1248657 A7 B7 五、發明説明（1 ) 發明所屬之技術領域 本發明係相關於在如LCD基板之被處理基板之上藉由 光刻法（Photolithography)形成電路圖案之基板處理系統 〇 先前技術 近來，LCD (液晶顯示板）大型化非常明顯。隨著製造 線之擴大，玻璃基板之搬送和處理益加困難。爲了應付如 此之LCD基板的大型化，於使用在LCD製造之塗敷顯影處 理系統，在使基板通過之搬送線（搬送路徑）並排敷設案 輥輪，藉由案滾輪將基板漸漸地搬送於水平方向，且沿著 搬送線採用藉由配置之處理裝置順序處理基板之所謂之「 平流方式」。在此平流方式之系統，按照光刻程序之流程 之順序（以下稱爲「程序流程」）順著搬送線直線排列地 配置多數之處理裝置。 在此種直線排列線型之系統，從任何一個部位發生故 障時和維修檢查上之必要性要使系統全體之處理停止，或 使處理慢下來。又，雖然未到停止處理的地步但即使在處 理停滯之場合，位在程序流程之上流側之全部之處理部受 到影響，不是停止各自之處理，就是不得不慢下來。 此種場合，在平流方式之處理部，爲了在順著水平搬 送路徑配置之各種工具通過旁邊之基板以一定之計時順序 施予一連串之處理能正常動作，若因在下游側之處理部處 理步驟停滯之影響使該水平搬送路徑上之基板停滯，處理 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） >------J— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -5- 1248657 A7 B7 五、發明説明（2 ) 內容和處理結果不能按照設定，且產量降低之缺點會產生 〇 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 發明內容 本發明之目的係提供一種基板處理系統，在系統內之 一部份即使程序流程停滯將上流側之處理部或被處理基板 受到的影響抑制在最小限度。 經濟部智慧財產局Μ工消費合作社印製 本發明之基板處理系統係沿著往復於從基板盒站（ Cassette Station)至曝光裝置之間之搬送線順序搬送複數之 基板而加以處理之基板處理系統，其特徵係具備；沿著前 述搬送線具有設在上流側之第1處理部和設在下游側之第2 處理部之複數處理單元群、從前述第1處理部接受沿著前 述搬送線所搬送之基板之第1搬送單元、配置在較前述地1 搬送單元更下游側而將通過第1搬送單元之基板送出至前 述第2處理部之第2搬送單元、設在前述第1和第2搬送 單元之中之至少一方之上方之熱處理部、設在前述第1和 第2搬送單元之中之至少一方之下方而爲了避免在前述搬 送線上之基板彼此之碰撞使基板停留之至少一個緩衝單元 、在前述第1和第2搬送單元和前述緩衝單元之間搬送基 板之交接臂機構。 在本發明之系統，隔著搬送單元下側之緩衝單元幾乎 完全隔離於上側之熱處理部之熱處理單元。藉此存放於緩 衝單元之基板只受到熱處理單元稍微之影響，特別是熱處 理單元之場合可避免受到熱的影響。又，在緩衝單元部使 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -6- 1248657 A7 B7 五、發明説明（3) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 用中，搬送手段沒有必要通過緩衝單元更不必說甚至沒有 必要通過其旁，在處理單元集中配置之範圍內可非常地有 效率地完成搬送行程。 在本發明系統之典型之一形態，於控制手段判斷往熱 處理部和第2處理部之任何一個不可搬入基板時，藉由交 接臂機構使在第1搬送單元接收之基板收納在緩衝單元之 一。此場合，在不可搬入之熱處理部或第2處理部應該被 進行之處理之前1個或前複數個步驟之處理爲止已完畢之 後將基板收納於緩衝單元，由此可將處理流程之停滯和產 量之降低止於最小限度。 交接臂機構之較佳形態係具有可於垂直方向升降之升 降搬送體、在此升降搬送體上可繞著垂直軸迴轉之迴旋搬 送體以及在此迴旋搬送體上支持基板且在水平面內可於前 後方向伸縮之輸送臂固定器。交接臂機構對屬於左右一對 之多段單元部之單元群可自由地通過，在這些單元群可搬 入和搬出基板。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 複數緩衝單元以多段方式疊積於第1和第2搬送單元 之下方，每個這些緩衝單元可收納各一片基板。在此場合 ，較好是更具有爲了在緩衝單元內形成惰性氣體之環境之 手段。 第1處理部形成搬送線之一部分，可具有以實質水平 姿勢於水平方向搬送基板之搬送路徑以及在搬送經前述搬 送路徑上之基板施予既定之處理之處理手段。藉此緩衝單 元之有用性特別高，可避免第1處理部之平面移動之處理 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐) 1248657 A7 B7 五、發明説明（4) 之不預期中斷。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 熱處理部爲了對基板施予隨附第1或第2處理部之處 理之熱處理，可具有上下多段被疊積上之複數熱處理單元 。此場合，熱處理單元可包含由從加熱單元、冷卻單元和 附著單元所形成之群所選擇之1或2以上。 更且，可具有分擔控制複數處理單元和交接臂機構之 複數區控制器以及並排連接於各個區控制器，爲了在搬送 路徑上後到的基板不至於撞上前行的基板統籌控制前述複 數區控制器之主控制器較好。在此場合，主控制器在系統 內掌握時時刻刻變化之全部基板之現在位置，基於該掌握 之基板之現在位置可控制各個前述複數區控制器之時間。 圖式之簡單說明 第1圖係顯示依據本發明之一實施形態之之基板處理 系統之槪略平面圖； 第2圖係顯示第1熱處理部和基板搬送機構之側視圖 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第3圖係顯示第2熱處理部和基板搬送機構之側視圖 第4圖係顯示第3熱處理部和基板搬送機構之側視圖 第5圖係顯示基板處理系統之控制系統之方塊圖；以 及 第6圖係顯示基板處理系統之正常時之處理之程序之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -8- 1248657 A7 B7 五、發明説明（5 ) 流程圖。 圖號簡單說明 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 10塗敷顯像處理系統 12曝光裝置 14基板盒站（C /S) 16處理站 （P /S) 18介面站（I /S) 20基板盒台 22次臂機構 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 22a搬送臂挾持器挾持座 24洗淨處理部 26第1熱處理部 28塗敷處理部 30第2熱處理部 32顯像處理部 34脫色處理部 36第3熱處理部 40梭 41準分子UV照射單元（e-UV) 42洗滌器洗淨單元 44上流側之多段單元部（TB) 46交接臂機構 48下游側之多段單元部（TB) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 1248657 A7 B7 五、發明説明（6) 50基板交接用搬送單元（PASS) 60下游側搬送單元（PASS) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 68導軌 70升降搬送體 72迴旋搬送體 74臂挾持器 76驅動部 78驅動部 80驅動部 82光阻劑塗敷單元（CT) 84減壓乾燥單元 86修邊器單元 88多段單元部 90交接臂機構 92多段單元部（TB) 94顯像單元（DEV) 96 I線UV照射單元（I-UV) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 98多段單元部 100交接臂機構 102多段單元 104搬送裝置 10 6緩衝台 10 8伸展冷卻站 110標題器/周邊曝光裝置 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -10- 1248657 A7 B7 五、發明説明（7) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 521加熱單元（DHP) 522加熱單元（DHP) 523加熱單元（DHP) 524加熱單元（DHP) 621冷卻單元（C〇L) 622冷卻單元 （C〇L) 671緩衝單元 672緩衝單元 673緩衝單元 674緩衝單元 675緩衝單元 676緩衝單元 201區控制器（B /C) 202區控制器（B /C) 203區控制器（B /C) 204區控制器（B /C) 205區控制器（B /C) 206區控制器（B /C) 207區控制器（B /C) 561黏著單元 562黏著單元 200主控制器（M /C) 發明之實施例 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -11 - 1248657 A7 B7 五、發明説明（8) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 以下，參照所附之圖示針對本發明之較佳之實施型態 加以說明。在本實施形態按照一連串之光刻法（ Photolithography )程序處理做爲被處理基板之LCD基板之 塗敷顯影處理系統爲例說明。 如第1圖所示，塗敷顯影處理系統在無塵室內鄰接曝 光裝置12設置。在塗敷顯影處理系統10之中央部配置於X 軸方向伸展出之處理台（P/S) 16。處理站（P/S) 16之 一端連結於基板盒站（C/S) 14，另一端則連結於介面站 (1/ F ) 18。 基板盒台（C/ S )具備基板盒台20和次臂機構22，作 爲系統10中搬出入基板盒C之搬入出埠而作動。在基板盒 台20上4個基板盒C於Y軸方向直列並排地被承載著。在 基板盒C內水平收納複數片LCD基板G。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 次臂機構22具備挾持基板G之搬送臂挾持器挾持座 22a以及使搬送臂挾持器挾持座22a於X、Y、Z和0似軸 動作之驅動機構（圖未示）。此次臂機構22在鄰接之處理 站（P/S) 16之搬送線A之輥輪台上搭載基板G，從搬送 線B之輥輪台上往上取下基板G。又，次臂機構22在與處 理站（P/ S ) 1 6側之梭40之間可直接交接基板G。 處理站（P/S) 16沿著於系統縱向方向（X軸方向） 延伸出之往復之搬送線A、B配置各處理部於程序流程或步 驟之順序。亦即，在從基板盒站（C/ S ) 14側向介面站（I / F ) 1 8側之往路之搬送線A按照洗淨處理部24、第1熱 處理部26、塗敷處理部28和第2熱處理部30之順序直線 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12- 1248657 A7 B7 五、發明説明（9 ) 被排列著。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 另一方面，在從介面站（I/F) 18側向基板盒站（C/ S ) 14側之復路之搬送線B按照第2熱處理部3 0、顯影處 理部32、脫色處理部34和第3熱處理部36之順序直線被 排列著。在此搬送線，第2熱處理部30位於往路之搬送線 A之最末尾之位置，且在迴路之搬送顯B之最前頭位置， 橫跨於兩搬送線A、B間。 在兩搬送線A、B之間設有輔助搬送空間38，以1片 單元可水平地載置基板A之梭40藉由未圖示之驅動機構形 成可雙方向移動於搬送線方向（X軸方向）。 在上流部之搬送線A，洗淨處理部24包含著洗滌器洗 淨單元（SCR ) 42，在鄰接此洗滌器洗淨單元（SCR ) 42內 之基板盒站（C/S) 10之場所配置激磁UV照射單元（e-UV) 41。洗滌式洗淨單元（SCR) 42內之洗鏡部藉由輥輪 搬送或輸送帶搬送以水平姿勢於搬送線A方向搬送LCD基 板G且施予刷洗洗淨和沖洗洗淨於基板G。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 鄰接於洗淨處理部24之下游側之第1熱處理部26沿 著搬送線A在中心部設置縱型之交接臂機構46，在其前後 兩側多段疊積配置複數單元。 具體而言，如第2圖所示，在上流部之多段單元部（ TB ) 44，於基板交接用之搬送單元50之上，多段疊積脫水 烤乾用之加熱單元（DHP) 521、522和附著單元（AD) 561 。此處，搬送單元（PASS ) 50提供爲了從洗滌器洗淨單元 (SCR ) 42收取洗淨處理完畢之基板G。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -13- 1248657 A7 B7 五、發明説明（1C) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，在下游側之多段單元部（TB ) 48，於基板交接用 之搬送單元（PASS) 50之上多段疊積冷卻單元（CL) 621 、622和附著單元（AD) 562。此處，搬送單元（PASS) 60 提供爲了向塗敷處理部28側傳遞應該接受光阻劑塗敷處理 之基板G之空間。 在上流側之搬送單元（PASS) 50之室內，洗滌器洗淨 單元（SCR) 42之水平搬送路徑（圖未示）被引入。此種 水平搬送路徑構成搬送線之一部分。更且，可設置爲了以 水平姿勢舉起搬送路徑上之基板之可升降之撐桿（圖未示 )° 在本實施形態，上流側和下游側之兩多段單元部（TB )44、48個別設有1個或數個緩衝室（BUF)。亦即，如 第2圖所示，在上流側搬送單元（PASS) 50之下方多段疊 積3個緩衝單元（BUF) 671、672、673，且在下游側搬送 單元（PASS) 60之下方亦多段疊積3個緩衝單兀（BUF) 674、67 5、676。在緩衝單元（BUF) 671〜676之室內設置 數個撐桿（圖未示），而可從交接臂機構46交接基板G。 經濟部智慧財產局g(工消費合作社印製 這些緩衝單元（BUF) 671〜676，屬於熱處理部之單元 之空間無，爲了避免在搬送線A、B上基板G之間互撞，利 用來作爲使基板暫時滯留（待機）之規避場所。 在第2圖，交接臂機構46具有沿著延長於鉛直方向之 導軌68可移動升降之升降搬送體70、在此升降搬送體70 上可旋轉或迴旋於Θ方向之迴旋搬送體72、在此迴旋搬送 體72上挾持基板且可於前後方向進退或伸縮之搬送臂挾持 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -14 - 1248657 A7 B7 五、發明説明（11) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 器或撐桿組74。爲了驅動升降搬送體70升降之驅動部76 設置在垂直導軌68之基端側，爲了驅動迴旋搬送體72迴 旋之驅動部78裝置在升降搬送體70，爲了驅動搬送臂挾持 器74進退之驅動部80裝置在旋轉搬送體72。各驅動部76 、78、80可例如由電子馬達等所構成。 交接臂機構46在區控制器205之控制下，不是高速升 降就是迴旋運動而通過從兩鄰之多段單元部（TB) 44、48 之中所選擇之任意單元，可搬入搬出基板G。又，交接臂
機構46與輔助搬送空間38側之梭40亦可直接交接基板G 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如第1圖所示，塗敷處理部28鄰接第1熱處理部26 之下游側而設置。在塗敷處理部28，光阻劑塗敷單元（CT )82、減壓乾燥單元（VD) 84和修邊器單元（ER) 86沿著 往路搬送線A成一列並排。圖示雖省略，在塗敷處理部28 內設置爲了按照步驟順序1片1片在這3個單元（CT ) 82 、（VD ) 84、（ ER ) 86搬入和搬出基板G之內部搬送裝置 (圖未示），在各單元（CT) 82、（ VD) 84、（ ER) 86內 以1片基板之單元進行各處理。再者，內部搬送裝置（圖 未示）亦可通經第1熱處理部26之下游側之搬送單元（ PASS) 60。 如第3圖所示，第2熱處理部30實質上與上述第1熱 處理部係相同構造，設置在往路搬送線A和復路搬送線B 之間。亦即，第2熱處理部30在往路搬送線A側（最末尾 )具有一方向之多段單元部（TB ) 88，在復路搬送線B側 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -15- 1248657 A7 B7 五、發明説明（13 (前頭）具有它方向之多段單元部（TB) 92。在第2處理 部30，於上流側之多段單元部（TB ) 88和下游側之多段單 元部（TB ) 92之間設置交接臂機構90，上流側之多段單元 部（TB) 88具備第1搬送單元50。第1搬送單元50形成 從修邊器86交接基板G。 在往路側之搬送單元（PASS ) 50之上方預熱用之2個 加熱單元（DHP) 521、522和1個冷卻單元（COL) 621被 疊積著。更且，在搬送單元（PASS) 50之下方設置著3段 之緩衝單元（BUF) 671、672、673。 另一方面，在復路側之多段單元部（TB) 92,設置爲 了向顯影處理部32傳遞基板G之搬送單元（PASS) 60 °在 此搬送單元（PASS ) 60之上方亦疊積與熱用的2個加熱單 元（DHP ) 5 23、5 24和1個冷卻單元（COL ) 622。更且’ 在搬送單元（PASS) 60之下方亦設有3段之緩衝單元（ BUF) 674、675 和 676 ° 交接臂機構90在區電腦（B/C) 205之控制之下’高 速升降乃至迴旋運動通經從兩相鄰之多段單元部88和92 之中所選擇之任意之單元可進行基板G之搬入出’藉由兩 搬送單元（PASS) 50、60與塗敷處理部28和顯影處理部 32可以1片單元交接基板G。又，交接臂機構90與輔助搬 送空間38內之梭40和後述之介面站（1/ F ) 18亦可以1 片單元交接基板G。 在復路搬送線B，顯影處理部32以水平姿勢搬送基板 G且進行一連串之顯影處理步驟，包含所謂平流方式之顯 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -16- 1248657 A7 B7 五、發明説明（1含 影單元（DEV) 94。在此顯影處理部32內，例如尺寸1〇〇〇 〜1200mm之LCD基板G最大8片爲止可一列並排。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在顯影處理部32之下游側隔著脫色處理部配置第3熱 處理部36。脫色處理部34具備爲了在基板之被處理面照射 I線（波長365nm)進行脫色處理之i線UV照射單元（i — UV ) 96。 如第4圖所示，第3熱處理部36與上述第2熱處理部 30實質上係相同構造，設置在復路搬送線B之I線UV照 射單元（i — UV) 96和基板盒站20之間。亦即，第3熱處 理部36在上流側具有一個多段單元部（TB) 98，在下游處 具有另一個多段單元部（TB) 102。在第3熱處理部36，於 上流側之多段單元部（TB) 98和下游側之多段單元部（TB )102之間設置交接臂機構1〇〇，上流側之多段單元部（TB )98具備第1搬送單元50。第1搬送單元50從i線UV照 射單元（i一 UV) 96可交接基板G。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在上流側之搬送單元（PASS) 50之上方燒烤後用之2 個加熱單元（DHP) 521、522和1個冷卻單元（COL) 621 被疊積著。更且，在搬送單元（PASS) 50之下方設有3段 之緩衝單元（BUF) 671、672和673。 另一方面，在復路搬送線B側之多段單元部（TB) 102 ，設有爲了往基板盒站C/ S20傳遞基板G之搬送單元（ PASS) 60。在此搬送單元（PASS) 60之上方一疊積有燒烤 後用之2個加熱單元（DHP) 523、524和1個冷卻單元（ COL) 622。更且，在搬送單元（PASS) 60之下方亦設有3 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -17- 1248657 A7 B7 五、發明説明（ 段緩衝單元（BUF) 674、67 5和67 6。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 第3熱處理部36具有與上述第1熱處理部26和第2 熱處理部30同樣之構造，沿著搬送線B設置著縱行之交接 臂機構100和在其前後兩側之一對多段單元部（TB) 98、 102 〇 交接臂機構100在區控制器205之控制下，高速升降 乃至旋轉運動可通經兩相鄰之多段單元部（TB) 98、102之 中之任意單元，兩多段單元部（TB) 98、102之搬送單元經 由搬送洗淨單元（PASS · COL)各自與i線UV照射單元（ i 一 UV) 96和基板盒站（C/S) 14可以1片單元交接基板 G。又，交接臂機構100亦與輔助搬送空間38內之梭40以 一片單元接收基板G。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 介面站（I/F) 18在與曝光裝置12之間具有爲了基板 G之搬送裝置104。在搬送裝置104之周圍設置著緩衝台（ BUFS ) 106、伸展冷卻台（EXT · COL) 108和周邊裝置110 。在緩衝台（BUFS) 106設置固定置放型之緩衝基板（圖 未示）。延伸冷卻台（EXT · COL) 108係具備冷卻機能之 基板交接用之台，使用在與處理站（P/S) 16側交接基板 之時。週邊裝置110係上下堆疊例如標題器（TITLER)和 周邊曝光裝置（EE)之構造。搬送裝置104具有次臂機構 104a，與曝光裝置12和各單元（BUFS) 105、（ EXT · COL )106、（ TITLER/EE) 110進行基板G之交接。 如第5圖所示，主控制器（M/ C ) 200並排連接數個 區控制器（B / C ) 201〜207，送達指令至B / C201〜207之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -18- 1248657 A7 B7 五、發明説明（1冷 每一個統籌控制系統全體。各B/C201〜207分擔承接系統 內之機器和單元，個別控制承接範圍之機器和單元之動作 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 〇 從第1至第5圖之B / C201〜205分擔處理站（P/ S ) 24之各部之控制。例如，第1B/C201承擔激磁UV照射單 元（e - UV) 41、洗滌器洗淨單元（SCR) 42和第1熱處理 部26之多段單元部（TB ) 44、48之控制。第2B/ C202承 擔塗敷單元（CT ) 82、減壓乾燥單元（VD ) 84、修邊器（ ER) 86之控制。第3B/C203承擔顯影單元（DEV) 94、第 2熱處理部之多段單元88、92 ( TB)之控制。第4B/C204 承擔顯影單元（DEV) 94、I線UV照射單元（i — UV) 96 和第3熱處理部之多段單元98、102 ( TB)之控制。第5B /C205承擔第1〜第3交接臂機構46、90、100和梭40之 控制。 第6B/C206分擔基板盒站（C/S) 14之各部之控制 ，例如承擔次臂機構22和空調用FFU (圖未示）之控制。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第7B/C207分擔介面站（I/F) 18之各部之控制，例 如承擔例如次臂機構104、緩衝站106、伸展冷卻台（EXT • COL) 108、標題器（TITLER) /周邊曝光裝置（EE) 110之控制。 第6圖顯示基板處理系統之正常時之處理之順序之流 程圖。首先，在基板盒站（C/ S ) 14，次臂機構22從台20 上之既定之基板盒C之中取出1個基板，搬入處理站（P/ S) 16之洗淨處理部24之激磁UV照射單元（e - UV) 41 ( 本紙張尺度適用^國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） "" 一 -19 - 1248657 A7 B7 五、發明説明（10 步驟S 1 )。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在激磁UV照射單元（e - UV) 41內基板G實施由紫外 線照射之乾式洗淨（步驟S2 )。在紫外線洗淨結束後，基 板G藉由基板盒站（C/S) 14之次臂機構22移入洗淨處 理部24之洗滌器洗淨單元（SCR ) 42。 在洗滌器洗淨單元（SCR) 42，如上所示藉由輥輪搬送 或輸送帶搬送以水平姿勢於基線A方向平面移動搬送基板 G且藉由實施擦洗洗淨和吹洗洗淨於基板G之表面，從基 板表面除去粒子狀之髒污（S3 ).。_之後，洗淨後亦平面移 動搬送基板G且實施沖洗處理，最後使用氣刀等乾燥基板 G。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在洗滌器洗淨單元（SCR ) 42內洗淨處理完畢之基板G 搬入第1熱處理部26之上流側多段單元部（TB ) 44內之搬 送單元（PASS ) 50。之後，基板G經由下游側多段單元部 (TB) 48之搬送單元60搬送於輥輪台上，或搬入緩衝單元 671〜676之中之任何之一，等待至停滯解除時間到來。一 到停滯解除時間到來，交接臂機構46從緩衝單元取出基板 G，搬送到搬送單元（PASS)，承載於下游側之輥輪台。 對於基板採取哪一路線搬送由M/ C200判斷。M/ C200掌握在系統內時刻變化之全部之基板之現在位置，基 於其掌握之基板之現在位置控制B/C201〜207之各個之時 間。首先，M/C200基於面板登錄表求得預測計時時間， 判定在基線A之輥輪台上後來之基板G是否撞上前面之基 板G。 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -20- 1248657 A7 B7 五、發明説明（17) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 判定爲是時，M/ C200送出信號至B/ C205，更且B/ C205送出信號至交接臂機構46，在交接臂機構46搬入基 板G於例如第3緩衝單元673 (步驟S4 )。 另一方面，判定結果爲否時，M/C200送出信號至B /C205，更且B/C205送出信號至交接臂機構46,在交接 臂機構搬入第2搬送單元60 (步驟S5)。此否判定結果時 跳過步驟S4從S3進入S5。 以下，有關本實施形態之基板處理程式之幾個軟體用 語分別定義如下。 (1) 「單元面板處理時間（unit panel processing time) 」係1片面板（基板）從進入某單元至處理完畢從該單元 出來爲止之時間。 (2) 「單元作業時間（unit tact time )」係搬送臂支撐 機構連接於單元可搬送之狀態，前面之面板移出單元，下 一個面板移出該單元爲止之時間。通常，在以複數片面板 進入之單元，以一次處理面板片數分割「單元面板處理時 間」求得「單元作業時間」 經濟部智慈財產局Μ工消費合作社印製 (3) 「流程作業時間（flow tact time )」係在以指定某 面板之流程通過之單元之中，於做所指定之處方處理之場 合，使符合最慢之面板之最大步驟作業時間。 (4) 「批量控制作業（lot control task )」係從裝置內 之批量一次通過之全部單元之中，使符合處理時間最長之 作業時間，送出往平面移動單元和光阻劑塗敷系統單元之 面板而控制。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -21 - 1248657 A7 B7 五、發明説明（1令 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在第1熱處理部26，基板G藉由交接臂機構46以既定 之順序轉到熱處理系統的單元。例如，基板G最初從搬送 單元（PASS ) 50轉移到加熱單元（DHP) 521、522之1個 ，在該處接受脫水處理（步驟S5)。 其次，基板G移到冷卻單元（COL) 621、622之1個 在該處至一定之基板溫度爲止被冷卻（步驟S6)。之後， 基板G移到黏著單元（AD) 561、562之1個，在該處接受 排水化處理（步驟S7)。在此排水化處理結束之後，基板 在冷卻單元（COL) 621、622之1個冷卻至一定的基板溫 度爲止（步驟S8)。最後，基板G移到屬於下游側多段單 元部（TB) 48之搬送單元（PASS) 60。 如此，在第1熱處理部26內，基板G經由交接臂機構 46在上流側之多段單元部（TB ) 44和下游側之多段單元部 (TB) 48之間可任意來去。再者，在第2和第3熱處理部 30、36亦進行同樣之基板搬送動作。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在第1熱處理部26接受如上述之一連串之熱或熱系統 之處理之基板從下游側多段單元部（TB ) 48內之搬送單元 (PASS )移往下游側鄰近之塗敷處理部28之光阻劑塗敷單 元（CT) 82。 基板在光阻劑塗敷單元（CT) 82藉由例如旋覆法塗敷 保護液於基板上面（被處理面），接著在下游側鄰近之減 壓乾燥單元（VD) 84接受由減壓之乾燥處理，其次在下游 側鄰近之修邊器單元（ER) 86去除基板邊緣部之多餘（不 要）之光阻劑（步驟S9)。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -23- 1248657 A7 B7 五、發明説明（2諄 接受如上述之光阻劑塗敷處理之基板G交接於屬於從 減壓乾燥單元（VD )相鄰之第2熱處理部30之上流側多段 單元部（TB) 88之搬送單元（PASS)。 在第2熱處理部30內，基板G藉由交接臂機構90以 既定之順序轉到熱處理單元。例如，基板G最初從該搬送 單元(PASS )移到力口熱單元（PREBAKE )之1個，在該處 接受光阻劑塗敷後之加熱（步驟S10)。 其次，基板G移到冷卻單元（COL )之1個，在該處 冷卻至一定之基板溫度（步驟S 11 )。之後，基板G經由 下游側多段單元部（TB) 92側之搬送單元（PASS)或不經 由而往介面站（I/F) 18側之延伸洗淨台（EXT· COL) 106交接。 在介面站（I/F) 18，基板G從延伸洗淨台（EXT· COL) 106搬入周邊裝置110之周邊曝光裝置（EE)，在該 處接受爲了在顯影時除去附著於基板G之周邊部之光阻劑 之曝光後，送往鄰近之曝光裝置12(步驟S12)。 在曝光裝置12於曝光基板G上之光阻劑曝光既定之電 路模式。而後，結束模式曝光之基板G從曝光裝置12回到 面板站（I/F) 18(步驟S11)時，首先搬入周邊裝置110 之（TITLER )，在該處於基板上之既定之部位記錄既定之 資訊（步驟12 )。之後，基板G回到延伸洗淨台（EXT· COL) 106。與介面站（I/F) 18之基板G之搬送和曝光裝 置12之基板G之交換由搬送裝置1〇4所進行。 在處理站（P/S) 16，於第2熱處理部30交接臂機構 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ：------衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -24- 1248657 Α7 Β7 五、發明説明（21) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 90由延伸洗淨台（EXT· COL) 106收取曝光完畢之基板G ，經由基線B側之多段單元部（TB ) 92內之搬送單元（ PASS )交接至顯影處理部32，或搬入緩衝單元671〜676之 中之任一個。 M/C200基於面板登錄表求得預測計時時間，判定在 基線A之輥輪台上後到之基板是否撞上前行基板。判定結 果爲是之時，M/C200傳送信號至B / C205，更且B / C205 傳送信號至交接臂機構90，在交接臂機構90使基板G搬入 例如第2緩衝單元672 C步驟S 14)。 另一方面，判定結果爲否時，M/C200傳送信號至B /C205，更且B/C205傳送信號至交接臂機構90，在交接 臂機構90使基板G搬入第2搬送單元60。此否之判定結果 之時跳過步驟S14從S13進入步驟S15。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在顯影處理部32，搬入從該多段單元部（TB ) 92內之 搬送單元（PASS)所接取之基板G至顯影單元（DEV) 94 。在顯影單元（DEV ) 94基板G以平面移動方式搬送相機 線B之下游，在其搬送中顯影洗淨和乾燥之一連串之顯影 處理步驟被進行（步驟S 1 5 )。 在顯影處理部32接受顯影處理之基板G向下游側鄰近 之脫色處理部34搬入，在該處接受由i線照射之脫色處理 (步驟S16)。脫色處理完畢之基板G交接於第3熱處理部 36之上流側多段單元部（TB) 98內之搬送單元（PASS)。 在第3熱處理部（TB) 98,基板G最初從該搬送單元 (PASS)移至力口熱單元（ΡΟΒΑΚΞ)之1個，在該處接受後 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -25- 1248657 A7 B7 五、發明説明（2念 加熱（步驟S17)。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) M/ C200基於面板登陸表求得預測計時時間，判定在 搬送線B之輥輪台上後到基板是否撞上前行基板。判定結 果爲是之時，M/C200傳送信號至B/C205，更且B/C205 傳送傳送信號至交接臂機構100在交接臂機構1〇〇使基板G 搬入例如第5緩衝單元675 (步驟S18)。 另一方面，判定結果爲否之時，M/C200傳送信號至 B/C205，更且B / C205傳送信號至交接臂機構100，在交 接臂機構100使基板G搬入第2.搬送單元60。此否判定結 果之時跳過步驟S18從步驟S17進入步驟S19。 其次，基板G移到下游側多段單元部（TB ) 102內之 搬送淸洗單元（PASS · COL)，在該處冷卻至既定之基板 溫度（步驟S19)。第3熱處理部36之基板G之搬送藉由 交接臂機構被進行。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在基板盒站（C/S) 14側，次臂機構22從第3熱處理 部36之搬送淸洗單元（PASS · COL)接取塗敷顯影處理之 全部步驟完畢之基板G，接取之基板G收納於任何1個基 板盒C (步驟S1 )。 如上所述，在此塗敷顯影處理系統，限於各部（特別 是處理系統的各部）正常動作，從基板盒站（C/ S ) 14傳 遞至處理15/21站（P/S) 18側之基板G沿著搬送線A、 B移送或轉送經系統內之各部且順次接受所需要之各處理（ S2〜S19)，在一定時間內向基板盒站（C/S)14回送。 但是，在系統內之某處，特別是在處理部故障或其他 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -26- 1248657 A7 B7 五、發明説明（2含
障礙產生時，可向從處理流程之上流側該障礙產生之處理 部轉送或搬入基板G。理所當然，在下游側對線上之基板G (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 可完成剩下的全部處理。 如此系統內之某處處理流程停止，或停滯的場合，在 此實施形態利用配置在較障礙產生場所更上游側之緩衝室 (BUF )做爲基板暫時之留置乃至於保管。 例如，在塗敷處理部28內障礙產生而往該處理部28 之基板搬入變得不可能之場合爲例說明。此場合，配置在 第1熱處理部26之緩衝單元（BUF) 671〜676用於基板G 之留置。 亦即，在塗敷處理部28內產生障礙時，從基板盒站（ C/ S ) 14對洗淨處理部24，特別是對洗滌器洗淨單元（ SCR ) 42停止基板G之新搬入。此時，在洗滌器洗淨單元 (SCR ) 42，於水平搬送路線上以既定間隔成一列搬送例如 5片之複數片基板G且進行平行移動方式之基板洗淨處理 ，若停止平行移動搬送那些基板G會成爲不良洗淨品。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在此實施形態，爲了不輸出該類不良洗淨品，在洗滌 室洗淨單元（SCR) 42使對平面移動搬送終之基板G之洗 淨處理完成。因此，從洗滌器洗淨單元（SCR ) 42對第1 熱處理部26與正常時相同之循環乃至於計時洗淨完畢之基 板G陸續被搬入。 在第1熱處理部26，各基板G儘可能與通常相同之順 序接受熱處理後容納於緩衝單元（BUF) 671〜676之任何 一個。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -27- 1248657 A7 B7 五、發明説明（24 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 更詳細地說，搬入較洗滌器洗淨單元（SCR) 42更上 游側之搬送單元（PASS ) 50之各基板G在加熱單元（DHP )521、522之1個接受脫水處理（步驟S5)，在冷卻單元 (COL) 621、622之1個冷卻至一定之基板溫度（步驟S6 )，之後，在黏著單元（AD) 561、562之1個接受排水化 處理（步驟S7)。至此之一連串之熱處理步驟S6— S7-> S8 之流程與平常相同。 但是，排水化處理之後，基板G若係平常以冷卻單元 (COL) 621、622之1個接受基板溫度固定化之熱處理（ 步驟S8)，其次應送往下游側之搬送單元（PASS) 60，但 是此異常之狀態，取消往冷卻單元（COL) 621、622和搬 送單元（PASS) 60之轉送而轉送於緩衝單元（BUF) 671〜 676之任何一*個。 此處，省略基板溫度固定化之熱處理（步驟S8 )之理 由係此熱處理將其之後緊接著在塗敷處理部28實施光阻劑 塗敷處理做爲前提之前處理，且係來自從交接臂機構46之 產量乃至於各部間之作業時間調整上之理由。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在此種塗敷顯影處理系統，一般而言，設置複數（N 個）同一機能之熱處理單元，藉由在那些N個熱處理單元 錯開固定之時間並排使同一循環時間之熱處理進行，熱處 理部全體之作業時間縮短成1 / N，配合前步驟和後步驟之 處理作業時間，例如，在此實施形態，洗滌器洗淨單元（ SCR) 42之洗淨處理作業時間爲60秒，但第1熱處理部26 之各熱處理單元（AD) 、（DHP)和（COL)之循環時間係 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -28" 1248657 A7 B7 五、發明説明（2冷 100秒前後之場合，藉由如第2圖所示各熱處理部單元（ AD ) 、（ DHP )和（COL )各設2台以50秒前後之時間差 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 使並排運轉，可使熱處理全體乃至於各部之作業時間配合 洗淨處理作業時間。 在如此之多單元方式之熱處理部26，交接機構46幾乎 不間斷地以固定之週期巡迴各熱處理單元般地滿滿的行程 匆忙地動作著，因係異常狀態在平常動作之中無法擠進往 緩衝單元（BUF )轉送基板G動作乃是平常的。在此實施 型態，已取消如在上所述最終段之熱處理步驟之基板溫度 固定化之熱處理（步驟S8)，搬送產量上或作業時間上之 阻礙不會來而實現往緩衝單元（BUF )之基板收納動作。 如上所述，妨礙產生時在洗滌器洗淨單元（SCR) 42 內正在接受著洗淨處理之基板G之全部（例如5片）沒有 任何滯留正常地被實施予平面移動之洗淨處理，且在下一 段之第1熱處理部26亦接受實質上與平常不變之一連串熱 處理之後以1片單元收納於緩衝單元（BUF) 671〜676。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在此實施形態緩衝單元（BUF) 671〜676多段裝置於 搬送單元（PASS) 50、60之下，幾乎完全從在搬送單元（ PASS) 50、60之上所多段裝置之熱處理系統單元（AD) 561、562，（DHP)521、522，（<：〇1^)621、622 隔離。因而 ，保持基板G在未持有溫度調整機能之緩衝單元（Buf ) 671〜676，那些基板G從熱處理系統單元側不會受到熱的 影響。 又’在此實施形態’異常時’特別是如本例停止往處 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -29- 1248657 A7 B7 五、發明説明（2弓 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 理流程之下游側之基板轉送之時，因爲取消如上述最終段 之熱處理步驟之基板溫度固定化之熱處理（步驟S8 )和往 搬送單元（PASS) 60之轉送，所以即使增加在緩衝單元（ BUF) 671〜676收納基板G之搬送步驟，交接臂機構46之 負擔亦不變重。而不必像交接臂機構46如上述正常時以滿 滿的行程忙碌地巡迴作動各處理單元。 此點，在本實施狀態，全部之緩衝單元（BUF ) 67 1〜 676多段重複配置在搬送單元（PASS ) 50、60之下，全部 之熱處理系統單元（AD) 561、562，（ DHP) 521、522，（ COL) 621、6222多段重複配置在搬送單元（PASS)之上， 因而，在不必要通經緩衝單元（BUF) 671〜676之正常時 ，交接臂機構46以最小限度之移動範圍巡迴在搬送單元（ PASS) 50、60之上集中配置之熱處理系統單元（AD) 561 、5 62，( DHP) 521 ' 522，（ COL) 621、622，可有效率地 達成需要的搬送行程。 又，在此實施形態連接於上流側之搬送單元（PASS) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 50和連接於下游側之搬送單元（PASS) 60隔著交接臂機構 46互相獨立，上流側之搬送單元50乃至於搬送路徑與下游 側之搬送單元（PASS) 60乃至搬送路徑可自由設在相同高 度或不同高度。 又，在第1熱處理部26內有某處故障其它障礙產生之 場合。例如，在黏著單元（AD ) 561、562熱板故障變得不 能使用之場合爲例。 此場合，以切換至另一之黏著單元（AD) 562之單獨 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -30- 1248657 A7 __ B7___ 五、發明説明（2为 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 或單部運轉，雖然作業時間變長系統可持續運轉。但是， 在第1熱處理部26切換作業時間之後，馬上從上流側之洗 滌器洗淨裝置（SCR) 42搬入淸洗障礙發生時平面移動搬 送中之基板G之全部爲止在正常作業洗淨完畢之基板G。 在此情形，於第1熱處理部26，以在熱處理之前或間歇暫 時留置從洗滌器洗淨單元（SCR ) 42接取之基板G於緩衝 單元（BUF) 671〜676，可進行作業時間之補償或調整。 在第2和第3熱處理部30、36亦可得與第1熱處理部 26同樣之機能和作用。使在這些熱處理部26、30、36間 聯繫上述基板之留置獨立。緩衝單元（BUF )不僅限於上述 系統產生障礙之場合，因應必要可活用於各種情形。 在此實施形態，緩衝單元（BUF )雖可以正面開口之框 體構成，但亦可設置開關門或擋板。又，在室內可形成例 如氮氣之惰性氣體之環境。該場合，例如從單元框體之後 背部導入氮氣，經由多孔管形成氮氣之均一流動和環境。 又，在上述實施形態，在上述1個緩衝單元（BUF )雖然收 納1片基板，但亦可做成可收納數片之單元構造。 經濟部智慧財產局S工消費合作社印製 本發明之處理系統雖極爲適用於上述塗敷顯影處理系 統，但在系統構造和系統要件可有種種之變化，例如包含 膜形成裝置和鈾刻裝置等之串聯型系統亦可適用。本發明 之被處理基板被處理之基板不限於LCD基板，包含彩色過 濾器和半導體晶圓等之各種/被處理基板。 藉由以上說明，若由本發明之處理系統，在系統內之 一部份即使處理流程停滯，上流側之處理部或被處理基板 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -31 - 1248657 A7 B7 五、發明説明（2每 受到的影響可止於最小限度，可得到處理效率和品質之提 昇0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -32-