JPH073435A - 高耐食性Ａｇ−Ｍｇ合金、および、その薄膜 - Google Patents
高耐食性Ａｇ−Ｍｇ合金、および、その薄膜Info
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- JPH073435A JPH073435A JP9804694A JP9804694A JPH073435A JP H073435 A JPH073435 A JP H073435A JP 9804694 A JP9804694 A JP 9804694A JP 9804694 A JP9804694 A JP 9804694A JP H073435 A JPH073435 A JP H073435A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 硫化物成分等によるＡｇの銀白色光沢の黒変
化を防止し、高反射率、低熱伝導率のＡｇ−Ｍｇ合金を
得る。また、光磁気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ
等に使用して好適なＡｇ−Ｍｇ合金薄膜を得る。 【構成】 Ａｇに対し１〜１０ａｔ％のＭｇを含有させ
たＡｇ−Ｍｇ合金の最表層のＭｇが酸化されて生ずる被
膜により、Ａｇを大気中の硫化物成分やオゾンから遮断
して耐食性を高めると共に、高反射率を維持する。Ｍｇ
の添加により熱伝導率を低下させる。光磁気記録媒体、
光ディスク、照明器具、鏡、標識用の反射膜として有用
である。さらに、家庭用プラスチック製品のめっき膜と
しても使用することができる。スパッタリングにより基
板に合金膜を被着する。
化を防止し、高反射率、低熱伝導率のＡｇ−Ｍｇ合金を
得る。また、光磁気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ
等に使用して好適なＡｇ−Ｍｇ合金薄膜を得る。 【構成】 Ａｇに対し１〜１０ａｔ％のＭｇを含有させ
たＡｇ−Ｍｇ合金の最表層のＭｇが酸化されて生ずる被
膜により、Ａｇを大気中の硫化物成分やオゾンから遮断
して耐食性を高めると共に、高反射率を維持する。Ｍｇ
の添加により熱伝導率を低下させる。光磁気記録媒体、
光ディスク、照明器具、鏡、標識用の反射膜として有用
である。さらに、家庭用プラスチック製品のめっき膜と
しても使用することができる。スパッタリングにより基
板に合金膜を被着する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大気中の硫化物成分や
オゾンなどによるＡｇの黒変化を防止する高耐食性Ａｇ
−Ｍｇ合金、および、この合金を用いた反射膜、詳しく
は光磁気記録媒体用反射膜、光記録媒体用反射膜、リフ
レクタ用反射膜、照明器具用反射膜、標識用反射膜、お
よび、プラスチック製品のめっき膜に関する。
オゾンなどによるＡｇの黒変化を防止する高耐食性Ａｇ
−Ｍｇ合金、および、この合金を用いた反射膜、詳しく
は光磁気記録媒体用反射膜、光記録媒体用反射膜、リフ
レクタ用反射膜、照明器具用反射膜、標識用反射膜、お
よび、プラスチック製品のめっき膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ａｇはその銀白色の美しい光沢とともに
展性、延性に優れ、金属のうちで電気および熱の伝導率
が最も大きいので非常に有用な金属である。特に可視光
に対する反射率が広い波長範囲にわたって１００％に近
いため、鏡面を必要とする装置、例えば光記録媒体の反
射膜などに広く利用されている。このようなＡｇの特徴
を生かして例えば、洋食器にＡｇメッキを行うと、その
装飾性に優れている点や水分中の微生物が殺菌されるな
どの利点があるため、被メッキ物に高級感を与えること
ができる。
展性、延性に優れ、金属のうちで電気および熱の伝導率
が最も大きいので非常に有用な金属である。特に可視光
に対する反射率が広い波長範囲にわたって１００％に近
いため、鏡面を必要とする装置、例えば光記録媒体の反
射膜などに広く利用されている。このようなＡｇの特徴
を生かして例えば、洋食器にＡｇメッキを行うと、その
装飾性に優れている点や水分中の微生物が殺菌されるな
どの利点があるため、被メッキ物に高級感を与えること
ができる。
【０００３】以上のようにＡｇは非常に有用な金属であ
り酸素の中で高温に熱しても酸化されない等、化学的に
も安定な金属であるが、唯一その欠点として、大気中の
硫化物成分によって褐色または黒色のＡｇ2Ｓに変化
し、また、硫化物ほどではないが、大気中のオゾンによ
り黒色のＡｇＯに変化して、その光沢を失うことが挙げ
られる。特に、Ｓ（硫黄）とは直接結合して、例えば、
Ｈ2Ｓと反応して常温で容易にＡｇ2Ｓとなり黒変する。
この黒変化を逆に利用した古美術色装飾品もあるが一般
的でない。このような黒変化を一時的に防止するには、
クロム酸処理や透明樹脂を塗装する方法が用いられ、最
も効果的な方法としてはＡｇメッキ上にＲｈメッキを薄
く形成する方法が用いられる。
り酸素の中で高温に熱しても酸化されない等、化学的に
も安定な金属であるが、唯一その欠点として、大気中の
硫化物成分によって褐色または黒色のＡｇ2Ｓに変化
し、また、硫化物ほどではないが、大気中のオゾンによ
り黒色のＡｇＯに変化して、その光沢を失うことが挙げ
られる。特に、Ｓ（硫黄）とは直接結合して、例えば、
Ｈ2Ｓと反応して常温で容易にＡｇ2Ｓとなり黒変する。
この黒変化を逆に利用した古美術色装飾品もあるが一般
的でない。このような黒変化を一時的に防止するには、
クロム酸処理や透明樹脂を塗装する方法が用いられ、最
も効果的な方法としてはＡｇメッキ上にＲｈメッキを薄
く形成する方法が用いられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようなＡｇの退色
を防止する方法は完全なものではなく、上記Ｒｈメッキ
による方法もＲｈ（ロジウム）が非常に高価であるため
一般的でない。また、被覆物とＡｇとの間に界面が存在
する場合には、剥離等の不都合が起こりやすい。さら
に、上記光記録媒体、特に光磁気記録媒体用反射膜とし
て用いる場合には、熱伝導率の高さが問題となる。
を防止する方法は完全なものではなく、上記Ｒｈメッキ
による方法もＲｈ（ロジウム）が非常に高価であるため
一般的でない。また、被覆物とＡｇとの間に界面が存在
する場合には、剥離等の不都合が起こりやすい。さら
に、上記光記録媒体、特に光磁気記録媒体用反射膜とし
て用いる場合には、熱伝導率の高さが問題となる。
【０００５】そこで、本発明の目的は、大気中の硫化物
成分やオゾンによるＡｇの退色を防止し、併せてＡｇの
反射率の高さを保持しつつ、Ａｇよりも熱伝導率の低
い、高耐食性Ａｇ−Ｍｇ（銀−マグネシウム）合金を提
供することにある。また、本発明は、この高耐食性Ａｇ
−Ｍｇ合金を用いた高耐食性反射膜を提供することを、
その目的としている。また、本発明の目的は、この高耐
食性Ａｇ−Ｍｇ合金を用いた光磁気記録媒体用反射膜、
光記録媒体用反射膜、リフレクタ用反射膜、照明器具用
反射膜、標識用反射膜、プラスチック製品のめっき膜を
提供することである。
成分やオゾンによるＡｇの退色を防止し、併せてＡｇの
反射率の高さを保持しつつ、Ａｇよりも熱伝導率の低
い、高耐食性Ａｇ−Ｍｇ（銀−マグネシウム）合金を提
供することにある。また、本発明は、この高耐食性Ａｇ
−Ｍｇ合金を用いた高耐食性反射膜を提供することを、
その目的としている。また、本発明の目的は、この高耐
食性Ａｇ−Ｍｇ合金を用いた光磁気記録媒体用反射膜、
光記録媒体用反射膜、リフレクタ用反射膜、照明器具用
反射膜、標識用反射膜、プラスチック製品のめっき膜を
提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的は下記の
本発明により達成される。すなわち、請求項１に記載の
発明は、Ａｇに１〜１０ａｔ％のＭｇを含有させた高耐
食性Ａｇ−Ｍｇ合金である。その表面に生成するＭｇの
自然酸化膜により合金内部のＡｇを大気から保護して
（酸化、硫化等を防止して）退色を防止するものであ
る。
本発明により達成される。すなわち、請求項１に記載の
発明は、Ａｇに１〜１０ａｔ％のＭｇを含有させた高耐
食性Ａｇ−Ｍｇ合金である。その表面に生成するＭｇの
自然酸化膜により合金内部のＡｇを大気から保護して
（酸化、硫化等を防止して）退色を防止するものであ
る。
【０００７】請求項２に記載の発明は、Ａｇに１〜１０
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる高耐
食性反射膜である。この高耐食性反射膜は、例えば光磁
気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、各種標識、照明
器具等に用いられる。
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる高耐
食性反射膜である。この高耐食性反射膜は、例えば光磁
気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、各種標識、照明
器具等に用いられる。
【０００８】請求項３に記載の発明は、Ａｇに１〜８ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる光磁気
記録媒体用反射膜である。
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる光磁気
記録媒体用反射膜である。
【０００９】請求項４に記載の発明は、Ａｇに１〜８ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その
膜厚が５００〜１０００オングストロームである光磁気
記録媒体用反射膜である。
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その
膜厚が５００〜１０００オングストロームである光磁気
記録媒体用反射膜である。
【００１０】請求項５に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる光記録
媒体用反射膜である。
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる光記録
媒体用反射膜である。
【００１１】請求項６に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その
膜厚が５００〜１０００オングストロームである光記録
媒体用反射膜である。
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その
膜厚が５００〜１０００オングストロームである光記録
媒体用反射膜である。
【００１２】請求項７に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなるリフレ
クタ用反射膜である。このリフレクタとは、反射器、反
射鏡、反射板を示している。
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなるリフレ
クタ用反射膜である。このリフレクタとは、反射器、反
射鏡、反射板を示している。
【００１３】請求項８に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その
膜厚が１０００〜２０００オングストロームであるリフ
レクタ用反射膜である。
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その
膜厚が１０００〜２０００オングストロームであるリフ
レクタ用反射膜である。
【００１４】請求項９に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる標識用
反射膜である。
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる標識用
反射膜である。
【００１５】請求項１０に記載の発明は、Ａｇに１〜５
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる照明
器具用反射膜である。
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる照明
器具用反射膜である。
【００１６】請求項１１に記載の発明は、Ａｇに１〜５
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、そ
の膜厚が１０００〜１００００オングストロームである
プラスチック製品のめっき膜である。プラスチック製品
としては例えば家庭で使用される各種製品があり、例え
ば化粧品容器等である。
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、そ
の膜厚が１０００〜１００００オングストロームである
プラスチック製品のめっき膜である。プラスチック製品
としては例えば家庭で使用される各種製品があり、例え
ば化粧品容器等である。
【００１７】
【作用】請求項１に記載した発明において、Ａｇに含有
させるＭｇは、Ａｇと近似した銀白色の光沢を有する金
属であり、銀と同様に展性、延性に富み容易に箔化す
る。よって、銀と合金をつくるのに適した金属である。
このＭｇは常温の空気中で容易にその表面に酸化被膜を
生成する。このため、大気中で安定な金属であり、その
酸化被膜はＡｇに対する保護膜として最適である。ま
た、この酸化被膜は略透明であり、Ａｇの銀白色光沢を
損なうことはない。この合金のＭｇ濃度を１〜１０ａｔ
％と限定したのは、この範囲未満では、Ｍｇの量が保護
膜を形成するには不十分であり、この範囲を越えると最
表層のＭｇが強固なＡｇ−Ｍｇ金属間化合物を形成して
いると考えられるので、Ｍｇの酸化被膜の生成が困難と
なるからである。
させるＭｇは、Ａｇと近似した銀白色の光沢を有する金
属であり、銀と同様に展性、延性に富み容易に箔化す
る。よって、銀と合金をつくるのに適した金属である。
このＭｇは常温の空気中で容易にその表面に酸化被膜を
生成する。このため、大気中で安定な金属であり、その
酸化被膜はＡｇに対する保護膜として最適である。ま
た、この酸化被膜は略透明であり、Ａｇの銀白色光沢を
損なうことはない。この合金のＭｇ濃度を１〜１０ａｔ
％と限定したのは、この範囲未満では、Ｍｇの量が保護
膜を形成するには不十分であり、この範囲を越えると最
表層のＭｇが強固なＡｇ−Ｍｇ金属間化合物を形成して
いると考えられるので、Ｍｇの酸化被膜の生成が困難と
なるからである。
【００１８】請求項２に記載の発明は、Ａｇに１〜１０
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる高耐
食性反射膜である。この高耐食性反射膜は、例えば光磁
気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、各種標識、照明
器具等に用いられる。
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる高耐
食性反射膜である。この高耐食性反射膜は、例えば光磁
気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、各種標識、照明
器具等に用いられる。
【００１９】請求項３，４に記載の発明に係る反射膜は
光磁気記録媒体、いわゆる大容量メモリとしての光磁気
ディスク等に用いられる。この場合、Ａｇに対するＭｇ
の含有量は１〜８ａｔ％とする。また、その膜厚は５０
０〜１０００オングストロームとする。この組成範囲に
限定した理由は、熱伝導率がＡｇのそれの２／３以下で
あり、かつ、反射率が８０％以上であることが必要だか
らである。
光磁気記録媒体、いわゆる大容量メモリとしての光磁気
ディスク等に用いられる。この場合、Ａｇに対するＭｇ
の含有量は１〜８ａｔ％とする。また、その膜厚は５０
０〜１０００オングストロームとする。この組成範囲に
限定した理由は、熱伝導率がＡｇのそれの２／３以下で
あり、かつ、反射率が８０％以上であることが必要だか
らである。
【００２０】請求項５，６に記載の発明は、例えば光デ
ィスク（ＣＤ）用反射膜、光カード用反射膜として使用
することができる光記録媒体用反射膜であり、Ａｇに１
〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からな
り、特にその膜厚を５００〜１０００オングストローム
とする。反射率が９０％以上になる組成範囲とすること
が好ましいからである。なお、従来の光デイスクのＡｌ
反射膜の反射率は９０％である。
ィスク（ＣＤ）用反射膜、光カード用反射膜として使用
することができる光記録媒体用反射膜であり、Ａｇに１
〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からな
り、特にその膜厚を５００〜１０００オングストローム
とする。反射率が９０％以上になる組成範囲とすること
が好ましいからである。なお、従来の光デイスクのＡｌ
反射膜の反射率は９０％である。
【００２１】請求項７，８に記載の発明では、リフレク
タ用の反射膜として用いるＡｇ−Ｍｇ合金を示す。反射
器、反射鏡、反射板等に使用される反射膜としては反射
率がＡｌの反射率以上、すなわち９０％以上であること
が望ましいことから、組成範囲をＭｇの１〜５ａｔ％に
限定している。また、その反射膜の膜厚は１０００〜２
０００オングストロームが好ましい。
タ用の反射膜として用いるＡｇ−Ｍｇ合金を示す。反射
器、反射鏡、反射板等に使用される反射膜としては反射
率がＡｌの反射率以上、すなわち９０％以上であること
が望ましいことから、組成範囲をＭｇの１〜５ａｔ％に
限定している。また、その反射膜の膜厚は１０００〜２
０００オングストロームが好ましい。
【００２２】請求項９に記載の発明では、標識用の反射
膜として、請求項１０に記載の発明では、照明器具用の
反射膜として、Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなる反射膜をそれぞれ用いる。この
組成範囲限定の理由は、反射率をＡｌの反射率以上、す
なわち９０％以上にすることにある。
膜として、請求項１０に記載の発明では、照明器具用の
反射膜として、Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなる反射膜をそれぞれ用いる。この
組成範囲限定の理由は、反射率をＡｌの反射率以上、す
なわち９０％以上にすることにある。
【００２３】請求項１１に記載の発明では、プラスチッ
ク製品のめっき膜としてＡｇ−Ｍｇ合金を用いる。例え
ば化粧品容器、アクセサリ等の表面装飾用のめっき膜で
ある。反射率をＡｌの反射率以上、すなわち９０％以上
にするため、その組成を限定している。
ク製品のめっき膜としてＡｇ−Ｍｇ合金を用いる。例え
ば化粧品容器、アクセサリ等の表面装飾用のめっき膜で
ある。反射率をＡｌの反射率以上、すなわち９０％以上
にするため、その組成を限定している。
【００２４】
【実施例】以下に本発明の具体的構成について詳述す
る。本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金のＭｇ濃度は１〜１０
ａｔ％である。この合金を大気中あるいは酸化されやす
い雰囲気、例えば高温、高湿度の雰囲気中に置くと、Ａ
ｇよりは酸化されやすいＭｇが優先的に酸化され、合金
表面に透明なＭｇ酸化被膜が形成される。このＭｇ酸化
被膜は透明であるのでＡｇの銀白色光沢を損なうことが
ないだけでなく、Ａｇを前述の大気中の硫化物成分から
遮断する有効な保護膜として機能する。そして、このＭ
ｇ酸化被膜が合金最表層に形成される際に、表層のＭｇ
が酸化被膜中に取り込まれるため、この表層の合金組成
は純Ａｇに近づく。そのため、Ｍｇ酸化被膜が形成され
ると、合金の反射率は９０〜９５％と増加し、純Ａｇの
９８％に近づく。
る。本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金のＭｇ濃度は１〜１０
ａｔ％である。この合金を大気中あるいは酸化されやす
い雰囲気、例えば高温、高湿度の雰囲気中に置くと、Ａ
ｇよりは酸化されやすいＭｇが優先的に酸化され、合金
表面に透明なＭｇ酸化被膜が形成される。このＭｇ酸化
被膜は透明であるのでＡｇの銀白色光沢を損なうことが
ないだけでなく、Ａｇを前述の大気中の硫化物成分から
遮断する有効な保護膜として機能する。そして、このＭ
ｇ酸化被膜が合金最表層に形成される際に、表層のＭｇ
が酸化被膜中に取り込まれるため、この表層の合金組成
は純Ａｇに近づく。そのため、Ｍｇ酸化被膜が形成され
ると、合金の反射率は９０〜９５％と増加し、純Ａｇの
９８％に近づく。
【００２５】また、このように最表層の組成は純Ａｇに
近くなるが、内部はＡｇ−Ｍｇ組成であるので熱伝導率
を純Ａｇの１／３程度に抑えることができる。この合金
のＭｇ濃度を１〜１０ａｔ％と限定したのは、この範囲
未満では、Ｍｇの量が保護膜を形成するには不十分であ
り、この範囲を越えると最表層のＭｇが強固なＡｇ−Ｍ
ｇ金属間化合物を形成していると考えられるので、酸化
被膜の生成が困難となるからである。このような組成の
Ａｇ−Ｍｇ合金の製造は、通常のスパッタリング法によ
るのが最適である。ＡｇとＭｇの二元ターゲットから被
着体上に上記組成の合金を堆積する。組成の制御はスパ
ッタリングの際にターゲットに印加される高周波電力値
の増減、あるいは、被着体の位置の移動等により行えば
よい。次に、具体的数字および図を示して本発明を更に
詳細に実証する。
近くなるが、内部はＡｇ−Ｍｇ組成であるので熱伝導率
を純Ａｇの１／３程度に抑えることができる。この合金
のＭｇ濃度を１〜１０ａｔ％と限定したのは、この範囲
未満では、Ｍｇの量が保護膜を形成するには不十分であ
り、この範囲を越えると最表層のＭｇが強固なＡｇ−Ｍ
ｇ金属間化合物を形成していると考えられるので、酸化
被膜の生成が困難となるからである。このような組成の
Ａｇ−Ｍｇ合金の製造は、通常のスパッタリング法によ
るのが最適である。ＡｇとＭｇの二元ターゲットから被
着体上に上記組成の合金を堆積する。組成の制御はスパ
ッタリングの際にターゲットに印加される高周波電力値
の増減、あるいは、被着体の位置の移動等により行えば
よい。次に、具体的数字および図を示して本発明を更に
詳細に実証する。
【００２６】図１および図２は本発明のＡｇ−Ｍｇ合金
において、Ｍｇが６．１８ａｔ％で含有される場合の最
表層から内部にいたる組成の変化をオージェ分析計によ
り測定したものである。横軸はアルゴンイオンにより等
速度に堀穿した時間を表し、時間０が最表層の組成、時
間１０分が表面より１０００オングストローム深さの組
成を示している。また、図１が合金作製直後の組成を示
し、図２は温度８０℃、相対湿度８５％の条件下に２４
時間放置後の組成を示す。図２に示されるように、２４
時間放置後には、表層部において、Ａｇ（折線（１））
の濃度が７０ａｔ％から５０ａｔ％に低下し、Ｍｇ（折
線（２））の濃度が２０ａｔ％から３０ａｔ％に増加し
ている。このことは前述のように表層部にＭｇの酸化被
膜が形成されていることを実証している。また、深さ略
５０オングストロームからはＡｇの濃度が１５ａｔ％増
加し、Ｍｇの濃度が略１０ａｔ％低下している。このこ
とは、前述のように５０オングストロームより内部では
合金の組成が純Ａｇに近づくことを実証している。な
お、析線（３）は酸素濃度を示す。
において、Ｍｇが６．１８ａｔ％で含有される場合の最
表層から内部にいたる組成の変化をオージェ分析計によ
り測定したものである。横軸はアルゴンイオンにより等
速度に堀穿した時間を表し、時間０が最表層の組成、時
間１０分が表面より１０００オングストローム深さの組
成を示している。また、図１が合金作製直後の組成を示
し、図２は温度８０℃、相対湿度８５％の条件下に２４
時間放置後の組成を示す。図２に示されるように、２４
時間放置後には、表層部において、Ａｇ（折線（１））
の濃度が７０ａｔ％から５０ａｔ％に低下し、Ｍｇ（折
線（２））の濃度が２０ａｔ％から３０ａｔ％に増加し
ている。このことは前述のように表層部にＭｇの酸化被
膜が形成されていることを実証している。また、深さ略
５０オングストロームからはＡｇの濃度が１５ａｔ％増
加し、Ｍｇの濃度が略１０ａｔ％低下している。このこ
とは、前述のように５０オングストロームより内部では
合金の組成が純Ａｇに近づくことを実証している。な
お、析線（３）は酸素濃度を示す。
【００２７】図３はＡｇＭｇ合金膜の組成依存性を示し
ている。反射率の測定は波長６３２．８ｎｍのレーザ光
を照射してエリプソメータにより行った。なお、この反
射膜は後述するコスパッタ法により被着、形成したもの
である。
ている。反射率の測定は波長６３２．８ｎｍのレーザ光
を照射してエリプソメータにより行った。なお、この反
射膜は後述するコスパッタ法により被着、形成したもの
である。
【００２８】図４はＡｇ，Ａｇ−Ｍｇ合金についての耐
食試験結果を示すグラフである。縦軸は６３２．８ｎｍ
の波長のレーザ光を照射しエリプソメータで測定した反
射率を示す。横軸は温度８０℃、相対湿度８５％の雰囲
気での放置時間である。図４に示すように、ＡｇＭｇ6.
18合金では、Ｍｇの酸化被膜形成後から表面層の組成が
純Ａｇに近づいて、反射率が上昇し、略８時間後から反
射率が一定となる様子がわかる。なお、この反射膜はコ
スパッタ法により形成したものである。
食試験結果を示すグラフである。縦軸は６３２．８ｎｍ
の波長のレーザ光を照射しエリプソメータで測定した反
射率を示す。横軸は温度８０℃、相対湿度８５％の雰囲
気での放置時間である。図４に示すように、ＡｇＭｇ6.
18合金では、Ｍｇの酸化被膜形成後から表面層の組成が
純Ａｇに近づいて、反射率が上昇し、略８時間後から反
射率が一定となる様子がわかる。なお、この反射膜はコ
スパッタ法により形成したものである。
【００２９】図５は本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金の組成
を変化させた場合の熱伝導率の変化を示すグラフであ
る。サンプルとしては膜厚１０００オングストロームの
合金膜のその幅方向の熱伝導率の値を示している。熱伝
導率Ｋは、まず四点探針法で電気伝導度σを測定したの
ち、次の関係式（ブィーデマン・フランツの法則）から
計算した。 Ｋ＝ＬσＴ（Ｌ：ローレンツ数、Ｔ：絶対温度） 同図のグラフからＭｇ濃度が本発明の範囲である８ａｔ
％以上で熱伝導率が大きく低下していることが分かる。
を変化させた場合の熱伝導率の変化を示すグラフであ
る。サンプルとしては膜厚１０００オングストロームの
合金膜のその幅方向の熱伝導率の値を示している。熱伝
導率Ｋは、まず四点探針法で電気伝導度σを測定したの
ち、次の関係式（ブィーデマン・フランツの法則）から
計算した。 Ｋ＝ＬσＴ（Ｌ：ローレンツ数、Ｔ：絶対温度） 同図のグラフからＭｇ濃度が本発明の範囲である８ａｔ
％以上で熱伝導率が大きく低下していることが分かる。
【００３０】図６、図７は本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金
膜を光磁気ディスクに使用した実施例を示している。こ
れらの図に示すように、光磁気ディスク６１は、ポリカ
ーボネイト（ＰＣ）基板６２に保護層６３を介して記録
層６４を積層し、さらに保護層６５を介して反射層６６
を積み重ねている。この反射層６６を本発明に係るＡｇ
−Ｍｇ合金膜で形成している。反射層６６はＡｇに１〜
８ａｔ％の範囲のＭｇを含むＡｇ−Ｍｇ合金膜で形成さ
れ、その厚さは５００〜１０００オングストロームが好
適な値である。なお、保護層にはＳｉＡｌＯＮ，Ｓｉ3
Ｎ4が、記録層としてはＴｂＦｅＣｏ、または、ＴｂＦ
ｅＣｏＣｒがそれぞれ使用される。この記録層の厚さは
２００〜２５０オングストロームのものが用いられる。
図７の（Ａ）は３．５インチの光磁気ディスク、（Ｂ）
は５．２５インチの光磁気ディスクの構造を示してい
る。本発明に係る反射膜はこれらのいずれについても用
いることができる。
膜を光磁気ディスクに使用した実施例を示している。こ
れらの図に示すように、光磁気ディスク６１は、ポリカ
ーボネイト（ＰＣ）基板６２に保護層６３を介して記録
層６４を積層し、さらに保護層６５を介して反射層６６
を積み重ねている。この反射層６６を本発明に係るＡｇ
−Ｍｇ合金膜で形成している。反射層６６はＡｇに１〜
８ａｔ％の範囲のＭｇを含むＡｇ−Ｍｇ合金膜で形成さ
れ、その厚さは５００〜１０００オングストロームが好
適な値である。なお、保護層にはＳｉＡｌＯＮ，Ｓｉ3
Ｎ4が、記録層としてはＴｂＦｅＣｏ、または、ＴｂＦ
ｅＣｏＣｒがそれぞれ使用される。この記録層の厚さは
２００〜２５０オングストロームのものが用いられる。
図７の（Ａ）は３．５インチの光磁気ディスク、（Ｂ）
は５．２５インチの光磁気ディスクの構造を示してい
る。本発明に係る反射膜はこれらのいずれについても用
いることができる。
【００３１】図８は光記録媒体の一例としての光ディス
ク（ＣＤ）について本発明に係る反射膜を適用した場合
を示す。透明プラスチックの基板８２に反射膜８１を積
層し、保護膜８３で被覆している。反射膜は、Ａｇに１
〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からな
り、５００〜１０００オングストロームの厚さに被着す
る。また、光ディスクの他にも光カード等へこの反射膜
を適用することもできる。保護膜８３はＳｉＡｌＯＮま
たはＳｉ3Ｎ4で形成する。
ク（ＣＤ）について本発明に係る反射膜を適用した場合
を示す。透明プラスチックの基板８２に反射膜８１を積
層し、保護膜８３で被覆している。反射膜は、Ａｇに１
〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からな
り、５００〜１０００オングストロームの厚さに被着す
る。また、光ディスクの他にも光カード等へこの反射膜
を適用することもできる。保護膜８３はＳｉＡｌＯＮま
たはＳｉ3Ｎ4で形成する。
【００３２】図９には本発明に係る反射膜を使用した照
明器具の断面構造を示す。９１がＳＰＧ製の原板で、こ
れに粘着剤層９２、密着コート層９３を介して、Ａｇに
１〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からな
る反射膜９４が積層されている。９５はトップコート層
である。耐食性を高めるため、この組成範囲としてい
る。反射膜９４の厚さは１０００〜２０００オングスト
ロームが好ましい。アクリル樹脂等にこの合金をスパッ
タリングして被着してもよい。
明器具の断面構造を示す。９１がＳＰＧ製の原板で、こ
れに粘着剤層９２、密着コート層９３を介して、Ａｇに
１〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からな
る反射膜９４が積層されている。９５はトップコート層
である。耐食性を高めるため、この組成範囲としてい
る。反射膜９４の厚さは１０００〜２０００オングスト
ロームが好ましい。アクリル樹脂等にこの合金をスパッ
タリングして被着してもよい。
【００３３】図１０はリフレクタの一つである鏡（家庭
用、自動車用等）について本発明合金膜を適用した例で
ある。この鏡では、平坦なガラス板１０１に、Ａｇに１
〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金の反射膜
１０２を１０００オングストローム〜１μｍの厚さに被
着している。１０３は樹脂コーティング層である。この
組成範囲であれば、従来のＡｌまたはＣｒ製の反射膜を
有する鏡と同等の反射率を維持しつつ、耐食性を一段と
優れたものとすることができる。
用、自動車用等）について本発明合金膜を適用した例で
ある。この鏡では、平坦なガラス板１０１に、Ａｇに１
〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金の反射膜
１０２を１０００オングストローム〜１μｍの厚さに被
着している。１０３は樹脂コーティング層である。この
組成範囲であれば、従来のＡｌまたはＣｒ製の反射膜を
有する鏡と同等の反射率を維持しつつ、耐食性を一段と
優れたものとすることができる。
【００３４】図１１は家庭用プラスチック製品、例えば
化粧品容器に施されるめっき膜として、本発明に係る高
耐食性合金を用いた場合を示している。容器本体１１
５、その蓋１１４の各表面にめっき膜１１２を施してい
る。その構造は、円筒状のプラスチック基体１１１に、
めっき膜１１２をコーティングしたものである。めっき
膜１１２は透明な樹脂層１１３でサンドイッチ状にはさ
まれている。めっき膜１１２は、Ａｇに１〜５ａｔ％の
Ｍｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金であって、１０００オ
ングストローム〜１μｍの厚さに形成されている。反射
率として９０％以上とした組成範囲である。
化粧品容器に施されるめっき膜として、本発明に係る高
耐食性合金を用いた場合を示している。容器本体１１
５、その蓋１１４の各表面にめっき膜１１２を施してい
る。その構造は、円筒状のプラスチック基体１１１に、
めっき膜１１２をコーティングしたものである。めっき
膜１１２は透明な樹脂層１１３でサンドイッチ状にはさ
まれている。めっき膜１１２は、Ａｇに１〜５ａｔ％の
Ｍｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金であって、１０００オ
ングストローム〜１μｍの厚さに形成されている。反射
率として９０％以上とした組成範囲である。
【００３５】次に、本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金反射膜
の作製方法について説明する。このＡｇ−Ｍｇ合金膜
は、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法
を用いて作製することができる。特にマグネトロンスパ
ッタリング法が好適である。これは、合金組成を制御し
易いこと、基板に対する膜の付着力が大きいこと、大面
積の基板に組成、厚さの均一な膜を形成し易いことが、
他の方法よりも優れているからである。例えば上記光磁
気ディスク、ＣＤ、照明器具用反射板等はこのマグネト
ロンスパッタリングで反射膜を作製する。なお、家庭用
プラスチック製品のめっき膜、鏡の反射膜については、
真空蒸着法、イオンプレーティング法が用いられること
もある。
の作製方法について説明する。このＡｇ−Ｍｇ合金膜
は、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法
を用いて作製することができる。特にマグネトロンスパ
ッタリング法が好適である。これは、合金組成を制御し
易いこと、基板に対する膜の付着力が大きいこと、大面
積の基板に組成、厚さの均一な膜を形成し易いことが、
他の方法よりも優れているからである。例えば上記光磁
気ディスク、ＣＤ、照明器具用反射板等はこのマグネト
ロンスパッタリングで反射膜を作製する。なお、家庭用
プラスチック製品のめっき膜、鏡の反射膜については、
真空蒸着法、イオンプレーティング法が用いられること
もある。
【００３６】以下、図１２を用いてコスパッタ法による
合金膜の作製法を説明する。コスパッタ法は、Ａｇター
ゲット１２１とＭｇターゲット１２２を、基板ホルダ１
２３に対して所定距離（１４ｃｍ）、所定高さ（例えば
７０ｍｍ）だけ離して配置する。ターゲット１２１，１
２２同士はチャンバ中心に対して例えば１２０゜離間し
て半径１４ｃｍの円周上に配置している。この基板ホル
ダ１２３とターゲットとの間の角度θを適宜変更設定す
ることにより、所定組成の合金膜を形成するものであ
る。例えば図示の装置ではθ＝０゜ではＭｇが１．２８
ａｔ％の合金膜が、θ＝２０゜で６．１８ａｔ％の合金
膜をそれぞれ作製することができる。図４はこの場合を
示している。スパッタリング条件は、Ａｇターゲット投
入電力がＲＦ１００Ｗ、Ｍｇのそれは１５０Ｗ、チャン
バ内のＡｒガス圧は１×１０-3Ｔｏｒｒ、到達真空度は
５×１０-7Ｔｏｒｒである。そして、このようにして形
成した合金膜の上記耐食試験（図４）は、恒温恒湿容器
（８０℃、８５％）を用いて行った。反射率の測定は、
エリプソメータを使用して行った。測定波長は６３２．
８ｎｍである。
合金膜の作製法を説明する。コスパッタ法は、Ａｇター
ゲット１２１とＭｇターゲット１２２を、基板ホルダ１
２３に対して所定距離（１４ｃｍ）、所定高さ（例えば
７０ｍｍ）だけ離して配置する。ターゲット１２１，１
２２同士はチャンバ中心に対して例えば１２０゜離間し
て半径１４ｃｍの円周上に配置している。この基板ホル
ダ１２３とターゲットとの間の角度θを適宜変更設定す
ることにより、所定組成の合金膜を形成するものであ
る。例えば図示の装置ではθ＝０゜ではＭｇが１．２８
ａｔ％の合金膜が、θ＝２０゜で６．１８ａｔ％の合金
膜をそれぞれ作製することができる。図４はこの場合を
示している。スパッタリング条件は、Ａｇターゲット投
入電力がＲＦ１００Ｗ、Ｍｇのそれは１５０Ｗ、チャン
バ内のＡｒガス圧は１×１０-3Ｔｏｒｒ、到達真空度は
５×１０-7Ｔｏｒｒである。そして、このようにして形
成した合金膜の上記耐食試験（図４）は、恒温恒湿容器
（８０℃、８５％）を用いて行った。反射率の測定は、
エリプソメータを使用して行った。測定波長は６３２．
８ｎｍである。
【００３７】図１３は合金ターゲットによるスパッタリ
ングを説明するための模式図である。この方法は、Ｍｇ
３．５ａｔ％のＡｇ−Ｍｇ合金ターゲットを用い、図示
（Ａ）〜（Ｃ）のようにターゲット１３２と基板ホルダ
１３１との相対位置を変化させて行った。基板ホルダ１
３１と合金ターゲット１３２との高さは７ｃｍ離間して
配置している。スパッタリング条件は、投入電力がＲＦ
２００Ｗ、Ａｒガス圧が１×１０-3Ｔｏｒｒ、到達真空
度は５×１０-7Ｔｏｒｒである。そして、このようにし
てガラス基板上に１０００オングストロームの厚さに形
成した各組成（Ｍｇ１．０〜１．５ａｔ％）の合金膜に
ついて、その耐食試験は、恒温恒湿容器（８０℃、８５
％）を用いて行った。反射率は、エリプソメータで測定
した。測定波長は６３２．８ｎｍである。（Ａ）〜
（Ｃ）に示すように、各組成の成膜直後の反射率Ｒは９
６％以上の高率を示している。
ングを説明するための模式図である。この方法は、Ｍｇ
３．５ａｔ％のＡｇ−Ｍｇ合金ターゲットを用い、図示
（Ａ）〜（Ｃ）のようにターゲット１３２と基板ホルダ
１３１との相対位置を変化させて行った。基板ホルダ１
３１と合金ターゲット１３２との高さは７ｃｍ離間して
配置している。スパッタリング条件は、投入電力がＲＦ
２００Ｗ、Ａｒガス圧が１×１０-3Ｔｏｒｒ、到達真空
度は５×１０-7Ｔｏｒｒである。そして、このようにし
てガラス基板上に１０００オングストロームの厚さに形
成した各組成（Ｍｇ１．０〜１．５ａｔ％）の合金膜に
ついて、その耐食試験は、恒温恒湿容器（８０℃、８５
％）を用いて行った。反射率は、エリプソメータで測定
した。測定波長は６３２．８ｎｍである。（Ａ）〜
（Ｃ）に示すように、各組成の成膜直後の反射率Ｒは９
６％以上の高率を示している。
【００３８】
【発明の効果】本発明のＡｇ−Ｍｇ合金は、その最表層
にＭｇ酸化被膜を形成することにより、耐食性が高ま
り、経時によるＡｇ白色光沢の退色が防止され、洋食器
などの銀製品に応用すると効果的である。また、Ａｇの
高反射率を保持しつつ、熱伝導率は１／３であるため、
光磁気記録媒体の反射膜として使用すると効果的であ
る。さらに、リフレクタ、照明器具、光記録媒体、交通
標識等として好適な反射膜を提供することができる。い
ずれの反射膜についても高反射率を長期にわたって維持
することができる。耐久性の高い反射膜、さらには、高
耐久性の光磁気記録媒体等を提供することができる。
にＭｇ酸化被膜を形成することにより、耐食性が高ま
り、経時によるＡｇ白色光沢の退色が防止され、洋食器
などの銀製品に応用すると効果的である。また、Ａｇの
高反射率を保持しつつ、熱伝導率は１／３であるため、
光磁気記録媒体の反射膜として使用すると効果的であ
る。さらに、リフレクタ、照明器具、光記録媒体、交通
標識等として好適な反射膜を提供することができる。い
ずれの反射膜についても高反射率を長期にわたって維持
することができる。耐久性の高い反射膜、さらには、高
耐久性の光磁気記録媒体等を提供することができる。
【図１】本発明のＡｇ−Ｍｇ合金の深さ方向の組成の変
化を示すグラフである。
化を示すグラフである。
【図２】本発明のＡｇ−Ｍｇ合金の深さ方向の組成の変
化を示すグラフである。
化を示すグラフである。
【図３】本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金膜の反射率の組成
依存性を示すグラフである。
依存性を示すグラフである。
【図４】本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金膜の耐食試験結果
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図５】本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金膜の熱伝導率の組
成依存性を示すグラフである。
成依存性を示すグラフである。
【図６】本発明の実施例に係る光磁気ディスクの構造を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図７】本発明の実施例に係る光磁気ディスクの構造を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図８】本発明の実施例に係るコンパクトディスクの構
造を示す斜視図である。
造を示す斜視図である。
【図９】本発明の実施例に係る照明器具の構造を示す断
面図である。
面図である。
【図１０】本発明の実施例に係る鏡の構造を示す斜視図
である。
である。
【図１１】本発明の実施例に係る化粧品容器の構造を示
す斜視図および断面図である。
す斜視図および断面図である。
【図１２】本発明の実施例に係るスパッタ装置を示す模
式図である。
式図である。
【図１３】本発明の実施例に係るスパッタ条件を説明す
るための模式図である。
るための模式図である。
６４ 光磁気ディスクの反射層 ８１ 光ディスクのＡｇ−Ｍｇ反射膜
Claims (11)
- 【請求項１】 高耐食性Ａｇ−Ｍｇ合金であって、Ｍｇ
の含有量が１〜１０ａｔ％（原子％）である高耐食性Ａ
ｇ−Ｍｇ合金。 - 【請求項２】 Ａｇに１〜１０ａｔ％のＭｇを含有させ
たＡｇ−Ｍｇ合金からなる高耐食性反射膜。 - 【請求項３】 Ａｇに１〜８ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなる光磁気記録媒体用反射膜。 - 【請求項４】 Ａｇに１〜８ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなり、その膜厚が５００〜１０００
オングストロームである光磁気記録媒体用反射膜。 - 【請求項５】 Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなる光記録媒体用反射膜。 - 【請求項６】 Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなり、その膜厚が５００〜１０００
オングストロームである光記録媒体用反射膜。 - 【請求項７】 Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなるリフレクタ用反射膜。 - 【請求項８】 Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなり、その膜厚が１０００〜２００
０オングストロームであるリフレクタ用反射膜。 - 【請求項９】 Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなる標識用反射膜。 - 【請求項１０】 Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させ
たＡｇ−Ｍｇ合金からなる照明器具用反射膜。 - 【請求項１１】 Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させ
たＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その膜厚が１０００〜１０
０００オングストロームであるプラスチック製品のめっ
き膜。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9804694A JPH073435A (ja) | 1993-04-22 | 1994-04-12 | 高耐食性Ａｇ−Ｍｇ合金、および、その薄膜 |
| DE19944414107 DE4414107C2 (de) | 1993-04-22 | 1994-04-22 | Verwendung einer korrosionsbeständigen Silber-Magnesium-Legierung |
| US08/631,623 US5612133A (en) | 1993-04-22 | 1996-04-05 | Magneto-optical recording medium having a refelecting layer of a silver-magnesium alloy having a magnesium oxide coating |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-120689 | 1993-04-22 | ||
| JP12068993 | 1993-04-22 | ||
| JP9804694A JPH073435A (ja) | 1993-04-22 | 1994-04-12 | 高耐食性Ａｇ−Ｍｇ合金、および、その薄膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH073435A true JPH073435A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=26439241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9804694A Pending JPH073435A (ja) | 1993-04-22 | 1994-04-12 | 高耐食性Ａｇ−Ｍｇ合金、および、その薄膜 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5612133A (ja) |
| JP (1) | JPH073435A (ja) |
| DE (1) | DE4414107C2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| CN112752863A (zh) * | 2018-10-03 | 2021-05-04 | 三菱综合材料株式会社 | 叠层膜及Ag合金溅射靶 |
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| US7384677B2 (en) | 1998-06-22 | 2008-06-10 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314657B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6852384B2 (en) | 1998-06-22 | 2005-02-08 | Han H. Nee | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| WO2001044534A1 (fr) * | 1999-12-16 | 2001-06-21 | Hitachi, Ltd | Procede et appareil de depot de couches minces |
| US7316837B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7374805B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-05-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314659B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
| DE60230728D1 (de) * | 2001-03-16 | 2009-02-26 | Ishifuku Metal Ind | Optisches Plattenmedium, reflektierende STN-Flüssigkristallanzeige und organische EL-Anzeige |
| US6906863B2 (en) | 2001-04-24 | 2005-06-14 | Mitsui Chemicals Inc. | Lamp reflector and reflector |
| TWI368819B (en) | 2003-04-18 | 2012-07-21 | Target Technology Co Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US20070095661A1 (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-03 | Yi Wang | Method of making, and, analyte sensor |
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| US4786559A (en) * | 1985-12-25 | 1988-11-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magnetooptical storage element |
| JPS62239349A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-20 | Konika Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPH081709B2 (ja) * | 1989-06-23 | 1996-01-10 | 帝人株式会社 | 光磁気記録媒体 |
| JPH0438737A (ja) * | 1990-06-04 | 1992-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気ディスク |
| JPH0461045A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-27 | Dainippon Ink & Chem Inc | 光磁気記録媒体 |
-
1994
- 1994-04-12 JP JP9804694A patent/JPH073435A/ja active Pending
- 1994-04-22 DE DE19944414107 patent/DE4414107C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-04-05 US US08/631,623 patent/US5612133A/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| CN112752863A (zh) * | 2018-10-03 | 2021-05-04 | 三菱综合材料株式会社 | 叠层膜及Ag合金溅射靶 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4414107C2 (de) | 1998-03-19 |
| DE4414107A1 (de) | 1994-10-27 |
| US5612133A (en) | 1997-03-18 |
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