JPS6086265A - カソ−ドスパツタリング法による製品の製造法およびその製品 - Google Patents
カソ−ドスパツタリング法による製品の製造法およびその製品Info
- Publication number
- JPS6086265A JPS6086265A JP18875684A JP18875684A JPS6086265A JP S6086265 A JPS6086265 A JP S6086265A JP 18875684 A JP18875684 A JP 18875684A JP 18875684 A JP18875684 A JP 18875684A JP S6086265 A JPS6086265 A JP S6086265A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- metal
- silver
- copper
- stainless steel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3607—Coatings of the type glass/inorganic compound/metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3613—Coatings of type glass/inorganic compound/metal/inorganic compound/metal/other
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3689—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one oxide layer being obtained by oxidation of a metallic layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は太陽エネルギーをコントロールするための透明
な金属フィルムのスパッタリング法ならびにその方法に
よって製造された製品に関する。さらに詳しくは、スパ
ッタリングされたフィルムの色、接着性（ａｄｈｅｓｉ
ｏｎ）および耐久性（ｄｕｒａｂｉ ｌ １ｔｙ）をコ
ントロールするスパッタリング法ならびにその方法によ
って製造された製品に関する。
な金属フィルムのスパッタリング法ならびにその方法に
よって製造された製品に関する。さらに詳しくは、スパ
ッタリングされたフィルムの色、接着性（ａｄｈｅｓｉ
ｏｎ）および耐久性（ｄｕｒａｂｉ ｌ １ｔｙ）をコ
ントロールするスパッタリング法ならびにその方法によ
って製造された製品に関する。
銀、銅、ニッケル、コバルトなどのような金属の透明な
フィルムは無電気付着法 （ｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｍ
ｅｔｈｏｄｓ）によッテ容易に製造される。ミラー（Ｍ
ｉｌｌｅｒ）の米国特許第３、４５７．１３８号明細書
には、ガラス上の薄い透明な銀フィルム上に透明の銅フ
ィルムを製造するための無電気（湿式化学）法（ＮｅＣ
ｔｒｏ＋ｅｓｓ（ｗｅｔ ｃｈｅｍｉｃａｌ）ｍｅｔｈ
ｏｄ）が開示されている。同様にガラス上に製造された
湿式化学的な銀／銅フィルムは太陽エネルギーコントロ
ールのための建築用の製品として商業的成功をえている
。
フィルムは無電気付着法 （ｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｍ
ｅｔｈｏｄｓ）によッテ容易に製造される。ミラー（Ｍ
ｉｌｌｅｒ）の米国特許第３、４５７．１３８号明細書
には、ガラス上の薄い透明な銀フィルム上に透明の銅フ
ィルムを製造するための無電気（湿式化学）法（ＮｅＣ
ｔｒｏ＋ｅｓｓ（ｗｅｔ ｃｈｅｍｉｃａｌ）ｍｅｔｈ
ｏｄ）が開示されている。同様にガラス上に製造された
湿式化学的な銀／銅フィルムは太陽エネルギーコントロ
ールのための建築用の製品として商業的成功をえている
。
そのコーティング層は低い反射率（ｒｅｆｌｅｃｔａｎ
ｃｅ）を有するピンク色がかった表面で見る者に審美的
なアピールを与える一方、効果的に太陽熱エネルギーを
反射する。
ｃｅ）を有するピンク色がかった表面で見る者に審美的
なアピールを与える一方、効果的に太陽熱エネルギーを
反射する。
しかしながら、コーティング法の発達により太陽エネル
ギーコントロールのための透明な金属フィルムを製造す
るための種々の方法が提供されている。たとえば化学蒸
着法、真空蒸着法（ｖａｃｃｕｍｅ ｅｖａｐｏｒａｔ
ｉｏｎ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）およびカソードスパッ
タリング法などの方法である。カソードスパッタリング
法は大きな寸法のものにすばやくかつ効果的にコーティ
ングが行ないうる方法である点において金属フィルムを
製造するのにとくに好ましい方法である。チャピン（Ｃ
ｈａｐｉｎ）の米国特許第４，１６６．０１８号明細書
にはカソードスパッタリング法を改良するために磁場を
かけた、とくに有用なスパッタリング法およびスパッタ
リング装置が開示されている。そのスパッタリング装置
においては磁場がスパッタリングする平坦な面に隣接し
て形成されていると説明されている。そのｖＡ場はカソ
ード面の閉ループの腐蝕領域（ｃｌｏｓｅｄ １ｏｏｐ
ｅｒｏｓｉｏｎ ｒｅｇｔｏｎ）にわたる磁束のアー
チングラインから構成されている。
ギーコントロールのための透明な金属フィルムを製造す
るための種々の方法が提供されている。たとえば化学蒸
着法、真空蒸着法（ｖａｃｃｕｍｅ ｅｖａｐｏｒａｔ
ｉｏｎ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）およびカソードスパッ
タリング法などの方法である。カソードスパッタリング
法は大きな寸法のものにすばやくかつ効果的にコーティ
ングが行ないうる方法である点において金属フィルムを
製造するのにとくに好ましい方法である。チャピン（Ｃ
ｈａｐｉｎ）の米国特許第４，１６６．０１８号明細書
にはカソードスパッタリング法を改良するために磁場を
かけた、とくに有用なスパッタリング法およびスパッタ
リング装置が開示されている。そのスパッタリング装置
においては磁場がスパッタリングする平坦な面に隣接し
て形成されていると説明されている。そのｖＡ場はカソ
ード面の閉ループの腐蝕領域（ｃｌｏｓｅｄ １ｏｏｐ
ｅｒｏｓｉｏｎ ｒｅｇｔｏｎ）にわたる磁束のアー
チングラインから構成されている。
カソードスパッタリング法によってガラス上に湿式化学
的に製造された２層の銀、／銅フィルムの特性の再現を
試みたけれども、種々の厚さおよび厚さ比で２層の銀／
銅のフィルムを製造する公知のカソードスパッタリング
法を用いても、所望の低い反射率のピンク色の外観を有
する湿式化学的に製造された２層の銀／銅フィルムはえ
られないことが発見された。さらに、典型的なスパッタ
リングの条件では銀と銅の比率おＪ：びそのサンプルの
向きによって、その外観において高い反射率の明るい銀
色から高い反射率の明るい銅色までの範囲を有する２層
の銀と銅のフィルムを提供するにとどまる。
的に製造された２層の銀、／銅フィルムの特性の再現を
試みたけれども、種々の厚さおよび厚さ比で２層の銀／
銅のフィルムを製造する公知のカソードスパッタリング
法を用いても、所望の低い反射率のピンク色の外観を有
する湿式化学的に製造された２層の銀／銅フィルムはえ
られないことが発見された。さらに、典型的なスパッタ
リングの条件では銀と銅の比率おＪ：びそのサンプルの
向きによって、その外観において高い反射率の明るい銀
色から高い反射率の明るい銅色までの範囲を有する２層
の銀と銅のフィルムを提供するにとどまる。
ギレリー（Ｇｉ ｌ １ｅｒＶ）とクリス（Ｃｒｉｓｓ
）の米国特許第４．４６２．８８４号の発明の名称が［
低反０１率、低輻射率のスパッタリングされたフィルム
（ＬＯＷＲｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ、Ｌｏｗ １ｍ＋５ｓ
ｉｖ；ｔｙ ｓｐｕｔｔｅｒｅｄＦｉｌｍｓ）Ｊの明細
書には、カソードスパッタリング法による低い反射率の
ピンク色がかった外観を有する透明な２層の銀／銅フィ
ルムを製造する方法が開示されている。そこでは不連続
に塊状集積された状態（ｉｎ ｄｉｓｃｏｎｔｉｎｕｏ
ｕｓａ（］ＱＩＯＩＩｌｅｒａｔｅｄ ５ｔａｔｅ）で
銀の第１層を付着させることを要する方法が開示されて
いる。不連続に塊状集積された銀フィルムにわたって連
続な銅フィルムを付着させることにより、湿式化学的な
製品の所望の低い反射率のピンク色がかった外観の特性
を産み出している。カソードスパッタリング法によって
不連続に塊状集積された状態に銀を付着させるときには
銀がその基材表面（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ５ｕｒｆａｃ
ｅ）に到達し塊状集積しうるのに充分な時間をかけると
いう条件が要求される。そのことは銀の到達速度を遅く
すること、または基材表面での移動度（ｍｏｂｉｌｉｔ
ｙ）を増加することのどちらかによって達成されうる。
）の米国特許第４．４６２．８８４号の発明の名称が［
低反０１率、低輻射率のスパッタリングされたフィルム
（ＬＯＷＲｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ、Ｌｏｗ １ｍ＋５ｓ
ｉｖ；ｔｙ ｓｐｕｔｔｅｒｅｄＦｉｌｍｓ）Ｊの明細
書には、カソードスパッタリング法による低い反射率の
ピンク色がかった外観を有する透明な２層の銀／銅フィ
ルムを製造する方法が開示されている。そこでは不連続
に塊状集積された状態（ｉｎ ｄｉｓｃｏｎｔｉｎｕｏ
ｕｓａ（］ＱＩＯＩＩｌｅｒａｔｅｄ ５ｔａｔｅ）で
銀の第１層を付着させることを要する方法が開示されて
いる。不連続に塊状集積された銀フィルムにわたって連
続な銅フィルムを付着させることにより、湿式化学的な
製品の所望の低い反射率のピンク色がかった外観の特性
を産み出している。カソードスパッタリング法によって
不連続に塊状集積された状態に銀を付着させるときには
銀がその基材表面（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ５ｕｒｆａｃ
ｅ）に到達し塊状集積しうるのに充分な時間をかけると
いう条件が要求される。そのことは銀の到達速度を遅く
すること、または基材表面での移動度（ｍｏｂｉｌｉｔ
ｙ）を増加することのどちらかによって達成されうる。
スパッタリングされた銀の到達速度を遅めることはスパ
ッタリングカソード（ＳＤＵｔｔｅｒｉｎ（］ ｃａｔ
ｈｏｄｅ）に供給される電力（ｐｏｗｅｒ）を下げるこ
と、またはそのスパッタリング法が行なわれている真空
室内のガス圧を増大することのどちらかによって達成さ
れうる。銀の移動度を増加することは銀の温度を上げる
こと、または基材の表面エネルギーを減少することによ
って達成されうる。
ッタリングカソード（ＳＤＵｔｔｅｒｉｎ（］ ｃａｔ
ｈｏｄｅ）に供給される電力（ｐｏｗｅｒ）を下げるこ
と、またはそのスパッタリング法が行なわれている真空
室内のガス圧を増大することのどちらかによって達成さ
れうる。銀の移動度を増加することは銀の温度を上げる
こと、または基材の表面エネルギーを減少することによ
って達成されうる。
しかしながら、前述のカソードスパッタリング法によっ
てつくられた不連続な銀層は商品としての窓ユニットに
対して望まれるような良好なガラスに対する接着性を有
しないという欠点がある。さらに銀の塊状集積の程度を
コントロールすることは゛困難である。銀層を付着させ
ることは、ガラス表面の状態およびガラス表面をクリー
ンにするのに用いられる方法によって影響を受ける。ガ
ラスの基材が愈庫内に保管されコーティングされるべき
表面によごれあるいははじめからよごれを有しているな
ら、銀／銅の２層のコーティングを最適化することは困
難、である。
てつくられた不連続な銀層は商品としての窓ユニットに
対して望まれるような良好なガラスに対する接着性を有
しないという欠点がある。さらに銀の塊状集積の程度を
コントロールすることは゛困難である。銀層を付着させ
ることは、ガラス表面の状態およびガラス表面をクリー
ンにするのに用いられる方法によって影響を受ける。ガ
ラスの基材が愈庫内に保管されコーティングされるべき
表面によごれあるいははじめからよごれを有しているな
ら、銀／銅の２層のコーティングを最適化することは困
難、である。
本発明はステンレス鋼のような金属のプライマ一層によ
って、銀または銅などの金属からなるスパッタリングさ
れたフィルムの改良された接着性および色のコントロー
ルを達成しうる方法を提供する。ステンレス鋼のプライ
マ一層のスパッタリングはガラス上の所望の銀／銅の２
層のスパッタリングされたフィルムの製造にとくに有用
である。ステンレス鋼のプライマ一層は、銀のようなよ
りセンシティブな金属のスパッタリングのための好適な
表面を提供するために、！＋Ｊ（７）表面上ニＩＭ−１
ｚへＪＬ＋（ａｔｏｔＩｌｉｃ １ａｙｅｒ）のオーダ
ーの厚さにスパッタリングされうる。
って、銀または銅などの金属からなるスパッタリングさ
れたフィルムの改良された接着性および色のコントロー
ルを達成しうる方法を提供する。ステンレス鋼のプライ
マ一層のスパッタリングはガラス上の所望の銀／銅の２
層のスパッタリングされたフィルムの製造にとくに有用
である。ステンレス鋼のプライマ一層は、銀のようなよ
りセンシティブな金属のスパッタリングのための好適な
表面を提供するために、！＋Ｊ（７）表面上ニＩＭ−１
ｚへＪＬ＋（ａｔｏｔＩｌｉｃ １ａｙｅｒ）のオーダ
ーの厚さにスパッタリングされうる。
より厚さのあるプライマ一層もまた有用である。
プライマ一層の厚さはコーティングされた製品の所望の
最終的な透過率によってのみ制限される。
最終的な透過率によってのみ制限される。
また本発明はステンレス鋼のような金属からなる保護層
（ｏｖｅｒｃｏａｔ）によって銀また【よ銅のような金
属からなるスパッタリングされたフィルムの改良された
安定性および耐久性を達成するための方法を提供する。
（ｏｖｅｒｃｏａｔ）によって銀また【よ銅のような金
属からなるスパッタリングされたフィルムの改良された
安定性および耐久性を達成するための方法を提供する。
ステンレス鋼の保護層のスパッタリングはガラス上に所
望の銀／銅の２層のスパッタリングされたフィルムを製
造するのにとくに有用である。ステ・ンレス鋼の保護層
は、銀または銅の金属フィルム上に少なくとも約２０人
の厚さにスパッタリングされうる。より厚さのある保護
層もまた有用である。保護層の厚さはコーティングされ
た製品の所望の最終的な透過率によってのみ制限される
。
望の銀／銅の２層のスパッタリングされたフィルムを製
造するのにとくに有用である。ステ・ンレス鋼の保護層
は、銀または銅の金属フィルム上に少なくとも約２０人
の厚さにスパッタリングされうる。より厚さのある保護
層もまた有用である。保護層の厚さはコーティングされ
た製品の所望の最終的な透過率によってのみ制限される
。
非金属の基材、好ましくはガラスのような透明な基材は
、カソードスパッタリング法によって種々の金属および
金属酸化物をフィルム状にコーティングされる。いくつ
かの金属フィルム、とくに銀の金属フィルムの接着性は
商品に望まれる接着性はど好ましくはない。さらに、ス
パッタリングされたフィルムは基材の表面の品質との関
係で商品として受け入れられないオフカラースポット（
ｏｆｆ−ｃｏｌｏｒ ５ｐｏｔｓ）を生じうる。
、カソードスパッタリング法によって種々の金属および
金属酸化物をフィルム状にコーティングされる。いくつ
かの金属フィルム、とくに銀の金属フィルムの接着性は
商品に望まれる接着性はど好ましくはない。さらに、ス
パッタリングされたフィルムは基材の表面の品質との関
係で商品として受け入れられないオフカラースポット（
ｏｆｆ−ｃｏｌｏｒ ５ｐｏｔｓ）を生じうる。
本発明によれば、従来技術におけるフィルムの接着性の
問題や基材表面の品質の問題は基材表面に酸化状態で結
合する接着性のよい安定した金属成分であるステンレス
鋼、クロム、チタンのような金属からなるプライマ一層
によって解決される。好ましくはステンレス鋼のカソー
ドがスパッタリング室に取りつけられている。
問題や基材表面の品質の問題は基材表面に酸化状態で結
合する接着性のよい安定した金属成分であるステンレス
鋼、クロム、チタンのような金属からなるプライマ一層
によって解決される。好ましくはステンレス鋼のカソー
ドがスパッタリング室に取りつけられている。
クリーンな透明基材は、金、銀および（または）銅のよ
うなあまりよい接着性を有さない他の金属を付着させる
前に、ステンレス鋼の非常に薄いプライマ一層で被覆さ
れる。はんの２〜３人の厚さの本質的に元素状の（ｅｌ
ｅｍｅｎｔａｌ）層である、きわめて薄いステンレス鋼
のプライマ一層は充分に所望の接着性と安定性を提供す
る。より厚さのあるプライマ一層もまた有用である。
うなあまりよい接着性を有さない他の金属を付着させる
前に、ステンレス鋼の非常に薄いプライマ一層で被覆さ
れる。はんの２〜３人の厚さの本質的に元素状の（ｅｌ
ｅｍｅｎｔａｌ）層である、きわめて薄いステンレス鋼
のプライマ一層は充分に所望の接着性と安定性を提供す
る。より厚さのあるプライマ一層もまた有用である。
プライマ一層の厚さは最終的なコーティングされた製品
の所望の透過率によってのみ制限される。
の所望の透過率によってのみ制限される。
とくに好ましい実施例においては、カソードスパッタリ
ング法によって２層の銀／銅フィルムを被覆すべきガラ
ス基材は、まずステンレス鋼のプライマ一層を被覆する
。ガラス基材はまず堆積されたあらゆるよごれや破片（
ａｅｂｒｉｓ）を取り除くために従来の洗浄操作で洗浄
されるのが好ましい。ガラスはどんな成分からなっても
よいがソーダライムシリカフロートガラスが好適である
。典型的なフロートガラスの基材は可視光線の波長の範
囲で約９０％の透過率を有する。
ング法によって２層の銀／銅フィルムを被覆すべきガラ
ス基材は、まずステンレス鋼のプライマ一層を被覆する
。ガラス基材はまず堆積されたあらゆるよごれや破片（
ａｅｂｒｉｓ）を取り除くために従来の洗浄操作で洗浄
されるのが好ましい。ガラスはどんな成分からなっても
よいがソーダライムシリカフロートガラスが好適である
。典型的なフロートガラスの基材は可視光線の波長の範
囲で約９０％の透過率を有する。
クリーンなガラス基材はステンレス鋼のカソードを備え
ているスパッタリング室に位置づけられる。スパッタリ
ングはガラス表面上で非常に薄いステンレス鋼のプライ
マ一層を形成するために行なわれる。ステンレス鋼のプ
ライマ一層の厚さはほんの２〜３人程度でよい。そのよ
うに本質的に元素状の層はほんの約１〜２％だけ透過率
を減少させるだけである。そのようなステンレス鋼のプ
ライマ一層は結果的にスパッタリングされたフィルムに
充分な接着性および安定性を与えうる。
ているスパッタリング室に位置づけられる。スパッタリ
ングはガラス表面上で非常に薄いステンレス鋼のプライ
マ一層を形成するために行なわれる。ステンレス鋼のプ
ライマ一層の厚さはほんの２〜３人程度でよい。そのよ
うに本質的に元素状の層はほんの約１〜２％だけ透過率
を減少させるだけである。そのようなステンレス鋼のプ
ライマ一層は結果的にスパッタリングされたフィルムに
充分な接着性および安定性を与えうる。
もっとも好ましい実施例においては、銀および銅の２層
のフィルムがスパッタリングされるべきである。銀がス
テンレス鋼のプライマ一層にスパッタリングされるとき
には、不連続な銀フィルムが有用１厚さに形成されない
ことは特記されるべき事項である。銀層が連続的な構成
をなすと、最終的なコーティングされた製品は所望の製
品よりもかなり反゛射率が高く、銀色あるいは銅色がか
なり強いものとなる。本発明によれば、低い反射率のピ
ンク色がかった銀／銅の層のコーティングは、典型的に
は２０〜２５人にステンレス鋼の厚さを増加することに
よって行なわれる。より厚いプライマ一層が所望より低
い反射率を産み出すなら、その反射率は上層の２層のフ
ィルムの銅の量と比較して銀の聞を増加することによっ
て上げられうる。本発明の銀／銅の２層のフィルムは不
動化剤（ρａｓｓｉＶａｔｉｎｇａｇｅｎｔｓ）で処理
することによって安定化されてもよい。
のフィルムがスパッタリングされるべきである。銀がス
テンレス鋼のプライマ一層にスパッタリングされるとき
には、不連続な銀フィルムが有用１厚さに形成されない
ことは特記されるべき事項である。銀層が連続的な構成
をなすと、最終的なコーティングされた製品は所望の製
品よりもかなり反゛射率が高く、銀色あるいは銅色がか
なり強いものとなる。本発明によれば、低い反射率のピ
ンク色がかった銀／銅の層のコーティングは、典型的に
は２０〜２５人にステンレス鋼の厚さを増加することに
よって行なわれる。より厚いプライマ一層が所望より低
い反射率を産み出すなら、その反射率は上層の２層のフ
ィルムの銅の量と比較して銀の聞を増加することによっ
て上げられうる。本発明の銀／銅の２層のフィルムは不
動化剤（ρａｓｓｉＶａｔｉｎｇａｇｅｎｔｓ）で処理
することによって安定化されてもよい。
本発明のとくに好ましい実施例においては、従来の技術
における安定性の問題および耐久性の問題は緻密な酸化
物表面を形成するステンレス鋼、クロム、チタンのよう
な耐久性を有する安定した金属からなる保護層によって
解決される。好ましくは、ステンレス鋼のカソードはス
パッタリング室に設けられている。本発明のとくに好ま
しい実施例においては、ステンレス鋼の保護層はステン
レス鋼のプライマ一層と共に適用される。クリーンで透
明な基材は好ましくは銀および（または）銅のような他
の成分を付着させる前に、ステンレス鋼からなる非常に
薄いプライマ一層をコーティングしておくのが好ましい
。ついでステンレス鋼の保護層はフィルム表面に対する
安定性および耐久性を提供するために銀および（または
）銅の層にわたってスパッタリングされる。厚さが約２
０人の薄いステンレス鋼の層は充分に所望の安定性およ
び耐久性を与える。より厚さのある保護層もまた有用で
ある。保護層の厚さは最終的なコーティングされた製品
の所望の透過率によってのみ制限される。
における安定性の問題および耐久性の問題は緻密な酸化
物表面を形成するステンレス鋼、クロム、チタンのよう
な耐久性を有する安定した金属からなる保護層によって
解決される。好ましくは、ステンレス鋼のカソードはス
パッタリング室に設けられている。本発明のとくに好ま
しい実施例においては、ステンレス鋼の保護層はステン
レス鋼のプライマ一層と共に適用される。クリーンで透
明な基材は好ましくは銀および（または）銅のような他
の成分を付着させる前に、ステンレス鋼からなる非常に
薄いプライマ一層をコーティングしておくのが好ましい
。ついでステンレス鋼の保護層はフィルム表面に対する
安定性および耐久性を提供するために銀および（または
）銅の層にわたってスパッタリングされる。厚さが約２
０人の薄いステンレス鋼の層は充分に所望の安定性およ
び耐久性を与える。より厚さのある保護層もまた有用で
ある。保護層の厚さは最終的なコーティングされた製品
の所望の透過率によってのみ制限される。
とくに好ましい実施例においては、ガラス基板はカソー
ドスパッタリング法によって銀／銅の２層がフィルム状
にコーティングされる前にまずステンレス鋼のプライマ
一層をコーティングされる。それから銀層はプライマ一
層上にスパッタリングされ、そして銅層が銀層にわたっ
てスパッタリングされる。最終的にステンレス鋼の保護
層は銅層にわたってスパッタリングされる。ステンレス
鋼の保護層の厚さはほんの約２０人でよい。約２０人の
厚さの保護層の透過率は約３％減少するだけである。そ
のようなステンレス鋼の保護層は下層のスパッタリング
された層に充分所望の安定性および耐久性を与える。
ドスパッタリング法によって銀／銅の２層がフィルム状
にコーティングされる前にまずステンレス鋼のプライマ
一層をコーティングされる。それから銀層はプライマ一
層上にスパッタリングされ、そして銅層が銀層にわたっ
てスパッタリングされる。最終的にステンレス鋼の保護
層は銅層にわたってスパッタリングされる。ステンレス
鋼の保護層の厚さはほんの約２０人でよい。約２０人の
厚さの保護層の透過率は約３％減少するだけである。そ
のようなステンレス鋼の保護層は下層のスパッタリング
された層に充分所望の安定性および耐久性を与える。
３０〜４０人のオーダーのより厚さのある保護層が通常
好適である。ステンレス鋼の保護層はそのコーティング
された製品の反射率および透過率をさらに減少させるの
で、所望の外観を達成するために銀の世を銅の量と比較
してさらに増加させてもよい。
好適である。ステンレス鋼の保護層はそのコーティング
された製品の反射率および透過率をさらに減少させるの
で、所望の外観を達成するために銀の世を銅の量と比較
してさらに増加させてもよい。
本発明はガラス上のステンレス鋼のプライマ一層、その
上層のカソードスパッタリング法によって付着された２
層の銀／銅のフィルムおよびステンレス鋼の保護層に関
して詳しく説明されているが、本発明の範囲内で他の種
々の実施例が含められる。他のプライマ一層の金属とし
てはクロム、チタン、バナジウム、アルミニウム、スズ
、タンタルおよびインコネルのようなニッケル合金を含
みうる。銀や銅に加えて金、白金およびパラジウムのよ
うな他のスパッタリングされる金属が本発明のプライマ
一層および（または）保護層に用いられうる。さらに緻
密な酸化物表面を形成するチタン、クロム、バナジウム
、アルミニウム、スズ、タンタルおよびインコネルのよ
うなニッケル合金などからなる金属は保護層として好適
である。基材としてはガラス以外の非金属の基材が用い
られてもよく、かつそれは透明でなくてもよい。
上層のカソードスパッタリング法によって付着された２
層の銀／銅のフィルムおよびステンレス鋼の保護層に関
して詳しく説明されているが、本発明の範囲内で他の種
々の実施例が含められる。他のプライマ一層の金属とし
てはクロム、チタン、バナジウム、アルミニウム、スズ
、タンタルおよびインコネルのようなニッケル合金を含
みうる。銀や銅に加えて金、白金およびパラジウムのよ
うな他のスパッタリングされる金属が本発明のプライマ
一層および（または）保護層に用いられうる。さらに緻
密な酸化物表面を形成するチタン、クロム、バナジウム
、アルミニウム、スズ、タンタルおよびインコネルのよ
うなニッケル合金などからなる金属は保護層として好適
である。基材としてはガラス以外の非金属の基材が用い
られてもよく、かつそれは透明でなくてもよい。
つぎに本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明は
かかる実施例のみに限定されるものではない。
かかる実施例のみに限定されるものではない。
実施例１
３ｆｔ ｘ ２ｆｔ（９１ｃ＋ｎｘ ６１ｃｍ）で厚さ
６ｍｍの寸法のクリアなフロートガラス板を従来から用
いられていた洗浄器で洗浄した。５５０ｎｍの光の波長
で測られたそのガラス板の透過率は約９０％であった。
６ｍｍの寸法のクリアなフロートガラス板を従来から用
いられていた洗浄器で洗浄した。５５０ｎｍの光の波長
で測られたそのガラス板の透過率は約９０％であった。
そのガラス板をエア口 −テメスカル（Ａ ｉ ｒｃ。
−Ｔｅｍｅｓｃａ ｌ ）社製のインライン（ｉｎ−ｌ
ｉｎｅ）″型コーティング設備を用いてコーティングし
た。用いたコーター（ｃｏａｔｅｒ）は１３ｉｎｘ １
０６ｉｎ（０，３ｍｘ ２．７ｍ）（７）たかだか９つ
の静置カソード（ＳｔａｔｉＯｎａｒＶｃａｔｈｏｄｅ
ｓ）を用いてコンベア上で、たかだか７ｆｔ ｘ１２ｆ
ｔ（２，１＋Ｉｌｘ ３．７ｍ）のガラスをコーティン
グしうる半連続的な建築されたコーティング設備（ｓｅ
ｍｉ−ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ ａｒｃｈｉｔｅｃｔｕｒ
ａｌ ｃｏａｔｉｎｇｆａｃｉｌｉｔＶ）であった。ス
パッタリングする平坦な表面に隣接して、その表面に閉
ループの腐蝕領域を形成する曲線状の磁束からなる磁場
をかけた。この腐蝕領域はわずかに不規則な［長円形の
競技用トラック（ｏｖａｌ ｒａｃｅｔｒａｃｋ）の形
」をしていた。
ｉｎｅ）″型コーティング設備を用いてコーティングし
た。用いたコーター（ｃｏａｔｅｒ）は１３ｉｎｘ １
０６ｉｎ（０，３ｍｘ ２．７ｍ）（７）たかだか９つ
の静置カソード（ＳｔａｔｉＯｎａｒＶｃａｔｈｏｄｅ
ｓ）を用いてコンベア上で、たかだか７ｆｔ ｘ１２ｆ
ｔ（２，１＋Ｉｌｘ ３．７ｍ）のガラスをコーティン
グしうる半連続的な建築されたコーティング設備（ｓｅ
ｍｉ−ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ ａｒｃｈｉｔｅｃｔｕｒ
ａｌ ｃｏａｔｉｎｇｆａｃｉｌｉｔＶ）であった。ス
パッタリングする平坦な表面に隣接して、その表面に閉
ループの腐蝕領域を形成する曲線状の磁束からなる磁場
をかけた。この腐蝕領域はわずかに不規則な［長円形の
競技用トラック（ｏｖａｌ ｒａｃｅｔｒａｃｋ）の形
」をしていた。
ステンレス鋼、銀および銅のそれぞれのカソードを順に
コーター内に設置した。それぞれのカソードには標準１
２０■の電力供給器を用いて電力制御のもとで種々の割
合の電力を供給した。
コーター内に設置した。それぞれのカソードには標準１
２０■の電力供給器を用いて電力制御のもとで種々の割
合の電力を供給した。
なお、コンベアの移動速度およびカソードの数は所望の
厚さのフィルムをうるために種々変更しうる。スパッタ
リング室内の雰囲気は３ミリトールの圧力のアルゴンガ
スであった。この実施例において、ライン速度（ｌｉｎ
ｅ ５ｐｅｅｄ）は順にステンレス鋼、銀および銅のそ
れぞれのカソードの１つ１つの通過に対して毎分約８０
インチ（約２ｍ）であった。光の透過を読みとる透過光
度計（ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ ｐｈｏｔｏＩＩｌｅ
ｔｅｒ）を、それぞれのコーティング段階が修了したの
ちそのフィルムに対する光の透過を検査するためにライ
ン上に設備した。
厚さのフィルムをうるために種々変更しうる。スパッタ
リング室内の雰囲気は３ミリトールの圧力のアルゴンガ
スであった。この実施例において、ライン速度（ｌｉｎ
ｅ ５ｐｅｅｄ）は順にステンレス鋼、銀および銅のそ
れぞれのカソードの１つ１つの通過に対して毎分約８０
インチ（約２ｍ）であった。光の透過を読みとる透過光
度計（ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ ｐｈｏｔｏＩＩｌｅ
ｔｅｒ）を、それぞれのコーティング段階が修了したの
ちそのフィルムに対する光の透過を検査するためにライ
ン上に設備した。
ガラス基材を３６０ｖの電圧をかけて１９％のクロム、
９％のニッケル、０，０８％以下の炭素そして残りが鉄
からなるステンレス鋼のカソードの下にコンベアで移送
した。ステンレス鋼のプライマ一層をガラスの表面上で
スパッタリングして形成した。その結果プライマ一層が
コーティングされたガラスの透過率は約９０％から約７
４％に減少した。そのばあいのステンレス鋼のプライマ
一層の厚さは約２４人に相当するものであった。ついで
ステンレス鋼のプライマ一層がコーティングされたガラ
スを銀カソードの下にコンベアにより移送した。連続的
な銀層を３３１ｖの電圧をかけてステンレス鋼のプライ
マ一層の全面にわたってスパッタリングして形成した。
９％のニッケル、０，０８％以下の炭素そして残りが鉄
からなるステンレス鋼のカソードの下にコンベアで移送
した。ステンレス鋼のプライマ一層をガラスの表面上で
スパッタリングして形成した。その結果プライマ一層が
コーティングされたガラスの透過率は約９０％から約７
４％に減少した。そのばあいのステンレス鋼のプライマ
一層の厚さは約２４人に相当するものであった。ついで
ステンレス鋼のプライマ一層がコーティングされたガラ
スを銀カソードの下にコンベアにより移送した。連続的
な銀層を３３１ｖの電圧をかけてステンレス鋼のプライ
マ一層の全面にわたってスパッタリングして形成した。
そのコーティングされたガラスの透過率は約６３％まで
減少した。そのばあいの銀層の厚さは約２２人に相当す
るものであった。最後に、銀がコーティングされたステ
ンレス鋼のプライマ一層を有するガラスを銅カソードの
下にコンベアで移送した。銅層を４２３ｖの電圧をかけ
て銀層にわたってスパッタリングして形成した。その結
果コーティングされたガラスの透過率は約１６％まで減
少した。そのばあいの銅層の厚さは約２５７人に相当す
るものであった。非常に薄いステンレス鋼はほんの１〜
２％だけ透過率を減少させただけで銀層の接着性を改良
するのに効果的であるけれども、本実施例で用いられて
いるステンレス鋼は好適な銀層および銅層のそれぞれの
厚さと結びついて、所望の低い反射率を有するピンり色
がかった外観を呈した。最終的な製品は、視感反射率（
ｌｕｍｉｎｏｕｓ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）が約３４
％であり、色度座標（ｃｈｒｏｍａｔｉｃｉｔｙ ｃｏ
ｏｒｄｉｎａｔｅｓ）が光源（Ｉ ｌ ｌｕｍｉｎａｎ
ｔ）Ｄ−６５に対しＴ Ｘ＝０．３４７８、Ｙ＝０、３
３３であった。ステンレス鋼のプライマ一層を有する銀
／銅フィルムの改良された接着性はテープ試験（ｔａｌ
）ｅ ｔｅｓｔ）によって評価された。
減少した。そのばあいの銀層の厚さは約２２人に相当す
るものであった。最後に、銀がコーティングされたステ
ンレス鋼のプライマ一層を有するガラスを銅カソードの
下にコンベアで移送した。銅層を４２３ｖの電圧をかけ
て銀層にわたってスパッタリングして形成した。その結
果コーティングされたガラスの透過率は約１６％まで減
少した。そのばあいの銅層の厚さは約２５７人に相当す
るものであった。非常に薄いステンレス鋼はほんの１〜
２％だけ透過率を減少させただけで銀層の接着性を改良
するのに効果的であるけれども、本実施例で用いられて
いるステンレス鋼は好適な銀層および銅層のそれぞれの
厚さと結びついて、所望の低い反射率を有するピンり色
がかった外観を呈した。最終的な製品は、視感反射率（
ｌｕｍｉｎｏｕｓ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）が約３４
％であり、色度座標（ｃｈｒｏｍａｔｉｃｉｔｙ ｃｏ
ｏｒｄｉｎａｔｅｓ）が光源（Ｉ ｌ ｌｕｍｉｎａｎ
ｔ）Ｄ−６５に対しＴ Ｘ＝０．３４７８、Ｙ＝０、３
３３であった。ステンレス鋼のプライマ一層を有する銀
／銅フィルムの改良された接着性はテープ試験（ｔａｌ
）ｅ ｔｅｓｔ）によって評価された。
テープ試験は粘着テープ（スコッチのという登録商標の
透明テープ）をコーティング層に押しつけ、それからは
がす試験である。プライマ一層がなければ、本質的に銀
／銅フィルムのすべてはそのテープによってはがされる
。しかしながら、銀／銅フィルムが本実施例のように本
発明によるプライマ一層の全面にわたってスパッタリン
グされたものでは、そのフィルムはテープではがされる
ことがなかった。
透明テープ）をコーティング層に押しつけ、それからは
がす試験である。プライマ一層がなければ、本質的に銀
／銅フィルムのすべてはそのテープによってはがされる
。しかしながら、銀／銅フィルムが本実施例のように本
発明によるプライマ一層の全面にわたってスパッタリン
グされたものでは、そのフィルムはテープではがされる
ことがなかった。
実施例２
ガラス基材を実施例１ど同様にステンレス鋼のカソード
の下にコンベアで移送した。ステンレス鋼のプライマ一
層をガラス面上でスパッタリングして形成した。ステン
レス鋼がコーティングされたガラスの透過率は約９０％
から約７７％に減少した。そのばあいのステンレス鋼の
プライマ一層の厚さは約２１人に相当するものであった
。それからステンレス鋼のプライマ一層をコーティング
され々ガラスを銀カソードの下にコンベアで移送した。
の下にコンベアで移送した。ステンレス鋼のプライマ一
層をガラス面上でスパッタリングして形成した。ステン
レス鋼がコーティングされたガラスの透過率は約９０％
から約７７％に減少した。そのばあいのステンレス鋼の
プライマ一層の厚さは約２１人に相当するものであった
。それからステンレス鋼のプライマ一層をコーティング
され々ガラスを銀カソードの下にコンベアで移送した。
連続的な銀層をステンレス鋼のプライマ一層の全面にわ
たって、３２５ｖの電圧をかけてスパッタリングして形
成した。連続した銀層はコーティングされたガラスの透
過率を約６３％まで減少させた。そのばあいの銀層の厚
さは約２７Ａに相当するものであった。銀がコーティン
グされたステンレス鋼のプライマ一層を有するガラスを
銅カソードの下にコンベアで移送し、４２４ｖの電圧を
かけて銀層にわたって銅層をスパッタリングして形成し
た。銅層はコーティングされたガラスの透過率を約１６
％に減少させた。そのばあいの銅層の厚さは約２５７人
に相当するものであった。最後にステンレス鋼の保護層
を３８９ｖの電圧をかけてスパッタリングして形成した
。その保護層はコーティングされたガラスの透過率を１
２％に減少させた。そのばあいステンレス鋼の保護層の
厚さは３４八に相当するものであった。
たって、３２５ｖの電圧をかけてスパッタリングして形
成した。連続した銀層はコーティングされたガラスの透
過率を約６３％まで減少させた。そのばあいの銀層の厚
さは約２７Ａに相当するものであった。銀がコーティン
グされたステンレス鋼のプライマ一層を有するガラスを
銅カソードの下にコンベアで移送し、４２４ｖの電圧を
かけて銀層にわたって銅層をスパッタリングして形成し
た。銅層はコーティングされたガラスの透過率を約１６
％に減少させた。そのばあいの銅層の厚さは約２５７人
に相当するものであった。最後にステンレス鋼の保護層
を３８９ｖの電圧をかけてスパッタリングして形成した
。その保護層はコーティングされたガラスの透過率を１
２％に減少させた。そのばあいステンレス鋼の保護層の
厚さは３４八に相当するものであった。
より薄いまたはより厚いステンレス鋼は中間にはさまれ
ているスパッタリングされた層、すなわち２層の銀／銅
フィルムの接着性、安定性および耐久性を改良するのに
効果的であるけれども、本実施例のステンレス鋼からな
るプライマ一層および保護層は、好適な銀層および銅層
のそれぞれの厚さと結びついて、所望の低い反射率を有
するピンク色がかった外観を呈した。
ているスパッタリングされた層、すなわち２層の銀／銅
フィルムの接着性、安定性および耐久性を改良するのに
効果的であるけれども、本実施例のステンレス鋼からな
るプライマ一層および保護層は、好適な銀層および銅層
のそれぞれの厚さと結びついて、所望の低い反射率を有
するピンク色がかった外観を呈した。
最終的なコーティングされた製品は視感反射率が約３７
．５％で、光源Ｄ−６５に対する色度座標がＸ＝０．３
４０８、Ｙ＝０．３３６３であった。ステンレス鋼の保
護層を有する銀／銅フィルムの改良された安定性はヒ−
１−／−り試験（ｈｅａｔ ５ｏａｋ ｔｅｓｔ）によ
って評価された。ヒートソーク試験はコーティングされ
たサンプルをオーブンの中に２７５°Ｆ（１３５℃）の
温度で５時間置くことによって行なわれた。保護層がな
ければ、その処理されていない銀／銅フィルムは重大な
可視色の変化を受ける。不動化剤で処理された銀／銅フ
ィルムは重大な色の変化を受けることはなかった。しか
したとえば縞をつけられた（ｓｔｒｅａｋｅｄ）ように
不均一になった。しかしながら、銀／銅フィルムが本発
明によりステンレス鋼で保護されるときには色または均
一性の゛どちらかにおいてそのフィルムにおける重大な
目に見える変化はみられなかった。
．５％で、光源Ｄ−６５に対する色度座標がＸ＝０．３
４０８、Ｙ＝０．３３６３であった。ステンレス鋼の保
護層を有する銀／銅フィルムの改良された安定性はヒ−
１−／−り試験（ｈｅａｔ ５ｏａｋ ｔｅｓｔ）によ
って評価された。ヒートソーク試験はコーティングされ
たサンプルをオーブンの中に２７５°Ｆ（１３５℃）の
温度で５時間置くことによって行なわれた。保護層がな
ければ、その処理されていない銀／銅フィルムは重大な
可視色の変化を受ける。不動化剤で処理された銀／銅フ
ィルムは重大な色の変化を受けることはなかった。しか
したとえば縞をつけられた（ｓｔｒｅａｋｅｄ）ように
不均一になった。しかしながら、銀／銅フィルムが本発
明によりステンレス鋼で保護されるときには色または均
一性の゛どちらかにおいてそのフィルムにおける重大な
目に見える変化はみられなかった。
プライマ一層に用いられる金属はチタン、クロム、バナ
ジウム、アルミニウム、スズ、タンタル、インコネルの
ようなニッケル合金でもよく、それだけはなく銀や銅に
限らず他のセンシティブな金属、たとえば金、白金、パ
ラジウムなどをスパッタリングしてもよい。緻密な酸化
物を表面に形成するのに他の保護層の金属を用いてもよ
い。またガラス以外の非金属の基材にコーティングして
もよい。さらにその基材は透明である必要もない。この
ような種々の変更は本発明の範囲に含まれる。
ジウム、アルミニウム、スズ、タンタル、インコネルの
ようなニッケル合金でもよく、それだけはなく銀や銅に
限らず他のセンシティブな金属、たとえば金、白金、パ
ラジウムなどをスパッタリングしてもよい。緻密な酸化
物を表面に形成するのに他の保護層の金属を用いてもよ
い。またガラス以外の非金属の基材にコーティングして
もよい。さらにその基材は透明である必要もない。この
ような種々の変更は本発明の範囲に含まれる。
特許出願人 ピーピージー・インダストリーズ・インコ
ーポレーテッド
ーポレーテッド
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ カソードスパッタリング法にＪ：って基材にフィル
ム状のコーティングを施す方法において、該フィルムが
、該基材に対する低い付着性によって特徴づけられた金
属からなるものであって、まず基材表面に酸化状態で結
合する金属からなるプライマ一層を該基材に付着させ、
ついで前記低い付着性を有する金属を該プライマ一層に
スパッタリングすることを特徴とするコーティング方法
。 ２ 前記基材がガラスである特許請求の範囲第１項記載
の方法。 ３ 前記プライマ一層の金属がステンレス鋼、チタン、
クロム、バナジウム、アルミニウム、スズ、タンタルお
よびニッケル合金よりなる群から選ばれたものである特
許請求の範囲第２項記載の方法。 ４ 前記低い付着性を有する金属が金、銀、銅、白金、
パラジウムおよびそれらの混合物よりなる群から選ばれ
たものである特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５ 前記プライマ一層の金属がステンレス鋼およびチタ
ンよりなる群から選ばれたものであり、前記スパッタリ
ングされる金属が銀および銅よりなる群から選ばれたも
のである特許請求の範囲第４項記載の方法。 ６ 磁気的に高められたカソードスパッタリング法によ
り、前記プライマ一層および前記フィルム層が付着され
る特許請求の範囲第５項記載の方法。 ７ カソードスパッタリング法によってガラスに銀およ
び銅の２層のフィルム状のコーティングを施す方法にお
いて、まずガラス表面に酸化状態で結合する金属のプラ
イマ一層を付着させ、ついで該プライマ一層にわたって
銀と銅の２層のフィルムをカソードスパッタリング法に
よりスパッタリングするコーティング方法。 ８ 前記プライマ一層の金属がステンレス鋼、チタン、
クロム、バナジウム、アルミニウム、スズ、タンタルお
よびニッケル合金よりなる群から選ばれたものである特
許請求の範囲第７項記載の方法。 ９ （田非金属の基材、山）該基材の表面に酸化状態で
結合している金属のプライマ一層および（Ｃ）銀、銅、
金、白金、パラジウムおよびそれらの混合物よりなる群
から選ばれた金属のコーティング層を有する製品。 １０ 前記基材がガラスであり、前記プライマ一層がス
テンレス鋼であり、前記コーティング層が銀製の第１層
および銅製の第２層を有する特許請求の範囲第９項記載
の製品。 １１ カソードスパッタリング法によって基材に元素状
金属をフィルム状にコーティングを施す方法において、
緻密な酸化物表面を形成する金属からなる保護層を該元
素状金属フィルムの全面にわたって付着するコーティン
グ方法。 １２ 前記基材がガラスであり、前記保護層がステンレ
ス鋼、チタン、バナジウム、クロム、アルミニウム、ス
ズ、タンタルおよびニッケル合金よりなる群から選ばれ
たものである特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １３ 前記基材がまずガラス表面で酸化状態で結合する
プライマ一層の金属でコーティングされる特許請求の範
囲第１２項記載の方法。 １４ 前記元素状金属フィルムが銀、金、白金、パラジ
ウム、銅およびそれらの混合物よりなる群から選ばれた
ものであり、前記保護層の金属がステンレス鋼およびチ
、タンよりなる群から選ばれたものである特許請求の範
囲第１３項記載の方法。 １５ 前記プライマ一層、前記元素状金属フィルム層お
よび前記保護層が磁気的に高められたカソードスパッタ
リング法によって付着される特許請求の範囲第１４項記
載の方法。 １６ 前記基材がガラスであり、前記プライマ一層がス
テンレス鋼であり、前記元素状金属フィルムが銀層およ
び銅層からなり、前記保護層がステンレス鋼であ為特許
請求の範囲第１５項記載の方法。 １７ カソードスパッタリング法によってガラスに銀お
よび銅を２層のフィルム状にコーティングを施す方法に
おいて、緻密な酸化物表面の層を形成する金属からなる
保護層を該銀および銅の２層のフィルムにわたって付着
することを特徴とするコーティング方法。 １８ 前記保護層の金属がステンレス鋼、チタン、バナ
ジウム、クロム、アルミニウム、スズ、タンタルおよび
ニッケル合金よりなる群から選ばれたものである特許請
求の範囲第１７項記載の方法。 １９ ＋ａ＞非金属の基材、（ｂ）銀、銅、金、白金、
パラジウムおよびそれらの混合物よりなる群から選ばれ
た金属のコーティング層、（Ｃ）緻密な酸化物表面の層
を形成する金属の保護層および適宜（小基材の表面に酸
化状態で結合するプライマ一層を有する製品。 ２０〈ω前記基材がガラスであり、（ｂ）前記プライマ
一層および前記保護層がステンレス鋼、チタン、バナジ
ウム、クロム、アルミニウム、スズ、タンタルおよびニ
ッケル合金よりなる群から選ばれたものであり、（Ｃ）
前記コーティング層が金、銀、銅、白金、パラジウムお
よびそれらの混合物よりなる群から選ばれたものである
特許請求の範囲第１９項記載の製品。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/530,553 US4512863A (en) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | Stainless steel primer for sputtered films |
| US530553 | 1983-09-09 | ||
| US06/530,570 US4594137A (en) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | Stainless steel overcoat for sputtered films |
| US530570 | 1983-09-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6086265A true JPS6086265A (ja) | 1985-05-15 |
| JPH0621345B2 JPH0621345B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=27063295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59188756A Expired - Fee Related JPH0621345B2 (ja) | 1983-09-09 | 1984-09-07 | カソードスパッタリング法による製品の製造法およびその製品 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0140032B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0621345B2 (ja) |
| AU (1) | AU572881B2 (ja) |
| DE (1) | DE3481433D1 (ja) |
| ES (1) | ES535746A0 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6212184A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-21 | 田中貴金属工業株式会社 | 石英板に銅をスパツタめつきする方法 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2009863C (en) * | 1989-03-09 | 2002-04-30 | Raymond Nalepka | Heat treatable sputter-coated glass |
| US4946376A (en) * | 1989-04-06 | 1990-08-07 | Motorola, Inc. | Backside metallization scheme for semiconductor devices |
| US5229194A (en) * | 1991-12-09 | 1993-07-20 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable sputter-coated glass systems |
| FR2753725B1 (fr) * | 1996-09-26 | 1998-11-27 | Tecmachine | Revetement de surface de materiaux isolants, son procede d'obtention et son application pour la realisation de blindages pour boitiers isolants |
| GB9717184D0 (en) * | 1997-08-13 | 1997-10-22 | Glaverbel | Copper mirrors |
| GB9717182D0 (en) * | 1997-08-13 | 1997-10-22 | Glaverbel | Copper mirrors |
| US6132881A (en) * | 1997-09-16 | 2000-10-17 | Guardian Industries Corp. | High light transmission, low-E sputter coated layer systems and insulated glass units made therefrom |
| WO2010069104A1 (zh) * | 2008-12-17 | 2010-06-24 | Chin Raymond | 抗菌涂层，其制备方法以及包含该涂层的金属制品 |
| FR2943072B1 (fr) * | 2009-03-12 | 2019-08-16 | Centre National De La Recherche Scientifique Cnrs | Decoration par pulverisation plasma magnetron sur des contenants en verre pour les secteurs de la cosmetique. |
| CN111769251A (zh) * | 2020-04-10 | 2020-10-13 | 上海大学 | 金属电极的保护方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5052113A (ja) * | 1973-04-12 | 1975-05-09 | ||
| JPS5136477A (en) * | 1974-09-20 | 1976-03-27 | Toray Industries | Arufua amino ipushiron kapurorakutamu no tanriho |
| JPS5466343A (en) * | 1977-11-07 | 1979-05-28 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Forming method for noble metal pattern |
| JPS5520228A (en) * | 1978-07-26 | 1980-02-13 | Sharp Corp | Forming method for selectively absorbing film |
| JPS5646263A (en) * | 1979-09-25 | 1981-04-27 | Fuji Xerox Co Ltd | Original lighting device of electronic copying machine |
| JPS575870A (en) * | 1980-06-16 | 1982-01-12 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | Decorating method by sputtering |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2334152B2 (de) * | 1973-07-05 | 1975-05-15 | Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth | Wärmereflektierende, 20 bis 60% des sichtbaren Lichtes durchlassende Fensterscheibe mit verbesserter Farbneutralltät In der Ansicht und ihre Verwendung |
| DE2924833C3 (de) * | 1979-06-20 | 1982-05-19 | Bfg Glassgroup, Paris | Wärmereflexionsscheibe mit farbneutraler Außenansicht und deren Verwendung als Außenscheibe einer Mehrscheibenanordnung |
| DE2924824C3 (de) * | 1979-06-20 | 1986-07-10 | Bfg Glassgroup, Paris | Wärmereflexionsscheibe, insbesondere wärmereflektierende Fensterscheibe und deren Verwendung als Außenscheibe einer Mehrscheibenanordnung |
| US4342632A (en) * | 1981-05-01 | 1982-08-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Method of metallizing a ceramic substrate |
| DE3118957A1 (de) * | 1981-05-13 | 1982-12-09 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | "verfahren zur herstellung einer hitzebestaendigen haftfesten goldschicht auf oxidischem traegermaterial" |
-
1984
- 1984-08-24 AU AU32357/84A patent/AU572881B2/en not_active Expired
- 1984-09-03 DE DE8484110436T patent/DE3481433D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1984-09-03 EP EP19840110436 patent/EP0140032B1/en not_active Expired
- 1984-09-07 ES ES535746A patent/ES535746A0/es active Granted
- 1984-09-07 JP JP59188756A patent/JPH0621345B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5052113A (ja) * | 1973-04-12 | 1975-05-09 | ||
| JPS5136477A (en) * | 1974-09-20 | 1976-03-27 | Toray Industries | Arufua amino ipushiron kapurorakutamu no tanriho |
| JPS5466343A (en) * | 1977-11-07 | 1979-05-28 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Forming method for noble metal pattern |
| JPS5520228A (en) * | 1978-07-26 | 1980-02-13 | Sharp Corp | Forming method for selectively absorbing film |
| JPS5646263A (en) * | 1979-09-25 | 1981-04-27 | Fuji Xerox Co Ltd | Original lighting device of electronic copying machine |
| JPS575870A (en) * | 1980-06-16 | 1982-01-12 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | Decorating method by sputtering |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6212184A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-21 | 田中貴金属工業株式会社 | 石英板に銅をスパツタめつきする方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU3235784A (en) | 1986-03-20 |
| ES8601820A1 (es) | 1985-11-01 |
| EP0140032A1 (en) | 1985-05-08 |
| EP0140032B1 (en) | 1990-02-28 |
| JPH0621345B2 (ja) | 1994-03-23 |
| ES535746A0 (es) | 1985-11-01 |
| DE3481433D1 (de) | 1990-04-05 |
| AU572881B2 (en) | 1988-05-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1239614A (en) | Stainless steel overcoat for sputtered films | |
| US4692389A (en) | Stainless steel overcoat for sputtered films | |
| DK166536B1 (da) | Produkt med hoej transmittans og lav emissivitet | |
| JP2604474B2 (ja) | 太陽エネルギ−反射性製品及びその製法 | |
| US4786563A (en) | Protective coating for low emissivity coated articles | |
| JP2505278B2 (ja) | 高透過性低放射性物品及びその製法 | |
| US4462884A (en) | Low reflectance, low emissivity sputtered film | |
| US4948677A (en) | High transmittance, low emissivity article and method of preparation | |
| DK169758B1 (da) | Artikel med høj transmission og lav emissivitet samt fremgangsmåde til dens fremstilling | |
| CA1335887C (en) | Neutral sputtered films of metal alloy oxides | |
| US4900633A (en) | High performance multilayer coatings | |
| CA2041038C (en) | Durable low-emissivity thin film interference filter | |
| US4512863A (en) | Stainless steel primer for sputtered films | |
| JP2000192227A (ja) | 多層低輻射率被覆生成物の製法 | |
| US3798146A (en) | Method of making a transparent article having reduced radiation transmittance | |
| US4563400A (en) | Primer for metal films on nonmetallic substrates | |
| JPS6086265A (ja) | カソ−ドスパツタリング法による製品の製造法およびその製品 | |
| KR910002490B1 (ko) | 비스무트/주석 산화물의 스퍼터링된 필름 및 이런 필름을 포함하는 물품 | |
| JP3558301B2 (ja) | 高耐食性Ａｇ−Ｍｇ合金の薄膜 | |
| JPH013036A (ja) | 低反射性被覆物品 | |
| CA1323597C (en) | Low reflectance, highly saturated colored coating for monolithic glazing | |
| CN111377618B (zh) | 一种抗腐蚀性玻璃及其制备方法 | |
| JPH01314163A (ja) | 熱線遮断ガラス | |
| US4508789A (en) | Low reflectance, low emissivity sputtered film | |
| JPH07108642A (ja) | 機能性物品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |