JP2011242679A - 増反射膜を有する反射部材及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】立体形状をした透明基体表面に、70nm以上の厚みでアルミニウム層を形成した反射部材であって、該アルミニウム層の反射面側に、屈折率が1.54以下で透明であって、炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが60nmから130nmの低屈折率層と、前記低屈折率層上に設けた、屈折率が2.1以上で透明であって、厚さが40nmから85nmの高屈折率層とを含む増反射層群を設けたことを特徴とする増反射膜を有する反射部材。
【選択図】図1
Description
本発明は、従来のアルミニウムを主成分とする反射膜を設けた反射部材の特に増反射に関する上述した問題に鑑みてなされたものであって、増反射効率が高いことに加えて、耐アルカリ性に優れ、非平面的な物体表面にも厚さが均一な高反射膜を形成することができる増反射膜を有する反射部材を提供することを目的とする。
該アルミニウム層の反射面側に、
屈折率が1.54以下で透明であって、炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが60nmから130nmの低屈折率層と、前記低屈折率層上に設けた、屈折率が2.1以上で透明であって、厚さが40nmから85nmの高屈折率層とを含む増反射層群を設けたことを特徴とする増反射膜を有する反射部材である。
前記アルミニウム層を設け、
該アルミニウム層の上に前記増反射層群を少なくとも1群設けたことを特徴とする。
前記増反射層群を少なくとも1群設け、
該増反射層群の上に前記アルミニウム層を設けたことを特徴とする。
該アルミニウム層の反射面側に、
屈折率が1.54以下で透明であって、炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが60nmから130nmの低屈折率層と、前記低屈折率層上に設けた、屈折率が2.1以上で透明であって、厚さが40nmから85nmの高屈折率層とを含む増反射層群を設け、
前記炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが60nmから130nmの低屈折率層を、ヘキサメチルジシロキサンのプラズマ重合反応で形成することを特徴とする増反射膜を有する反射部材の製造方法である。
前記炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが20nmから500nmの保護層を、ヘキサメチルジシロキサンのプラズマ重合反応で形成することを特徴とする裏面反射部材の製造方法である。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
樹脂(ポリカーボネート)
TiO2 57
HMDSO重合 100
Al 150
HMDSO重合 90
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.49
該HMDSO重合膜の表面上に、抵抗加熱蒸着によって、アルミニウム(Al)を主成分とする膜を厚さ150nmで形成する。さらにその表面上に、真空装置内にヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)を供給しながら、電極に13.56MHzの高周波電力を給電してプラズマを形成し、アルミニウム膜の表面にHMDSO重合膜を厚さ90nmで形成する。
また、第1実施形態の裏面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
樹脂(ポリカーボネート)
Nb2O2 60
HMDSO重合 90
Al 150
HMDSO重合 90
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.53
また、第2実施形態の裏面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
樹脂(ポリカーボネート)
TiO2 57
HMDSO重合 90
TiO2 50
HMDSO重合 85
Al 150
HMDSO重合 90
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.51
また、第3実施形態の裏面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
樹脂(ポリカーボネート)
HMDSO重合 90
TiO2 57
HMDSO重合 65
TiO2 50
HMDSO重合 125
Al 90
HMDSO重合 200
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.53
また、第4実施形態の裏面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
樹脂(ポリカーボネート)
SiOx 90
TiO2 45
HMDSO重合 70
TaO5 60
HMDSO重合 100
Al 90
HMDSO重合 200
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.51
SiOxは、樹脂(ポリカーボネート)とTiO2層の接着性を高める作用をなす。
また、第5実施形態の裏面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
TiO2 57
HMDSO重合 90
Al 150
SiOx 100
樹脂(光学部品)
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.53
SiOxは、樹脂(ポリカーボネート)とTiO2層の接着性を高める作用をなす。
また、第6実施形態の表面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
TiO2 50
HMDSO重合 90
TiO2 57
SiO2 90
Al 150
AlSiOx 100
樹脂(光学部品)
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.49
SiO2は、Al層とTiO2層の接着性を高める作用をなす。AlSiOxは、樹脂(光学部品)とAl層の接着性を高める作用をなす。
また、第7実施形態の表面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
TiO2 50
HMDSO重合 90
TiO2 57
HMDSO重合 90
Al 150
AlSiOx 100
樹脂(光学部品)
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.51
AlSiOxは、樹脂(光学部品)とAl層の接着性を高める作用をなす。
また、第8実施形態の表面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
Ta2O5 80
HMDSO重合 125
TiO2 45
SiO2 70
Al 100
AlSiOx 40
樹脂(光学部品)
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.53
SiO2は、Al層とTiO2層の接着性を高める作用をなす。AlSiOxは、樹脂(光学部品)とAl層の接着性を高める作用をなす。
また、第9実施形態の表面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
Ta2O5 80
SiO2 120
TiO2 45
HMDSO重合 125
Al 120
AlSiOx 40
樹脂(光学部品)
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.51
AlSiOxは、樹脂(光学部品)とAl層の接着性を高める作用をなす。
また、第10実施形態の表面反射部材を水酸化カリウム水溶液(1重量%)に10分間浸漬して、蒸着膜の耐アルカリ性を調べた。浸漬後の蒸着膜の反射率及び外観は浸漬前と比較して変化は認められず、耐アルカリ性に優れていることを確認した。
さらに、アルカリ浸漬後の蒸着膜にセロテープ(登録商標)を貼って該セロテープ(登録商標)を引っ張ることにより該蒸着膜が剥されることはなかった。蒸着膜は、アルカリ浸漬によっても劣化しない優れた接着性を保持することが確認された。
HMDSO重合膜は、光学的吸収が、消衰係数<3E−3と小さい利点を有する。
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
樹脂(ポリカーボネート)
SiOx 90
Al 90
HMDSO重合 200
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.53
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
樹脂(ポリカーボネート)
SiOx 90
TiO2 57
SiO2 65
TiO2 50
SiO2 125
Al 90
HMDSO重合 200
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.53
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
樹脂(ポリカーボネート)
SiOx 90
TiO2 30
HMDSO重合 150
TiO2 30
HMDSO重合 150
Al 90
HMDSO重合 200
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.53
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
Al 150
SiOx 100
樹脂(光学部品)
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
TiO2 57
SiO2 90
Al 150
SiOx 100
樹脂(光学部品)
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
TiO2 57
HMDSO 90
Al 150
SiOx 100
樹脂(光学部品)
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.56
構成は以下の通りである。
(材料) (厚さ:nm)
TiO2 20
HMDSO 50
Al 150
SiOx 100
樹脂(光学部品)
HMDSOの屈折率(λ:550nm) 1.53
B 第2実施形態の裏面反射部材の反射率グラフ
C 第3実施形態の裏面反射部材の反射率グラフ
D 第4実施形態の裏面反射部材の反射率グラフ
E 第5実施形態の裏面反射部材の反射率グラフ
F 第6実施形態の表面反射部材の反射率グラフ
G 第7実施形態の表面反射部材の反射率グラフ
H 第8実施形態の表面反射部材の反射率グラフ
I 第9実施形態の表面反射部材の反射率グラフ
J 第10実施形態の表面反射部材の反射率グラフ
Claims (7)
- 立体形状をした透明基体表面に、70nm以上の厚みでアルミニウム層を形成した反射部材であって、
該アルミニウム層の反射面側に、
屈折率が1.54以下で透明であって、炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが60nmから130nmの低屈折率層と、前記低屈折率層上に設けた、屈折率が2.1以上で透明であって、厚さが40nmから85nmの高屈折率層とを含む増反射層群を設けたことを特徴とする増反射膜を有する反射部材。 - 前記立体形状をした透明基体表面に、
前記アルミニウム層を設け、
該アルミニウム層の上に前記増反射層群を少なくとも1群設けたことを特徴とする請求項1に記載の増反射膜を有する表面反射部材。 - 前記立体形状をした透明基体表面に、
前記増反射層群を少なくとも1群設け、
該増反射層群の上に前記アルミニウム層を設けたことを特徴とする請求項1に記載の増反射膜を有する裏面反射部材。 - 前記アルミニウム層の上に、炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが20nmから500nmの保護層を設けたことを特徴とする請求項3に記載の増反射膜を有する裏面反射部材。
- 立体形状をした透明基体表面に、70nm以上の厚みでアルミニウム層を形成した反射部材の製造方法であって、
該アルミニウム層の反射面側に、
屈折率が1.54以下で透明であって、炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが60nmから130nmの低屈折率層と、前記低屈折率層上に設けた、屈折率が2.1以上で透明であって、厚さが40nmから85nmの高屈折率層とを含む増反射層群を設け、
前記炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが60nmから130nmの低屈折率層を、ヘキサメチルジシロキサンのプラズマ重合反応で形成することを特徴とする増反射膜を有する反射部材の製造方法。 - 立体形状をした透明基体表面に、70nm以上の厚みでアルミニウム層を形成した反射部材と、前記アルミニウム層の上に、炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが20nmから500nmの保護層を設けたことを特徴とする裏面反射部材。
- 立体形状をした透明基体表面に、70nm以上の厚みでアルミニウム層を形成した反射部材と、前記アルミニウム層の上に、炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが20nmから500nmの保護層を設けた裏面反射部材の製造方法であって、
前記炭化水素構造を含みSiO2を主成分とし、厚さが20nmから500nmの保護層を、ヘキサメチルジシロキサンのプラズマ重合反応で形成することを特徴とする裏面反射部材の製造方法。
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JP2010116276A JP2011242679A (ja) | 2010-05-20 | 2010-05-20 | 増反射膜を有する反射部材及びその製造方法 |
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2010
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