JP3336422B2 - 光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

光情報記録媒体及びその製造方法

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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光による情報
の記録・再生を行う光ディスクに関し、さらに詳しく
は、コンパクトディスク(CD)あるいはコンパクトデ
ィスク−ROM(CD−ROM)対応の追記型光ディス
クに関する。
【0002】
【従来の技術】集光レーザー光による情報記録媒体の中
で、オーディオ等の音楽再生用としてCDが、またコン
ピュータ−ROMとしてCD−ROMが、それぞれ広く
普及している。このようなCD、CD−ROMは通常ポ
リカーボネート等の透明基板表面にCDフォーマット信
号またはCD−ROMフォーマット信号を有するピット
列を射出成形時に形成し、その上からアルミニウム、金
等を蒸着あるいはスパッタリングにより反射膜として設
け、さらに保護膜をコートして作製する。
【0003】一方、編集機能を有する追記型光ディスク
としてはシアニン、フタロシアニン等の有機化合物(色
素)を記録膜とし、その上に金等の反射膜を設けて反射
率を確保する方法が実用化されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記色素
では、その光安定性等の特性と、ディスクにしたときの
記録感度との間に密接な関係があり、光安定性等の特性
を落とさずに記録感度を上げるのは難しいという問題が
あった。
【0005】本発明は、この点に鑑みなされたもので、
その目的は、色素の特性を変えずに、かつディスクとし
ての特性を落とすことなく、容易に記録感度を上げるこ
とができる追記型光ディスク、及びその製造方法を提供
することににある。
【0006】
【課題を解決するための手段】この問題を解決するた
め、請求項1の光情報記録媒体は、図1に示すように、
透光性を有する基板1と、この基板1上に色素材料から
構成した記録層2と、この記録層2上に反射層3と、こ
の反射層3上に保護層4とを有する光情報記録媒体であ
って、前記反射層3がAu−Ti合金膜からなり、該A
u−Ti合金膜のTi組成比が、該合金膜の厚さ方向に
変化していることを特徴とする。
【0007】請求項2に記載の光情報記録媒体は、請求
項1において、前記Au−Ti合金膜のTi組成比が、
前記記録層から前記保護層へ向かって減少していること
を特徴とする。
【0008】請求項に記載の光情報記録媒体は、請求
1又は2において、前記Au−Ti合金膜のTi組成
比が0.1〜10wt%であることを特徴とする。
【0009】請求項に記載の光情報記録媒体は、請求
項1〜3のいずれかにおいて、前記Au−Ti合金膜の
膜厚が500Å以上であることを特徴とする。
【0010】請求項に記載の光情報記録媒体の製造方
法は、透光性を有する基板と、この基板上に色素材料か
ら構成した記録層と、この記録層上に反射層と、この反
射層上に保護層とを有する請求項1〜4のいずれかに記
載の光情報記録媒体を製造する方法であって、前記反射
層のAu−Ti合金膜をスパッタリング法で作製するこ
とを特徴とする。
【0011】
【作用】請求項1の光情報記録媒体においては、反射層
を従来のAu膜からAu−Ti合金膜に変えたことによ
り、その熱伝導率が下がる。このため記録層の熱が逃げ
にくくなり、記録感度が上昇する。しかも前記Au−T
i合金膜のTi組成比を、この合金膜の膜厚方向に変化
させることで、熱伝導率の高い部分と、低い部分とを設
けることができる。特に、請求項2のとおりにTi組成
比を、記録層から保護層へ向かって減少させることで、
記録層に接する付近では熱伝導率が低く、保護層に近づ
くに従って熱伝導率が高くなり、同時に反射率も高くな
る。すなわち、Tiの組成比を合金膜の膜厚方向に変化
させない場合に比べて、反射率を下げずに記録感度を上
げることできる。
【0012】請求項1の光情報記録媒体においては、A
u−Ti合金膜を設けたことにより熱伝導率は下がる
が、同時に反射率も下がってしまう。そこで、請求項
3、4においてAu−Ti合金膜のTi組成比を0.1
〜10wt%とし、かつ膜厚を500Å以上にすること
により、この合金膜の熱伝導率を下げるとともに、その
反射率の低下を抑えることができる。
【0013】なお、Tiの組成比が0.1wt%未満で
は反射率は低下しないが、熱伝導率も下がらない。Ti
の組成比が10wt%を超えると、熱伝導率は下がる
が、反射率も下がってしまう。また、Au−Ti合金膜
の膜厚が500Å未満であると膜厚の減少とともに反射
率も低下するが、膜厚が500Å以上であれば反射率は
一定となる。
【0014】請求項に記載の製造方法においては、A
u−Ti合金膜を作製する場合、スパッタリング法、特
にCo−スパッタリング法を用い、Auターゲットに入
力するスパッタリングパワーは一定にし、Tiターゲッ
トに入力するスパッタリングパワーを次第に減少させて
いくという方法を採れば、請求項1〜4の光情報記録媒
体を容易に製造することができる。
【0015】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例1(参考例) 深さ1400Å、幅0.45μm、ピッチ1.6μmの
案内溝を有する厚さ1.2mm、外径120mm、内径
15mmのポリカーボネート基板1上にフタロシアニン
系色素の記録層2を、スピンコーターによって膜厚16
00Åに成膜した。次に、この記録層2上に反射層3と
してAu−Ti合金膜を1200Åに成膜した。この場
合、AuとTiのCo−スパッタリング法を用い、Ti
組成比が8wt%となるようにAuとTiのそれぞれス
パッタリングパワーを調整した。更に、この合金膜の上
に紫外線硬化樹脂により膜厚5μmの保護層4を設けて
光ディスクを作製した。
【0016】実施例2 反射層以外は実施例1と同一で、反射層はAuとTiの
Co−スパッタリングによって以下のように成膜した。
すなわち、スパッタリング開始時のTi組成比が8wt
%となるようにAuとTiのそれぞれのスパッタリング
パワーを調整し、Tiのパワーのみを徐々に減少させ、
スパッタリング終了と同時にゼロとなるようにした。こ
れにより反射層として、Tiの組成比が記録層から保護
層に向かって減少する、膜厚1200ÅのAu−Ti合
金膜を成膜した光ディスクを作製した。
【0017】比較例1 反射層以外は上記実施例1、2と同一で、反射層はAu
のターゲットをスパッタリングすることにより、膜厚1
200ÅのAu膜を成膜した光ディスクを作製した。
【0018】このようにして作製した実施例1、2の光
ディスクの反射率はそれぞれ73%と80%で、比較例
1の光ディスクの反射率は82%であった。次に、波長
785nmの半導体レーザーを使用して線速度1.4m
/secでEFM−CDフォーマット信号を記録したと
ころ、最適レーザーパワーが実施例1、2の光ディスク
ではそれぞれ7.0mWと7.7mWで、比較例1の光
ディスクでは8.2mWでそれぞれ記録可能であった。
以上の結果をまとめると、下記[表1]のとおりであ
る。
【0019】
【表1】
【0020】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
光情報記録媒体では、反射層にAu−Ti合金膜を用
、Au−Ti合金膜のTi組成比を記録層から保護層
に向かって変化させ、特に減少させる(請求項1、2)
ことで、反射率を殆ど低下させることなく記録感度を向
上させることができる。また、そのTi組成比と膜厚を
規定する(請求項3、4)ことにより、反射率の低下を
抑えつつ、記録感度を向上させることができる。さ
に、Au−Ti合金膜をスパッタリング法で作製する
(請求項)ことにより、上記特性を有する光情報記録
媒体を容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光情報記録媒体の構成を示す断面
図である。
【符号の説明】
1 基板 2 記録層 3 反射層 4 保護層
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 7/24 G11B 7/26

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透光性を有する基板と、この基板上に色
    素材料から構成した記録層と、この記録層上に反射層
    と、この反射層上に保護層とを有する光情報記録媒体で
    あって、前記反射層がAu−Ti合金膜からなり、該A
    u−Ti合金膜のTi組成比が、該合金膜の厚さ方向に
    変化していることを特徴とする光情報記録媒体。
  2. 【請求項2】 前記Au−Ti合金膜のTi組成比が、
    前記記録層から前記保護層へ向かって減少していること
    を特徴とする請求項1に記載の光情報記録媒体。
  3. 【請求項3】 前記Au−Ti合金膜のTi組成比が
    0.1〜10wt%であることを特徴とする請求項1
    は2に記載の光情報記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記Au−Ti合金膜の膜厚が500Å
    以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
    記載の光情報記録媒体。
  5. 【請求項5】 透光性を有する基板と、この基板上に色
    素材料から構成した記録層と、この記録層上に反射層
    と、この反射層上に保護層とを有する請求項1〜4のい
    ずれかに記載の光情報記録媒体を製造する方法であっ
    て、前記反射層のAu−Ti合金膜をスパッタリング法
    で作製することを特徴とする光情報記録媒体の製造方
    法。
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US6852384B2 (en) 1998-06-22 2005-02-08 Han H. Nee Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium

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