JPH08297858A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光ディスク及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH08297858A JPH08297858A JP7127201A JP12720195A JPH08297858A JP H08297858 A JPH08297858 A JP H08297858A JP 7127201 A JP7127201 A JP 7127201A JP 12720195 A JP12720195 A JP 12720195A JP H08297858 A JPH08297858 A JP H08297858A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper alloy
- thin film
- optical disk
- weight
- reflection layer
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- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 低コストで金色に近い光沢でかつ十分な反射
率及び安定した光学特性を有する反射層を設けた光ディ
スク及びその製造方法を提供すること。 【構成】 光ディスクの反射層を少なくともＺｎ：８〜
１５重量％、Ｎｉ：１〜１０重量％、Ｓｎ：１〜１０重
量％を含む銅合金薄膜をスパッタリング又は、比較的高
真空で短時間に蒸着で形成する。
率及び安定した光学特性を有する反射層を設けた光ディ
スク及びその製造方法を提供すること。 【構成】 光ディスクの反射層を少なくともＺｎ：８〜
１５重量％、Ｎｉ：１〜１０重量％、Ｓｎ：１〜１０重
量％を含む銅合金薄膜をスパッタリング又は、比較的高
真空で短時間に蒸着で形成する。
Description
【０００２】
【０００１】
【０００３】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク及びその製
造方法に関し、特に金色の光沢を持つ低コストな合金材
料で反射層を構成した光ディスクに関する。
造方法に関し、特に金色の光沢を持つ低コストな合金材
料で反射層を構成した光ディスクに関する。
【０００４】
【０００２】
【０００５】
【従来の技術】ビデオディスク、コンパクトディスク等
の再生のみを行うＲＯＭ型の光ディスク、又は、書き込
みが可能なＲＡＭ型の光ディスク等のレーザ光による情
報の読取り又は記録を行う各種の光ディスクにおいて
は、通常、記録面上に反射層が設けられている。
の再生のみを行うＲＯＭ型の光ディスク、又は、書き込
みが可能なＲＡＭ型の光ディスク等のレーザ光による情
報の読取り又は記録を行う各種の光ディスクにおいて
は、通常、記録面上に反射層が設けられている。
【０００６】この反射層として、アルミニウム又はアル
ミニウム合金を蒸着又はスパッタリングした薄膜が一般
的に用いられているが、一部の光ディスク、例えばコン
パクトディスクと互換性のある書込み可能な光ディスク
では、反射率を向上させる目的、又、一部のＲＯＭ型の
光ディスクではディスクの種類を識別させる目的で、ア
ルミニウム又はアルミニウム合金より反射率が高く又色
調が異なる金を用いて反射層を形成している。
ミニウム合金を蒸着又はスパッタリングした薄膜が一般
的に用いられているが、一部の光ディスク、例えばコン
パクトディスクと互換性のある書込み可能な光ディスク
では、反射率を向上させる目的、又、一部のＲＯＭ型の
光ディスクではディスクの種類を識別させる目的で、ア
ルミニウム又はアルミニウム合金より反射率が高く又色
調が異なる金を用いて反射層を形成している。
【０００７】
【０００３】
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、金は高
価であるので金を反射層として採用すると光ディスクの
コストが増大してしまう。反射層として金の代わりに低
コストで金と同等の反射率を有する銀の使用が考えられ
るが、色調が銀白色なのでアルミニウム又はアルミニウ
ム合金の色調と同じになり又、耐蝕性の点で問題があ
る。
価であるので金を反射層として採用すると光ディスクの
コストが増大してしまう。反射層として金の代わりに低
コストで金と同等の反射率を有する銀の使用が考えられ
るが、色調が銀白色なのでアルミニウム又はアルミニウ
ム合金の色調と同じになり又、耐蝕性の点で問題があ
る。
【０００９】本発明は、かかる事情にかんがみてなされ
たものであり、低コストで金色の光沢を有し、かつ十分
な反射率及び安定した特性を有する反射層を設けた光デ
ィスク及びその製造方法を提供することを目的とするも
のである。
たものであり、低コストで金色の光沢を有し、かつ十分
な反射率及び安定した特性を有する反射層を設けた光デ
ィスク及びその製造方法を提供することを目的とするも
のである。
【００１０】
【０００４】
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、請求項１記載
の発明においては、透光性の円形基板上に反射層を設け
た光ディスクであって、前記反射層は少なくともＺｎ：
８〜１５重量％、Ｎｉ：１〜１０重量％、Ｓｎ：１〜１
０重量％を含む銅合金薄膜からなり、前記基板側から入
射したレーザ光の反射率が７０％以上であることを特徴
とするものであり、請求項２記載の発明においては、光
ディスクの製造方法であって、透光性の円形基板上に少
なくともＺｎ：８〜１５重量％、Ｎｉ：１〜１０重量
％、Ｓｎ：１〜１０重量％を含む銅合金薄からなる反射
層を１０−５Ｔｏｒｒ以下の圧力でかつ５０オングスト
ローム／秒以上の速度で蒸着することにより形成するこ
とを特徴とするものである。
の発明においては、透光性の円形基板上に反射層を設け
た光ディスクであって、前記反射層は少なくともＺｎ：
８〜１５重量％、Ｎｉ：１〜１０重量％、Ｓｎ：１〜１
０重量％を含む銅合金薄膜からなり、前記基板側から入
射したレーザ光の反射率が７０％以上であることを特徴
とするものであり、請求項２記載の発明においては、光
ディスクの製造方法であって、透光性の円形基板上に少
なくともＺｎ：８〜１５重量％、Ｎｉ：１〜１０重量
％、Ｓｎ：１〜１０重量％を含む銅合金薄からなる反射
層を１０−５Ｔｏｒｒ以下の圧力でかつ５０オングスト
ローム／秒以上の速度で蒸着することにより形成するこ
とを特徴とするものである。
【００１２】
【０００５】
【００１３】
【作用】上述した少なくともＺｎ、Ｎｉ、及びＳｎを含
む銅合金薄膜よりなる反射層を設けた光ディスクは低コ
ストで金色の光沢を持ち、アルミニウム及びアルミニウ
ム合金に対して同等以上の反射率を有する。また、上述
の銅合金薄膜は耐蝕性にすぐれ、結晶成長が生じにくい
ので安定した光学特性が得られる。
む銅合金薄膜よりなる反射層を設けた光ディスクは低コ
ストで金色の光沢を持ち、アルミニウム及びアルミニウ
ム合金に対して同等以上の反射率を有する。また、上述
の銅合金薄膜は耐蝕性にすぐれ、結晶成長が生じにくい
ので安定した光学特性が得られる。
【００１４】Ｚｎは、８％以下では金色の度合いに与え
る影響が小さく、１５％以上では耐蝕性反射率の劣化の
原因となる。Ｎｉも金色の度合いに効果があるが１％以
下では効果がなく、１０％以上では反射率が低下してし
まう。Ｓｎも同様な理由により１％以上で１０％以下と
している。
る影響が小さく、１５％以上では耐蝕性反射率の劣化の
原因となる。Ｎｉも金色の度合いに効果があるが１％以
下では効果がなく、１０％以上では反射率が低下してし
まう。Ｓｎも同様な理由により１％以上で１０％以下と
している。
【００１５】
【０００６】
【００１６】
【実施例】以下、本発明による実施例を図を参照しつつ
詳細に説明する。図１は本実施例（第１の実施例）の光
ディスクの概略部分断面図を示す。この光ディスクは、
ポリカーボネート又はアクリル樹脂等よりなる透光性の
円形基板１の一主面に情報を担うピット又はグルーブ２
が形成され、円形基板１のピット又はグルーブ２を有す
る面にシアニン色素等よりなる記録層３が形成され、こ
の上に銅合金薄膜からなる反射層４及び紫外線硬化型の
アクリル樹脂よりなる保護層５が順に形成されている。
詳細に説明する。図１は本実施例（第１の実施例）の光
ディスクの概略部分断面図を示す。この光ディスクは、
ポリカーボネート又はアクリル樹脂等よりなる透光性の
円形基板１の一主面に情報を担うピット又はグルーブ２
が形成され、円形基板１のピット又はグルーブ２を有す
る面にシアニン色素等よりなる記録層３が形成され、こ
の上に銅合金薄膜からなる反射層４及び紫外線硬化型の
アクリル樹脂よりなる保護層５が順に形成されている。
【００１７】
【０００７】具体的には、ポリカーボネートの円形基板
１を用い、記録層として複素屈折率の実数部が２．２〜
２．７及び虚数部（消衰係数）が０．０１〜０．０４で
厚さ１２００〜１８００オングストロームのシアニン色
素薄膜をスピンコート法で形成し、反射層として、Ｃ
ｕ：８０．３重量％、Ｚｎ：１５重量％、Ｎｉ：２重量
％、Ｓｎ：２重量％、Ｍｎ：０．７重量％の銅合金ター
ゲットを用いて１０−３Ｔｏｒｒの真空度下でＤＣマグ
ネトロン・スパッタリングにより厚さ７５０オングスト
ロームの銅合金薄膜を形成して光ディスクを得た。ここ
でＭｎは耐蝕性向上の為に小量加えられている。こうし
て得られた光ディスクの反射層は金色に近い光沢を示
し、又、波長７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を円形基板
１を介して入射させてその反射率を測定したところ、７
０％以上の反射率が得られた。
１を用い、記録層として複素屈折率の実数部が２．２〜
２．７及び虚数部（消衰係数）が０．０１〜０．０４で
厚さ１２００〜１８００オングストロームのシアニン色
素薄膜をスピンコート法で形成し、反射層として、Ｃ
ｕ：８０．３重量％、Ｚｎ：１５重量％、Ｎｉ：２重量
％、Ｓｎ：２重量％、Ｍｎ：０．７重量％の銅合金ター
ゲットを用いて１０−３Ｔｏｒｒの真空度下でＤＣマグ
ネトロン・スパッタリングにより厚さ７５０オングスト
ロームの銅合金薄膜を形成して光ディスクを得た。ここ
でＭｎは耐蝕性向上の為に小量加えられている。こうし
て得られた光ディスクの反射層は金色に近い光沢を示
し、又、波長７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を円形基板
１を介して入射させてその反射率を測定したところ、７
０％以上の反射率が得られた。
【００１８】
【０００８】図２は、本発明の他の実施例（第２の実施
例）を示す概略部分断面図を示す。
例）を示す概略部分断面図を示す。
【００１９】図に示すようにポリカーボネートよりなる
透光性の円形基板１上に第１の実施例と同一の組成の銅
合金ターゲットを用いて同様に銅合金薄膜からなる反射
層４を形成し、この上に紫外線硬化型アクリル樹脂の保
護層５を形成しＲＯＭ型の光ディスクを作成した。この
場合も、光ディスクの反射層４は金色に近い光沢を有
し、基板１を介して入射する波長７７０〜８３０ｎｍの
レーザ光に対して最大で８１％の反射率が得られた。
透光性の円形基板１上に第１の実施例と同一の組成の銅
合金ターゲットを用いて同様に銅合金薄膜からなる反射
層４を形成し、この上に紫外線硬化型アクリル樹脂の保
護層５を形成しＲＯＭ型の光ディスクを作成した。この
場合も、光ディスクの反射層４は金色に近い光沢を有
し、基板１を介して入射する波長７７０〜８３０ｎｍの
レーザ光に対して最大で８１％の反射率が得られた。
【００２０】
【０００９】さらに、他の実施例（第３の実施例）とし
て、第１の実施例と同一の組成の銅合金ターゲットを用
いて、厚さ７５０オングストロームの銅合金薄膜をポリ
カーボネートよりなる円形基板上に蒸着により被着させ
て図２と同様なＲＯＭ型の光ディスクを作成した。
て、第１の実施例と同一の組成の銅合金ターゲットを用
いて、厚さ７５０オングストロームの銅合金薄膜をポリ
カーボネートよりなる円形基板上に蒸着により被着させ
て図２と同様なＲＯＭ型の光ディスクを作成した。
【００２１】図３は、蒸着の条件（蒸着レート及び真空
度）を変えて作成した光ディスクの色彩、及び反射率を
測定した結果を示す。ここで反射率は波長７８０ｎｍの
レーザ光を基板を介して入射させて測定した。図２の色
彩判定において、◎は金色に非常に近い光沢、○は金色
−銅色の光沢、×は黒褐色の光沢を表す。
度）を変えて作成した光ディスクの色彩、及び反射率を
測定した結果を示す。ここで反射率は波長７８０ｎｍの
レーザ光を基板を介して入射させて測定した。図２の色
彩判定において、◎は金色に非常に近い光沢、○は金色
−銅色の光沢、×は黒褐色の光沢を表す。
【００２２】図から明らかなように上述の組成の銅合金
を蒸着によって基板に被着させる場合、金色に近い光沢
で十分な反射率（７０％以上の反射率）を得るために
は、比較的高真空（１０−５Ｔｏｒｒ以下の真空度）で
短時間（蒸着レートが５０オングストローム以上）に成
膜する必要があることがわかる。
を蒸着によって基板に被着させる場合、金色に近い光沢
で十分な反射率（７０％以上の反射率）を得るために
は、比較的高真空（１０−５Ｔｏｒｒ以下の真空度）で
短時間（蒸着レートが５０オングストローム以上）に成
膜する必要があることがわかる。
【００２３】
【００１０】
【００２４】
【発明の効果】上述したように本発明は、少なくともＺ
ｎ、Ｎｉ、Ｓｎを含む、特定の組成の銅合金薄膜によっ
て反射層を構成することによって低コストで反射率を十
分大きな金色に近い光沢の光ディスクを得ることができ
る。
ｎ、Ｎｉ、Ｓｎを含む、特定の組成の銅合金薄膜によっ
て反射層を構成することによって低コストで反射率を十
分大きな金色に近い光沢の光ディスクを得ることができ
る。
【図１】本発明の一実施例の光ディスクの部分拡大断面
図である。
図である。
【図２】本発明の他の実施例の光ディスクの部分拡大断
面図である。
面図である。
【図３】銅合金の蒸着条件を変えた各ディスクの特性測
定結果を示す表図である。
定結果を示す表図である。
１ 円形基板 ２ ピット又はグルーブ ３ 記録層 ４ 反射層 ５ 保護層
Claims (2)
- 【請求項１】 透光性の円形基板に反射層を設けた光デ
ィスクであって、前記反射層は少なくともＺｎ：８〜１
５重量％、Ｎｉ：１〜１０重量％、Ｓｎ：１〜１０重量
％を含む銅合金薄膜からなり、前記基板側から入射した
レーザ光の反射率が７０％以上であることを特徴とする
光ディスク。 - 【請求項２】 透光性の円形基板上に、少なくともＺ
ｎ：８〜１５重量％、Ｎｉ：１〜１０重量％、Ｓｎ：１
〜１０重量％を含む銅合金薄膜からなる反射層を１０−
５Ｔｏｒｒ以下の圧力でかつ５０オングストローム／秒
以上の速度で蒸着することにより形成することを特徴と
する光ディスクの製造方法。 【０００１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7127201A JPH08297858A (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 光ディスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7127201A JPH08297858A (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 光ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08297858A true JPH08297858A (ja) | 1996-11-12 |
Family
ID=14954217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7127201A Pending JPH08297858A (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 光ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08297858A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6007889A (en) * | 1998-06-22 | 1999-12-28 | Target Technology, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6451402B1 (en) | 1998-06-22 | 2002-09-17 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6544616B2 (en) | 2000-07-21 | 2003-04-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6764735B2 (en) | 1998-06-22 | 2004-07-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6790503B2 (en) | 1998-06-22 | 2004-09-14 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6841219B2 (en) | 1998-06-22 | 2005-01-11 | Han H. Nee | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6905750B2 (en) | 1998-06-22 | 2005-06-14 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7045187B2 (en) | 1998-06-22 | 2006-05-16 | Nee Han H | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| CN100451161C (zh) * | 2005-09-07 | 2009-01-14 | 铼宝科技股份有限公司 | 导电薄膜或其保护层用的合金靶材及其制造方法 |
| US7572517B2 (en) | 2002-07-08 | 2009-08-11 | Target Technology Company, Llc | Reflective or semi-reflective metal alloy coatings |
| US20110051584A1 (en) * | 2009-08-31 | 2011-03-03 | Moser Baer India Limited | Optical recording mediums |
-
1995
- 1995-04-27 JP JP7127201A patent/JPH08297858A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6905750B2 (en) | 1998-06-22 | 2005-06-14 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6896947B2 (en) | 1998-06-22 | 2005-05-24 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6451402B1 (en) | 1998-06-22 | 2002-09-17 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7045187B2 (en) | 1998-06-22 | 2006-05-16 | Nee Han H | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6764735B2 (en) | 1998-06-22 | 2004-07-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6790503B2 (en) | 1998-06-22 | 2004-09-14 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6280811B1 (en) | 1998-06-22 | 2001-08-28 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6852384B2 (en) | 1998-06-22 | 2005-02-08 | Han H. Nee | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6841219B2 (en) | 1998-06-22 | 2005-01-11 | Han H. Nee | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6007889A (en) * | 1998-06-22 | 1999-12-28 | Target Technology, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7045188B2 (en) | 1998-06-22 | 2006-05-16 | Nee Han H | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
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| CN100451161C (zh) * | 2005-09-07 | 2009-01-14 | 铼宝科技股份有限公司 | 导电薄膜或其保护层用的合金靶材及其制造方法 |
| US20110051584A1 (en) * | 2009-08-31 | 2011-03-03 | Moser Baer India Limited | Optical recording mediums |
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