TWI272235B - Substrate carrying device - Google Patents

Description

1272235 九、發明說明·· 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種轉換玻璃基板的方向來搬運的基板 搬運裝置。 【先前技術】 過去的基板搬運裝置已在日本特開2004-77592號公報 中有所揭示。在此專利公報中所揭示的基板搬運裝置中， •基板的搬運方向從第一水平方向轉換方向到和第一水平方 向垂直的第二水平方向的位置（以下稱「方向轉換位置」） 上，設有多個用來將基板移動至第一水平方向的第一滾輪 .和多個用來將該基板移動至第二水平方向的第二滾輪。第 • · 一滾輪以支持整個基板的下面並沿著第一水平方向移動該 ^ ^板的方式來配置，第二滾輪以支持整個基板的下面並沿 著第二水平方向移動該基板的方式來配置。第一滾輪及第 二滾輪以不相互重疊的方式來設置，分別在構造上可作上 _ 下移動及旋轉運動。

當將沿著第一水平方向被搬運過來的基板送進方向轉 換位置時，第一滾輪採取高位置來旋轉，同時’第二滾輪 採取低位置來旋轉，基板藉由第一滾輪的旋轉力量移動至 第-水平方向。另一方面，當沿著第二水平方向從方向轉 換位置送出基板時，和以上所述相反，第一滾輪採取低位 置，第二滚輪採取高位置來旋轉，基板藉由第二滾輪的旋 轉力篁移動至第二水平方向。藉此，基板從第一水平方向 2215-7525-PF 5 1272235 轉換九十度方向之後到了第二水平方向。 一及第二滾輪 基板和滾輪的 的摩擦而產生 ，容易附著塵 在上述習知的基板搬運裝置中，多個第 以支持整個基板下面的方式來配置，所以， 接觸面積比較大，玄1总& 谷易因碇轉的滾輪和基板 靜電。因此，在基板上左户 ^ 土敗上存在的一個問題是 垢等粒子而很可能進一步產生損傷。 為了解決上述問題，當轉換其 R ^ 換基板的方向時，若能使第 —及弟二滾輪慢慢地在 文弟

靜雷的“ τ私動且在低速下旋_，可抑制 ^電的產生’可在某種程度上緩和粒子的附著、損傷等情 =但這樣又產生了別的問題，就是，無法迅速轉換基板 的方向。 【發明内容】 本發明為基於上述情況的考量，提供一種可防止對基 板產生粒子附著、損傷等情況並可迅速轉換基板方向來搬 運的基板搬運裝置，此為本發明的課題。 為了解決上述課題，在本發明t，尋求下面的技術手 段。 本發明所提供的基板搬運裝置用來使從平面視角觀看 為矩形形狀的基板維持在水平方向並轉換該基板的方向來 搬運，其特徵在於包括··空氣層，形成和上述基板的下面 之間的空氣壓所產生的緩衝層；支持裝置，鄰接至上述空 氣層，以可上下移動的方式來設置，當到達既定的上位置 時’可沿著弟一水平方向移動上述空氣層上的上述基板的

2215-7525-PF 6 1272235 側緣部，作為;^ . 的中央部位：多動：旋：裝置，設置為可在上述空氣層 定的上位置時，Lt 垂直轴周圍旋轉’當到達既 . u 寺上述空氣層上的上述基板的下面中央 邛，在此支持狀態下，葬 板的方向從上述第—水直軸周圍旋轉’將該基 ^弟水千方向轉換為和該第一水平方向不 冋的弟一水平方向或其相反方向。 :為最佳實施型態’上述支持震置沿著上述第一水平 :持搬運至上述空氣層的上述基板的側緣部，其後， 上述旋轉裝置取代上述古 这支持叙呈，繼續支持上述基板的下 從上述第一水平方：：周圍㈣，猎此，將該基板的方向 =弟水千方向轉換為上述第二水平方向。 、，作為其他最佳實施型態’上述旋轉裝置沿著上述第— 方门支持搬逆至上述空氣層的上述基板的下面中央 上著垂直轴周圍旋轉，藉此，將該基板的方向 <以弟—水平方向轉換為上述第-水平方向，其後，上 較持裝置取代上述旋轉裝置，支持上述基板的側緣部， 猎此’使該基板沿著上述第一水平方向移動。 、、作為其他最佳實施型態’上述空氣層在構造上具有和 上述基板約略相同的矩形形狀。 、.作為其他最佳實施型態，上述支持裝置分別鄰接至與 上述空氣層相對的側部而設置。 、 作為其他最佳實施型態，上述空氣層的構造為，將複 數個於上面具有空氣噴出孔的空氣室配置於上述旋轉袭置 的周圍，此複數個空氣室中的至少其中—個在沿著上述第

2215-7525-PF 7 1272235 二水平方向和其他基板搬運I置之間搬運上述基板時，和 上述支持裝置-起位於既定的下位置，被設置為可上下移 動。 作為其他最佳實施型態，上述支持裝置具有上下移動 用致動器、藉由此致動器上下移動的可動方塊、複數個以 支持上述基板的侧緣部的方式設置於上述可動方塊上且用 來&著上述第一水平方向移動該基板的導向滾輪。 作為其他最佳實施型態，在上述可動方塊的上面，設 有空氣噴出孔。 作為其他最佳實施型態，上述旋轉裝置具有上下移動 :致動态、藉由此致動器上下移動的可動基座、設置於此 可動基座的旋轉用馬達、藉由此馬達繞著垂直軸周園旋轉 的旋轉單元、複數個以真空吸附上述基板之下面中央部的 方式叹置於上述旋轉單疋的上部的真空吸附盤、用來在此 複數個真空吸附盤產生真空狀態的真空幫浦。 》作為其他最佳實施型態，在上述空氣層的令央部位， 形成開口部，並且，在與此中央開口部對應的位置上，配 置上述旋轉裝置，上述旋轉裝置的構造為，進一步具有複 數個可嵌入上述複數個真空吸附盤的孔，並且，具有在上 述旋轉單元的上部透過緩衝器受到支持的辅助板，此辅助 板在上述可動基座到達既定的下位置時，到達上述複數個 真空吸附盤的上方，填平上述中央開口部。 、作為其他最佳實施型態，上述輔助板的構造為，當上 述可動基座於上述空氣層上配置上述基板的狀態下到達既

2215-7525-PF 8 1272235 疋的上位置時，藉由壓回上述基板，對抗上述緩衝器的彈 力來移位，在上述複數個真空吸附盤嵌入上述複數傭孔的 狀態下，真空吸附該基板的下面中央部。 作為其他最佳實施型態，在上述空氣層上，設有可失 持與上述基板相對之突出部的夾持機構。 4

作為其他最佳實施型態，上述夾持機構設於上述空氣 層的端部上方’其構造為’使可銜接至上述基板之突出部 的滾輪在垂直方向及水平方向移動。 ^作為其他最佳實施型態、，在丨述央持機構所在的上述 空氣層的端部上’冑有在該空氣層的下方的適當處透過緩 衝器受到支持的輔助板，此辅助板的構造為，當上述夾持 機構的滾輪到達既定的上位置時，沿著上述空氣層的上面 形成平面’另—方面’當上述滾輪到達既Μ下位置時， 藉由壓下此滾輪’對抗上述緩衝器的彈力，移位至下方， 該滾輪繼續在水平方向前進移動，銜接至上述基板的突出 根據本發明，基板的侧綾Α ^ ^ 幻1』緣邛、下面中央部等雖然連接 至支持裝置、旋轉裝置尊梦署μ 片 ^置上，但除此以外的部分透過 空氣壓的緩衝層在空氣層的上方 m 』工万呈汙動狀態。因此，基板 的接觸面積盡可能地被縮小，例 ^ 1』 例如，當將基板的方向從第 一水平方向轉換為第二水平方6 壯班 十方向時，即使支持裝置及旋轉 裝置以比較高的速度來運作 硬作也不會產生那麼多的靜電。 於是，可防止基板的損傷、靜雷 荀静電所導致的粒子附著等情況 並迅速轉換基板的方向來搬運。

2215-7525-PF 9 1272235 本發明的其他特徵及優點可從下面最佳實施例的說明 來進一步了解。 【實施方式】 下面將參照附加圖面來具體說明本發明的最佳實施 例0 第1圖至第15圖表示本發明之基板搬運裝置的一個實 施型態。 、 如第1圖、第7圖等所示，本發明之基板搬運裝置A和其 他基板搬運裝置B1〜B4，C都是用來使玻璃基板(^維持水平 來搬運的裝置。 、，此基板搬運裝置A的設置可將玻璃基板G的方向從第一 水平方向F1到第二水平方向|^作九十度的旋轉來搬運。其 他基板搬運裝^B1〜B4的設置可將玻璃基板G的方向從第二 水平方㈣搬㈣第—水平方向n，絲其送至基板搬運 裝置A &些基板搬運裝置61,包括和基板搬運裝置a相同 或類似的構造元件。再者，另—基板搬運裝置⑶設置具有 已知的機械手臂’可在和基板搬運裝置A之間沿著第二水平 方向F2搬運玻璃基板Ge此外，搬運的對象不限於玻璃基板 G，亦可為從平面視角觀看時為矩形形狀㈣板狀物體。 如第1圖至第4圖所示’基板搬運裝置A的構造為，在框 架台4上設置空氣層卜支持裝置2A，2B及旋轉裝置3。 。空氣層1S來在和玻璃基糾之間形成由空氣壓所產生 的緩衝層。空氣層1具有複數個空氣室10A，10B。

2215-7525-PF 1272235 支持裝置2 A，2 B可沿著第一水平方向{? 1以可移動的方 式支持空氣層1上的玻璃基板G的側緣部。支持裝置2A，2b 刀別具有以空氣驅動方式來運作的上下移動用致動器2〇、 藉由此致動器20來上下移動的可動方塊21及複數個以支持 破璃基板G之側緣部的方式設置可動方塊2丨的導向滾輪2 2。 方疋轉政置3的ό又置為，可在空氣層1的中央開口部μ上 下移動且繞著垂直軸周圍旋轉。此旋轉裝置3在採取既定的 ^位置的狀態下，支持空氣層丨上的玻璃基板G的下面中央 邛，並且，進一步繞著垂直軸周圍旋轉，藉此，將玻璃基 板G的方向從第一水平方向η到第二水平方向f作九十度的 轉換。 如第2圖所示，空氣層丨的構造為，在旋轉裝置3的周圍 複數個空氣室10Α，1〇β，形成中央開口部u。空氣層1 王部形成從平面視角觀看為矩形的形狀，具有和玻璃基板(ί 約略相同的形狀。 ·、 第6圖所不，空氣室1 0Α，1 0Β將從空氣供給源（圖示 ，略）透過可撓性的空氣管η送來的壓縮空氣引導至其内 匕種卫氣供給源設置於各個裝置上。在空氣室1〇β 的上面1 Ga，從内部側到外部側，設有複數個用來喷出空氣 夕氣噴出孔1〇t>。14些空氣喷出孔10b嵌入可流通空氣的 疋件在此種空氣室10A，10B的上面10a，為了容易在 ^位於其上方的玻璃基板6之間形成空氣的緩衝層，整體形 成平面的形狀。 如第2圖、第4圖等所示，從第一水平方向F1來看，設

2215-7525-PF 11 •1272235 置於前後兩端的位置、和其他基板搬運裝置c的手臂部以 對應之位置等的空氣室10A透過和支持裝置以，2β相同的 致動器20在框架台4上受到支持。這些空氣室—藉由致動 器20在既定的上位置和下位置之間上下移動。其他的空氣 室1 0B則受到框架台4固定性的支持。 如第2圖及第3圖所示，支持裝置2A，託的設置為，分 別鄰接至空氣層1所相對的側部，形成一對。作為此種支持 裝置2A，2B之本體的可動方塊21沿著第一水平方向η來配 # 置。 可動方塊21透過致動器20受到框架台4的支持，藉由致 動器20在既定的上位置和下位置之間上下移動。另外，可 •動方塊2i具有和前述之空氣室10A，10B相同的構造，從可 動方塊21的上面，導入内部的空氣透過複數個空氣喷出孔 21b噴出至外部。在此種可動方塊21的上面，另外又為了在 和位於其上方之玻璃基板G之間容易形成空氣的緩衝層，整 體形成平面的形狀。 藝如第2圖及第5圖所示，在與空氣層1相對的那一側亦即 可動方塊21的侧部上，複數個一方面支持玻璃基板G的側緣 部一方面沿著第一水平方向F1強制移動玻璃基板G的導向 滾輪2 2受到支軸性的支持。這些導向滾輪2 2沿著第一水平 方面F1以一定間隔的方式來設置。 在可動方塊21的適當處，内建有用來旋轉導向滾輪22 的滾輪旋轉用馬達23、輸送帶24、多齒輪25等（參照第5 圖）。各導向滾輪22具有在空氣層1上方連接至玻璃基板g 2215-7525-PF 12 1272235 的下面侧緣部的小徑部22a和在此小徑部22a的可動方塊21 側規範玻璃基板G的側緣部的大徑部22b。滾輪旋轉用馬達 23的旋轉力透過輸送帶24及多齒輪25搬運至複數個導向滾 輪2 2 ’藉此，複數個導向滾輪2 2同時且朝既定的旋轉方向 旋轉。 藉由此種導向滾輪2 2，可使玻璃基板G沿著第一水平方 向F1直線前進，防止玻璃基板g的位置偏移。 如第4圖所示，旋轉裝置3具有和支持裝置2A，2B等相 _ 同的致動器20、藉由此致動器20上下移動的可動基座3〇、 固定於此可動基座30的旋轉用馬達31、藉由此旋轉用馬達 31繞著垂直軸周圍旋轉的旋轉單元32、以真空吸附玻璃基 板G的下面中央部的方式配置於旋轉單元.32的上部四個位 置的真空吸附盤33及以在真空吸附盤33產生真空狀態的方 ‘ 式内建於旋轉單元32中的真空幫浦（圖示省略 可動基座30配置於空氣層！的中央開口部u的下面，並 且，透過致動器20受到框架台4的支持。此可動基座3〇藉由 ® 致動器20在既定的上位置和下位置之間上下移動。 玻璃基板G受到支持裝置2A，2B的支持後，真空吸附盤 33和旋轉單元32等成為一體，移動至既定的上位置。藉此， 真空吸附盤33在支持裝置2A，2B的導向滾輪21的上面的上 方連接至玻璃基板G的下面。此時，藉由真空幫浦，真空吸 附盤33變成真空狀態，所以，這些真空吸附盤”可確實吸 附支持玻璃基板G的下面中央部附近的四個位置。如此，玻 璃基板G被真空吸附盤33吸附支持後，旋轉單元犯藉由旋轉

2215-7525-PF 13 1272235 用馬達31旋轉九十度。結果，被真空吸附盤33吸附支持的 玻璃基板G的方向從第一水平方向F1到第二水平方向以作 九十度的轉換。其後，真空幫浦的動作停止，並且，旋轉 知緣32和支持裝置2A，2B的可動方塊21—起移動至既定的 下位置。藉此，玻璃基板G變成在空氣層丨上被支持的狀態。 其他基板搬運裝置B1〜B4的構造使用和基板搬運裝置a 相同或類似的構造元件，所以，在此省略其說明。此外， 在其他基板搬運裝置B1〜B4的構造元件上，附加和第1圖等 _相同的符號。 基板搬運裝置Bl，B2具有由複數個固定於框架台4的 空氣室10B所組成的空氣層1、複數個以可沿著第二水平方 • 向F2移動的方式支持玻璃基板G的側緣部的固定方塊5。在 固疋方塊5上，設有和基板搬運裝置A相同的導向滾輪2 2。 這些基板搬運裝置Bl，B2具有沿著‘第二水平方向F2^設置 於基板搬運裝置B1的玻璃基板G搬運至基板搬運裝置⑽的 功能。 基板搬運裝置B3具有由複數個固定於框架台4的空氣 室10B所組成的空氣層丄、以可沿著第一水平方向η移動的 方式支持沿著第一水平方向F1之玻璃基板G的侧緣部的第 支持裝置2A，2B、以可沿著第二水平方向F2移動的方式 支持沿著第二水平方向F2之玻璃基板g的側緣部的第二支 持裝置2C，2D。在此第一及第二支持裝置2Α，2β，％，⑼ 之中，玻璃基板G的通過位置所在的兩個支持裝置找 和前述之基板搬運裝置A的支持裝置2A，2B具有相同的構

2215-7525-PF 14 1272235 方向的 F2切換 l此種基板搬運裝置β3具有在不改變玻璃基板g的 情況下將該玻璃基板G的搬運方向從第二水平方向 至第一水平方向F1的功能。 —基板搬運裝謂具有由複數聽定於框架台4的空氣 室10B所組成的空氣層Ησ以可沿著第一水平方向^移動的 方式來支持玻璃基板G的側緣部的支持裝置2Α，2β。此種基 板搬運裝置Β4具有將從基板搬運裝置 移動過來的玻璃基板G進一步搬運至基板搬V置：: 能0 在基板搬運裝置C的機械手臂上，設有複數個沿著第二 f平方向F2的手臂部^。此手臂部C1在基板搬運裝置人的空 氣至1 0A及支拎裝置2A到達既定的下位置的狀態下，往第二 水干方向F2前進移動，嵌人空氣室1QA和玻璃基板g之間: 其後，手臂部C1變成位於空氣層丨上方的狀態，繼續沿著第 二水平方向F2後退移動。藉此，使空氣層i的玻璃基板㈣ 手臂部C1接收。其後，手臂部^藉由將方向旋轉一百八十 度？變成和基板搬運裝置A反向的狀態，繼續沿著第二水平 方向F2前進移動。藉此，玻璃基板6從基板搬運裝置A沿著 第二水平方向F2被搬運至既定的隔開的位置。 接著，說明基板搬運裝置A的動作和其他基板搬運裝置 B1〜B4，C的動作。 如第7圖及第8圖所示，設置於基板搬運裝置^上的玻 璃基板在受到導向滾輪22僅支持其側緣部的狀態下，沿著 第二水平方向F2被搬運至基板搬運裝置B3。此時，基板搬 2215-7525-PF 15 1272235 運裝置B3上的笙 ±上 们弟一支持裝置2A， 2B為了其上面和空氣室 1 Ο B —致，至，丨遠 運无疋的下位置，另一方面，基板搬運裝置B3 上的第二古柱骷罢。 ^ 、展置2C，2D在整個玻璃基板G位於空氣層1上 到達既疋的上位置。因此，搬運至基板搬運裝置Μ 苴离基板Gx到第二支持裝置2C，2D的導向滾輪22支持 /、所對應的側緣部。其後，當整個玻璃基板G變成位於空氣 層1上的狀態時，和上述相反，第二支持裝置2C，2D為了其 _ f面和空氣室10B一致，移動至既定的下位置，另一方面， 第一支持裝置2A，2B移動至既定的下位置。藉此，支持玻 离基板G的1置從第二支持裝置％，2D切換至第一支持裝 置2A，2B，基板搬運裝置B3變成可從第二水平方向？2沿著 .第一水平方向F1移動玻璃基板g的狀態。 • 其後，如第9圖所示，玻璃基板G在受到導向滾輪22僅 支持其側緣部的狀態下，被搬運至第一水平方向F丨，藉此， 從基板搬運裝置B3透過基板搬運裝置B4搬運至基板搬運裝 置A。此時，基板搬運裝置八上的支持裝置以，⑼的可動方 塊21在整個玻璃基板G位於空氣層1上之前，到達既定的上 位置。另一方面，可在基板搬運裝置A中上下移動的空氣室 10A在固定式的空氣室1〇β和上面一致的位置。因此，搬運 至基板搬運裝置Α的玻璃基板G在受到支持裝置2α，2Β的導 向滾輪22支持其所對應的側緣部的狀態下，移動至第一水 平方向F1。其後，當整個玻璃基板(j變成位於空氣層1上的 狀態時，導向滾輪22的驅動停止。此外，關於整個玻璃基 板G疋否為位於空氣層1上的狀態，可藉由設置於空氣層1 2215-7525-PF 16 1272235 之端部等的感測器（圖示省略）檢測玻璃基板G的先 判斷。 响采 如以上所述，當從基板搬運裝置B1將玻璃基板G搬運至 基板搬運裝置4時，在基板搬運裝置A, B卜B4上的所有空氣 室10A，10B及具有相同構造的支持裝置2Α，2β，％上:= 上面側噴出空氣。因此，玻璃基板(;透過除去側緣部的部分 在空氣室10A，10B、支持裝置2A，2B，2(：等之間藉由空氣 壓所產生的緩衝層，呈稍微上浮的狀態。 ，藉此，玻璃基板G的侧緣部和導向滾輪22的轉動摩擦減 小，難以產生因該轉動摩擦所導致的靜電。於是，有關會 玻璃基板G的損傷、靜電所導致的粒子附著等情況的疑慮減 少〇 在基板搬運裝置A中，當整個玻璃基板G為位於空氣層1 上並停止的狀態時，如第丨0圖及第丨丨圖所示，支持裝置2A， 2B的可動方塊21下降至既定的下位置。另外，其不久之後 或與其同時，真空吸附盤33為了放開空氣層1的中央開口部 1A而突出於上侧，移動既定的上位置。藉此，空氣層1上的 玻璃基板G變成真空吸附盤33在其下面令央部的複數個位 置進行真空吸附的狀態，亦即變成確實受到這些真空吸附 盤33支持的狀態。其後，在支持玻璃基板G的狀態下，整個 真空吸附盤33旋轉九十度。結果，玻璃基板G在空氣層1上 變成方向旋轉九十度的狀態。 當玻璃基板G的方向旋轉九十度時，玻璃基板G的一部 分，尤其是玻璃基板G的突出部、側緣部等從空氣層丨脫離， 2215-7525-PF 17 1272235 變成位於可動方塊21的上方的狀態。此種狀態為暫時性， 即使在此時，也會從可動方塊21的上面側喷出空氣，所以， 即使在玻璃基板G正在方向旋轉九十度的動作中，可包含從 空氣層1脫離的突出部、側緣部等，在玻璃基板G的整個下 面形成由空氣壓所產生的緩衝層。於是，在此情況下，亦 可防止玻璃基板的損傷、靜電所導致的粒子附著等情況。 在玻璃基板G的方向旋轉九十度以後，如第12圖及第13 圖所示，支持裝置2A，2B的可動方塊21進一步下降至作為 Ϊ 下方的既定的下位置。另外，與基板搬運裝置C的手臂部c j 對應的位置上的空氣室l〇A亦可下降至和可動方塊21同程 度的下位置。此時，真空吸附盤3 3亦解除真空狀態，下降 至既定的下位置，藉此，玻璃基板G從真空吸附盤3 3脫離， 變成位於空氣室1 〇B上的狀態。 其後，如第14圖及第15圖所示，基板搬運裝置c的手臂 部C1在第二水平方向？2上前進移動，藉此，在玻璃基板g 和空氣室10A之間嵌入手臂部C1。然後，在此手臂部ci充分 _ 肷入的狀態下’移動至上方，藉此，放置於空氣室上的 玻璃基板G變成被手臂部C1接收的狀態。 其後，在手臂部C1沿著第二水平方向F2後對移動之 後’方向旋轉一百八十度，藉此，變成和基板搬運裝置A 反向的狀態，在此反向的狀態下，進一步沿著第二水平方 向F2前進移動。藉此，玻璃基板g從基板搬運裝置a沿著第 二水平方向F2被手臂部C1搬運至隔開的既定的位置。 此外，藉由和上述說明的順序相反的順序，運作各基 2215-7525-PF 18 1272235 板搬運裝置A，B1〜B4, C，可以與上述相反的方向來搬運玻 璃基板G 〇 於是，藉由本實施型態的基板搬運裝置A，玻璃基板G 的側緣部、下面中央部等連接至導向滾輪22、真空吸附盤 3 3，但除此以外的部分透過空氣壓的緩衝層而呈現浮動於 空氣層1上方的狀悲，所以，和玻璃基板G的接觸面積可盡 可能地縮小，即使以較高速度旋轉導向滾輪22、真空吸附 盤33等並將玻璃基板G的方向從第一水平方向F1到第二水 β 平方向F2作九十度的轉換，也不會產生那麼多的靜電。 藉此，使用基板搬運裝置，可防止玻璃基板G的損傷、 靜電所產生的粒子附著專情況，並可迅速轉換玻璃基板G 的方向來搬運玻璃基板G。 第16圖至第27圖表示本發明之基板搬運裝置的其他實 - 施型態。此外，和前述之實施型態的構成元件相同或類似 者，附加相同符號並省略其說明。 第1 6圖至第1 9圖的實施型態中的基板搬運裝置A1的設 •置亦為，可將方向從第一水平方向以到第二水平方向？2作 九十度的轉換來搬運，但此基板搬運裝置A1為沿著第一水 平方向F1移動玻璃基板G並將之搬運至機械手臂的手臂部 C1的構造，此點和基板搬運裝置a相異。 如第16圖所示，空氣層1為將複數個空氣室1〇Α， ι〇Β 排列成從平面視角觀看時為矩形的構造，支持裝置2a，2b 為沿著空氣層1的兩側排列複數個可動方塊21的構造。此空 氣至1 0A，1 0B及可動方塊21為佔據整個玻璃基板g的旋轉 2215-7525-PF 19 1272235 移動範圍G1的配置。 士藉由此種配置型態，當在空氣層工上旋轉破璃 =用:盍玻璃基板的整個下面形成空㈣的緩衝層，所以， 用擔心會引起玻璃基μ的側緣部、突出部從 以至於勾住空氣層1的端部等情況。 、° +

相同如Γ7圖至第19圖所示，旋轉裝置3和前述之實施型態 同’除了具有旋轉單元32、真空吸附盤33等，還呈有用 來填平空氣層1的中央開口部u的辅助板34、在旋轉^ 的上#彈I·生支持此輔助板34的下面中央部 ^助㈣上，對應各真空吸附盤33設置可^它們2 綾衝盜35為在活塞狀的可動元件35Α和汽缸狀的固定 疋件35Β之間裝填彈簧35c的構造。 如第17圖所示，當玻璃基板G被搬運至空氣層丨上時， 可動基座（圖示省略）等以及旋轉單元32為下降至既定的下 位置的狀態。此時’輔助板34為透過緩衝器35在真空吸附 盤33上方被支持的狀態，鄰接的空氣室⑽和上面大約一 致換5之’空氣層！的中央開口部職輔助板％填平。因 此田玻璃基板G的先端部通過中央開口部㈣，在玻璃基 板G的先端部附近亦確實形成空氣壓所產生的缓衝層，所 以，玻璃基板G的先端部謹慎地垂下，不用擔心會勾到中央 開口部1A的邊緣。 其後，如第18圖所示，當整個玻璃基板G為位於空氣層 1上而停止的狀態時，旋轉單元32從既定的下位置上升至上 位置。此％，玻璃基板G為藉由空氣壓的緩衝層在空氣層1

2215-7525-PF 20 1272235 上浮動的狀態，此玻璃基板G的下面中央部銜接有辅助板 34。當辅助板34銜接至玻璃基板g時，藉由此玻璃基板〇慢 f更壓縮緩衝器35的彈簧35C，然後，補助板34和真空吸附盤 3 3的距離逐漸縮短。 然後’當疑轉單元3 2上升至既定的上位置時，如第1 g 圖所示，真空吸附盤33放開中央開口部丨a，在突出於上側 的狀悲下’肷入辅助板3 4的孔3 4 A，和此辅助板3 4成為一 體，連接至玻璃基板G的下面中央部。藉此，空氣層丨上的 ® 玻璃基板G維持在被真空吸附盤3 3真空吸附的狀態。 其後，當持續維持玻璃基板G的狀態並將整個真空吸附 盤33旋轉九十度時，玻璃基板G變成在空氣層1上方向旋轉 九十度的狀態。此時，輔助板3 4在和玻璃基板g之間為靜熊 連接的狀悲下’和具空吸附盤3 3 —起旋轉，所以，不用护 ' 心玻璃基板G會被損傷。 在玻璃基板G的方向旋轉九十度之後，真空吸附盤3 3 解除真空狀態，如第17圖所示，下降至原來的既定的下位 •置。其後，從真空吸附盤33脫離的玻璃基板g和前述之實施 型態相同，藉由手臂部C1從空氣層1上搬運至其他位置。 於是，藉由本實施型態之基板搬運裝置，除了可得到 和前述之實施型態相同的效果之外，還可在空氣層1上適备 搬運玻璃基板G並在空氣層1上穩定玻璃基板(；來旋轉之。 此外，如第20圖所示，在辅助板34和與其鄰接的空氣 室10A，10B之間的間距較大的情況下，在與辅助板34相對 的空氣室10A，10B的側部上，設有可噴出和它們同樣的* 2215-7525-PF 21 ，1272235 氣的空氣管40。藉此，當在空氣層丨上搬運玻璃基 可有效防止玻璃基板G的先端部勾住辅助板34和^氣室i〇a 10B之間的狀態。 ， 、卜如第21圖所不’支持辅助板34的緩衝器可設 置為支持輔助板34的複數個位置的構造。藉此，可將輔助 板34維持在更穩定的水平狀態。 在第22圖的實施型態的基板搬運裝置A2_，為了從對 角方向（和第一水平方向F1或第二水平方向以形成四十五 度：的水平方向)夾持在空氣層!上受到支持的玻璃基板G 的突出部等，在空氣層1的四個位置設置央持機構7。 此爽持機構7具有射氣層1的下方的適當處沿著對角 方向延伸至外側的水平桿7〇、固定於水平桿7〇的先端且從 平面視角觀看時為Μ字形的金屬零件71、以可在此金屬零件 71的各先端自由旋轉的方式受到支持的滾輪72。未特別圖 不’但在空氣層1的下方的適當處，設有用來在對角方向移 動水平桿7 〇的致動器。 猎由此種夾持機構7,當玻璃基板G從導向滾輪22移動 至真空吸附盤33時或從真空吸附盤33移動至空氣層L不久 之^水平桿移動’以使玻璃基板G的突出部銜接至滾輪 # 卩使玻璃基板G為不受導向滾輪2 2規範的狀熊， 玻璃基板G的突出部從對角方向受到滾㈣的夹持，所:， 叮適^修正玻璃基板G的狀態。 在第23圖至第27圖的實施型態的基板搬運裝置A3中，

夾持機構7設置於空·氣層！的端部上方（參照第23圖），銜接 2215-7525-PF 22 1272235 至玻璃基板G的突出部的滾於7 動器73及水平方^ 為接由垂直方向移動用致 。夕動用致動器74移動的構造（參照第25 匿1主弟圖）。 在滾輪72的下部中心、，設有一邊連接至其他元件一邊 :⑽體72。另外，如第24圖所示，在失持機構7所在的 立曰的端#上，對應玻璃基板G的突出部，形成缺角端 部1Β。在此缺角端邻^ , 、、^ "卩1B上’汉有在空氣層1的下方的適當處 透過緩衝气85受到支持的輔助板84(參照第25圖至第27 圖）。 、、5助板μ為可填平缺角端部1B的設置，緩衝器85和前 述之κ %型怨相同，為在活塞狀的可動元件託a和汽缸狀的 固定兀件85β之間裝填彈簧85C的構造。 如第25圖所示，當玻璃基板G被搬運至空氣層1上或旋 轉寺夾持機構7的滾輪7 2在未銜接玻璃基板的既定的上 4置辅助板84在空氣室1 〇B和上面大約一致的狀態下，受 到緩衝$ 85的支持。換言之，空氣層i的缺角端部ιβ藉由輔 助板84填平。因此，當玻璃基板G在空氣層1上移動或旋轉 寸玻璃基板G的突出部會謹慎地下垂，不用擔心勾到缺角 端部1B的邊緣。 其後’如第26圖所示，當修正玻璃基板(j的狀態時，夾 持機構7的滚輪72從既定的上位置下降至下位置。此時，設 置於滾輪72的下部中心的球體72A—邊銜接至辅助板84, 一 邊壓下輔助板84。藉此，緩衝器85的彈簧85C被壓縮，輔助 板84變成位於空氣室1〇B的上面的下方的狀態。結果，滾輪

2215-7525-PF 23 1272235 72亦配置於比空氣室1 〇β的上面稍微下方的位置，變成可適 當銜接至玻璃基板G的突出部的狀態。 其後，如第27圖所示，在壓下辅助板84的狀態下，滾 輪72在水平方向前進移動，當此滾輪72銜接至玻璃基板6 的犬出部時，玻璃基板G的突出部變成受到滾輪72夾持的狀 態，可適當修正空氣層丨上的玻璃基板〇的狀態。 如以上所述，在修正玻璃基板G的狀態之後，滾輪 被拉至如第25圖所示的原來的既定的上位置，其後，玻璃 基板G進一步保持適當的狀態被搬運。 於是，藉由本實施型態的基板搬運裝置A3，除了可得 到和前述之實施型態相同的效果外，當在空氣層丨上旋轉玻 璃基板G時’透過玻璃基板G之突出部的空氣層i的缺角端部 1B藉由辅助板84形成平面，所以，玻璃基板G的突出部可謹 '下垂可確貝防止會勾到空氣層1的缺角端部1B的情 況。

另-方面’當修正玻璃基板G的狀態時，可在不妨礙輔 助板84的耗下，彈性壓下此辅助板84，將狀態修正用的 滾輪72銜接至玻璃基板g的突屮邮 ^ ^ J犬出部。另外，夾持機構7設置 於空氣層1的上方，所以，会人I u t 3夾持機構7的基板搬運裝置 A3的設置空間可盡可能地縮小。 ^1將本發明改變為其他各種 2。此種改變不脫離本發明之思想及範圍，業界所作的 所有明顯的變更皆應包含於下面的申請專利範圍之中。

2215-7525-PF 24 1272235 【圖式簡單說明】 實施型態的 第1圖為表示本發明之基板搬運裝置之 全體立體圖。 " 第2圖為第1圖所示之基板搬運裝置的俯視圖。 第3圖為第1圖所示之基板搬運裝置的側視圖。 第4圖為第1圖所示之基板搬運裝置的内部構造圖。 第5圖為第1圖所示之基板搬運裝置所包含的支 的部分剖面圖。 ^

第6圖為第1圖所示之基板搬運裝 部分剖面圖。 1所㈠的…的 第7圖為用來說明第丨圖所示之基板搬運裝置之動 整體立體圖。 、 第§圖為用來說明第1圖所示之基板搬運裝置之動作 整體立體圖。 ' 第9圖為用來說明第丨圖所示之基板搬運裝置之動作的 整體立體圖。 、 第10圖為用來說明第1圖所示之基板搬運裝置之動作 的整體立體圖。 第11圖為第10圖所示之狀態之基板搬運裝置的内部構 造圖。 第12圖為用來說明第1圖所示之基板搬運裝置之動作 的整體立體圖。 第13圖為第12圖所示之狀態之基板搬運裝置的内部構 造圖。 2215-7525-PF 25 1272235 第14圖為用來說明第1圖所示之基板搬運裝置之動作 的整體立體圖。 第15圖為第14圖所示之狀態之基板搬運裝置的内部構 造圖。 第16圖為其他實施型態之基板搬運裝置的俯視圖。 第17圖為第16圖所示之基板搬運裝置的重要部位剖面 圖。 第18圖為第16圖所示之基板搬運裝置的重要部位剖面 I圖。 第19圖為第1 6圖所示之基板搬運裝置的重要部位剖面 圖。 第2 0圖為其他實施型態之基板搬運裝置的重要部位剖 面圖。 第21圖為其他實施型態之基板搬運裝置的重要部位俯 視圖。 弟22圖為其他貫施型態之基板搬運裝置的俯視圖。 > 第23圖為其他實施型態之基板搬運裝置的俯視圖。 第24圖為第23圖所示之基板搬運裝置的重要部位俯視 圖。 第25圖為第23圖所不之基板搬運裝置的重要部位剖面 圖。 第26圖為第23圖所示之基板搬運裝置的重要部位剖面 圖。 第27圖為第23圖所示之基板搬運裝置的重要部位剖面 26

2215-7525-PF ^ 1272235 圖0 【主要元件符號說明】 F1第一水平方向 F2第二水平方向 A，B1〜B4，C基板搬運裝置 C1手臂部 G玻璃基板 φ G1旋轉移動範圍 1空氣層 1A中央開口部 2A，2B第一支持裝置 / 2C，2D第二支持裝置 ， 3旋轉裝置 4框架台 5固定方塊 籲 7爽持機構 10A， 10B空氣室 10a上面 10b空氣喷出孔 11空氣管 12多孔元件 20致動器 21可動方塊 27

2215-7525-PF 1272235 21 b空氣喷出孔 22導向滾輪 2 2a小徑部 22b大徑部 23滾輪旋轉用馬達 24輸送帶 25多齒輪 30可動基座 • 31旋轉用馬達 32旋轉單元 33真空吸附盤 34輔助板 ^ 34A 孔 ' · 35緩衝器 35A可動元件 35B固定元件 ❿ 35C彈簧 70水平桿 71金屬零件 滾輪 73垂直方向移動用致動器 74水平方向移動用致動器 8 4輔助板 85緩衝器 28

2215-7525-PF 1272235 85A可動元件 85B固定元件 85C彈簧

2215-7525-PF 29

Claims (1)

1272235 十、申請專利範圍： I 一種基板搬運裝置，用來 形狀的基板維持在水平方向並轉：:=角觀看為矩形 其特徵在Μ括：轉換該基板的方向來搬運， 的緩=層’形成和上述基板的下面之間的空氣壓所產生 支持裝置，鄰接至上述空氣 動上述空氣層上的上述基板的側緣部，作為支持；及㈣ 旋轉裝置，設置為可在上述空氣層的中央部位上下移 動且可繞著垂直軸周圍旋轉，當到達既定的上位置時，支 持上述空氣層上的上述基板的下面中央部，在此支持狀能 下’藉由繞著垂直軸周圍旋轉，將該基板的方向從上述第 水平方向轉換為和該第一水平方向不同的第二水平方向 或其相反方向》 2 ·如申請專利範圍第1項之基板搬運裝置，其中，上述 支持裝置沿著上述第一水平方向支持搬運至上述空氣層的 上述基板的侧緣部，其後，上述旋轉裝置取代上述支持裝 置’繼績支持上述基板的下面中央部，繞著垂直軸周圍旋 轉，藉此，將該基板的方向從上述第一水平方向轉換為上 述第一水平方向。 3·如申請專利範圍第1項之基板搬運裝置，其中，上述 旋轉裝置沿著上述第一水平方向支持搬運至上述空氣層的 上述基板的下面中央部，並且，繞著垂直軸周圍旋轉，藉 2215-7525-PF 30 1272235 此’將該基板的方向從上述第二水平方向轉換為上述第— 水平方向，其後，上述支持裝置取代上述旋轉裝置，支持 上述基板的側緣部，藉此，使該基板沿著上述 向移動。 万 4. 如申請專利範圍第1項之基板搬運裝置，其中，上述 空氣層在構造上具有和上述基板約略相同的矩形形狀。^ 5. 如申請專利範圍第4項之基板搬運裝置，其中，上述 支持裝置分別鄰接至與上述空氣層相對的侧部而設置。 6·如申請專利範圍第1至3項中任一項之基板搬運裝 置”中，上述空氣層的構造為，將複數個於上面具有空 氣喷出孔的空氣室配置於上述旋轉裝置的周圍，此複數ς 空氣室中的至少其中一個在沿著上述第二水平方向和其他 基板搬運裝置之間搬運上述基板時，和上述支持裝置一起 位於既定的下位置，被設置為可上下移動。 7·如申請專利範圍第】至3項中任一項之基板搬運裝 置，ί中，上述支持裝置具有上下移動用致動器、藉由此 致動益上下移動的可動方塊、複數個以支持上述基板的侧 緣部的方式設置於上述可動方塊上且用來沿著上述第一水 平方向移動該基板的導向滾輪。 8·如申請專利範圍第7項之基板搬運裝置，其中，在上 述可動方塊的上面，設有空氣噴出孔。 9·如申請專利範圍第1至3項中任一項之基板搬運裝 置’其中，上述旋轉裝置具有上下移動用致動器、藉由此 致動器上下移動的可動基座、設置於此可動基座的旋轉用 2215-7525-PF 31 1272235 馬達、藉由此馬達繞著垂直軸周圍旋轉的旋轉單元 個以真空吸附上述基板之下面中央部的方式設置於上二旋 轉單元的上部的真空吸附盤、用來在此複數個真空吸附盤 產生真空狀態的真空幫浦。

1 0 ·如申明專利範圍第9項之基板搬運裝堇，其中，在 上述空氣層的中央部位，形成開口部’並且，在與此中央 開口部對應的位置上，配置上述旋轉裝置，上述旋轉裝置 的構造為，進一步具有複數個可嵌入上述複數個真空吸附 盤的孔’並且’具有在上述旋轉翠元的上部透過緩衝器受 到支持的輔助板，此輔助板在上述可動基座到達既定的下 位置時’到達上述複數個真空吸附盤的上方，填平上述中 央開口部。 11.如申請專利範圍第10項之基板搬運裝置，其中，上 述輔助板的構造為’當上述可動基座於上述空氣層上配置 上述基板的狀態下到達既定的上位置時，藉由壓回上述基

板，對抗上述緩衝器的彈力來移位，在上述複數個真空= 附盤嵌入上述複數個孔的狀態下，真空吸附該基板的下面 中央部。 12.如申請專利範圍第1至3項中任一項之基板搬運裝 置其中，在上述空氣層上，設有可夾持與上述基板相對 之突出部的失持機構。 13·如申睛專利範圍第12項之基板搬運裝置，其中，上 述夾持機構設於上述空氣層的端部上方，其構造為，使可 銜接至上述基板之突出部的滾輪在垂直方向及水平方向移 2215-7525-PF 32 *1272235 f 動0 14·如申請專利範圍第13項之基板搬運裝置，其中， 在上述夾持機構所在的上述空氣層的端部上，設有在該空 氣層的下方的適當處透過緩衝器受到支持的辅助板，此辅 助板的構造為，當上述夾持機構的滚輪到達既定的上位置 日令化著上述空軋層的上面形成平面，另一方面，當上述 滾輪到達既定的下位置時，藉由壓下此滾輪，對抗上述緩 衝益的彈力，移位至下方，該滾輪繼續在水平方向前進移 籲動’銜接至上述基板的突出部。 2215-7525-PF 33