JP2880190B2 - 光学反射膜およびその製法 - Google Patents
光学反射膜およびその製法Info
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- JP2880190B2 JP2880190B2 JP1222939A JP22293989A JP2880190B2 JP 2880190 B2 JP2880190 B2 JP 2880190B2 JP 1222939 A JP1222939 A JP 1222939A JP 22293989 A JP22293989 A JP 22293989A JP 2880190 B2 JP2880190 B2 JP 2880190B2
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- Japan
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- reflection film
- aluminum
- optical reflection
- film
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学式情報ディスクや光学機器等における
光学反射膜およびその製法に関する。
光学反射膜およびその製法に関する。
光学式ビデオディスクやコンパクトディスクなどの光
学式情報ディスクや各種の光学機器等において用いられ
ている光学反射膜は、反射率や耐久性およびコストなど
の点から高純度のアルミニウムを蒸着しあるいはスパッ
タリングするなどして成膜することが一般的である。
学式情報ディスクや各種の光学機器等において用いられ
ている光学反射膜は、反射率や耐久性およびコストなど
の点から高純度のアルミニウムを蒸着しあるいはスパッ
タリングするなどして成膜することが一般的である。
また、コンパクトディスクなどの情報ディスクにおい
ては、ポリカーボネート等のプラスチックス基板の上に
情報ピットが形成され、その表面上に上述のようなアル
ミニウム反射膜が設けられている。更にこの反射膜の表
面には、傷や劣化の発生を防ぐためにプラスチックス塗
料を塗装して形成された保護膜が設けるようにしてい
る。
ては、ポリカーボネート等のプラスチックス基板の上に
情報ピットが形成され、その表面上に上述のようなアル
ミニウム反射膜が設けられている。更にこの反射膜の表
面には、傷や劣化の発生を防ぐためにプラスチックス塗
料を塗装して形成された保護膜が設けるようにしてい
る。
このような情報ディスクなどにあっては、成膜効率の
よいスパッタリング法を用いて得たアルミニウム反射膜
は劣化が起こり易く、更に一般に耐食性がよいとされて
いる高純度のアルミニウム反射膜であっても劣化が著し
いという問題がある。こうした劣化は反射膜が部分的に
白濁したり、場合によってはディスクが全面にわたって
半透明化するなどの現象となって現れ、結果として記録
された情報の読み取りができなくなるという事態を生じ
ていた。
よいスパッタリング法を用いて得たアルミニウム反射膜
は劣化が起こり易く、更に一般に耐食性がよいとされて
いる高純度のアルミニウム反射膜であっても劣化が著し
いという問題がある。こうした劣化は反射膜が部分的に
白濁したり、場合によってはディスクが全面にわたって
半透明化するなどの現象となって現れ、結果として記録
された情報の読み取りができなくなるという事態を生じ
ていた。
そこで本発明は、スパッタリング法を利用して0.2μ
ｍ以下というような薄さに形成しても、長期間の使用に
際して劣化が起こりにくいアルミニウム薄膜からなる、
信頼性の高い光学反射膜を提供することを目的とした。
ｍ以下というような薄さに形成しても、長期間の使用に
際して劣化が起こりにくいアルミニウム薄膜からなる、
信頼性の高い光学反射膜を提供することを目的とした。
このような本発明の目的は、珪素、マグネシウム及び
銅を合計で1.0重量％以上と、アルミニウムを85重量％
以上と、不可避的不純物とを含むアルミニウム系金属組
成物からなり、膜厚が0.05〜0.2μｍの範囲内にあり、
かつ波長633nmの光に対する反射率が70％以上であるこ
とを特徴とする光学反射膜によって達成することができ
る。
銅を合計で1.0重量％以上と、アルミニウムを85重量％
以上と、不可避的不純物とを含むアルミニウム系金属組
成物からなり、膜厚が0.05〜0.2μｍの範囲内にあり、
かつ波長633nmの光に対する反射率が70％以上であるこ
とを特徴とする光学反射膜によって達成することができ
る。
そしてまた、このような波長633nmの光に対する反射
率が70％以上であるアルミニウム系光学反射膜は、珪
素、マグネシウム及び銅を合計で1.0重量％以上と、ア
ルミニウムを85重量％以上と、不可避的不純物とを含む
アルミニウム系金属組成物からなるターゲットを用い、
かつ膜厚を0.05〜0.2μｍの範囲内に制御して、基材上
にスパッタリング成膜することによって製造できる。
率が70％以上であるアルミニウム系光学反射膜は、珪
素、マグネシウム及び銅を合計で1.0重量％以上と、ア
ルミニウムを85重量％以上と、不可避的不純物とを含む
アルミニウム系金属組成物からなるターゲットを用い、
かつ膜厚を0.05〜0.2μｍの範囲内に制御して、基材上
にスパッタリング成膜することによって製造できる。
本発明の光学反射膜を構成するアルミニウム系金属組
成物が、珪素、マグネシウム及び銅を合計で1.0重量％
以上と、アルミニウムを85重量％以上と、不可避的不純
物とを含むアルミニウム系金属組成物からなるときは、
劣化が少なくて耐久性の優れた反射膜が得られる。
成物が、珪素、マグネシウム及び銅を合計で1.0重量％
以上と、アルミニウムを85重量％以上と、不可避的不純
物とを含むアルミニウム系金属組成物からなるときは、
劣化が少なくて耐久性の優れた反射膜が得られる。
また、アルミニウムの反射率はたとえば波長633nmの
レーザー光によって測定することができるが、アルミニ
ウムが85重量％以上含まれていないと良好な反射率は得
られない。
レーザー光によって測定することができるが、アルミニ
ウムが85重量％以上含まれていないと良好な反射率は得
られない。
そして更に、膜厚が0.05μｍ未満では欠陥のない均質
な反射膜は得られず、0.2μｍを超えても改良効果は頭
打ちとなり、それ以上の効果は望めない。
な反射膜は得られず、0.2μｍを超えても改良効果は頭
打ちとなり、それ以上の効果は望めない。
本発明の光学反射膜を製造するに当たって、スパッタ
リング法を利用するのが生産効率上有利であるが、かか
る有利なスパッタリング法によって製造されるアルミニ
ウム反射膜にあっては、本発明による耐久性の改善効果
が特に顕著に現れる。
リング法を利用するのが生産効率上有利であるが、かか
る有利なスパッタリング法によって製造されるアルミニ
ウム反射膜にあっては、本発明による耐久性の改善効果
が特に顕著に現れる。
コンパクトディスク用のポリカーボネート樹脂基板に
対して、第１表に示すような組成を有するアルミニウム
ターゲットを用いてスパッタリング法により膜厚約0.07
μｍの光学反射膜を成膜した。
対して、第１表に示すような組成を有するアルミニウム
ターゲットを用いてスパッタリング法により膜厚約0.07
μｍの光学反射膜を成膜した。
スパッタリング装置として西独ライボルト社製のA-13
0CDを使用し、アルゴン導入時の装置内圧力は３〜５×1
0-1Pa、スパッタ時間は2.0秒であった。
0CDを使用し、アルゴン導入時の装置内圧力は３〜５×1
0-1Pa、スパッタ時間は2.0秒であった。
こうして得た光学反射膜の上に紫外線硬化性塗料（大
日本インキ化学工業（株）製、SD-17）をスピンコート
し、紫外線照射して厚さ約７μｍの保護膜を形成した。
日本インキ化学工業（株）製、SD-17）をスピンコート
し、紫外線照射して厚さ約７μｍの保護膜を形成した。
これらの光学反射膜を形成した試料を、温度70℃、相
対湿度95％の雰囲気中で100時間保持する条件で加速劣
化試験を行なった。その結果は、反射膜において劣化に
よって半透明化したスポットの数を0.1mm×0.1mmの面積
内の顕微鏡写真から計数して得たピンホール数、および
コンパクトディスク再生機を用いて行なった情報読み取
り試験によるコンパクトディスク１枚当たりのエラーの
増加数で評価し、第２表に示した。
対湿度95％の雰囲気中で100時間保持する条件で加速劣
化試験を行なった。その結果は、反射膜において劣化に
よって半透明化したスポットの数を0.1mm×0.1mmの面積
内の顕微鏡写真から計数して得たピンホール数、および
コンパクトディスク再生機を用いて行なった情報読み取
り試験によるコンパクトディスク１枚当たりのエラーの
増加数で評価し、第２表に示した。
これらの結果をみると、純度の高いアルミニウムのタ
ーゲットを用いて得た光学反射膜は劣化が著しいのに対
し、本発明の光学反射膜は劣化しないことが分かる。
ーゲットを用いて得た光学反射膜は劣化が著しいのに対
し、本発明の光学反射膜は劣化しないことが分かる。
本発明の光学反射膜は、特定の組成範囲のアルミニウ
ムターゲットを用いスパッタリング成膜してなるもので
あって、高純度のアルミニウムターゲットを用いるより
安価であるばかりでなく、長期間にわたって膜の劣化や
反射率の低下がなくて高信頼性が維持される特長があ
る。
ムターゲットを用いスパッタリング成膜してなるもので
あって、高純度のアルミニウムターゲットを用いるより
安価であるばかりでなく、長期間にわたって膜の劣化や
反射率の低下がなくて高信頼性が維持される特長があ
る。
Claims (2)
- 【請求項１】珪素、マグネシウム及び銅を合計で1.0重
量％以上と、アルミニウムを85重量％以上と、不可避的
不純物とを含むアルミニウム系金属組成物からなり、膜
厚が0.05〜0.2μｍの範囲内にあり、かつ波長633nmの光
に対する反射率が70％以上であることを特徴とする光学
反射膜。 - 【請求項２】基材上に波長633nmの光に対する反射率が7
0％以上であるアルミニウム系光学反射膜をスパッタリ
ング成膜するに当たり、珪素、マグネシウム及び銅を合
計で1.0重量％以上と、アルミニウムを85重量％以上
と、不可避的不純物とを含むアルミニウム系金属組成物
からなるターゲットを用い、かつ膜厚を0.05〜0.2μｍ
の範囲内に制御することを特徴とする光学反射膜の製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1222939A JP2880190B2 (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 光学反射膜およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1222939A JP2880190B2 (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 光学反射膜およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0387354A JPH0387354A (ja) | 1991-04-12 |
| JP2880190B2 true JP2880190B2 (ja) | 1999-04-05 |
Family
ID=16790241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1222939A Expired - Lifetime JP2880190B2 (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 光学反射膜およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2880190B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7790064B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-09-07 | Pioneer Corporation | Polycrystalline aluminum thin film and optical recording medium |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP1222939A patent/JP2880190B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7790064B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-09-07 | Pioneer Corporation | Polycrystalline aluminum thin film and optical recording medium |
| US7897065B2 (en) | 2005-12-22 | 2011-03-01 | Pioneer Corporation | Polycrystalline aluminum thin film and optical recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0387354A (ja) | 1991-04-12 |
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