第1硬塗層、前述第2硬塗層及前述第3硬塗層可分別直接積層，亦可透過黏接著層等其他層來積層。又例如，前述第1硬塗層及前述第3硬塗層可分別於外側積層其他層，亦可不積層。具體而言，例如亦可於前述第1硬塗層外側積層防反射層(亦稱作AR層)作為其他層，藉此賦予防反射效果。前述防反射層並無特殊限制，例如可為DRY-AR層(利用濺鍍法、蒸鍍法等乾式方法形成的AR層)。又例如，亦可於前述第3硬塗層外側形成黏接著層。前述其他層例如可利用塗敷來形成。本發明之硬塗薄膜如前所述，視辨側表面與其他層之密著性高。更具體而言，本發明之硬塗薄膜例如前述第1硬塗層(奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑大)表面與其他層之密著性高，因此，適合於在前述第1硬塗層上設置防反射層(例如DRY-AR層)作為其他層。又，本發明之硬塗薄膜例如於前述第1硬塗層(奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑大)與前述基材間存在有前述第2硬塗層(奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑小)，藉此可使硬度高。再者，本發明之硬塗薄膜如前所述，由於捲曲受到抑制，因此，在利用塗敷來形成其他層時，搬送性良好。

另，本發明中，「黏接著層」意指「黏著層或接著層」。「黏著層」意指「利用黏著劑而形成的層體」。「接著層」意指「利用接著劑而形成的層體」。一般而言，有時會將接著力(黏著力)較小、被貼合體可以再剝離者稱作「黏著劑」，將接著力(黏著力)較大、被貼合體無法或難以再剝離者稱作「接著劑」而加以區別。本發明中，雖然將接著力(黏著力)較小者稱作「黏著劑」，將接著力(黏著力)較大者稱作「接著劑」，但兩者並無明確之區別。

本發明之硬塗薄膜中，前述基材、前述第1硬塗層、前述第2硬塗層及前述第3硬塗層之材質並無特殊限制，例如可與一般的硬塗薄膜相同或以其為基準。具體例則例示於後述本發明之硬塗薄膜之製造方法中。前述奈米二氧化矽粒子亦無特殊限制，例如可與一般的硬塗薄膜相同或以其為基準。本發明之硬塗薄膜例如可依此使用與一般的硬塗薄膜相同之材質(無須特別之材質、加工等)，藉此，不會犧牲外觀、顯示特性等而可兼顧高硬度與捲曲之抑制。

近年來，在例如筆記型PC顯示器中，即使是大型尺寸顯示器，也會進行將觸摸感測器組裝入液晶單元內(觸摸感測器之內嵌化)。又例如，筆記型PC顯示器中，從輕量、薄型、加工性之觀點來看，會要求無玻璃構造(顯示器中不用玻璃的構造)。例如，本發明之硬塗薄膜亦可藉由使硬度高而滿足該等期望。

本發明之硬塗薄膜中前述第3硬塗層亦可含有奈米二氧化矽粒子，惟如前所述，亦可不含奈米二氧化矽粒子。前述第3硬塗層不含奈米二氧化矽粒子會更容易提高硬塗薄膜之硬度，因此較為理想。若前述第3硬塗層不含奈米二氧化矽粒子，例如於前述第3硬塗層上不易產生彎折所致破裂(裂痕)。又，若前述第3硬塗層不含奈米二氧化矽粒子，即使例如厚度大的黏接著層形成於前述第3硬塗層外側，於前述第3硬塗層上亦不易產生刮痕等所致裂痕。又，藉由使前述第3硬塗層不含奈米二氧化矽粒子，也會有能大幅抑制材料費、硬塗薄膜之加工性提升等優點。

本發明中，前述基材之厚度並無特殊限制，從強度、處理性等作業性及薄層性等觀點來看，例如可為80μm以上、90μm以上、100μm以上、110μm以上或120μm以上，且例如可為60μm以下、50μm以下、40μm以下、30μm以下或20μm以下，例如可為10~40μm、40~70μm、70~100μm、100~130μm或130~160μm。前述基材之厚度從觀點來看不宜過大，從維持硬度之觀點來看不宜過小。

本發明中，前述第1硬塗層之厚度並無特殊限制，例如可為0.1μm以上、1μm以上、2μm以上、3μm以上、4μm以上、5μm以上、6μm以上、7μm以上、8μm以上、9μm以上或10μm以上，且例如可為30μm以下、20μm以上、10μm以上、5μm以下、4μm以下、3μm以下、2μm以下或1μm以下，例如可為0.1~30μm、0.1~20μm、0.1~10μm、0.1~5μm、1~30μm、1~20μm、1~10μm、1~5μm、5~30μm、5~20μm、5~10μm、0.1~1μm、1~5μm、5~10μm、10~20μm或20~30μm。前述第1硬塗層之厚度從加工性、彎曲性之觀點來看不宜過大，從硬度之觀點來看不宜過小。

本發明中，前述第2硬塗層之厚度並無特殊限制，例如可為0.1μm以上、1μm以上、2μm以上、3μm以上、4μm以上或5μm以上，且例如可為50μm以下、30μm以下、20μm以下、15μm以下、10μm以下、5μm以下、4μm以下、3μm以下、2μm以下或1μm以下，例如可為0.1~50μm、0.1~30μm、0.1~20μm、0.1~10μm、0.1~5μm、1~50μm、1~30μm、1~20μm、1~10μm、5~50μm、5~30μm、5~20μm、10~50μm、0.1~1μm、1~5μm、5~10μm、10~20μm或20~50μm。前述第2硬塗層之厚度從加工性、彎曲性之觀點來看不宜過大，從硬度之觀點來看不宜過小。

本發明中，前述第3硬塗層之厚度並無特殊限制，例如可為0.1μm以上、1μm以上、2μm以上、3μm以上、4μm以上或5μm以上，且例如可為50μm以下、30μm以下、20μm以下、15μm以下、10μm以下、5μm以下、4μm以下、3μm以下、2μm以下或1μm以下，例如可為0.1~50μm、0.1~30μm、0.1~20μm、0.1~10μm、0.1~5μm、1~50μm、1~30μm、1~20μm、1~10μm、5~50μm、5~30μm、5~20μm、10~50μm、0.1~1μm、1~5μm、5~10μm、10~20μm或20~50μm。前述第3硬塗層之厚度從加工性、彎曲性之觀點來看不宜過大，從硬度之觀點來看不宜過小。

另，本發明之硬塗薄膜中，當包含基材之任意層之厚度不均勻時(例如層表面有凹凸時)，該層之「厚度」是設為平均厚度。

本發明之硬塗薄膜例如如前所述，前述第3硬塗層之厚度亦可小於前述第1硬塗層之厚度與前述第2硬塗層之厚度的合計厚度。即，前述第1硬塗層之厚度、前述第2硬塗層之厚度及前述第3硬塗層之厚度可滿足下述數學式(2)之關係。藉由依此縮小前述第3硬塗層之厚度，而有例如可縮小硬塗薄膜之整體厚度、硬塗薄膜整體可輕量化、提升硬塗薄膜之加工性、抑制材料費、抑制硬塗薄膜彎折時的破裂(裂痕)等效果。

Tab＞Tc     (2) 前述數學式(2)中，Tab為前述第1硬塗層之厚度與前述第2硬塗層之厚度的合計[μm]。Tc為前述第3硬塗層之厚度[μm]。

本發明之硬塗薄膜如前所述，例如於奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑大的前述第1硬塗層上形成防反射層，藉此可使硬塗層與防反射層(例如DRY-AR層)之密著性高。又，本發明之硬塗薄膜例如於前述第1硬塗層與前述基材間存在有奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑小的前述第2硬塗層，藉此可使硬度高。

另，本發明中，「奈米二氧化矽粒子」意指重量平均粒徑大約數百nm以下的二氧化矽粒子。本發明中，「奈米二氧化矽粒子」之重量平均粒徑並無特殊限制，例如可為1nm以上、10nm以上、50nm以上、100nm以上、150nm以上、200nm以上或250nm以上，且例如可為300nm以下、250nm以下、200nm以下、100nm以下、50nm以下、40nm以下、30nm以下、20nm以下或10nm以下，例如可為1~300nm、1~250nm、1~200nm、1~100nm、1~50nm、10~300nm、10~250nm、10~200nm、10~100nm、50~300nm、50~250nm、50~200nm、50~100nm、100~300nm、100~250nm、1~10nm、10~50nm、50~100nm、100~200nm或200~300nm。

另，本發明中，重量平均粒徑之測定方法並無特殊限制，例如如下所述。舉例言之，硬塗層中奈米粒子之平均粒徑可利用前述硬塗層截面之TEM(Transmission Electron Microscope，穿透式電子顯微鏡)分析來測定，並且可將其推斷為重量平均粒徑。具體而言，可將以下數值推斷為重量平均粒徑：已將截面TEM影像中在0.5μm×0.5μm之區域內所觀察到的所有粒子之粒徑(將長徑與短徑相加再除以2的數值)進行平均的數值。又，當測定奈米粒子已分散的材料(溶液)中前述奈米粒子系之重量平均粒徑時，例如可使用光散射-繞射法來測定。

本發明中，前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑並無特殊限制，例如可為1nm以上、10nm以上、50nm以上、100nm以上、150nm以上、200nm以上或250nm以上，且例如可為300nm以下、250nm以下、200nm以下、100nm以下、50nm以下、40nm以下、30nm以下、20nm以下或10nm以下，例如可為1~300nm、1~250nm、1~200nm、1~100nm、1~50nm、10~300nm、10~250nm、10~200nm、10~100nm、50~300nm、50~250nm、50~200nm、50~100nm、100~300nm、100~250nm、1~10nm、10~50nm、50~100nm、100~200nm或200~300nm。前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑從薄膜透明性之觀點來看不宜過大，從與防反射層(AR層)之密著性之觀點來看不宜過小。

本發明中，前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑並無特殊限制，例如可為1nm以上、10nm以上、50nm以上、100nm以上、150nm以上、200nm以上或250nm以上，且例如可為300nm以下、250nm以下、200nm以下、100nm以下、50nm以下、40nm以下、30nm以下、20nm以下或10nm以下，例如可為1~300nm、1~250nm、1~200nm、1~100nm、1~50nm、10~300nm、10~250nm、10~200nm、10~100nm、50~300nm、50~250nm、50~200nm、50~100nm、100~300nm、100~250nm、1~10nm、10~50nm、50~100nm、100~200nm或200~300nm。前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑從薄膜透明性之觀點來看不宜過大，從薄膜硬度之觀點來看不宜過小。

前述第3硬塗層如前所述，可含有奈米二氧化矽粒子，亦可不含。當前述第3硬塗層含有奈米二氧化矽粒子時，前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑並無特殊限制，例如可為1nm以上、10nm以上、50nm以上、100nm以上、150nm以上、200nm以上或250nm以上，且例如可為300nm以下、250nm以下、200nm以下、100nm以下、50nm以下、40nm以下、30nm以下、20nm以下或10nm以下，例如可為1~300nm、1~250nm、1~200nm、1~100nm、1~50nm、10~300nm、10~250nm、10~200nm、10~100nm、50~300nm、50~250nm、50~200nm、50~100nm、100~300nm、100~250nm、1~10nm、10~50nm、50~100nm、100~200nm或200~300nm。前述第3硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑從薄膜透明性之觀點來看不宜過大，從薄膜硬度之觀點來看不宜過小。

本發明之硬塗薄膜例如如前所述，前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑可為30~50nm，且前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑可為5~30nm。

又，前述第1硬塗層中，前述奈米二氧化矽粒子之含有率相對於前述第1硬塗層整體之質量(重量)，例如可為1質量%以上、20質量%以上、30質量%以上、40質量%以上、50質量%以上、60質量%以上、70質量%以上、80質量%以上或90質量%以上，且例如可為小於100質量%、90質量%以下、80質量%以下、70質量%以下、60質量%以下、50質量%以下、40質量%以下、30質量%以下或20質量%以下，例如可為1~90質量%、1~80質量%、1~70質量%、1~60質量%、1~50質量%、1~40質量%、20~90質量%、20~80質量%、20~70質量%、20~60質量%、20~50質量%、30~90質量%、30~80質量%、30~70質量%、30~60質量%、30~50質量%、30~40質量%、40~90質量%、40~80質量%、40~70質量%、40~50質量%、60~90質量%、1~20質量%、20~40質量%、40~60質量%、60~80質量%或80~90質量%。前述第1硬塗層中，前述奈米二氧化矽粒子之含有率從加工性、彎曲性之觀點來看不宜過大，從硬度之觀點來看不宜過小。

前述第2硬塗層中，前述奈米二氧化矽粒子之含有率相對於前述第2硬塗層整體之質量(重量)，例如可為1質量%以上、20質量%以上、30質量%以上、40質量%以上、50質量%以上、60質量%以上、70質量%以上、80質量%以上或90質量%以上，且例如可為小於100質量%、90質量%以下、80質量%以下、70質量%以下、60質量%以下、50質量%以下、40質量%以下、30質量%以下或20質量%以下，例如可為1~90質量%、1~80質量%、1~70質量%、1~60質量%、1~50質量%、1~40質量%、20~90質量%、20~80質量%、20~70質量%、20~60質量%、20~50質量%、30~90質量%、30~80質量%、30~70質量%、30~60質量%、30~50質量%、30~40質量%、40~90質量%、40~80質量%、40~70質量%、40~50質量%、60~90質量%、1~20質量%、20~40質量%、40~60質量%、60~80質量%或80~90質量%。前述第2硬塗層中，前述奈米二氧化矽粒子之含有率從加工性、彎曲性之觀點來看不宜過大，從硬度之觀點來看不宜過小。

前述第3硬塗層中，前述奈米二氧化矽粒子之含有率相對於前述第3硬塗層整體之質量(重量)，例如可為1質量%以上、20質量%以上、30質量%以上、40質量%以上、50質量%以上、60質量%以上、70質量%以上、80質量%以上或90質量%以上，且例如可為小於100質量%、90質量%以下、80質量%以下、70質量%以下、60質量%以下、50質量%以下、40質量%以下、30質量%以下或20質量%以下，例如可為1~90質量%、1~80質量%、1~70質量%、1~60質量%、1~50質量%、1~40質量%、20~90質量%、20~80質量%、20~70質量%、20~60質量%、20~50質量%、30~90質量%、30~80質量%、30~70質量%、30~60質量%、30~50質量%、30~40質量%、40~90質量%、40~80質量%、40~70質量%、40~50質量%、60~90質量%、1~20質量%、20~40質量%、40~60質量%、60~80質量%或80~90質量%。前述第3硬塗層中，前述奈米二氧化矽粒子之含有率從加工性、彎曲性之觀點來看不宜過大，從硬度之觀點來看不宜過小。

本發明之硬塗薄膜如前所述，例如前述硬塗薄膜整體於波長550nm下的透光率可為90%以上。前述硬塗薄膜整體於波長550nm下的透光率例如可為90%以上、92%以上、94%以上、95%以上、96%以上、97%以上、98%以上或99%以上，且例如可為100%以下、99%以下、98%以下、97%以下、96%以下、95%以下、94%以下、93%以下、92%以下或90%以下，例如可為90~100%、90~99%、90~98%、90~97%、90~96%、90~95%、90~94%、90~93%、90~92%、92~100%、92~99%、92~98%、92~97%、92~96%、92~95%、92~94%、92~93%、94~100%、94~99%、94~98%、94~97%、94~96%、94~95%、95~100%、95~99%、95~98%、95~97%、95~96%、96~100%、96~99%、96~98%、96~97%、97~100%、97~99%、97~98%、98~100%、98~99%或99~100%。藉由使硬塗薄膜整體的透光率高，而有例如偏光板化時不會損及明亮度、因透明度高而容易進行外觀檢查等優點。

另，本發明中，透光率之測定方法並無特殊限制，例如可利用下述測定方法來測定。

[透光率之測定方法] ．裝置：積分球式分光透射率測定器(商品名：DOT-3C，村上色彩技術研究所製) ．測定模式：全光線透射率&色彩計算 ．光源：D65光源 ．視野角：2度視野 ．藉由以上設定，於氣溫23度、濕度50%之測定條件下，測定於波長550nm下的透光率。

[2.硬塗薄膜之製造方法] 本發明之硬塗薄膜之製造方法並無特殊限制，例如可依與一般的硬塗薄膜之製造方法相同方式來進行。以下，舉例說明本發明之硬塗薄膜之製造方法。

圖3(a)~(d)之步驟截面圖中，顯示本發明硬塗薄膜之製造方法之一例。

首先，如圖3(a)所示，準備基材110，並且於其一面上形成第3硬塗層103。

基材110並無特殊限制，例如可為透光性基材，具體而言，可舉例如透明塑膠薄膜基材等。前述透明塑膠薄膜基材並無特殊限制，宜為可見光之光線透射率優異(較佳為光線透射率90%以上)、透明性優異者(較佳為霧度值1%以下者)，可舉例如日本特開2008-90263號公報中記載的透明塑膠薄膜基材。前述透明塑膠薄膜基材適合使用光學上雙折射少者。本發明之硬塗薄膜例如亦可作為保護薄膜而使用於偏光板，在此情形下，前述透明塑膠薄膜基材宜為由三醋酸纖維素(TAC)、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物、具有環狀或降莰烯結構之聚烯烴等形成的薄膜。又，本發明中，前述透明塑膠薄膜基材亦可為偏光件本身。若為此種構造，便無需由TAC等構成之保護層而可使偏光板之結構單純化，因此可減少偏光板或影像顯示裝置之製造步驟數，謀求生產效率之提升。又，若為此種構造，便可將偏光板更薄層化。另，當前述透明塑膠薄膜基材為偏光件時，例如前述非透明層會發揮作為保護層之作用。又，若為此種構造，本發明之硬塗薄膜例如在裝設於液晶單元表面時，會兼具作為蓋板之功能。

本發明中，前述基材之厚度並無特殊限制，例如如前所述。前述基材之折射率並無特殊限制。前述折射率例如為1.30~1.80或1.40~1.70之範圍。

另，本發明中，只要未特別事先聲明，「折射率」意指波長550nm之折射率。又，本發明中，折射率之測定方法並無特殊限制，在粒子等微細物質之折射率之情形時，例如可使用貝克法來測定。所謂貝克法為以下測定法：於載玻片上令測定試料分散於標準折射液，並以顯微鏡觀察時，將試料之輪廓消失或變得模糊時標準折射液之折射率，設為該試料之折射率。又，無法利用貝克法測定折射率的測定對象物(例如防眩性薄膜、防眩層或構成防眩層的樹脂等)之折射率之測定方法並無特殊限制，例如可使用一般的折射計(折射率測定用機器)來測定。前述折射計亦無特殊限制，可舉例如阿貝折射計等。前述阿貝折射計可舉例如愛宕(ATAGO)股份有限公司製之多波長阿貝折射計DR-M2/1550(商品名)。

於基材110上形成第3硬塗層103的方法並無特殊限制，例如如下所述。以下，有時會將該形成第3硬塗層103之步驟稱作「第3硬塗層形成步驟」。前述第3硬塗層形成步驟例如可包含：塗敷步驟，係於基材110上塗敷第3硬塗層形成用塗敷液(以下，有時僅稱作「塗敷液」或「第3硬塗層形成材料」)；及塗膜形成步驟，係令所塗敷之前述塗敷液乾燥而形成塗膜。又例如，前述第3硬塗層形成步驟更可包含使前述塗膜硬化的硬化步驟。前述硬化例如可於前述乾燥後進行，惟不限於此。前述硬化例如可利用加熱、光照射等來進行。前述光並無特殊限制，例如可為紫外線等。前述光照射之光源亦無特殊限制，例如可為高壓水銀燈等。

前述塗敷液(第3硬塗層形成材料)例如可為含有樹脂材料及稀釋溶劑(以下，有時僅稱作「溶劑」)的塗敷液。又，前述塗敷液亦可含有該等以外的其他成分，亦可不含。前述其他成分並無特殊限制，可舉例如觸變性賦予劑及前述奈米二氧化矽粒子等。另，圖3是顯示第3硬塗層103含有奈米二氧化矽粒子103P的例子。然而，本發明之硬塗薄膜如前所述，前述第3硬塗層可含有奈米二氧化矽粒子，亦可不含。

前述塗敷液中所含前述樹脂材料例如可為形成第3硬塗層103的樹脂本身，亦可為利用聚合、硬化等而形成前述樹脂的樹脂材料。前述樹脂並無特殊限制，例如可為熱硬化性樹脂、游離輻射硬化樹脂等。又，前述樹脂例如可含有丙烯酸酯樹脂(亦稱作丙烯酸樹脂)，例如亦可含有胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂。又，前述樹脂例如可為硬化型胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂及多官能丙烯酸酯之共聚物。

前述樹脂材料例如可含有具官能基之低聚物及單體。例如，形成第3硬塗層103的樹脂可為前述具官能基之低聚物與前述單體之共聚物。前述具官能基之低聚物並無特殊限制，可舉例如硬化型胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂等。前述硬化型胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂可舉例如：三菱化學股份有限公司製之商品名「UV-1700TL」、三菱化學股份有限公司製之商品名「UT-7314」等。前述單體並無特殊限制，可舉例如多官能丙烯酸酯等。前述多官能丙烯酸酯可舉例如東亞合成股份有限公司製之商品名「M-920」等。

前述溶劑並無特殊限制，可使用各種溶劑，且可單獨使用一種，亦可併用二種以上。例如，可因應前述樹脂之組成、前述奈米二氧化矽粒子及前述觸變性賦予劑之種類、含量等，適當選擇最佳之溶劑種類或溶劑比率。前述溶劑並無特殊限制，可舉例如：甲醇、乙醇、異丙醇(IPA)、丁醇、三級丁醇(TBA)、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；二異丙基醚、丙二醇單甲基醚等醚類；乙二醇、丙二醇等二醇類；乙賽璐蘇、丁賽璐蘇等賽璐蘇類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類等。又例如，前述溶劑亦可含有烴溶劑及酮溶劑。前述烴溶劑例如可為芳香族烴。前述芳香族烴例如可為選自於由甲苯、鄰-二甲苯、間-二甲苯、對-二甲苯、乙苯及苯所構成群組中之至少一者。前述酮溶劑例如可為選自於由環戊酮及丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、二乙基酮、環己酮、異佛酮、苯乙酮所構成群組中之至少一者。前述溶劑例如為了使觸變性賦予劑(例如增稠劑)溶解，宜含有前述烴溶劑(例如甲苯)。前述溶劑例如可為以90：10~10：90之質量比混合有前述烴溶劑與前述酮溶劑之溶劑。前述烴溶劑與前述酮溶劑之質量比例如可為80：20~20：80、70：30~30：70或40：60~60：40等。在此情形下，例如前述烴溶劑可為甲苯，前述酮溶劑可為甲基乙基酮。又，前述溶劑例如可含有甲苯，同時更含有選自於由乙酸乙酯、乙酸丁酯、IPA、甲基異丁基酮、甲基乙基酮、甲醇、乙醇及TBA所構成群組中之至少一者。

當基材110例如採用丙烯酸薄膜而形成中間層(滲透層)時，可適當使用對丙烯酸薄膜(丙烯酸樹脂)為良溶劑者。該溶劑例如如前所述，可為含有烴溶劑及酮溶劑的溶劑。前述烴溶劑例如可為芳香族烴。前述芳香族烴例如可為選自於由甲苯、鄰-二甲苯、間-二甲苯、對-二甲苯、乙苯及苯所構成群組中之至少一者。前述酮溶劑例如可為選自於由環戊酮、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、二乙基酮、環己酮、異佛酮、苯乙酮所構成群組中之至少一者。前述溶劑例如可為以90：10~10：90之質量比混合有前述烴溶劑與前述酮溶劑之溶劑。前述烴溶劑與前述酮溶劑之質量比例如可為80：20~20：80、70：30~30：70或40：60~60：40等。在此情形下，例如前述烴溶劑可為甲苯，前述酮溶劑可為甲基乙基酮。

當基材110例如使用三醋酸纖維素(TAC)時，前述溶劑並無特殊限制，可舉例如：乙酸乙酯、甲基乙基酮、MIBK(甲基異丁基酮)、環戊酮等，可以僅使用一種，亦可併用複數種。在此情形下，前述溶劑例如可為MIBK及環戊酮之混合溶劑。MIBK及環戊酮之混合比並無特殊限制，例如以質量比計，可為90：10~10：90、80：20~20：80、70：30~30：70。

又，藉由適當選擇溶劑，可在含有觸變性賦予劑時良好地展現對防眩性硬塗層形成材料(塗敷液)之觸變性。例如使用有機黏土時，可適當地單獨使用或併用甲苯及二甲苯，例如使用氧化聚烯烴時，可適當地單獨使用或併用甲基乙基酮、乙酸乙酯、丙二醇單甲基醚，例如使用改質脲時，可適當地單獨使用或併用乙酸丁酯及甲基異丁基酮。

前述第3硬塗層形成材料中可添加各種調平劑。以防止塗敷不均(塗敷面均勻化)為目的，前述調平劑例如可使用氟系或聚矽氧系調平劑。本發明中，可因應對第3硬塗層表面要求防汙性之情形、或是於第3硬塗層上形成前述其他層防反射層(低折射率層)或含層間填充劑之層體之情形等，適當選定調平劑。

前述調平劑之摻合量相對於前述樹脂100重量份例如為5重量份以下，較佳為0.01~5重量份之範圍。

於前述第3硬塗層形成材料中，亦可視需要在不損及性能之範圍內添加顏料、填充劑、分散劑、塑化劑、紫外線吸收劑、界面活性劑、防汙劑、抗氧化劑等。該等添加劑可單獨使用一種，亦可併用二種以上。

前述第3硬塗層形成材料中可使用例如日本特開2008-88309號公報中記載的以往公知光聚合引發劑。

將前述第3硬塗層形成材料(塗敷液)塗敷於基材110上而形成塗膜的方法，例如可使用噴注式塗佈法、模塗法、噴塗法、凹版塗佈法、輥塗法、棒塗法等塗敷法。

接著，如前所述，使前述塗膜乾燥及硬化，形成第3硬塗層。前述乾燥例如可為自然乾燥，亦可為吹風之風乾，可以是加熱乾燥，也可以是組合有該等的方法。

前述第3硬塗層形成材料(塗敷液)之乾燥溫度例如可為30~200℃之範圍。前述乾燥溫度例如可為40℃以上、50℃以上、60℃以上、70℃以上、80℃以上、90℃以上或100℃以上，且可為190℃以下、180℃以下、170℃以下、160℃以下、150℃以下、140℃以下、135℃以下、130℃以下、120℃以下或110℃以下。乾燥時間並無特殊限制，例如可為30秒以上、40秒以上、50秒以上或60秒以上，且可為150秒以下、130秒以下、110秒以下或90秒以下。

前述塗膜之硬化手段並無特殊限制，惟宜為紫外線硬化。能量線源之照射量以在紫外線波長365nm下的累積曝光量計宜為50~500mJ/cm ²。若照射量為50mJ/cm ²以上，硬化容易充分進行，所形成的第3硬塗層之硬度容易提高。又，若為500mJ/cm ²以下，可防止所形成的第3硬塗層著色。

依以上方式，可製得圖3(a)所示基材110與第3硬塗層103之積層體。

接著，如圖3(b)所示，於第3硬塗層103之表面(與基材110為相反側的面)上積層保護薄膜120(保護薄膜積層步驟)。該保護薄膜積層步驟於本發明中並非必要，可以進行也可以不進行。保護薄膜120並無特殊限制，例如可為聚乙烯薄膜、聚酯薄膜、PET薄膜等，且例如可為日東電工股份有限公司製之商品名「SPV」系列等。又，雖未圖示，但例如可於第3硬塗層103之表面上形成黏著層，並且透過該黏著層來貼合保護薄膜120。又，亦可藉由保護薄膜120進行保護以使前述黏著層表面不會露出。再者，亦可在即將使用前述黏著層前才將保護薄膜120剝離，並且利用前述黏著層將本發明之硬塗薄膜添附於被接著物。前述被接著物例如可為影像顯示裝置中本發明之硬塗薄膜以外的其他構件。前述黏著層之形成方法並無特殊限制，可適當使用一般方法，例如可利用塗敷等來形成。

前述黏著層例如可為利用黏著劑(黏著劑組成物)而形成的黏著層。本發明中，前述黏著層例如可為能自第3硬塗層103將保護薄膜120再剝離的層體。前述黏著層之厚度並無特殊限制，例如可為5μm以上、10μm以上、20μm以上或25μm以上，且例如可為50μm以下、40μm以下、30μm以下、25μm以下或20μm以下。前述黏著劑並無特殊限制，可舉例如(甲基)丙烯酸系聚合物等。該等例如可溶解或分散於溶劑中作成溶液或分散液之形態，並將其用作前述黏著劑(黏著劑組成物)。前述溶劑可舉例如乙酸乙酯等，可以僅使用一種，亦可併用複數種。前述溶液或分散液中溶質或分散質(例如前述丙烯酸系聚合物)之濃度例如可為10質量%以上或15質量%以上，且例如可為60質量%以下、50質量%以下、40質量%以下或25質量%以下。另，本發明中，「(甲基)丙烯酸系聚合物」意指(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯醯胺中至少一種單體之聚合物或共聚物。又，本發明中，(甲基)丙烯酸意指「丙烯酸及甲基丙烯酸中至少一者」，「(甲基)丙烯酸酯」意指「丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中至少一者」。前述(甲基)丙烯酸酯可舉例如(甲基)丙烯酸之直鏈或支鏈烷基酯等。前述(甲基)丙烯酸之直鏈或支鏈烷基酯中，烷基之碳數例如可為1以上、2以上、3以上或4以上，且例如可為18以下、16以下、14以下、12以下、10以下或8以下。前述烷基例如可被1個或複數個取代基取代，亦可不被取代。前述取代基可舉例如羥基等，有複數個之情形時，可為相同亦可不同。前述(甲基)丙烯酸酯具體可舉例如：丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸4-羥丁酯等。又，前述黏著劑可以僅使用一種，亦可併用複數種。

再者，如圖3(c)所示，於基材110之另一面(與第3硬塗層103為相反側的面)上形成第2硬塗層102(第2硬塗層形成步驟)。再然後，如圖3(d)所示，於第2硬塗層102之表面(與基材110為相反側的面)上形成第1硬塗層101(第1硬塗層形成步驟)。第2硬塗層形成步驟及第1硬塗層形成步驟並無特殊限制，除了例如配合第2硬塗層102及第1硬塗層101而適當設定塗敷液(硬塗層形成材料)之組成、硬塗層之厚度等外，可依與前述第3硬塗層形成步驟相同方式來進行。具體而言，例如使用含奈米二氧化矽粒子之塗敷液，同時前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑等則配合第2硬塗層102及第1硬塗層101而適當設定。除此之外的條件亦可配合第2硬塗層102及第1硬塗層101而適當設定。又例如，將本發明之硬塗薄膜設為防眩性薄膜(防眩性硬塗薄膜)時，亦可於第1硬塗層101之表面形成凹凸。形成該凹凸的方法亦無特殊限制，例如可使用一般方法。

依以上方式，可製得本發明之硬塗薄膜。不過，如前所述，該製造方法為例示，本發明之硬塗薄膜之製造方法並不限於此。例如，如前所述，本發明之硬塗薄膜亦可包含前述基材、前述第1硬塗層、前述第2硬塗層及前述第3硬塗層以外的其他層。因此，本發明之硬塗薄膜之製造方法更可包含形成前述其他層的步驟。更具體而言，例如如前所述，亦可於前述第1硬塗層外側(與前述第2硬塗層為相反側)形成防反射層。前述防反射層之形成方法亦無特殊限制，例如可使用一般方法。

又，本發明之硬塗薄膜之製造方法例如可設為連續製法。具體而言，例如本發明之硬塗薄膜之製造方法可為以下製造方法：前述基材為長條狀，且一邊搬送前述基材，一邊連續進行前述第3硬塗層形成步驟、前述第2硬塗層形成步驟、前述第1硬塗層形成步驟及視需要之其他步驟。更具體而言，例如前述長條狀基材可為輥狀，且一邊自輥饋出前述基材，一邊實施本發明之硬塗薄膜之製造方法。

[3.硬塗薄膜、光學構件及影像顯示裝置] 本發明之硬塗薄膜並無特殊限制，例如如前所述，可為透明薄膜，亦可為防眩性薄膜(防眩性硬塗薄膜)。

本發明之光學構件並無特殊限制，例如可為偏光板。前述偏光板亦無特殊限制，例如可包含本發明之防眩性薄膜及偏光件，更可包含其他構成要素。前述偏光板之各構成要素例如可利用接著劑或黏著劑等來貼合。

本發明之影像顯示裝置亦無特殊限制，可為任何影像顯示裝置，可舉例如：液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置、電漿顯示裝置等。

本發明之影像顯示裝置之構造並無特殊限制，例如可為與一般的影像顯示裝置相同之構造。例如，LCD之情形時，可藉由將液晶單元、偏光板等光學構件及視需要之照明系統(背光源等)等各構成零件適當組裝後再裝入驅動電路等來製造。

本發明之影像顯示裝置之用途並無特殊限制，可使用在任意用途。該用途可舉例如：電腦顯示器、筆記型電腦、平板、智慧型手機、複印機等OA機器、行動電話、時鐘、數位相機、攜帶型資訊終端機(PDA)、可攜式遊戲機等攜帶型機器、視訊攝影機、電視、微波爐等家庭用電器、後照監視器、汽車導航系統用顯示器、汽車音響等車載用設備、商業店鋪用資訊導覽用顯示器等展示設備、監視用監視器等警報設備、看護用監視器、醫療用監視器等看護-醫療設備、智慧型眼鏡、VR設備等。本發明之影像顯示裝置例如可為具有拍攝功能之影像顯示裝置。在此情形下，例如如前所述，本發明之硬塗薄膜之前述透明層可為影像顯示裝置之相機孔用透明層。依據本發明，如前所述，可以不損及透明層之透明性來提供硬塗薄膜，因此，例如可以不損及拍攝影像之畫質來提供影像顯示裝置。

實施例 接著，針對本發明之實施例，與比較例一同來說明。不過，本發明不受以下實施例及比較例所限。

另，以下實施例及比較例中，只要未特別事先聲明，物質之份數即為質量份(重量份)。

以下實施例及比較例中，第1硬塗層形成材料、第2硬塗層形成材料及第3硬塗層形成材料是以下述組成來調製。

[第1硬塗層形成材料] 將加入重量平均粒徑40nm之奈米二氧化矽之多官能丙烯酸酯(商品名「NC035」，荒川化學工業股份有限公司製)100質量份及調平劑(商品名「LE-303」，信越化學工業股份有限公司製)2質量份，使用環戊酮作為稀釋溶劑而稀釋成固體成分濃度35質量%。將其作為第1硬塗層形成材料。

[第2硬塗層形成材料] 將加入重量平均粒徑10nm之奈米二氧化矽之多官能丙烯酸酯(商品名「OPSTAR Z7540」，荒川化學工業股份有限公司製)100質量份及調平劑(商品名「LE-303」，信越化學工業股份有限公司製)2質量份，使用甲基乙基酮作為稀釋溶劑而稀釋成固體成分濃度55質量%。將其作為第2硬塗層形成材料。

[第3硬塗層形成材料(無奈米二氧化矽粒子之情形)] 將多官能丙烯酸酯(商品名「Viscoat#300」，大阪有機化學工業股份有限公司製)100質量份及光聚合引發劑(商品名「OMNIRAD907」，巴斯夫(BASF)公司製)3質量份，使用甲基乙基酮作為稀釋溶劑而稀釋成固體成分濃度55質量%。將其作為第3硬塗層形成材料(無奈米二氧化矽粒子之情形)。

[第3硬塗層形成材料(有奈米二氧化矽粒子之情形)] 第3硬塗層形成材料(有奈米二氧化矽粒子之情形)是使用與前述第2硬塗層形成材料相同之物。

[實施例1] 利用圖3中所說明的製造方法，如下述來製造硬塗薄膜。首先，基材是準備厚度80μm之TAC基材(柯尼卡美能達(KONICA MINOLTA)股份有限公司製，商品名「KC8UA」)。接著，於前述基材之一面上塗敷前述第3硬塗層形成材料(無奈米二氧化矽粒子之情形)，且於60℃之烘箱中乾燥60秒而形成塗膜。以高壓水銀燈對該塗膜照射波長365nm之紫外線，且使累積照射光量成為300mJ/cm ²，令其硬化而形成第3硬塗層。另，本實施例中，以第3硬塗層之厚度成為5μm之方式來塗敷前述第3硬塗層形成材料(無奈米二氧化矽粒子之情形)。再者，於已形成的第3硬塗層之與前述基材為相反側的面上貼合保護薄膜(東麗(TORAY)股份有限公司製，商品名「TORETEC-7832C」)。

接著，於前述基材中與前述第3硬塗層形成面為相反側的面上塗敷前述第2硬塗層形成材料，且於60℃之烘箱中乾燥60秒而形成塗膜。以高壓水銀燈對該塗膜照射波長365nm之紫外線，且使累積照射光量成為300mJ/cm ²，令其硬化而形成第2硬塗層。另，本實施例中，以第2硬塗層之厚度成為10μm之方式來塗敷前述第2硬塗層形成材料。

再者，於已形成的前述第2硬塗層中與前述基材為相反側的面上塗敷前述第1硬塗層形成材料，且於60℃之烘箱中乾燥60秒而形成塗膜。以高壓水銀燈對該塗膜照射波長365nm之紫外線，且使累積照射光量成為300mJ/cm ²，令其硬化而形成第1硬塗層。另，本實施例中，以第1硬塗層之厚度成為5μm之方式來塗敷前述第1硬塗層形成材料。

依以上方式，可製得本實施例(實施例1)之硬塗薄膜。另，本實施例與以下各實施例及比較例之硬塗薄膜中，在後述玻璃板上的貼合等時，則將前述保護薄膜自前述第3硬塗層剝離。

[實施例2] 除了將第2硬塗層之厚度變更為20μm以及將第3硬塗層之厚度變更為10μm外，依與實施例1相同方式，製得本實施例(實施例2)之硬塗薄膜。

[實施例3] 除了將第1硬塗層之厚度變更為10μm以及將第3硬塗層之厚度變更為10μm外，依與實施例1相同方式，製得本實施例(實施例3)之硬塗薄膜。

[實施例4] 除了將第1硬塗層之厚度變更為10μm、將第2硬塗層之厚度變更為20μm以及將第3硬塗層之厚度變更為15μm外，依與實施例1相同方式，製得本實施例(實施例4)之硬塗薄膜。

[實施例5] 除了將前述第3硬塗層形成材料(無奈米二氧化矽粒子之情形)改為使用前述第3硬塗層形成材料(有奈米二氧化矽粒子之情形)來形成含有奈米二氧化矽粒子的第3硬塗層、以及將第3硬塗層之厚度變更為15μm外，依與實施例1相同方式，製得本實施例(實施例5)之硬塗薄膜。

[實施例6] 除了將第2硬塗層之厚度變更為20μm以及將第3硬塗層之厚度變更為25μm外，依與實施例5相同方式，製得本實施例(實施例6)之硬塗薄膜。

[比較例1] 除了將第1硬塗層之厚度變更為20μm、以及未形成第2硬塗層及第3硬塗層外，依與實施例1相同方式，製得本比較例(比較例1)之硬塗薄膜。

[比較例2] 除了未形成第1硬塗層外，依與實施例5相同方式，製得本比較例(比較例2)之硬塗薄膜。

[比較例3] 除了將第2硬塗層及第3硬塗層之厚度分別變更為20μm外，依與比較例2相同方式，製得本比較例(比較例3)之硬塗薄膜。

[形成防反射層] 於前述各實施例及比較例之硬塗層薄膜中第1硬塗層(不過，無第1硬塗層之情形時則為第2硬塗層)之與基材為相反側的面上，利用以下方法來形成防反射層(DRY-AR層)。首先，將Nb靶材安置於磁控濺鍍裝置，進行反應性濺鍍，於第1硬塗層(無第1硬塗層之情形時則為第2硬塗層)上形成第1Nb ₂O ₅層(厚度12nm，折射率2.34)。接著，將Si靶材安置於磁控濺鍍裝置，進行反應性濺鍍，於前述第1Nb ₂O ₅層上形成第1SiO ₂層(厚度39nm，折射率1.46)。接下來，於前述第1SiO ₂層上，藉由與第1Nb ₂O ₅層之形成方法相同的方法形成第2Nb ₂O ₅層(厚度119nm，折射率2.34)。再者，於前述第2Nb ₂O ₅層上，藉由與前述第1SiO ₂層之形成方法相同的方法形成第2SiO ₂層(厚度：78nm，折射率1.46)。依以上方式，可形成Nb ₂O ₅層及SiO ₂層交互積層各2層的防反射層(DRY-AR層)。

[厚度之測定方法] 硬塗薄膜各層之厚度是藉由以TEM(穿透式電子顯微鏡)觀察截面來測定。

[鉛筆硬度之測定方法] 鉛筆硬度之測定除了將負載設為750g重外，遵行JIS K 5600-5-4之鉛筆硬度試驗來進行。又，如後所述，對前述各實施例及比較例之硬塗薄膜分別於下述(1)~(3)之3種條件下測定鉛筆硬度。另，下述(1)~(3)之玻璃板厚度為1.5mm。又，下述(2)中厚度25μm之黏著層是使用日東電工股份有限公司製之商品名「CS9821UD」作為黏著劑來形成。下述(3)中厚度5μm之黏著層是使用日東電工股份有限公司製之商品名「Monkey」作為黏著劑來形成。 (1)以厚度25μm之黏著層來貼合玻璃板與第3硬塗層之情形 (2)以厚度5μm之黏著層來貼合玻璃板與第3硬塗層之情形 (3)玻璃板上未設置有黏著層而直接使第3硬塗層密著之情形

[捲曲之測定及評價方法] 將前述各實施例及比較例之硬塗薄膜，相對於原料之寬度方向從中心切出一邊15cm之正方形，並將其作為測定試樣。在切出前述測定試樣時，前述正方形之對角線設為與MD方向及TD方向一致。另，所謂MD方向，意指在基材面上平行於製造硬塗薄膜時前述基材之搬送方向(基材之長邊方向)的方向。所謂TD方向，意指在前述基材面上垂直於MD方向的方向。於前述測定試樣之MD方向之對角線上放置棒狀砝碼來加壓，測定前述測定試樣之TD方向之端部浮起的最大高度[mm]，並將其評價為TD方向捲曲之大小。同樣地，於前述測定試樣之TD方向之對角線上放置棒狀砝碼來加壓，測定前述測定試樣之MD方向之端部浮起的最大高度[mm]，並將其評價為MD方向捲曲之大小。浮起的高度愈大，捲曲會愈大。

[防反射層密著性之測定及評價方法] 將形成有防反射層的前述各實施例及比較例之硬塗薄膜切出5cm見方之正方形，將其基材側以日東電工股份有限公司製黏著劑、商品名「CS9821UD」貼合於5cm見方之正方形且厚度1.5mm之玻璃板上，並以金屬鹵素燈照射紫外線。照射條件設為環境溫度55℃、環境濕度45%、光照射用度830W/m ²、照射時間240h、BPT溫度85℃。照射紫外線後，於防反射層上滴定異丙醇1~2mL，以施加有負載的布(商品名「Anticon Gold」，康泰克(CONTEC)公司製)滑動後，用目視及顯微鏡(倍率100倍)來確認防反射層有無損傷。用目視及顯微鏡觀察中任一者皆無法於防反射層上看見損傷時，評價為密著性○，用至少一者可看見損傷時，評價為密著性×。

下述表1及表2中顯示前述各實施例及比較例中硬塗薄膜之構造與特性之評價結果。另，下述表1及2中，「HC厚」表示各硬塗層之厚度。「糊」表示用於貼合玻璃板與第3硬塗層的黏著層。「MD」表示前述MD方向，即，在基材面上平行於製造硬塗薄膜時前述基材之搬送方向(基材之長邊方向)的方向。「TD」表示前述TD方向，即，在前述基材面上垂直於MD方向的方向。

另，如下述表1及表2所示，實施例1~4之硬塗層為第3硬塗層不含奈米二氧化矽粒子而與圖1(a)之硬塗薄膜100a相同的構造。實施例5~6之硬塗層為第3硬塗層含有奈米二氧化矽粒子而與圖1(b)之硬塗薄膜100b相同的構造。再者，如下述表1及2所示，鉛筆硬度是針對以下3種進行測定：(1)以厚度25μm之黏著層來貼合玻璃板與第3硬塗層之情形；(2)以厚度5μm之黏著層來貼合玻璃板與第3硬塗層之情形；及(3)玻璃板上未設置有黏著層而直接使第3硬塗層密著之情形。圖2(a)~(d)之截面圖中顯示該等構造。圖2(a)及(b)為使用實施例1~4之硬塗薄膜(第3硬塗層103不含奈米二氧化矽粒子)的例子。圖2(a)為不用黏著劑而將第3硬塗層103直接與玻璃板210密著的例子。圖2(b)為利用黏著劑220將第3硬塗層103直接與玻璃板210貼合的例子。圖2(c)及(d)為使用實施例5~6之硬塗薄膜(第3硬塗層103含有奈米二氧化矽粒子103P)的例子。圖2(c)為不用黏著劑而將第3硬塗層103直接與玻璃板210密著的例子。圖2(d)為利用黏著劑220將第3硬塗層103直接與玻璃板210貼合的例子。

[表1]

[表2]

如前述表1及2所示，實施例1~6之硬塗薄膜皆為硬度(鉛筆硬度)高、捲曲受到抑制(捲曲測定中硬塗薄膜端部之浮起為0mm)且視辨側表面與其他層(DRY-AR層)之密著性高。尤其是第3硬塗層不含奈米二氧化矽粒子的實施例1~4之硬塗薄膜，即便在使用厚度25μm之黏著層來與玻璃板貼合之情形時，硬度(鉛筆硬度)仍高。相對於此，不具第2硬塗層及第3硬塗層的比較例1則是硬度(鉛筆硬度)低且引起捲曲，硬塗薄膜會變成筒狀。另一方面，具有第2硬塗層及第3硬塗層但不具第1硬塗層的比較例2及3雖然硬度(鉛筆硬度)高且捲曲受到抑制，但視辨側表面與其他層(DRY-AR層)之密著性低。

產業上之可利用性 以上，如所說明，依據本發明，可提供一種硬度高、捲曲受到抑制且視辨側表面與其他層之密著性高的硬塗薄膜、光學構件及影像顯示裝置。本發明之硬塗薄膜如前所述，亦可使用作為透明薄膜或作為防眩性薄膜(防眩性硬塗薄膜)，並且可使用在各式各樣之光學構件及影像顯示裝置中，因此其產業上之利用價值極大。

本申請案是主張立基於2021年3月31日提申之日本申請案特願2021-059320之優先權，並將其全部揭示內容納入於此。

100a,100b:硬塗薄膜 101:第1硬塗層 101P,102P,103P:奈米二氧化矽粒子 102:第2硬塗層 103:第3硬塗層 110:基材 120:保護薄膜 210:玻璃板 220:黏著劑(黏著層)

圖1為截面圖，其例示本發明之硬塗薄膜之構造。 圖2為截面圖，其顯示將本發明之硬塗薄膜積層於玻璃板上的例子。 圖3為步驟截面圖，其例示本發明之硬塗薄膜之製造步驟。

100a,100b:硬塗薄膜

101:第1硬塗層

101P,102P,103P:奈米二氧化矽粒子

102:第2硬塗層

103:第3硬塗層

110:基材

Claims (8)

1. 一種硬塗薄膜，特徵在於： 其包含基材、第1硬塗層、第2硬塗層及第3硬塗層，且係從視辨側起依序積層前述第1硬塗層、前述第2硬塗層、前述基材及前述第3硬塗層； 前述第1硬塗層及前述第2硬塗層分別含有奈米二氧化矽粒子， 前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑大於前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑。
2. 如請求項1之硬塗薄膜，其中前述第3硬塗層不含奈米二氧化矽粒子。
3. 如請求項1或2之硬塗薄膜，其中前述第3硬塗層之厚度小於前述第1硬塗層之厚度與前述第2硬塗層之厚度的合計厚度。
4. 如請求項1或2之硬塗薄膜，其中前述第1硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑為30~50nm，且前述第2硬塗層中所含前述奈米二氧化矽粒子之重量平均粒徑為5~30nm。
5. 如請求項1或2之硬塗薄膜，其中前述硬塗薄膜整體於波長550nm下的透光率為90%以上。
6. 一種光學構件，包含如請求項1至5中任一項之硬塗薄膜。
7. 如請求項6之光學構件，其係偏光板。
8. 一種影像顯示裝置，包含如請求項1至5中任一項之硬塗薄膜、或者如請求項6或7之光學構件。

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