JP2001133613A - 反射基板 - Google Patents
反射基板Info
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- JP2001133613A JP2001133613A JP31600599A JP31600599A JP2001133613A JP 2001133613 A JP2001133613 A JP 2001133613A JP 31600599 A JP31600599 A JP 31600599A JP 31600599 A JP31600599 A JP 31600599A JP 2001133613 A JP2001133613 A JP 2001133613A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルミニウムや銀からなる反射膜を、高度の
密着性を有して成膜することができる中間層を、合成樹
脂製の基板の表面に、比較的小容量のエネルギーで成形
することができると共に、異なる樹脂材からなる基板に
対しても同一条件で量産することができ、以て低コスト
化を図ること。 【解決手段】 合成樹脂製の基板2の表面に、チタンや
クロムからなる中間層6を介在して、アルミニウムや銀
からなる反射膜4を形成した。チタンやクロムからなる
中間層6は、金属などの導通性物質や合成樹脂などの絶
縁物質を問わず非常に高い密着性を示し、アルミニウム
や銀からなる反射膜4の耐剥離性を向上させる。
密着性を有して成膜することができる中間層を、合成樹
脂製の基板の表面に、比較的小容量のエネルギーで成形
することができると共に、異なる樹脂材からなる基板に
対しても同一条件で量産することができ、以て低コスト
化を図ること。 【解決手段】 合成樹脂製の基板2の表面に、チタンや
クロムからなる中間層6を介在して、アルミニウムや銀
からなる反射膜4を形成した。チタンやクロムからなる
中間層6は、金属などの導通性物質や合成樹脂などの絶
縁物質を問わず非常に高い密着性を示し、アルミニウム
や銀からなる反射膜4の耐剥離性を向上させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、車両用
のフィニッシャやランプリフレクタ等に適用される反射
基板に関する。
のフィニッシャやランプリフレクタ等に適用される反射
基板に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の反射基板100は、図2
に示すように、合成樹脂製の基板2の表面に、プラズマ
中で酸素等でエッチング処理を施し、このエッチング処
理層3にアルミニウムや銀からなる反射膜4を形成し、
さらに必要に応じて反射膜4の表面にプラズマ重合膜の
保護膜5を形成して全体が構成されている。
に示すように、合成樹脂製の基板2の表面に、プラズマ
中で酸素等でエッチング処理を施し、このエッチング処
理層3にアルミニウムや銀からなる反射膜4を形成し、
さらに必要に応じて反射膜4の表面にプラズマ重合膜の
保護膜5を形成して全体が構成されている。
【0003】合成樹脂製の基板は、アルミニウムや銀に
対する密着性が劣るが、エッチング処理により表面を活
性化させることにより、前記密着性を向上させることが
できる。
対する密着性が劣るが、エッチング処理により表面を活
性化させることにより、前記密着性を向上させることが
できる。
【0004】このように構成された反射基板100は、
エッチング処理層3の形成により、アルミニウムや銀の
対基板2に対する密着性が向上し、これにより耐剥離性
の向上した反射膜4を形成することができる。
エッチング処理層3の形成により、アルミニウムや銀の
対基板2に対する密着性が向上し、これにより耐剥離性
の向上した反射膜4を形成することができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たエッチング処理には、長時間を要して大容量のエネル
ギーを必要とするばかりでなく、基板2を構成する樹脂
材が異なると、密着性の向上に要するエッチング処理時
間が異なり、このため異種の樹脂材からなる基板2同士
を混載して処理することが不可能で、各樹脂材毎に処理
条件を設定してエッチング処理を行うことになって、処
理工程の複雑化を招き、総じて反射基板のコスト高を招
く、という課題を有している。
たエッチング処理には、長時間を要して大容量のエネル
ギーを必要とするばかりでなく、基板2を構成する樹脂
材が異なると、密着性の向上に要するエッチング処理時
間が異なり、このため異種の樹脂材からなる基板2同士
を混載して処理することが不可能で、各樹脂材毎に処理
条件を設定してエッチング処理を行うことになって、処
理工程の複雑化を招き、総じて反射基板のコスト高を招
く、という課題を有している。
【0006】因みに、ポリカーボネート樹脂の、密着性
の向上に要するエッチング処理時間は、ポリプロピレン
樹脂やABS樹脂のそれに比べて3〜5倍となってい
る。
の向上に要するエッチング処理時間は、ポリプロピレン
樹脂やABS樹脂のそれに比べて3〜5倍となってい
る。
【0007】そこで、この発明は、アルミニウムや銀か
らなる反射膜を、高度の密着性を有して成膜することが
できる中間層を、合成樹脂製の基板の表面に、比較的小
容量のエネルギーで成形することができると共に、異な
る樹脂材からなる基板に対しても同一条件で量産するこ
とができ、以て低コスト化を図ることができる反射基板
を提供することを目的とする。
らなる反射膜を、高度の密着性を有して成膜することが
できる中間層を、合成樹脂製の基板の表面に、比較的小
容量のエネルギーで成形することができると共に、異な
る樹脂材からなる基板に対しても同一条件で量産するこ
とができ、以て低コスト化を図ることができる反射基板
を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、合成樹脂製の基板の表面に、チ
タンやクロムからなる中間層を介在して、アルミニウム
や銀からなる反射膜を形成したことを特徴とする。
に、請求項1の発明は、合成樹脂製の基板の表面に、チ
タンやクロムからなる中間層を介在して、アルミニウム
や銀からなる反射膜を形成したことを特徴とする。
【0009】このため請求項1の発明では、アルミニウ
ムや銀からなる反射膜は、金属などの導通性物質や合成
樹脂などの絶縁物質を問わず非常に高い密着性を示すチ
タンやクロムからなる中間層を介して、合成樹脂製の基
板の表面に成膜されることになり、これにより耐剥離性
の向上したものとすることができる。
ムや銀からなる反射膜は、金属などの導通性物質や合成
樹脂などの絶縁物質を問わず非常に高い密着性を示すチ
タンやクロムからなる中間層を介して、合成樹脂製の基
板の表面に成膜されることになり、これにより耐剥離性
の向上したものとすることができる。
【0010】また、チタンやクロムからなる中間層は、
合成樹脂製の基板の表面に、蒸着もしくはスパッタリン
グにより、プラズマによるエッチング処理よりは短い時
間で容易に形成することができる。アルミニウムや銀か
らなる反射膜は、チタンやクロムからなる中間層のさら
に表面に、アルミニウムや銀を蒸着もしくはスパッタす
ることにより成膜される。
合成樹脂製の基板の表面に、蒸着もしくはスパッタリン
グにより、プラズマによるエッチング処理よりは短い時
間で容易に形成することができる。アルミニウムや銀か
らなる反射膜は、チタンやクロムからなる中間層のさら
に表面に、アルミニウムや銀を蒸着もしくはスパッタす
ることにより成膜される。
【0011】その上、チタンやクロムからなる中間層
は、基板を構成する合成樹脂材の種類を問わず同一条件
で成形することができ、これにより異なる樹脂材からな
る基板同士を混載しても成形することができる。
は、基板を構成する合成樹脂材の種類を問わず同一条件
で成形することができ、これにより異なる樹脂材からな
る基板同士を混載しても成形することができる。
【0012】また、請求項2の発明は、請求項1に記載
の反射基板であって、前記反射膜の表面に、膜厚200
〜300nmのプラズマ重合膜の保護膜を形成したこと
を特徴とする。
の反射基板であって、前記反射膜の表面に、膜厚200
〜300nmのプラズマ重合膜の保護膜を形成したこと
を特徴とする。
【0013】このため請求項2の発明では、保護膜に充
分な硬さを付与することができ、これにより保護膜は、
反射膜への損傷を防ぐ等の保護機能を奏することができ
る。保護膜の膜厚を、200〜300nmとしたのは2
00nm未満では充分な硬さが得られないこと、および
300nmを越える厚さではそれ以上の硬さの向上が望
めないばかりか経済的な不利益を生じること、による。
分な硬さを付与することができ、これにより保護膜は、
反射膜への損傷を防ぐ等の保護機能を奏することができ
る。保護膜の膜厚を、200〜300nmとしたのは2
00nm未満では充分な硬さが得られないこと、および
300nmを越える厚さではそれ以上の硬さの向上が望
めないばかりか経済的な不利益を生じること、による。
【0014】また、請求項3の発明は、請求項2に記載
の反射基板であって、前記保護膜が、スモーク色のプラ
ズマ重合膜であることを特徴とする。
の反射基板であって、前記保護膜が、スモーク色のプラ
ズマ重合膜であることを特徴とする。
【0015】このため請求項3の発明では、保護膜にス
モーク色を付加したので、その分意匠上の選択幅を広げ
ることができる。
モーク色を付加したので、その分意匠上の選択幅を広げ
ることができる。
【0016】また、請求項4の発明は、請求項2に記載
の反射基板であって、前記保護膜が、ダイヤモンド状炭
素のプラズマ重合膜であることを特徴とする。
の反射基板であって、前記保護膜が、ダイヤモンド状炭
素のプラズマ重合膜であることを特徴とする。
【0017】このため請求項4の発明では、高硬度の保
護膜が得られ、これにより耐摩耗性および耐蝕性の向上
を図ることができる。
護膜が得られ、これにより耐摩耗性および耐蝕性の向上
を図ることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づき説明する。なお、図2に示す部材と同一部材
または同一機能のものは同一符号で示している。
面に基づき説明する。なお、図2に示す部材と同一部材
または同一機能のものは同一符号で示している。
【0019】図1は、この発明の一実施形態としての反
射基板1を示す。この反射基板1は、合成樹脂製の基板
2の表面に、チタンやクロムからなる中間層6を介在し
て、アルミニウムや銀からなる反射膜4を形成して構成
される。そしてこの反射基板1は、好ましくは、図1に
示すように、反射膜4の表面に、さらにプラズマ重合膜
の保護膜5を形成して構成される。
射基板1を示す。この反射基板1は、合成樹脂製の基板
2の表面に、チタンやクロムからなる中間層6を介在し
て、アルミニウムや銀からなる反射膜4を形成して構成
される。そしてこの反射基板1は、好ましくは、図1に
示すように、反射膜4の表面に、さらにプラズマ重合膜
の保護膜5を形成して構成される。
【0020】このとき基板2は、ABS樹脂、ポリプロ
ピレン樹脂、あるいはポリカーボネート樹脂等の合成樹
脂材を用いて適宜の形状に形成される。
ピレン樹脂、あるいはポリカーボネート樹脂等の合成樹
脂材を用いて適宜の形状に形成される。
【0021】また、中間層6は、膜厚が約1〜50nm
になるように、真空中で、チタンやクロムを、基板2の
表面に蒸着あるいはスパッタすることにより形成され
る。
になるように、真空中で、チタンやクロムを、基板2の
表面に蒸着あるいはスパッタすることにより形成され
る。
【0022】また、反射膜4は、真空中で、アルミニウ
ムや銀を、中間層6の表面に蒸着あるいはスパッタする
ことにより形成される。このとき反射膜4の膜厚は、通
常の反射機能を奏することを目的とする場合は、100
nmほどで充分である。
ムや銀を、中間層6の表面に蒸着あるいはスパッタする
ことにより形成される。このとき反射膜4の膜厚は、通
常の反射機能を奏することを目的とする場合は、100
nmほどで充分である。
【0023】さらに、保護膜5は、プラズマ真空中で、
ヘキサメチルジシロキサン等のモノマーガスを導入して
プラズマ重合を行い、反射膜4の表面にプラズマ重合膜
を析出させて形成される。このとき保護膜5は、その膜
厚が200〜300nmになるように形成される。この
膜厚に形成された保護膜5は、充分な硬さが付与され、
これにより反射膜4への損傷を防ぐ等の保護機能を奏す
ることができる。なお、保護膜5の膜厚を、200〜3
00nmとしたのは200nm未満では充分な硬さが得
られないこと、および300nmを越える厚さではそれ
以上の硬さの向上が望めないばかりか生産コストが高く
なるという経済的な不利益を生じること、による。
ヘキサメチルジシロキサン等のモノマーガスを導入して
プラズマ重合を行い、反射膜4の表面にプラズマ重合膜
を析出させて形成される。このとき保護膜5は、その膜
厚が200〜300nmになるように形成される。この
膜厚に形成された保護膜5は、充分な硬さが付与され、
これにより反射膜4への損傷を防ぐ等の保護機能を奏す
ることができる。なお、保護膜5の膜厚を、200〜3
00nmとしたのは200nm未満では充分な硬さが得
られないこと、および300nmを越える厚さではそれ
以上の硬さの向上が望めないばかりか生産コストが高く
なるという経済的な不利益を生じること、による。
【0024】以上のように構成された反射基板1では、
アルミニウムや銀からなる反射膜4は、金属などの導通
性物質や合成樹脂などの絶縁物質を問わず非常に高い密
着性を示すチタンやクロムからなる中間層6を介して、
合成樹脂製の基板2の表面に成膜されることになり、こ
れにより耐剥離性の向上したものとすることができる。
アルミニウムや銀からなる反射膜4は、金属などの導通
性物質や合成樹脂などの絶縁物質を問わず非常に高い密
着性を示すチタンやクロムからなる中間層6を介して、
合成樹脂製の基板2の表面に成膜されることになり、こ
れにより耐剥離性の向上したものとすることができる。
【0025】また、チタンやクロムからなる中間層6
は、合成樹脂製の基板の表面に、蒸着もしくはスパッタ
リングにより、プラズマによるエッチング処理よりは短
い時間で容易に形成することができるので、比較的小容
量のエネルギーで成形することができ、ひいてはコスト
の低減化が可能となる。
は、合成樹脂製の基板の表面に、蒸着もしくはスパッタ
リングにより、プラズマによるエッチング処理よりは短
い時間で容易に形成することができるので、比較的小容
量のエネルギーで成形することができ、ひいてはコスト
の低減化が可能となる。
【0026】その上、チタンやクロムからなる中間層6
は、基板2を構成する合成樹脂材の種類を問わず同一条
件で成形することができ、これにより異なる樹脂材から
なる基板2同士を混載しても成形することができるの
で、同一条件下での量産が可能で、この点でもコストの
低減化が可能となる。
は、基板2を構成する合成樹脂材の種類を問わず同一条
件で成形することができ、これにより異なる樹脂材から
なる基板2同士を混載しても成形することができるの
で、同一条件下での量産が可能で、この点でもコストの
低減化が可能となる。
【0027】次に、反射基板1の変形例について述べ
る。
る。
【0028】第1の変形例は、保護膜5が、スモーク色
のプラズマ重合膜で構成されている点が異なり、他の構
成は前述した反射基板1と同様に構成されている。
のプラズマ重合膜で構成されている点が異なり、他の構
成は前述した反射基板1と同様に構成されている。
【0029】この第1の変形例における保護膜5は、プ
ラズマ真空中で、ヘキサメチルジシロキサン等のモノマ
ーガスとメタンやエチレン等のガスを導入してプラズマ
重合を行い、反射膜4の表面にスモーク色のプラズマ重
合膜を析出させて形成される。
ラズマ真空中で、ヘキサメチルジシロキサン等のモノマ
ーガスとメタンやエチレン等のガスを導入してプラズマ
重合を行い、反射膜4の表面にスモーク色のプラズマ重
合膜を析出させて形成される。
【0030】この第1の変形例では、保護膜5にスモー
ク色を付加したので、その分意匠上の選択幅を広げるこ
とができる。
ク色を付加したので、その分意匠上の選択幅を広げるこ
とができる。
【0031】また、第2の変形例は、保護膜5が、ダイ
ヤモンド状炭素のプラズマ重合膜で構成されている点が
異なり、他の構成は前述した反射基板1と同様に構成さ
れている。
ヤモンド状炭素のプラズマ重合膜で構成されている点が
異なり、他の構成は前述した反射基板1と同様に構成さ
れている。
【0032】この第2の変形例における保護膜5は、プ
ラズマ真空中で、メタンや水素などのガスを導入してプ
ラズマ重合を行い、反射膜4の表面にダイヤモンド状炭
素のプラズマ重合膜を析出させて形成される。このよう
にプラズマを使用することで、低温で、ダイヤモンドの
ように固いプラズマ重合膜を析出させることができるの
で、合成樹脂材に対しても容易に適用できる。
ラズマ真空中で、メタンや水素などのガスを導入してプ
ラズマ重合を行い、反射膜4の表面にダイヤモンド状炭
素のプラズマ重合膜を析出させて形成される。このよう
にプラズマを使用することで、低温で、ダイヤモンドの
ように固いプラズマ重合膜を析出させることができるの
で、合成樹脂材に対しても容易に適用できる。
【0033】この第2の変形例では、高硬度の保護膜5
が得られ、これにより耐摩耗性および耐蝕性に優れた保
護膜5を提供することができる。
が得られ、これにより耐摩耗性および耐蝕性に優れた保
護膜5を提供することができる。
【0034】
【発明の効果】以上説明してきたように、請求項1の発
明によれば、アルミニウムや銀からなる反射膜を、金属
などの導通性物質や合成樹脂などの絶縁物質を問わず非
常に高い密着性を示すチタンやクロムからなる中間層を
介して、合成樹脂製の基板の表面に成膜するようにした
ので、中間層を、比較的小容量のエネルギーで成形する
ことができると共に、異なる樹脂材からなる基板に対し
ても同一条件で量産することができ、以て低コスト化を
図ることができる反射基板を提供することができる。
明によれば、アルミニウムや銀からなる反射膜を、金属
などの導通性物質や合成樹脂などの絶縁物質を問わず非
常に高い密着性を示すチタンやクロムからなる中間層を
介して、合成樹脂製の基板の表面に成膜するようにした
ので、中間層を、比較的小容量のエネルギーで成形する
ことができると共に、異なる樹脂材からなる基板に対し
ても同一条件で量産することができ、以て低コスト化を
図ることができる反射基板を提供することができる。
【0035】また、請求項2の発明によれば、反射膜の
表面に、膜厚200〜300nmのプラズマ重合膜の保
護膜を形成したので、請求項1の発明の効果に加えて、
充分な硬さを付与された保護膜により反射膜を保護する
ことができる。
表面に、膜厚200〜300nmのプラズマ重合膜の保
護膜を形成したので、請求項1の発明の効果に加えて、
充分な硬さを付与された保護膜により反射膜を保護する
ことができる。
【0036】また、請求項3の発明によれば、請求項2
の発明の効果に加えて、保護膜にスモーク色を付加した
ので、その分意匠上の選択幅を広げることができ、ひい
ては用途範囲の拡大を図ることができる。
の発明の効果に加えて、保護膜にスモーク色を付加した
ので、その分意匠上の選択幅を広げることができ、ひい
ては用途範囲の拡大を図ることができる。
【0037】また、請求項4の発明によれば、請求項2
の発明の効果に加えて、高硬度の保護膜が得られ、これ
により耐摩耗性および耐蝕性に優れた反射基板を提供す
ることができる。
の発明の効果に加えて、高硬度の保護膜が得られ、これ
により耐摩耗性および耐蝕性に優れた反射基板を提供す
ることができる。
【図1】本発明の一実施形態としての反射基板の断面図
である。
である。
【図2】従来の反射基板の断面図である。
1 反射基板 2 基板 4 反射膜 5 保護膜 6 中間層
Claims (4)
- 【請求項1】 合成樹脂製の基板の表面に、チタンやク
ロムからなる中間層を介在して、アルミニウムや銀から
なる反射膜を形成したことを特徴とする反射基板。 - 【請求項2】 請求項1に記載の反射基板であって、 前記反射膜の表面に、膜厚200〜300nmのプラズ
マ重合膜の保護膜を形成したことを特徴とする反射基
板。 - 【請求項3】 請求項2に記載の反射基板であって、 前記保護膜が、スモーク色のプラズマ重合膜であること
を特徴とする反射基板。 - 【請求項4】 請求項2に記載の反射基板であって、 前記保護膜が、ダイヤモンド状炭素のプラズマ重合膜で
あることを特徴とする反射基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31600599A JP2001133613A (ja) | 1999-11-05 | 1999-11-05 | 反射基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31600599A JP2001133613A (ja) | 1999-11-05 | 1999-11-05 | 反射基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001133613A true JP2001133613A (ja) | 2001-05-18 |
Family
ID=18072193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31600599A Pending JP2001133613A (ja) | 1999-11-05 | 1999-11-05 | 反射基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001133613A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1253373A3 (en) * | 2001-04-24 | 2005-03-16 | Mitsui Chemicals, Inc. | Lamp reflector and reflector |
JP2005338624A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Kitagawa Ind Co Ltd | 可視光線反射フィルム |
JP2008507629A (ja) * | 2004-07-26 | 2008-03-13 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 真空コーティング設備及び方法 |
US7371598B2 (en) | 2003-10-02 | 2008-05-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Wiring substrate and method of manufacturing thereof, and thin film transistor and method of manufacturing thereof |
JP2011242679A (ja) * | 2010-05-20 | 2011-12-01 | Tamron Co Ltd | 増反射膜を有する反射部材及びその製造方法 |
JP2013538279A (ja) * | 2010-09-20 | 2013-10-10 | ヴァレオ ビジョン | 高分子系の表面処理材料から成る自動車部品 |
CN104659183A (zh) * | 2013-11-21 | 2015-05-27 | 福建省万邦光电科技有限公司 | 一种led发光模组的结构及其制作工艺 |
-
1999
- 1999-11-05 JP JP31600599A patent/JP2001133613A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1253373A3 (en) * | 2001-04-24 | 2005-03-16 | Mitsui Chemicals, Inc. | Lamp reflector and reflector |
US6906863B2 (en) | 2001-04-24 | 2005-06-14 | Mitsui Chemicals Inc. | Lamp reflector and reflector |
US7371598B2 (en) | 2003-10-02 | 2008-05-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Wiring substrate and method of manufacturing thereof, and thin film transistor and method of manufacturing thereof |
US7795730B2 (en) | 2003-10-02 | 2010-09-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Wiring substrate and method of manufacturing thereof, and thin film transistor and method of manufacturing thereof |
JP2005338624A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Kitagawa Ind Co Ltd | 可視光線反射フィルム |
JP4526874B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2010-08-18 | 北川工業株式会社 | 可視光線反射フィルム |
JP2008507629A (ja) * | 2004-07-26 | 2008-03-13 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 真空コーティング設備及び方法 |
JP2011242679A (ja) * | 2010-05-20 | 2011-12-01 | Tamron Co Ltd | 増反射膜を有する反射部材及びその製造方法 |
JP2013538279A (ja) * | 2010-09-20 | 2013-10-10 | ヴァレオ ビジョン | 高分子系の表面処理材料から成る自動車部品 |
CN104659183A (zh) * | 2013-11-21 | 2015-05-27 | 福建省万邦光电科技有限公司 | 一种led发光模组的结构及其制作工艺 |
CN104659183B (zh) * | 2013-11-21 | 2017-10-20 | 莆田康布斯光电科技有限公司 | 一种led发光模组的结构及其制造工艺 |
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