TWI243095B - Lamp reflector and reflector - Google Patents

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TWI243095B
TWI243095B TW091108422A TW91108422A TWI243095B TW I243095 B TWI243095 B TW I243095B TW 091108422 A TW091108422 A TW 091108422A TW 91108422 A TW91108422 A TW 91108422A TW I243095 B TWI243095 B TW I243095B
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reflector
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silver
metal
sheet
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TW091108422A
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Hirotaka Yoshida
Shin Fukuda
Hiroshi Ishikawa
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
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    • F21LIGHTING
    • F21SNON-PORTABLE LIGHTING DEVICES; SYSTEMS THEREOF; VEHICLE LIGHTING DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLE EXTERIORS
    • F21S41/00Illuminating devices specially adapted for vehicle exteriors, e.g. headlamps
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    • F21S41/37Illuminating devices specially adapted for vehicle exteriors, e.g. headlamps characterised by reflectors characterised by their material, surface treatment or coatings
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Description

1243095 五、發明說明Ο) 發明背景 1 發明範疇 本發明係關於經由積層銀於聚合物膜組成的反 及使用該反射體之燈管反射器,更特別係關於一 要由銀組成之多層結構之反射體,其耐光性及渴熱ς 絕佳、以及一種使用該反射體之燈管反射器。…$用十 2. 相關技藝說明 至目前為止使用具有高反射比之鋁材料例如有鏡面光整 面之鋁板、鋁沉積片材等作為螢光燈或白熱燈之反射器。
ΐ U用於可見光區之反射比比鋁更高之銀作為反射 層之反射肢,主要用作為液晶顯示裝置之背光燈管反射 器、以及用作為螢光燈管反射罩等。 所謂具有PET(聚伸乙基對苯二甲酸酯)/銀薄膜層/黏著 層/,板結構之銀反射板或所謂具有pET/銀薄膜層/白塗層 /黏/層/鋁沉積層/聚合物膜/白塗層結構之銀反射片接受 預定加工處理例如摺疊處理等而用於前述反射體。
但銀的問題為銀於大氣中因硫化及氧化而劣化,伴隨而 來其反射比比鋁低劣。為了解決此項問題,曾經發展一種 方法二其中,由使用透明聚合物膜PET作為銀保護層來防 止銀藉由暴露於大氣而被硫化及氧化,俾維持高反射比 (曰本專^利公開案 JP-A5 — 1 77758 ( 1 993 )及 JP —A9 — 1 5 0482 Π 99 7 )等)二例如考慮銀反射板之可信度。即使於高溫(80 C )下。也觀察得因硫化等造成黑化或反射比的劣化。但 於8 0 C问/皿’銀變色成紫色,反射比於數百至數千小時時
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間快速劣化。又有問題,於濕熱 濕度),i生多數白點而反射比低劣/U(6〇C,90%相對 此外又有一問題為,雖然當銀 置之側光型背光的燈管反射器時 2液晶顯示裝 度的增高,產生亮線而劣化作為隨著亮 發明概述 王巩口口貝 提供一種使用高反射 用性絕佳,以及例如 射體,以及一種使用 比之銀於反射層, 當用於背光裝置時 該反射體之燈管反
本發明之目的係 且耐光性及濕熱耐 不會產生亮線之反 射器。 為了解決該等問題,本發明人積極從事研究,結果出乎 意外地發現前述問題可經由積層反射體解決,該反射體係 經由使用模製本體循序設置三層亦即一底層、一銀層以及 一透明氧化物層組成之反射體於聚合物膜上,讓反射體之 聚合物膜該侧成為欲黏合側,因而完成本發明。
本發明提供一種燈管反射器,包含至少一基板(A )以及 一形成於基板(A)上的反射層(1〇〇),該反射層(1〇〇)包括 一底層(B)、一主要由銀製成的金屬層(c)、以及一包含無 機物質之保護層(D),該燈管反射器藉照射強度50 0毫瓦/ 平方厘米之模擬太陽光於1〇〇 °C,由反射層一側照射300小 時後,具有於波長550奈米之總反射比為90%或以上。 根據本發明可獲得具有高反射比及高度耐用之燈管反射 器;且當燈管反射器設置於例如液晶顯示裝置等的背光 時,可實現有高亮度之高品質影像而不會產生亮線。
C:\2D-OODE\91-07\91108422.ptd 第6頁 1243095 -------- 五、發明說明(3) — 5月中’較好底層(β)為金屬層,該金屬層包、登 :列組成的組群之金屬:金、銅、鎳、鐵、鈷、鎢,銦自、 、-鉻、銦、錳、鈦及鈀及/或其中至少 =度為5奈米至5。奈米及/或厚度為!奈米至 屬1層或金屬氧化物層製成之單塊本體。 >、金 洛It ί ί發明’可獲得足夠屏蔽效果,當形成主要由•相 絕佳。 才不曰產生附水,且基板與反射層間之黏著性 J發明中,較好主要由銀製 J由銀製成的合金之單塊本體,其厚度二 比根據本發明經由具有足夠厚度之金屬層可獲得預定反射 嗲ίΪΓ t,較好包含無機物質的保護層(D)為金屬声 鐵、:、鶴、銦、组、鉻 '銦、 ::者製成的合金且厚度為5奈米至50奈米及%或//,至 本體。 乳化物層或金屬氧化物層製成之單塊 根據本發明,當形成為主要由銀 得ί分屏蔽效果,且不會產生附聚現ί屬層時’可獲 由底厂層(β)厚度與保護層⑻厚度和對主要 田艮衣成之層(c)之厚度比為〇 005至0 3 又不訂主要 根據本發明’可獲得成本低而模製性及耐用性絕佳之燈 第7頁 C:\2D^DE\93-〇7\91108422.ptd 1243095
1243095 五、發明說明(5) 射:據本發明可獲得成本低以及模製性及耐用性絕佳的反 f發明中,較好保護層(D2)為一層選自下列組 之曰·攙雜5%重量比或以下之氧化鋁的氧化鋅、以及隹 10%重量比或以下之鎵的氧化鋅,保護㈣厚!奈米至2〇: 根$康本發明當製成主要由銀組成的金屬層時,可#彳曰足 夠屏蔽效果而不會產生附聚現象。 又亍
經=使用本發明之反射片,即使反射器於苛刻條件下使 2 ^ %間’仍可獲彳亍具有反射比比紹板高且有高亮度而不 會劣化之反射器。如此經由使用背面經無光澤整理之薄 膜’可提升黏著強度,因而可獲得安定反射體。 實施例之詳鈿詒昍 現在參照附圖說明本發明之較佳具體實施例如後。 圖1為根據本發明之一具體實施例的反射體1之剖面圖。 又’包含無機物質之保護層於後文簡稱為保護層。 本舍明之反射體1包含反射層100及基板40。反射層1〇〇 包含保護層1〇、主要由銀製成之金屬層20以及底層30。
圖2為根據本發明之另一具體實施例的反射器丨a之剖面 圖。 根據本發明之反射器1 a包含反射層1 0 0、基板4 〇及無光 澤整理層5 0。反射層1 〇 〇包含保護層1 〇、主要由銀製成之 金屬層20及底層30。無光澤整理層50係形成於基板之與反 射層1 0 0對側表面上。
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V 1243095 五、發明說明(6) 圖3為根據本發明之一具體實施例的燈反射器2之剖面 圖。 根據本發明之燈管反射器2,例如,圖i所示反射體1於 基板40、該側表面與支持體7〇彼此透過黏著層6〇積層。 圖4為根據本發明之另一具體實施例的燈管反射器3之透 視圖。 根/據本發明之燈管反射器3係經由將圖3所示燈管反射器 2接受摺疊處理等形成。
圖5為垂直圖4所示燈管反射器3軸線之剖面圖。 根據本發明之燈管反射器3經處理,讓包含保護層1 0、 主要由銀製成之金屬層2〇及底層3〇之反射層1〇〇成為面對 燈管的内側。 圖6為根據本發明之另一具體實施例之使用燈管反射器3 之側光型背光的透視圖。 本發明之燈管反射器3係呈包裹燈管9 〇狀態設置於背光 一側面。 將進一步說明本發明之細節如後。
至於根據本發明之基板(A ),不僅使用金屬如鋁、黃 銅、不鏽鋼、鋼等等,陶瓷、聚合物等製成的板、片、薄 膜等’同時也使用沾黏劑片材、黏著劑片材等。 其中較好當例如形成金屬層2 〇時,具有高度形狀自由度 且可採用滾筒至滾筒處理之聚合物薄膜。 至於較好用於本發明之反射體的聚合物薄膜,值得一提 者為由多類型塑膠製成的薄膜,此等塑膠包括例如聚酯類
C:\2D-CODE\9l-〇7\9li〇8422.ptd 第10頁 1243095
五、發明說明(7) H二基對苯二甲酸酯(pet)、聚伸乙基萘甲酸酯等· 艰石反酸酯類如等趴Δ别取山 丁 Τ㈡夂S日寻, 聚丙婦、環烯烴“二? # :聚稀烴類如聚乙烯、 維素衍生物如三二Ur乙酸乙浠醋共聚物等,'纖 類如lii::':聚苯乙稀·;聚酿亞胺類;聚酿胺 樹脂、聚趟:嗣類::==、聚丙稀酸類樹脂、氟類 烯腈、、”:=,、聚甲基丙烯酸賴;腈類如聚丙 脂;聚類如聚環氧乙院等;環氧樹 # # PP ^ ,來縮.如波沃(poval)等。但聚合物薄膜 於室>:員,只要其結晶溫度及玻璃轉化溫度係高 膜。:中平坦光滑,則也可使用其它聚合物薄 類及聚:::;:如聚伸乙基對苯二甲酸…聚侧 ㈣膜厚度通常為1微米至25g微米,較好5 及特好10微米至200微米。其抗拉模量或直 以上,更好_心或以上,以及㈣mQYP:=或 可用作為根據本發明之基板之沾戈 :=當形成底層(容後詳述)、主要由銀製限 4層等時,該沾黏劑片材為安定即可。特:y 沾,、丙烯酸系沾黏劑、聚矽氧類沾黏齊卜乙烯類::: 劑寻。其中鑑於價格低故廣泛使用丙烯酸系沾黏劑/’ — 可用作為本發明基板之黏著劑片材並無特殊限制,只要
1243095 五、發明說明(8) — 當形成底層(容後詳述)、主要由銀製成之層、保護層等 時,該黏著劑片材為穩定即可。特別使用聚矽氧類黏著 劑、聚酯類黏著劑、丙烯酸系黏著劑等。較好黏著劑屬於 熱溶型。 珂述基板可組合兩類型或更多類用於獲得反射層(容後 詳述)之強度、韌度及黏著性間之有利平衡等。此種組合 可於反射層(容後詳述)形成前或後實施。
根$本發明之基板可接受表面處理,用以輔助形成底層 (B )(谷後洋述),增進其表面光滑度等。特別值得一提者 為電暈放電處理或輝光放電處理或樹脂塗覆等。塗覆樹脂 例如包括丙烯酸系樹脂如聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯腈樹 脂、聚甲基丙烯腈樹脂、矽樹脂例如由矽酸乙酯所得聚合 物、氟類樹脂、聚酯類樹脂、聚苯乙烯樹脂、乙酸酯類樹 脂、聚醚砜類樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺類樹脂、聚醯 亞胺類樹脂、聚烯烴類樹脂、聚胺基甲酸酯類樹脂、脲樹 脂、蜜胺樹脂、環氧樹脂或其混合物。
於本發明之反射體丨0 0,反射層至少包含三層,亦即底 層(B)、主要由銀製成之金屬層(c)及保護層(1))。此種情 況下,只要於基板一侧之第一層為底層(B)而最外層為保 濩層(D),反射層可有三層或三層以上,例如包含(bkc) (D)(C)(D)、(B)(C)(D)(C)(B)(C)(D)等組合之三層或三層 以上之多層結構。雖然允許三層或三層以上的多層組合, 但因製造效率傾向於隨著層數的增加而劣化,故層數較好 於3層至20層及更好3層至15層之範圍。
1243095 五、發明說明(9) 屬氧化物層 鎳、鐵、銘 至杰底層(B)之較佳例,值得一 一種金屬製成之金屬層、或金屬鹽/為銀以外之其它任 特別舉例說明金屬之單塊本體例如H戈金 鎢、鉬、!巨、鉻 '銦、錳、鈦、鈀、’5 録、鈽、鈹、鑭、註、鎮、鎵等或這:二:、錫、鋅、 類別製成的合金;銦、鈦、錯、鉍、^五屬之兩種或多種 鈽、鈥、鑭、灶、鎂、鎵等金屬氧化物:: ' 錄、紐、 化合物如硫化鋅、氟化鎂等。其 2混合物;金屬
金、銅、鎳、鐵、銘、鶴、銦、纽、=早塊本體亦即 鈀、這些金屬之兩種或多種製成的合::銦、錳、鈦及 鋼、氧化錫等為佳;以纔雜5%重 =化鋅、氧化 化辞、攙雜10%重量比或以下之 A以下之氧化鋁的氧 物mo)為更佳;以攙雜5%重量比或Π =銦-錫氧化 ^ =重量比或以下之鎵的氧氧化 用迫些金屬之兩類或多類、金屬 々竹1主又,了使 及金屬攙雜金屬之組合;此外 厘金屬化合物、以 U:却:ΐ攙雜金屬可以多層結構狀態使用。 之金屬層(c) ’較好使用銀單塊本體、 銀,有小夏金、鋼、鎳、鐵、鈷、鶴'銦、钽、鉻、銦、 八ί 1巴等作為雜質、或主要由銀製成的合金。雖 貝3里因金屬類別而異,但雜質含量通常為0002%重 重量比,較好…㈣重量比及特好。讓至 於保護層(D),不僅使用如底層(Β)之相同金屬及其氧化 1243095 、發明說明(ίο) 物’同,,使用兩類或多類選自下列組成的組群之成員的 組合·该等ί屬、其氧化物以及主要由銀製成的合金;進 y也此寻主屬、其氧化物或其組合可以多層結構狀態 使用。 金屬氧化物幸乂好為銦、鈦、錯、叙、錫、鋅、銻、組、 鈽、鈥、鑭、鉦、鎂、鎵、矽等金屬氧化物;更好為透明 金屬氧化物(D2),亦即銦、欽、錯、鉍、錫、銻、鈕、 錦、敍、鋼、处、乂Μ > ta ^ 鎂、鋁、矽、鋅、鎵等金屬氧化物;又 ,,遠自下列組成的組群之金屬氧化物:鋅、銦及錫。此 等,化,可含有10%重量比或以下比率之雜質,用以提供 其它性質’只要雜質含量係於不會有害本發明之目的之範 圍即可。X可使用兩類或多類此等氧化物的組合 佳例,值得-提者為攙雜5%重 :: 至於底層(Β)、主要由銀製成的金屬層⑹ (D)個別金屬薄膜層之形成方法’有渴法及乾呆/層 鍍層法通稱,為由溶液沉積金屬而形1之去-法為 :法特例有銀鏡反應等。它方面,乾法為真匕 力:熱型真空沉積法、離子鑛層法、離;;輔=空;:束 筒方法可連續形成薄膜之真空薄膜形成法。。滾靖至滾 當本發明之反射體的反射層係藉真空沉積法製造時,尋
1243095 五、發明說明(11) 3用三個繼置彼此聯結之裝置。但當底層 :相同化學化合物製成時’可藉一種
=株=置中二激鍍裝置僅於形成中途 S 之條件下彼此聯結。 < w 真空沉積法中,金屬起始物料首先藉電子束、電阻 熱、感應加熱等熔化,升高氣相壓力,然後較好於2其 耳)或以下蒸鐘於基板表面上。 況下二 虱軋寻氣體可於13.3毫帕或以上引進其中,俾 光放電…情況下’初壓較好儘可能 寺= 笔帕或以下,及更好7毫帕至〇· !毫帕。 濺鍍方法例如包括直流磁控管濺鍍法、射頻磁控
法、離子束濺鍍法、ECR濺鍍法、習知射 知X 直流濺鍍法等。 观法S知 濺鍍方法中,可使用金屬製成之板狀標靶作為起始 :,以及使用氦、氖、氬ϋ等作為濺鍍氣體;: Π下:等氣體中較好使用氬氣。欲使用之氣體純度較好 時,較好使用真空薄膜形成法。主要使用濺錢法 Κ :定下=用氣氧ί:氯、㈠等作為进—,視“ 形成於基板上之薄膜厚度係依據組成反射體2時 之光透射比低於1 %而決定。 、、’攻 使用金屬層時,底層(Β)厚度較好為5奈米至5〇 好為5奈米至30奈米。厚度小於5奈米時,無法獲得所需遮 1 C:\2D-C0DE\91-07\91108422.ptd 第15頁 1243095 五、發明說明(12) 蔽效果,於主要由銀製成之金屬層(c)可能產生附聚。 又,即使厚度大於5 〇奈米,發現效果不變。它方面,去 用金屬鹽或金屬氧化物時,金屬鹽或金屬氧化物層厚= 奈米至20奈米及更好為5奈米至1〇奈米。當 孟屬乳化物層厚度小於丨奈米時,無法獲得所需遮蔽效/ 果’且主要由銀製成之金屬層產生附聚。即 於20奈米,發現效果不變。 又 % 主要由銀製成之金屬層(c)之厚度較好為7〇奈米至 二丄更=為10G奈米至3GG奈米,及又更好為13()奈米至‘ 不米。當主要由銀製成之金屬層(c )厚度小於7〇夺米 二:形成之金屬層不足’可能出現無法獲得預定反射比
Li/:使其厚度大於4〇°奈米,發現其效果不變。 及厚度於使用金屬層時,較好為5奈米至5〇奈米 f更好為5奈米至3〇奈米。當其厚度小於5奈米時 : 付滿意的遮蔽效果,可能於主要由制 '冬又 4附取^ y、王罟由銀衣成之金屬層(c)產 此外^ #用=使其厚度大於50奈米’發現其效果不變。 米,及車H 氧化物時,其厚度主要由1奈米至2〇奈 米時,二Λ米。當透明氧化物層厚度小於1奈 ⑹產生:1 遮敝效果’主要由銀製成的金屬層 變。 κ。又’即使其厚度大於2〇奈米,發現效果不 厚度Ϊ = 燈管反射器’底層⑻厚度與保護層⑻ ί。3 製成之金屬層⑹之厚度之比為。.〇。5 心好0.0〗至0.25,更好G.G1^2,及特則·
1243095 五、發明說明(13) 0.2° 當底層或保護層+ έ六士西i &在丨 制,止占大古^層比較主要由銀製成之層為過厚時,不僅 农&成本问,同時偶爾也發生問題,此筈門題例如Α #田 备磬孜你^ .。卩應力化成反射層斷裂引起剝離、反射 色形改变旦ί曲工作性質低劣(容後詳述)等。 至於測里刖逑各層薄膜厚度之方法,右#用斜,丨、^ 試器、多束干涉儀、汽天平%: f有使用針大粗度測 石英振盪哭方央振盪器等方法;其中以 “獲得預定薄膜厚度之特別適當
法,6亥方法中,初步設定薄膜形成停件,f膜# 定之條件下形成於樣太其扣μ Τ俅件,溥膜係於如此設 户声門夕閼怂 i ’本土板上’決定薄膜形成時間與薄膜 子::金ϊί射Ϊ後藉薄膜形成時間控制薄膜厚度。、 典型對=二層米 及又更好94%或為9G/°或以上,較好92%或以上, 且ί =::二”體之耐用性高,即使反射體已經利用 具有知、射強度5 0 〇毫瓦/平方J5本4 ^ ^ „300 〇〇 〇C" 質,故於波長550奈米:ί反=顯=度对光熱劣化性 田夕描抑各e 1 / 反射比南達9〇%或以上。此處使 示於好天氣於門戶開放情況下具有類似 ^错之;。特別模擬太陽光譜可經由組合氣燈與 ϊϊ:又侍述裝置控制,其中設置於爽持試 樣之鋁板上的熱偶以及板狀加熱器係聯結至控溫器。 至於根據本發明之另一種評估耐用性之方法,也可採用
C:\2D-CODE\91-07\91108422.ptd 第17頁 1243095 五、發明說明(14) 硫化氫暴露試驗。此種試驗係藉下述步驟進行,將部分、 長切成5厘米見方的反射體置於密封容器内,添加硫化 至容器,讓硫化氫濃度變成30 ppm,於室溫靜置添加: 卜 〆、知 力L 4匕 虱之谷器經歷24小時時間。本發明之反射體中未見黑化 等’反射體接受硫化氫暴露試驗後顯示反射比為9〇%或以 上;如此本發明之反射體對硫化氫具高度耐用性。 至於根據本發明之另一種評估耐用性之方法,也可採用 南溫與高濕試驗。本試驗之進行步驟為,將切成5厘米見 方之部分反射體置於溫度60 t及相對濕度90%之恆溫恆渴 器内’讓該部分反射體於其中靜置5 〇 〇小時。根據本發曰月 之反射體’於接受高溫及高濕試驗後,未產生黑化等,顯 不反射比為9 0%或以上,藉十字切割剝離試驗測試,絲毫、 也未發生剝離。 & 視需要地,苯并三唑類或丙烯酸系透明樹脂或其它有機 物負可塗覆於反射體上。此種情況下,主要使用濕法,及 厚度為0 · 1微米至1 〇 〇微米及較好0. 5微米至5 〇微米。 雖然本發明之反射體例如可藉滚筒至滾筒方法、切片法 等獲得,但較好藉生產力高的滾筒至滾筒方法製造反射 體。 雖然本發明之反射體可以捲形、切片形等獲得,但因前 述理由故,較好獲得捲形反射體。 >本發明之燈管反射器可經由進行前述反射體之形成方法 獲得’且燈管反射器較好包含反射體及支持體。 本發明之支持體可使用金屬或聚合物製成之板或片。有
C:\2D-CODE\91-07\91108422.ptd 第18頁 1243095 五、發明說明 (15)
用之金屬例如包括紹、鋁合金、不鏽鋼、銅〜鋅合金、鋼 等。此等金屬各有不同優點,個別係以後述方式使用。症呂 之重量輕而加工性質絕佳。由於鋁具有高導熱率,且容易 將施壓於其上的熱散熱至大氣,故較好使用鋁MLCD背光 反射器,該反射器被燈管發光所加熱。鋁合金重量輕且機 械強度高。不鏽鋼具適當機械強度,防蝕性絕佳。辞 合,如黃銅不僅機械強度高,同時容易焊接,因而有助於 附著電氣終端裝置。因鋼成本低,當需要壓抑成本時較好 使用鋼。又當使用形狀記憶合金時,具有加工性絕佳等優
也可使用塑膠板或塑膠片。此處有用之材料例如包括 列均聚物或共聚物,例如雙軸定向聚丙烯、聚伸乙美 二曱酸酯(PET)、聚伸乙基萘酸酯(pEN)、聚美二 甲酸糊T)、丙稀酸系樹脂、甲基丙稀酸系樹脂、= 石風類(?£8)、聚_^||同類M ^ ^ ^頰⑽ΕΚ)、聚丙烯酸酯類、聚醚醯 =類、/醯亞胺類等。特佳使用聚伸乙基對苯二甲酸赶 、用作為最外層時,由於外觀理由以运 色為佳。此寺材料之特Ei; '3 /1^ 2>i Hi t a κ? 士土曰 1 < 将點為通常針對與金屬作比較,可¥ 輕重置。通常較好由銘 J浪.
取人物暄4 Η 1 ^ 成本與容易彎曲操作觀點視之, ..^ ^ 又约j、’而由與反射體1積層時的操柝 鈎女。續胺戸Γ f 專硯點視之,聚合物膜或片之厚戶 200微米及又更好由15ft :未至500微米,更好由10微米3 之相冋材料製成時,可能無需使用支與
1243095 五、發明說明(16) 體。此外,當難以進行摺疊處理(容後 可使用形狀記憶樹脂如環烯烴聚合物 ^知’此項困難 反射體彼此積層,讓反射體於基板 ^: 或黏著劑固定至支持體,支持體為浪形模ίί:藉沾黏劑 況下特佳使用黏著劑。 、、本,此種情 沾,劑之說明例包括橡膠類沾黏劑、丙 聚矽氧類沾黏劑、乙烯類沾黏劑等。盆 、沾黏劑、 泛使用丙烯酸系沾黏劑。 八 成本低,故廣 ,使用之黏著劑屬於可借助於加熱或催化 黏著劑類別。有用之黏著劑例如包括 仃黏著的 ,劑、聚_著劑、環氧樹 :劑=石夕氧 酸醋類黏著劑、丙稀酸系黏著㈣。因環歸 之強度及耐熱性絕佳,故也可 ^ s類黏著劑 劑。㈣基丙稀酸醋類黏;黏著 類’亦即熱硬化類、熱熔類及二組分類;情^成三 好使用可連續製造之熱硬化類或㈣類,較 種黏著劑時,黏著劑厚度較好為0.5微米至50微米用任一 基板與支持體係利用滾筒至滾筒方法或捲至片卡方 積1 ’積層方法使用積層機器獲得捲形或切片形產物彼, 如虽使用黏考劑時,前述積層係藉下述步驟進行歹 著劑至反射體於基板—側之表面丨,乾燥如此塗覆 體,以及,所得反射體與成捲的板狀模製本體積層。 至於黏著劑塗覆方法,依據基板及黏著劑類別‘多種方
1243095 五、發明說明(17) 法,但較廣用夕士、+ & 覆法中,凹版凹f塗覆法及反向塗覆法。凹版塗 動,藉由讓備用捲i 一 刀浸泡黏著劑’凹板塗覆機轉 版滾筒而進行的薄膜接觸其上附著有黏著劑之凹 黏著劑黏度調r::二ί層數量係經由控制滾筒轉速及 整 黏者劑數量係藉與塗覆滾筒接觸之計量滾筒調 理ϊΞΪ:::::J供視需要的加熱。又可增加加熱處 住;筒的包裹 好ΐ:度克,i ij ::時丄基板與支持體間之黏合強度較 時,偶爾出現不利产、、,:虽ί能達成此種程度的黏合強度 分離而造成變形等:/,可能因反射體與浪形模製本體等 當即:ί::積ί:當製備沾黏劑或黏著劑時使用溶劑。 田I使万、執仃積層後仍殘留溶 或隨著時間的經過反射岸 此毛生撕離現象、 層物組合背光使用時、:(耐用性低劣);或當所得積
克/平古Λ 5克/平方厘米或以下,更好為(M 克+方厘未,但依據溶劑類型各異。 為· 1 又較好根據本發明之反 谷形狀。由表面上Μ & # 5 反射層對側表面具有峰與 上^底至山峰高度為〇」微米或以上, 第21頁 C:\2D.roDE\9l.〇7\9ll〇8422.ptd 1243095
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2由使用透射電子顯微鏡(TEM)觀察其個別截面而直接測 里基板及支持體之聚合物膜之分析可使用紅外光譜術 ϊ R、進/丁,而銀薄膜、基板及支持體之金屬等之分析可使 用X光螢产光譜術(XRF)、奥格電子光譜術(AES)等進行。 ==子,針微分析儀(EPMA)可對比χ光螢光光譜術更細微 =分進打兀素分析。述及沾黏劑或黏著劑,反射體及支持 胆強迫彼此分離而暴露出沾黏劑或黏著劑,然後如此暴露 的沾黏劑或黏著劑溶解及收集於適當溶劑,隨後如此收集
的沾黏劑或黏著劑藉紅外光譜術(丨R)測量獲得有關其結構 資訊。 士,厚度可藉由進行化學組成分析以及經由使用奥格電 子光譜術(AES)及二次離子質譜術(SIMS)獲得深度側繪決 定0
因本發明=燈管反射器之反射比、耐用性及模製性絕 佳’故違燈官反射器可有利地用作為液晶顯示裝置使用之 背光之燈管反射器,因而提供具有高亮度之美麗影像。較 好本發明之燈管反射器係藉下述步驟製造,將包含本發明 之反射體及選擇性積層於其上之支持體的反射體構造接受 坯料製造處理而形成為預定形狀;將如此所得經坯料製造 處理之反射體構造接受彎曲處理例如圖4所示形狀,因而 包裹冷陰極射線管。又當進行坯料製造處理時,反射體構 造可事先製成有利形狀的切片。當由於切片處理、坯料製 造處理以及彎曲處理係藉各種裝置等分開進行時,需要運 送如此製成的切片,較好將數十片切片堆疊、真空包裝然
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不rr吏用具有光滑面的包裝材料, ΰ主、使用具有不規則面例如氣帽之包裝材料時,切 :面將產士微小變形而造成燈管反射器之特性劣化。 底> 1加工处理日守,如圖5截面圖所示,該圖特徵為包含 声1θ〇0 ^位於ΐ由銀製成的金屬層(c)及保護層(D)之反射 f 100係位方;最内側。因此理由故可進加 如沖壓等處理。 V优而女 〜雖然2曲處理後之形狀依據應用用途各異,但以「U」
:化、貫 > 上定義為方形扣掉—邊之馬蹄形等為佳。此時 处里日寸之曲率半徑為5耄米或以下,且較好4毫米或以下。 至於特定處理,值得一提者為使用壓機之「v」字形彎 处理或U」子形彎曲處理、使用切線彎曲機之摺疊處 :本毛月之反射體之模製性絕佳,故即使於進行前述 處理時也不會於反射體其上產生縐摺或浮雕。由於此等特 ^ ’由根據本發明之反射體獲得之燈管反射器可獲得有高 売度之美麗影像,當使用本發明之反射體所得燈管反射器 設置於側光型背光裝置時不會產生亮線。
有用的光源例如包括白熱燈、發光二極體(LED)、冷光 (ELj、螢光燈、金屬鹵素燈等。其中較好使用螢光燈。螢 光燈可廣義依據電極結構或開燈方法分成兩類,換言之, 熱陰極型及冷陰極型;此種情況下,熱陰極型之電極及反 相為尺寸比冷陰極型更大。熱陰極型之效果為電極附近的 照明損失不會促成發光,以及發光強度高,故發光效率絕
\\312\2d-code\91-07\91108422.ptd 第24頁 1243095 五、發明說明(21) 佳,發光效率為冷陰極型的數倍;但因冷陰極型之 命時間優於熱陰極型,故鑑於耗電量低,耐: 用冷陰極型。 今奴好使 至於供給電流至螢光燈的導體,使用尋常經塗覆之引 線,此種b況下,若塗覆材料含硫,由於隨著時間之經過 劣化產生硫化氫等硫化物,則反射層或其它元件出現劣化 機率,較好使用不含硫塗覆材料之導體。
-於本發明之燈管反射器,因薄膜形反射層係位於光源側 最外層,不會如同藉透明樹脂等保護反射體類型,出現光 局限於,脂内部。因此理由故,即使增強發光強度,也不 會產生亮線等而獲得具高亮度之美麗影像。 又因反射比提升,故内溫降低,此種作用對耐用性的增 進而言也有其效果。 由於本發明之反射體的反射比高,且可獲得美好影像, 故反=體也可用作為燈管反射器應用用途,不僅用於液晶 顯不裝置、LED背光、投影電視機及前光,同時也利用底 邛顯不型顯不裝置之PDA、行動電話等。又因反射體之反 射比兩’故反射體也可用作為太陽能電池之光會聚材料。 特別當本,明之反射體反射膜具導電性時,利用該項特 ^ ’可獲得作為微球聚矽氧單晶太陽能電池等之電極。其 =應用用途包括例如用作為反射器、電子閃光燈、信號顯 示裝置三機動車輛照明燈、螢光燈、以及輕薄短小且耐用 =手電筒、要求高品質的坎多李耳(chandel ier)照明反射 器,以及進一步本身用作為曲面鏡或後視鏡。
1243095 五、發明說明(22) 貫施例 後文將參照貫施例特S丨丨W η口丄 於此。 、呪月本發明,但本發明絕非囿限 复i例1 攙雜2 %氧化|呂之氧化链益 乙基對苯-曱酸&(PPT^直'"IL磁控管濺鍍法形成於聚伸 A10 2::二)湾膜上,該賤鍍法使用攙雜2% 之顧汽你i、私#尸、又)作為軚靶,以及使用純度9 9. 5% 次:L 體,賤鑛層厚約5奈米而製備薄片。其
鋅之相同二乂的片材由濺鍍裝置中移*,以前述氧化 ^ ^ 猎直流磁控管錢鍵法將銀形成於其上,該 歲鑛法使用純度9 9 · 9 %之银作盔挪/ ' 口 欠 °之銀作為標鈀,以及純度99· 5%之氬 $作j濺鍍氣體,形成銀層厚度為2〇〇奈米。隨後未將後 二所付片材由錢錄裝置移出,於其上形成攙雜2%氧化鋁之 =化辞,形成方法係使用攙雜2% Al2〇3之氧化辞(99. 9%純 =作為標鈀,以及純度99· 5%之氬氣作為濺鍍氣體,因而 形成厚度約5奈米。當如此成形片材置於日立自行記錄分 光光度計(型號U-3400,得自日立儀器服務公司),儀器設 置有1 5 0 $之積分球,測量於5 5 〇奈米於反射層一邊之總反 射比’結果為96· 3%。隨後於使用照射強度5〇〇毫瓦/平方 厘米之模擬太陽光作為光源,使用日光模擬器(型號 YSS-5 0 5H ’得自山下電所公司)對此片材進行光熱劣化試 驗。又,將反射片加熱至1 〇 〇。當於此等條件下靜置3 〇 〇 小時後,測量片材反射比,所得反射比為95· 5%。此外,
此種反射體之反射片使用熱溶型黏著劑(商品名:S ](一 d γ n E
1243095 五、發明說明(23) " " ~ - 5273,得自守肯(Soken)化學工程公司)積層厚2毫米之弋 銅板’讓各層共同通過加熱至10〇1之積層機滾筒。如I 積層後’使用1 8 0度剝離試驗測定所得積層體之抗剝離強 度,獲得黏著強度為2 0 0克/厘米。 '
又,如此形成之板狀反射體模製為液晶顯示裝置背光之 燈管反射器形狀(實質定義為四邊減一邊的馬蹄形,開口 部寬度:4毫米)設置於裝置,隨後供電給裝置。顯示器亮 度高達23 5 0燭光/平方米,但其螢幕上未產生亮線因而°獲^ 得清晰影像。經2 0 0 0小時及5 0 0 0小時使用時間後,宾产八 別為2320燭光/平方米及230 0燭光/平方米,前述兩^二 下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果不會隨著時間改 變。結果顯示於表1。 實施例2 反射片及燈管反射器係以貫施例1之相同方式製備,作 使用後PET薄膜一面接受砂磨無光澤整理。對其進行評 比0 光熱劣化試驗前與後,反射片之反射比分別為96· 4%及 95· 5%。 片材使用如實施例1之相同黏著劑積層黃銅板,而以已 || 經接受砂磨無光澤整理的表面作為積層表面,當使用18〇 l| 度撕喊试驗測定所得積層物之抗剝離強度時,結果為2 5 〇 克/厘米。 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2 360燭光/平方米,但營幕上未產生
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1243095 五、發明說明(24) 亮線’而可獲得清晰影像。經2 0 0 0小時及5 0 0 0小時使用時 間後,亮度分別為234 0燭光/平方米及2330燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例3 反射片及燈管反射器係以實施例1之相同方式製備,但 於底層及保護層’使用攙雜5 %嫁之氧化鋅替代攙雜2 %氧化 I呂之氧化鋅,以及底層及保護層個別厚7奈米,銀層厚1 4 〇 奈米。對其進行評估。
於光熱劣化試驗前及後 及 9 6 · 5 % 〇 反射片之反射比分別為9 6. 8% 片材與黃銅板以實施例1之相同方式積層。當所得積層 藉180度撕離試驗測量時,結果為21〇克/厘米。
如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯不裔免度面達2380燭光/平方米,但營幕上未產生 亮線,而可獲得清晰影像。經20〇〇小時及5〇〇〇小時使用時 間後,亮度分別為237 0燭光/平方米及2360燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例4 反射片及燈管反射器係以實施例2之相同方式製備,但 於底層及保護層,使用攙雜5%鎵之氧化鋅意代攙雜2%氧化 I呂之氧化鋅’以及底層及保護層個別厚7奈米,銀層厚1 4 〇 奈米。對其進行評估。
C:\2D-CODE\91-07\91108422.ptd 第28頁 1243095 五、發明說明(25) 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 7. 0 % 及96· 5%。 片材與黃銅板以實施例2之相同方式積層。當所得積層 藉1 80度撕離試驗測量時,結果為2 5 0克/厘米。
如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2 380燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線,而可獲得清晰影像。經2 〇 〇 〇小時及5 0 0 0小時使用時 間後,亮度分別為23 70燭光/平方米及23 6 0燭光/平方米, 如述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 比較 反射片係以實施例1之相同方式製備,但反射層只含銀 層。 測量所得片材之反射比獲得結果97· 0〇/〇。隨後對該片材 進行如實施例1之相同光熱劣化試驗經歷3 〇 〇小時時間,測 量如此處理後之片材之反射比,發現降至4〇· 2%。如此顯 示無法獲得作為反射體之足夠反射比。 比較仞丨?.
反射片係以實施例1之相同方式製備,但反射體之反射 層側與黃銅板彼此積層。對其進行評估。 測量所得片材之反射比獲得結果94· 6%。隨後對該片材 ,行如實施例1之相同光熱劣化試驗經歷3 〇 〇小時時間,測 重如此處理後之片材之反射比,發現降至53· 2%。如此顯 不無法獲得作為反射體之足夠反射比。觀察得片材變成紫
1243095 五、發明說明(26) 色。結果顯示於表1。 實施例5 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但 形成鈦薄膜作為底層。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為g 7 2 % 及96. 8%。 ^ 片材與育銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 5 〇克/厘米。
如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2400濁光/平方米,但螢幕上未產生 亮線,而可獲得清晰影像。經2〇〇〇小時及50〇〇小時使用時 間後,亮度分別為239 0燭光/平方米及2380燭光/平方求, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例6 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但 形成氧化鈦薄膜作為底層。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 6 及96·6% 。 片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 4 0克/厘米。 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2380燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線’而可獲得清晰影像。經2 〇 〇 〇小時及5 0 0 0小時使用時
C:\2D-C0DE\91-07\91108422.ptd 第30頁 1243095 五、發明說明(27) 3後’梵度分別為2380燭光/平方米及2350燭光/平方米, —兩種h /兄下絲耄也未產生亮線。因而發現其效 者時間改變。結果顯示於表1。 ^ 但 9% /反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備, 形成鎢薄膜作為底層。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為 及96·6% 。
#片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉180度撕離試驗測量時,結果為23〇克/厘米。 此衣成之板狀反射體设置於液晶顯不裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達23 90燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線’而可獲得清晰影像。經2 0 0 0小時及50 0 0小時使用時 間後’亮度分別為2380燭光/平方米及2360燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例8
反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但 形成銅薄膜作為底層。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為g 6 8 % 及96·7% 。 ’ 〇 片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 措1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 4 0克/厘米。 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝
1243095 五、發明說明(28) 置。顯示器亮度高達240 0燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線’而可獲得清晰影像。經2 〇 〇 〇小時及5 〇 〇 〇小時使用時 間後’亮度分別為2370燭光/平方米及23 80濁光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例9 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但 形成氟化鎂薄膜作為底層。對其進行評估。
於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為g 7 . 〇 % 及96· 7% 〇 片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 5 0克/厘米。 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2390燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線,而可獲得清晰影像。經2〇〇〇小時及5〇〇〇小時使用時 間後,亮度分別為2390燭光/平方米及2370燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。
實施例1 0 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,# 經由使用氧化銦-氧化錫燒結壓密體(ITO,組成^為 ^ S η 〇2 = 9 0 %重量比:1 〇 %重量比)製成薄膜作為標把。璧』^ 行評估。 、/' 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 7 〇 %
1243095 五、發明說明(29) 及96· 6% 〇 片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 3 〇克/厘米。 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2390燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線,而可獲得清晰影像。經2〇〇〇小時及5〇〇〇小時使用時 間後,亮度分別為2390燭光/平方米及23 70燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。
實施例1 1 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但 保護層係藉氧化鈦製成。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 6. 〇 % 及9 5· 5% 〇 片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉1 80度撕離試驗測量時,結果為2 40克/厘米。 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2290燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線,而可獲得清晰影像。經2〇〇〇小時及50 0 0小時使用時 間後,亮度分別為2380燭光/平方米及2380燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例1 2 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但
C:\2D-C0DE\91-07\91108422.ptd 第33頁 1243095 五、發明說明(30) 保護層係藉氧化鋁製成。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 5. 6 % 及95· 2% 〇 片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉180度撕離試驗測量時,結果為2 40克/厘米。
如此‘成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2310燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線’而可獲得清晰影像。經2〇〇〇小時及5〇〇〇小時使用時 間後,亮度分別為23 0 0燭光/平方米及2370燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例1 3 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但 保邊層係藉氧化秒製成。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 5 · 5 % 及95· 0%。 * 片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 5 〇克/厘米。
如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2280燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線’而可獲得清晰影像。經2 〇 〇 〇小時及5 〇 〇 〇小時使用時 間後’亮度分別為2280燭光/平方米及2260燭光/平方米, 17述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。
C:\2D-CODE\91-07\91108422.ptd 第34頁 1243095 五、發明說明(31) 實施例1 4 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但 形成I T0薄膜作為保護層。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 6. 7 % 及9 6· 1% 〇 片材與黃銅板於實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 5 0克/厘米。
如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2350燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線’而可獲得清晰影像。經2〇〇〇小時及50〇〇小時使用時 間後’ 度分別為2340燭光/平方米及2330燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例1 5 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但 使用不鏽鋼板作為支持體。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 6 · 8 % 及96· 4% 〇 —片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 6 〇克/厘米。 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯不器亮度高達2390燭光/平方米,但螢幕上未產生 壳線,而可狻得清晰影像。經2 〇 〇 〇小時及5 〇 〇 〇小時使用時 間後,売度分別為238 0燭光/平方米及23 5 〇燭光/平方米,
^ -y 31' 1243095 五、發明說明(32) 前述兩種情况下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例1 6 反射片及燈管反射器係以實施例4之相同方式製備,但 使用铭板作為支持體。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 6. 9 % 及96· 4%。 片材與黃銅板以實施例4之相同方式積層。當所得積層 藉180度撕離試驗測量時,結果為24〇克/厘米。
如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2390燭光/平方米,但螢幕上未產生 冗線’而可獲得清晰影像。經2 〇 〇 〇小時及5 〇 〇 〇小時使用時 間後’亮度分別為2360燭光/平方米及2340燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例1 7 反射片及燈管反射係以實施例1之相同方式製備,{曰 使用聚碳酸酯(雙酚A型)替代PET。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為96. j % 及 9 5 · 5 %。 ” 片材與黃銅板以實施例1之相同方式積層。當所得積声 藉180度撕離試驗測量時,結果為2 5 0克/厘米。 、曰 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2380燭光/平方米,但營幕上未產生、
C:\2D-CODE\91-07\91108422.ptd 第36頁 1243095 五、發明說明(33) 亮線,而可獲得清晰影像。經20 0 0小時及5 0 0 0小時使用時 間後,亮度分別為23 60燭光/平方米及23 30燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例1 8 反射片及燈管反射器係以實施例1之相同方式製備,但 使用尼龍替代PET。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 6. j 〇/〇 及 9 5 · 4 % 〇
片材與黃銅板以實施例1之相同方式積層。當所得積層 藉1 80度撕離試驗測量時,結果為2 50克/厘米。 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2 380燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線,而可獲得清晰影像。經2000小時及5000小時使用時 間後,亮度分別為2360燭光/平方米及2340燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表1。 實施例1 9 反射片及燈管反射器係以實施例1之相同方式製備,但 使用聚乙烯醇替代PET。對其進行評估。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為g 6 . 3 % 及95·7% 。 * 片材與黃銅板以實施例1之相同方式積層。當所得積層 藉1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 4 0克/厘米。
C:\2D-C0DE\91-07\91108422.ptd 第37頁 1243095 五、發明說明(34) 如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2370燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線,而可獲得清晰影像。經2 〇 〇 〇小時及5 0 0 〇小時使用時 j後,焭度分別為237〇燭光/平方米及2340燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生哀娩 m ^ ^ TH -fch , 1 1王冗綠。因而發現其效果备帏 著時間改變。結果顯示於表1。 9 ^
Ϊ· C:\2D-C0DE\91-07\91108422.ptd 第38頁 1243095 五、發明說明(35)表1 反射比(%) 黏合強度 亮度(燭光/平方米) [存在(是)或不存在(否)亮線] 光熱劣化試驗 (克/厘米) 使用時間 之前 之後 0小時 2 000小時 5 0 0 0小時 實施例1 9 6.3 9 5.5 200 2 3 5 0 (否) 2 3 2 0 (否) 2 3 0 0 (否) 實施例2 9 6.4 9 5.5 25 0 2 3 6 0 (否) 2 3 4 0(否) 2330(否) 實施例3 9 6.8 96.5 2 10 2380(否) 2 3 7 0 (否) 2360(否) 實施例4 9 7.0 96.5 25 0 2 3 8 0 (否) 2 3 7 0 (否) 2360(否) 比較例1 9 7.0 4 0.2 爹 辑 隹 • 比較例2 94.6 5 3 . 2 變 成紫色 - - - - 實施例5 9 7.2 9 6.8 25 0 24 00 (否) 2 3 9 0 (5 ) 2380(否) 實施例6 9 6.8 9 6.6 240 2380(否) 2 3 8 0 (否) 2350(否) 實施例7 96.9 96.6 23 0 2 3 9 0 (否) 2380(否) 2360(否) 實施例8 9 6.8 9 6.7 24 0 2400(否) 2 3 7 0(否) 2380(否) 實施例9 9 7.0 9 6.7 25 0 2 3 9 0 (5 ) 2 3 9 0(否) 2 3 7 0 (否) 實施例1 〇 9 7.0 9 6.6 23 0 2 3 9 0 (否) 2 3 9 0(否) 2 3 7 0 (否) 實施例1 1 9 6.0 9 5.5 240 22 90 (g ) 22 8 0(否) 2 2 8 0(否) 實施例1 2 9 5.6 9 5.2 240 2310(否) 23 00(否) 2 2 7 0 (否) 實施例1 3 95.5 95.0 25 0 2280(否) 2 2 8 0(否) 2 2 6 0(否) 實施例1 4 96.7 96.1 250 2 3 5 0 (否) 2 3 4 0 (否) 2 3 3 0 (否) 實施例1 5 9 6.8 96.4 260 2 3 9 0 (否) 2380(否) 2 3 5 0 (否) 實施例1 6 9 6.9 96.4 240 2 3 9 0 (否) 2360(否) 2340(否) 實施例1 7 9 6.1 9 5.5 25 0 2380(否) 2360(5 ) 2330(否) 實施例1 8 9 6.1 95.4 25 0 2380(否) 2360(g ) 2340(否) 實施例1 9 96.3 9 5.7 24 0 2370(否) 2370(否) 2 3 4 0 (否)
C:\2D-CODE\91-07\91108422.ptd 第 39 頁 1243095 五、發明說明(36) 复例2 0 反射片及燈管反射器係以實施例3之相同方式製備,但 保護層厚度改成5 5奈米。對其進行評估。發現燈管反射器 之模製性略差,但本身可進行模製處理。 於光熱劣化試驗前及後,反射片之反射比分別為9 6. 3% 及9 6· 〇% 〇 片材與黃銅板以實施例3之相同方式積層。當所得積層 藉1 8 0度撕離試驗測量時,結果為2 6 0克/厘米。
如此製成之板狀反射體設置於液晶顯示裝置,供電給裝 置。顯示器亮度高達2340燭光/平方米,但螢幕上未產生 亮線,而可獲得清晰影像。經20 0 0小時及500 0小時使用時 間後,亮度分別為2320燭光/平方米及23 90燭光/平方米, 前述兩種情況下絲毫也未產生亮線。因而發現其效果會隨 著時間改變。結果顯示於表2。 表2 反射比(%) 黏合強度 (克/厘米) 亮度(燭光/平方米) [存在(是)或不存在(否)亮線] 光熱劣化試驗 使用時間 之則 之後 0小時 2 0 0 0小時 5 00 0 小 時 實施例 20 96.3 96.0 260 2340(否) 2 3 20 (否) 2290(否)
—本舍明可未恃離其精髓或主要特色以其它特定形式具體 貫施。因此本具體實施例應視為舉例說明性質而非囿限
1243095 五、發明說明(37) 性,本發明之範圍係由隨附之申請專利範圍指示,而非由 前文說明限制,全部屬於申請專利範圍之界定及相當範圍 之變化預期皆涵蓋於本發明之範圍。 元件編號之說明 1、1 a 反射體 燈管反射器 燈管反射器 保護層 金屬層 底層 基板 無光澤整理層 黏著層 支持體 反射層 2 3
10 20 30 40 50 60 70 100
1243095 圖式簡單說明 其它本發明之目的、特色及優點由後文詳細說明參照附 圖將進一步解說,附圖中: 圖1為根據本發明之一具體實施例的反射體剖面圖; 圖2為根據本發明之另一具體實施例的反射體剖面圖; 圖3為根據本發明之一具體實施例的燈管反射體剖面 圖; 圖4為根據本發明之另一具體實施例的燈管反射體剖面 圖, % 圖5為垂直於圖4所示燈管反射器軸線之剖面圖;以及 圖6為根據本發明之另一具體實施例之使用燈管反射器 之側光型背光的透視圖。 %
C:\2D-CODE\91-07\91108422.ptd 第42頁

Claims (1)

  1. 3·如申請專利範圍第1項之燈管反射器,其中,該主要 由銀製成之金屬層(C)包含銀單塊本體或主要由銀製成的 合金且具有厚度由70奈米至400奈米。
    (::\總檔\91\91108422\91108422(替換)-l.ptc 第43頁 1243095 修正 曰 丄 —案號9110^422 /、申ό青專利範圍 包含撰白丁層為厚度5奈米至50奈米之金屬層,其 鎳自下列組成的組群之金属之單塊本體:金、銅、、 其鐵j鈷、鎢、鉬、鈕、鉻、銦、錳、鈦及鈀及/或由 ’:f少兩者製成的合金,及/或厚度為1奈米至20奈米之 鈽月氧化物層,其包含由銦、鈦、锆、鉍、錫、銻、钽、 八屈敛、鐦、敍、鎮、銘、石夕、辞、鎵之氧化物所選 至屬氣化物。 5·如申請專利範圍第i項之燈管反射器,其中,底; tt ΪίΓη保護層(D)厚度之和對主要由銀製成之該層(C)曰厚户 比為0· 005至〇· 3 。 干良 層6對二範圍第1項之燈管反射器,其中,於反射 «子η之基板(a )表面具有不規則形狀。 體7逸ίΐΐί利範圍第1項之燈管反射器,其中,該反射 體進-t包含聚合物或金屬製成之板 8如申請專利範圍第卜員之燈 支持體 層一側之曲率半獲為5毫米或以下。 於反射 9 · 一種反射體,包令s j | 上的反射層; 至少基板(A)以及一形成於基板 該基板(A)係由金屬、_多% A 膜所構成; μ或t合物製成的板、片或薄 呑玄反射層包括一由叙々卜之a p 所構成之底層⑻、—主要由/Λ、 或金屬氧化物 主要由銦、鈦、錯、叙錫=的金屬層⑹、以及一 私、錫麵、鈕、鈽、鉉、鑭、钍、
    匸:\總檔\91\91108422\91108422(替換)-l.ptc 第44頁 1243095
    氣化物製成的 鎂、鋁、矽、鋅、鎵之氧化物所選出之透明 保護層(D2),以及 该反射體於藉具有照射強度5 〇 〇毫瓦/平方厘米之模擬太 陽光於1 0 0 °C,由反射層一側照射3 〇 〇小時後,具有於5 5 〇 奈米波長之總反射比為9 0 %或以上。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之反射體,其中,底層厚度 (B)與保遵層(D2)厚度之和對主要由銀製成之該層(c)厚度 為0· 005 至0· 3 。 11 ·如申請專利範圍第9項之反射體,其中,該保護層 (D 2 )為選自下列組成的組群之成員形成之層:攙雜5 %重量 比或以下之氧化鋁的氧化鋅,以及攙雜1 〇 %重量比或以下 之鎵的氧化鋅,及其厚度為i奈米至20奈米。
    C:\ 總檔\91\91108422\91108422(替換)-l.ptc 第45頁
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