DK169758B1 - Artikel med høj transmission og lav emissivitet samt fremgangsmåde til dens fremstilling - Google Patents
Artikel med høj transmission og lav emissivitet samt fremgangsmåde til dens fremstilling Download PDFInfo
- Publication number
- DK169758B1 DK169758B1 DK494185A DK494185A DK169758B1 DK 169758 B1 DK169758 B1 DK 169758B1 DK 494185 A DK494185 A DK 494185A DK 494185 A DK494185 A DK 494185A DK 169758 B1 DK169758 B1 DK 169758B1
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- film
- transparent
- metal
- oxide
- metal alloy
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims description 34
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 46
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 49
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 24
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 23
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims description 16
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 11
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 68
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 68
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 19
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical group [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 18
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 11
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 9
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 9
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical group [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 3
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- -1 tin and indium Chemical class 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CSBHIHQQSASAFO-UHFFFAOYSA-N [Cd].[Sn] Chemical compound [Cd].[Sn] CSBHIHQQSASAFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910002064 alloy oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMBZEFASPGWDEN-UHFFFAOYSA-N argon;hydrate Chemical compound O.[Ar] CMBZEFASPGWDEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BEQNOZDXPONEMR-UHFFFAOYSA-N cadmium;oxotin Chemical compound [Cd].[Sn]=O BEQNOZDXPONEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- UPHIPHFJVNKLMR-UHFFFAOYSA-N chromium iron Chemical compound [Cr].[Fe] UPHIPHFJVNKLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3613—Coatings of type glass/inorganic compound/metal/inorganic compound/metal/other
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
- C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
- G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
Description
i DK 169758 B1
Den foreliggende opfindelse angår en artikel med høj transmission og lav emissivitet samt en fremgangsmåde til dens fremstilling.
I US patentskrift nr.4.094.763 beskrives fremstil-5 ling af transparente elektrisk ledende artikler ved katodeforstøvning af metaller, såsom tin og indium, på modstandsdygtige underlag, såsom glas, ved en temperatur over 204°C i en atmosfære med lavt tryk indeholdende en kontrolleret mængde oxygen.
10 I DS patentskrift nr. 4.113.599 beskrives en katode forstøvningsmetode til reaktiv afsætning af indiumoxid, hvorved strømningshastigheden af oxygen indstilles således, at der opretholdes en konstant udladningsstrøm, medens strømningshastigheden af argon indstilles således, at der opret-15 holdes et konstant tryk i katodeforstøvningskammeret.
I US patentskrift nr. 4.166.018 beskrives et katodeforstøvningsapparat, hvori der dannes et magnetisk felt op til en plan forstøvningsoverflade, hvor feltet omfatter krummede flux-linier over et lukket-sløjfe-erosions-20 område på forstøvningsoverfladen.
I US patentskrift nr. 4.201.649 beskrives en metode til fremstilling af tyndfilm af indiumoxid med lav modstand, hvorved der først afsættes et meget tyndt grunderingslag af indiumoxid ved lav temperatur, før underla-25 get opvarmes til afsætning af størstedelen af tykkelsen af det ledende lag af indiumoxid ved katodeforstøvning ved typisk høje katodeforstøvningstemperaturer.
X US patentskrift nr. 4.327.967 beskrives et var-mereflekterende panel med neutralfarvet udseende omfatten-30 ^ en glasrude, en interferensfilm med et brydningsindeks større end 2 på glasoverfladen, en varmereflekterende guld-film over interferensfilmen og en neutralisationsfilm af chrom, jern, nikkel, titan eller legeringer deraf over guldfilmen.
I US patentskrift nr. 4.349.425 beskrives jævnstrøms 35 reaktiv katodeforstøvning af cadmium-tin-legeringer i argon- 2 DK 169758 B1 -oxygen-blandinger til dannelse af cadmium-tin-oxid-film med lav elektrisk modstand og høj optisk transparens.
I US patentskrift nr. 4.462.883 beskrives et overtræk med lav emission fremstillet ved katodeforstøvning 5 af et lag af sølv, en lille mængde af et andet metal end sølv og et antirefleksionslag af metaloxid på et transparent underlag, såsom glas. Antirefleksionslaget kan være tinoxid, titanoxid, zinkoxid, indiumoxid, bismuthoxid eller zirconiumoxid.
10 I US reissue nr. 27.473 beskrives en flerlags trans parent artikel omfattende et tyndt lag af guld eller kobber indlagt mellem to lag af transparent materiale, såsom forskellige metaller, titanoxid, blyoxid eller bismuthoxid.
I FR-A-2 430 986 beskrives en flerlags artikel, som 15 udviser høj transmission og høj infrarød refleksion og omfatter et substrat og derpå en metallisk film indlagt mellem to metaloxidlag. Begge metaloxidlag er sammensat af oxider af metallerne Bi, In, Sn, Zn, Cd eller legeringer deraf.
Til forbedring af den energibesparende virkning af 20 dobbeltglas vinduesenheder er det ønskeligt at tilvejebringe en belægning på glasoverfladerne, der forøger den isolerende evne af enheden ved at nedsætte strålevarmeoverførslen. Overtrækket skal derfor have en lav emissivi-tet i det infrarøde bølgelængdeområde af strålingsspektret.
25 Af praktiske grunde skal overtrækket have en høj transmission i det synlige bølgelængdeområde. Af æstetiske grunde bør overtrækket have en lav lysrefleksion og fortrinsvis være i det væsentlige farveløst.
Overtræk som ovenfor beskrevet med høj transmis-30 . sion og lav emissivitet omfatter i almindelighed et tyndt metallisk lag, til opnåelse af infrarød refleksion og lav emissivitet, der er indlagt mellem dielektriske lag af metaloxider til nedsættelse af den synlige refleksion. Disse flerlagsfilm fremstilles typisk ved katodeforstøvning, i-35 sær ved magnetron-forstøvning. Det metalliske lag kan være guld eller kobber, men er i almindelighed sølv. Metaloxidlagene ifølge den kendte teknik omfatter tinoxid, indium- j i 3 DK 169758 B1 o oxid, titanoxid, bismuthoxid, zinkoxid, zirconiumoxid og blyoxid. I nogle tilfælde indeholder disse oxider små mængder af andre metaller, såsom mangan i bismuthoxid, indium i tinoxid og vice versa, til undgåelse af visse ulem-5 per, såsom dårlig holdbarhed eller marginal emissivitet.
Disse metaloxider har imidlertid alle visse ulemper.
Selv om overtrækket kan bevares på en indvendig overflade af en dobbeltglas vinduesenhed, hvor det er beskyttet mod vejrliget og mod stoffer i omgivelserne, som 10 ville fremkalde nedbrydning af det, er et holdbart effektivt overtræk, der kan modstå håndtering, emballering, vaskning og andre fabrikationsprocesser, som det udsættes for mellem fremstilling og installering, særdeles ønskeligt. Disse egenskaber ønskes af metaloxidet. Metaloxidet bør i-15 midlertid ud over hårdheden som giver mekanisk holdbarhed, indifferens, som giver kemisk holdbarhed, og god vedhæftning til både glasset og metallaget også have følgende e-genskaber.
Metaloxidet skal have et rimeligt højt brydnings-20 indeks, fortrinsvis større end 2,0, til nedsættelse af refleksionen af det metalliske lag og dermed forbedring af det overtrukne produkts transmission. Metaloxidet skal også have minimal absorption til maksimering af det overtrukne produkts transmission. Af kommercielle grunde bør me-25 taloxidet have en rimelig pris, have en relativt høj afsætning shastighed ved magnetron-forstøvning og være ugiftigt.
De krav til metaloxidfilmen, der måske er de vigtigste, og de mest vanskelige at opfylde, vedrører dens 30 vekselvirkning med den metalliske film. Metaloxidfilmen skal have lav porøsitet, således at den underliggende metalliske film beskyttes mod stoffer i omgivelserne, og en lav diffusion for metallet, således at helheden af de separate lag opretholdes. Endelig og fremfor alt skal me-35 taloxidet give en god kimdannelsesoverflade til afsætning af det metalliske lag, således at der kan afsættes en metallisk film med minimal modstand og maksimal transmis- 4 DK 169758 B1 sion·. Egenskaberne af kontinuerlige og diskontinuerlige sølvfilm er beskrevet i US patentskrift nr. 4.462.884.
Af de almindeligt anvendte metaloxidfilm har zinkoxid og bismuthoxid en utilstrækkelig holdbarhed, idet de 5 er opløselige i både sure og basiske midler, nedbrydes af fingeraftryk og ødelægges ved salt-, svovldioxid- og fug-tighedsprøver. Indiumoxid, fortrinsvis doteret med tin, er mere holdbart. Indium forstøves imidlertid langsomt og er relativt kostbart. Tinoxid, som kan være doteret med indium 10 eller antimon, er også mere holdbart, men giver ikke en egnet overflade til kimdannelse for sølvfilmen, hvilket medfører en høj modstand og en lav transmission. Det er ikke blevet fastslået, hvilke egenskaber af en metalfilm der medfører en passende kimdannelse for en derefter afsat sølv-15 film, men der er blevet udført omfattende forsøgsvise afprøvninger af de ovenfor beskrevne metaloxider.
Det har nu ifølge opfindelsen vist sig, at en metaloxidfilm dannet ud fra en zink/tin-legering ikke udviser de ovennævnte ulemper, men derimod har en god holdbarhed, er 20 relativt billig og især giver en egnet overflade til kimdannelse for en sølvfilm og derfor er velegnet til fremstilling af artikler med flerlagsfilm, der har en høj transmission og en lav emissivitet.
Opfindelsen angår således en artikel med høj trans-25 mission og lav emissivitet omfattende: a) et transparent ikke-metallisk underlag, b) en første transparent film omfattende et oxid-reaktions-produkt af en metallegering afsat på en overflade af underlaget , 30 c) en transparent metallisk film afsat på den første metal-legeringsoxidfilm, og d) en anden transparent film omfattende et oxidreaktionsprodukt af en metallegering afsat på den metalliske film, hvilken artikel er ejendommelig ved, at den første og anden 35 transparente metallegeringsoxid-film er et oxid-reaktions-produkt af en legering af zink og tin.
DK 169758 B1 s
Opfindelsen angår også en fremgangsmåde til fremstilling af et flerlags-overtrukket produkt med høj transmission og lav emissivitet, hvilken fremgangsmåde omfatter følgende trin: 5 a) en anbringelse af et transparent ikke-metallisk underlag i et katodeforstøvningskammer, b) katodeforstøvning af et katodemål omfattende en metal-legering i en reaktiv atmosfære omfattende oxygen til afsætning af en transparent metallegeringsoxidfilm på 10 en overflade af underlaget, c) katodeforstøvning af et sølvkatodemål i en indifferent atmosfære til afsætning af en transparent sølvfilm på metalleger ingsoxidf ilmen , d) forstøvning af et katodemål omfattende en metallegering 15 i en reaktiv atmosfære omfattende oxygen til afsætning af en metallegeringsoxidfilm på sølvfilmen, hvilken fremgangsmåde er ejendommelig ved, at katodemålet anvendt til afsætning af metallegeringsoxidfilmene er en legering af zink og tin, og at sølvkatodemålet kåtodeforstøves i en inert atmo-20 sfære.
Den omhandlede zink/tin-legeringsoxidfilm afsættes ved katodeforstøvning, fortrinsvis ved magnetronforstøvning. Der fremstilles en katode, der har det ønskede forhold mellem metallegeringselementerne. Katoden forstøves derefter i en 25 reaktiv atmosfære, fortrinsvis indeholdende oxygen til afsætning af zink/tin-legeringsoxidfilmen på overfladen af underlaget.
Katodeforstøvning er også en foretrukken metode til afsætning af øvrige film i artiklen med høj transmission og 30 lav emissivitet ifølge den foreliggende opfindelse. Artiklen ifølge opfindelsen indeholder et lag af et metal med høj refleksion, såsom guld, sølv eller kobber, indlagt mellem de anti-reflektive lag af zink/tin-legeringsoxid. Ifølge den foreliggende opfindelse er det anti-reflektive lag af 35 et oxid af en legering af zink og tin. Det foretrækkes, at legeringen er zinkstannat.
DK 169758 B1 s
Der kan gennemføres forskellige prøver til bestemmelse af zink/tin-legeringsoxidfilmens holdbarhed og, hvad der er mere vigtigt, dens effektivitet med hensyn til kimdannelse for en sølvfilm.
5 Hvad holdbarheden angår, er der opvarmningsprø ver, der måler ændringer af transmission, refleksion og farve af overtrækket som indikation af langtidsstabiliteten, accelererede vejrligs- og eksponeringsprøver, der måler virkningerne af sådanne omgivelsesbetingelser som ul-10 traviolet stråling, fugtighed og salt (fingeraftryk eller kystmiljø), en svovldioxidprøve til bestemmelse af overtrækkets modtagelighed for beskadigelse af sur atmosfærisk forurening, og en prøve til bestemmelse af, om overtrækket beskadiges af et gængst glasrensemiddel· og sure 15 eller basiske detergenter.
Mere vigtigt kan der gennemføres en kimdannelsesprøve til vurdering af virkningerne af et metallegeringsoxid på afsætningen af et metallisk lag, såsom sølv. Til gennemførelse af kimdannelsesprøven afsættes et lag af me-20 taloxidet på en underlagsoverflade. En bestemt vægtmængde sølv pr. arealenhed af underlagsoverfladen afsættes derefter oven på metallegeringsoxidet. Til slut afsættes et andet lag af metallegeringsoxid over sølvlaget. Den første effekt, der skal vurderes, er nedsættelsen af transmissionen, 25 når sølvet afsættes. Jo mindre nedsættelsen af transmissionen er, jo lavere er absorptionen og jo bedre er kimdannelsen.
Den anden effekt er overflademodstanden af flerlagsovertrækket. Jo lavere modstanden er, jo bedre er kimdannelsen. Den tredie effekt er den sluttelige transmission af flerlags-3 0 overtrækket. Jo højere transmissionen er, jo bedre er kimdannelsen.
En særlig foretrukket zink/tinlegering omfatter zink og tin i andele på 10-90% zink og 90-10% tin. En foretrukken zink/tin-legering har 30-60% zink, fortrinsvis med et zink/-35 tin-forhold fra 40:60 til 60:40. Et særlig foretrukket område er et vægtforhold mellem tin og zink på 46:54 til 50:50. En 7 DK 169758 B1 katode af zink/tin-legering, der katodeforstøves reaktivt i en oxiderende atmosfære, medfører afsætning af et metaloxidlag indeholdende zink, tin og oxygen og fortrinsvis indeholdende zinkstannat, Ζη23η04.
5 Ved en konventionel magnetron-katodeforstøvnings- proces anbringes et underlag i et overtrækningskammer, således at det vender mod en katode, der har en mål-overflade af materialet, der skal katodeforstøves. Foretrukne underlag ifølge, den foreliggende opfindelse omfatter glas.
10 Keramiske materialer og plastmaterialer, der ikke påvirkes skadeligt af driftsbetingelserne ved overtræknings-processen, foretrækkes også.
Katoden kan have en hvilken som helst konventionel udformning, fortrinsvis en aflang rektangulær udform-15 ning, forbundet med en elektrisk spændingskilde, og fortrinsvis anvendt i kombination med et magnetisk felt til forstærkning af forstøvningsprocessen. Mindst én katode-må lo ver flade omfatter en metallegering af zink og tin, der forstøves i en reaktiv atmosfære til dannelse af zink/-20 tin-legeringsoxidfilmen. Anoden er fortrinsvis en symmetrisk udformet og placeret anordning.
Ved fremgangsmåden ifølge den foreliggende opfindelse afsættes en flerlagsfilm ved katodeforstøvning til dannelse af et overtræk med høj transmission og lav emissivitet.
25 Foruden zink/tin-legerings-målet omfatter mindst én anden katode-måloverflade et metal, der skal katodeforstøves til dannelse af et reflekterende metallisk lag. Et flerlagsovertræk med sølv som eksempel på et reflekterende metallisk lag i kombination med anti-reflekterende zink/tin-legerings-30 oxidlag fremstilles på følgende måde.
Et rent glasunderlag anbringes i et overtræknings- -4 kammer, som evakueres, fortrinsvis til mindre end 10 mm _5
Hg, især mindre end 2 x 10 mm Hg. En udvalgt atmosfære af indifferente og reaktive gasser, fortrinsvis argon og 35 oxygen, etableres i kammeret med et tryk på mellem ca.
-4 -2 5 x 10 og 10 mm Hg. En katode med en måloverflade af zink/tin-metallegering sættes i drift over overfladen af 8 DK 169758 B1 underlaget, der skal overtrækkes. Mål-metallet katodefor-støves og reagerer med atmosfæren i kammeret til afsætning af et lag af zink/tin-legeringsoxid på glasoverfladen. Efter afsætningen af det første lag af zink/tin-5 -legeringsoxid evakueres overtrækningskammeret, og der etableres en indifferent atmosfære, såsom rent argon, med -4 -2 et tryk på mellem ca. 5 x 10 og 10 mm Hg. En katode med en måloverflade af sølvmetal sættes i drift over den zink/tin-legeringsoxidovertrukne overflade. Mål-metallet 10 katodeforstøves og afsættes som et reflekterende, ledende metallisk lag på den zink/tin-legeringsoxidovertrukne glasoverflade. Et andet lag af zink/tin-legeringsoxid afsættes på sølvlaget under i det væsentlige de samme betingelser som anvendt til afsætning af det første zink/-15 tin-legeringsoxidlag.
Ifølge en udførelsesform for den foreliggende opfindelse tilvejebringes endvidere en forbedret holdbarhed af den omhandlede flerlagsfilm ved hjælp af et grunderingslag, der forbedrer vedhæftningen mellem metal- og zink/tin-oxid-2 0 lagene.
Således omfatter fortrinsvis mindst én yderligere katode-måloverflade et metal, der skal afsættes som grunderingslag. Et holdbart flerlagsovertræk med en reflekterende metallisk film i kombination med en anti-reflekterende zink/-25 tin-legeringsoxidfilm fremstilles på følgende måde, idet der anvendes grunderings lag til forbedring af vedhæftningen mellem metal- og zink/tin-oxidfilmene.
Et rent glasunderlag anbringes i et overtræknings- -4 kammer, som evakueres, fortrinsvis til mindre end 10 mm —5 30 Hg, især mindre end 2 x 10 mm Hg. En udvalgt atmosfære af indifferente og reaktive gasser, fortrinsvis argon og oxygen, etableres i kammeret til et tryk mellem ca.
—4 -2 5 x 10 og 10 mm Hg. En katode med en måloverflade af zink/tin-metallegering sættes i drift over overfladen af 35 underlaget, der skal overtrækkes. Mål-metallet katodeforstøves og réagerer med atmosfæren i kammeret til afsætning af et zink/tin-legeringsmetaloxid-overtrækslag på glasoverfladen.
9 DK 169758 B1
Efter afsætningen af det første lag af zink/tin--legeringsoxid evakueres overtrækningskammeret, og der etableres en indifferent atmosfære, såsom rent argon, med et -4 -2 tryk mellem ca. 5 x 10 og 10 mm Hg. En katode med en 5 måloverflade af et metal som kobber katodeforstøves til afsætning af et grunderingslag over zink/tin-legerings-oxidlaget. En katode med en måloverflade af sølv forstøves derefter til afsætning af et reflekterende lag af metallisk sølv over grunderingslaget, som forbedrer vedhæft-10 ningen af sølvfilmen til den underliggende metaloxidfilm.
Et yderligere grunderingslag afsættes derefter ved forstøvning af et metal som kobber over det reflekterende sølvlag til forbedring af vedhæftningen mellem sølvfilmen og den overliggende metaloxidfilm, som derefter afsættes.
15 Til slut afsættes et andet lag af zink/tin-legeringsoxid over det andet grunderingslag under i det væsentlige de samme betingelser som anvendt til afsætning af det første zink/tin-legeringsoxidlag.
Ved de mest foretrukne udførelsesformer for den 20 foreliggende opfindelse afsættes et beskyttelsesovertræk over den sidste metaloxidfilm. Beskyttelsesovertrækket afsættes fortrinsvis ved forstøvning af et metallag over metaloxidfilmen. Foretrukne metaller til beskyttelsesovertrækket omfatter legeringer af jern eller nikkel, såsom rustfrit 25 stål eller inconel. Titan er særlig foretrukket som beskyttelsesovertræk på grund af dets høje transmission.
Den foreliggende opfindelse illustreres ved de følgende specifikke eksempler. I eksemplerne betegnes zink/-tin-legeringsoxidfilmen zinkstannat, selv om filmsammen-30 sætningen ikke netop behøver at være Z^SnO^.
Eksempel 1.
En stationær katode på 12,7 x 43,2 cm omfatter en forstøvningsoverflade af zink/tin-legering bestående af 35 52,4 vægt-% zink og 47,6 vægt-% tin. Et natron-kalkglas-underlag anbringes i overtrækningskammeret, som evakueres til etablering af et tryk på 4 x 10 mm Hg af en atmos- 10 DK 169758 B1 o fære af argon og oxygen i forholdet 50/50. Katoden forstøves i et magnetisk felt med en effekt på 1,7 kW, medens glasset føres forbi forstøvningsoverfladen med en hastighed på 2,8 m/min. En film af zinkstannat afsættes på glas-5 overfladen. Tre passager giver en filmtykkelse på ca. 340 Å, hvilket medfører en nedsættelse af transmissionen fra 90% for glasunderlaget til 81% for det zinkstannatovertrukne glasunderlag.
10 Eksempel 2.
En flerlagsfilm afsættes på et natron-kalkglas-underlag til fremstilling af et produkt med høj transmission og lav emissivitet. Først afsættes et zinkstan-natlag som i eksempel 1. Derefter afsættes et lag af sølv 15 over zinkstannatet ved forstøvning af et sølvkatode-mål —3 i en atmosfære af argongas ved et tryk på 4 x 10 mm Hg.
Idet- underlaget passerer forbi sølvkatode-målet med samme hastighed som i eksempel 1, gennemføres der to passa- 2 ger til afsætning af ll^ug sølv pr. cm svarende til en 20 filmtykkelse på ca. 90 Å, hvilket nedsætter transmissionen af det overtrukne underlag fra 81% med den første zink-stannatfilm til 72%. Sølvet overtrækkes fortrinsvis med et lag af zink/tin-legering til forbedring af vedhæftningen og beskyttelse af sølvlaget før afsætningen af det sidste 25 anti-reflekterende lag af zinkstannat. Da metallegeringen nedsætter transmissionen yderligere, er dens tykkelse fortrinsvis minimal. Metallaget afsættes ved forstøvning af zink/tin-legeringsmålet med minimalt effektforbrug i ar-gon ved et tryk på 4 x 10 mm Hg. Prøvens transmission 30 nedsættes til 60% efter en enkelt passage. Til slut forstøves zink/tin-legerings-katodemålet i en oxiderende atmosfære som i eksempel 1 til dannelse af en zinkstannat-film. Fire passager med en hastighed på 2,8 m/min. giver en filmtykkelse på ca. 430 Å, hvilket forøger transmissi-
OC
onen af det overtrukne produkt fra 60 til 87%. Det færdige overtrukne produkt har en specifik overflademodstand 11 DK 169758 B1 o på 10 ohm pr. kvadrat og har en let blålig refleksion fra begge sider, idet lysrefleksionen er 5% fra den overtruk-ne side og 6% fra den ikke-overtrukne side.
5 Eksempel 3.
En flerlagsfilm afsættes på et natron-kalkglasunderlag til dannelse af et produkt med høj transmission og lav emissivitet. En stationær katode på 12,7 x 43,2 cm omfatter en forstøvningsoverflade af en zink/tin-legering 10 bestående af 52,4 vægt-% zink og 47,6 vægt-% tin. Et na-tron-kalkglasunderlag anbringes i overtrækningskammeret, _3 som evakueres til etablering af et tryk på 4 x 10 mm Hg i en atmosfære af argon og oxygen i forholdet 50/50.
Katoden forstøves i et magnetisk felt med en effekt på 15 1,7 kW, medens glasset føres forbi forstøvningsoverfla den med en hastighed på 2,8 m/min. En film af zinkstan-nat afsættes på giasoverfladen. Tre passager giver en filmtykkelse på ca. 340 Å, hvilket medfører en nedsættelse af transmissionen fra 90% for glasunderlaget til 83% for det 20 zinkstannatovertrukne glasunderlag. En stationær katode med et kobber-mål forstøves derefter til dannelse af et kobbergrunderingslag over zinkstannatet, hvorved transmissionen nedsættes til ca. 80,6%. Dernæst afsættes et lag af sølv over kobbergrunderingslaget ved forstøvning af 25 et sølvkatodemål i en atmosfære af argongas med et tryk _3 på 4 x 10 mm Hg. Idet underlaget passerer under sølvka- todemålet med den samme hastighed, er det nødvendigt med 2 to passager for at afsætte ll^ug sølv pr. cm , svarende til en filmtykkelse på ca. 90 Å, hvilket nedsætter transmissio-30 nen af det overtrukne underlag til ca. 70,3%. Et andet kobbergrunderingslag forstøves over sølvlaget til forbedring af vedhæftningen og beskyttelse af sølvlaget, før det sluttelige anti-reflekterende lag af zinkstannat afsættes. Da kobbergrunderingslagene nedsætter transmissionen, er deres 35 tykkelser fortrinsvis minimale. Kobbergrunderingslagene afsættes ved forstøvning af et kobbermål ved minimal ef- _3 12 DK 169758 B1
O
fekt i argon ved et tryk på 4 x 10 mm Hg. Transmissionen af prøven nedsættes til 68,3% efter afsætningen af det andet kobbergrunderingslag. Til slut forstøves zink/tin-le-geringskatodemålet i en oxiderende atmosfære til dannel-5 se af en zinkstannatfilm. Fire passager med en hastighed på 2,8 m/min. giver en filmtykkelse på ca. 430 Å, og transmissionen af det overtrukne produkt forøges fra 68,3 til 83,2%. Det færdige overtrukne produkt har en overflademodstand på 10 ohm pr. kvadrat og udviser en let 10 blålig refleksion fra begge sider, idet lysrefleksionen er 5% fra den overtrukne side og 6% fra den ikke-overtrukne side.
Den forbedrede holdbarhed af den overtrukne artikel, der hidrører fra den forbedrede vedhæftning mellem 15 metal- og metaloxidfilmene som et resultat af tilstedeværelsen af grunderingslagene ifølge opfindelsen demonstreres let ved et simpelt slidforsøg, der består i at aftørre den overtrukne overflade med en fugtig klud. Hos en overflade, der er overtrukket med zinkstannat/sølv/zinkstannat uden 20 grunderingslag ifølge opfindelsen, stiger refleksionen fra ca. 6% til ca. 18% efter flere passager af den fugtige klud, hvilket er et tegn på fjernelse af både det øverste zinkstannat og den underliggende sølvfilm. I modsætning hertil giver langvarig gnidning med en fugtig klud 25 ingen synlig ændring af en zinkstannat/kobber/sølv/kobber/-zinkstannat-overtrukket artikel, der omfatter grunderingslag ifølge den foreliggende opfindelse.
De ovenfor anførte eksempler tjener til illustrering af den foreliggende opfindelse. Forskellige modifi-30 kationer af produktet og processen er omfattet af opfindelsen. For eksempel ligger andre overtrækssammensætninger inden for opfindelsens rammer. Afhængigt af andelene af zink og tin ved forstøvning af en zink/tin-legering kan overtrækket indeholde vidt varierende mængder af zinkoxid og tin-35 oxid ud over zinkstannatet. Da processen ikke kræver sær- 13 DK 169758 B1
O
lig høje temperaturer, kan andre underlag end glas, såsom forskellige plastmaterialer, overtrækkes. Procesparametre som tryk og koncentration af gasser kan. varieres inden for et stort område. Vedhæftningen mellem et stort udvalg af 5 metal- og metaloxidfilm kan forbedres ved hjælp af grunderingslag ifølge opfindelsen. Grunderingslag kan omfatte andre metaller, såsom indium, eller oxider, såsom kobberoxid eller indiumoxid.
10 15 20 25 30 35
Claims (8)
1. Artikel med høj transmission og lav emissivitet, og omfattende: 5 a) et transparent ikke-metallisk underlag, b) en første transparent film omfattende et oxid-reaktions-produkt af en metallegering afsat på en overflade af underlaget , c) en transparent metallisk film afsat på den første metal-10 legeringsoxidfilm, d) en anden transparent film omfattende et oxidreaktions-produkt af en metallegering afsat på den metalliske film, kendetegnet ved, at den første og anden transparente metallgeringsoxid-film er et oxid-reakt ionsprodukt af 15 en legering af zink og tin.
2. Artikel ifølge krav 1, kendetegnet ved, at underlaget er glas.
3. Artikel ifølge krav l, kendetegnet ved, at en transparent film af metallegering er afsat mellem 20 den transparente metalliske film (c) og den anden transparente film (d) omfattende et oxidreaktionsprodukt af en metallegering.
4. Artikel ifølge krav 1, kendetegnet ved, at den omfatter: 25 et første transparent grunderingslag afsat mellem den første metaloxidfilm (b), og den transparente reflekterende metalliske film (c), og et andet transparent grunderings lag afsat mellem den reflekterende metalliske film (c) , og den anden transparente film omfattende et oxid-reaktionsprodukt af en 30 metallegering (d).
5. Fremgangsmåde til fremstilling af et flerlags-overtrukket produkt med høj transmission og lav emissivitet, hvilken fremgangsmåde omfatter følgende trin: a) anbringelse af et transparent ikke-metallisk underlag i 35 et katodeforstøvningskammer, b) katodeforstøvning af et katodemål omfattende en metal- 15 DK 169758 B1 legering i en reaktiv atmosfære omfattende oxygen til afsætning af en transparent metallegeringsoxidfilm på en overflade af underlaget, c) katodeforstøvning af et sølvkatodemål i en indifferent 5 atmosfære til afsætning af en transparent sølvfilm på metalleger ingsoxidf ilmen, og d) forstøvning af et katodemål omfattende en metallegering i en reaktiv atmosfære omfattende oxygen til afsætning af en metallegeringsoxidfilm på sølvfilmen, kendeteg- 10 net ved, at katodemålet anvendt til afsætning af metal-legeringsoxidfilmene er en legering af zink og tin, og at sølvkatodemålet katodeforstøves i en inert atmosfære.
6. Fremgangsmåde ifølge krav 5, kendetegnet ved, at den endvidere omfatter afsætning af en trans- 15 parent metallegeringsfilm mellem sølvfilmen og den anden metallegeringsoxidfilm.
7. Fremgangsmåde ifølge krav 5, kendetegnet ved, at et metalkatodemål katodeforstøves til afsætning af et grunderingslag på den første metallegeringsoxid- 20 film og et andet grunderings lag på sølvfilmen, og forstøvning af et katodemål omfattende en legering af zink og tin i en reaktiv atmosfære omfattende oxygen til afsætning af en metallegeringsoxidfilm over det andet grunderingslag.
8. Fremgangsmåde ifølge krav 7, kendeteg- 25 net ved, at metalkatodemålet til afsætning af grunderingslagene er af kobber. 30 35
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US66568084 | 1984-10-29 | ||
| US06/665,680 US4610771A (en) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | Sputtered films of metal alloy oxides and method of preparation thereof |
| US68345884A | 1984-12-19 | 1984-12-19 | |
| US68345884 | 1984-12-19 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DK494185D0 DK494185D0 (da) | 1985-10-28 |
| DK494185A DK494185A (da) | 1986-04-30 |
| DK169758B1 true DK169758B1 (da) | 1995-02-20 |
Family
ID=27099265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DK494185A DK169758B1 (da) | 1984-10-29 | 1985-10-28 | Artikel med høj transmission og lav emissivitet samt fremgangsmåde til dens fremstilling |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (2) | EP0183052B1 (da) |
| JP (1) | JPH0662319B2 (da) |
| KR (1) | KR920007499B1 (da) |
| CN (1) | CN1020639C (da) |
| AT (1) | ATE70818T1 (da) |
| AU (1) | AU561315B2 (da) |
| DE (2) | DE3585025D1 (da) |
| DK (1) | DK169758B1 (da) |
| ES (1) | ES8609505A1 (da) |
| FI (1) | FI854214L (da) |
| HK (1) | HK91192A (da) |
| NO (1) | NO172065C (da) |
| NZ (1) | NZ213849A (da) |
Families Citing this family (54)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4716086A (en) * | 1984-12-19 | 1987-12-29 | Ppg Industries, Inc. | Protective overcoat for low emissivity coated article |
| JPS63110507A (ja) * | 1986-10-27 | 1988-05-16 | 日本板硝子株式会社 | 透明導電体 |
| CA1331867C (en) * | 1986-12-29 | 1994-09-06 | James Joseph Finley | Low emissivity film for high temperature processing |
| US4769291A (en) * | 1987-02-02 | 1988-09-06 | The Boc Group, Inc. | Transparent coatings by reactive sputtering |
| US4847158A (en) * | 1987-05-15 | 1989-07-11 | Ppg Industries, Inc. | Low reflectance bronze coating |
| US4961994A (en) * | 1987-12-16 | 1990-10-09 | General Electric Company | Protective coated composite material |
| US4898789A (en) * | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
| US5902505A (en) * | 1988-04-04 | 1999-05-11 | Ppg Industries, Inc. | Heat load reduction windshield |
| US5112693A (en) * | 1988-10-03 | 1992-05-12 | Ppg Industries, Inc. | Low reflectance, highly saturated colored coating for monolithic glazing |
| GB8900166D0 (en) * | 1989-01-05 | 1989-03-01 | Glaverbel | Glass coating |
| GB8900165D0 (en) * | 1989-01-05 | 1989-03-01 | Glaverbel | Glass coating |
| US5419969A (en) * | 1990-07-05 | 1995-05-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| SG47839A1 (en) * | 1990-07-05 | 1998-04-17 | Asahi Glass Co Ltd | A low emissivity film |
| US5532062A (en) * | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| US5183700A (en) * | 1990-08-10 | 1993-02-02 | Viratec Thin Films, Inc. | Solar control properties in low emissivity coatings |
| JPH05502310A (ja) * | 1990-08-30 | 1993-04-22 | バイラテック・シン・フィルムズ・インコーポレイテッド | 酸化ニオブを含むｄｃ反応性スパッタリングされた光学被覆 |
| US5296302A (en) * | 1992-03-27 | 1994-03-22 | Cardinal Ig Company | Abrasion-resistant overcoat for coated substrates |
| DE4409934A1 (de) * | 1994-03-23 | 1995-09-28 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten einer Glasscheibe mit wenigstens einer Schicht aus Zinndioxid durch reaktive Katodenzerstäubung |
| US5579162A (en) | 1994-10-31 | 1996-11-26 | Viratec Thin Films, Inc. | Antireflection coating for a temperature sensitive substrate |
| DE19520843A1 (de) * | 1995-06-08 | 1996-12-12 | Leybold Ag | Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung |
| EP0748768A1 (en) * | 1995-06-13 | 1996-12-18 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Hydrated zinc stannate sols, coating compositions and optical elements |
| US6001164A (en) * | 1995-06-13 | 1999-12-14 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Hydrated zinc stannate sols, coating compositions and optical elements |
| US5942338A (en) * | 1996-04-25 | 1999-08-24 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated articles |
| US5821001A (en) | 1996-04-25 | 1998-10-13 | Ppg Industries, Inc. | Coated articles |
| US6231999B1 (en) * | 1996-06-21 | 2001-05-15 | Cardinal Ig Company | Heat temperable transparent coated glass article |
| US6899953B1 (en) * | 1998-05-08 | 2005-05-31 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Shippable heat-treatable sputter coated article and zinc cathode sputtering target containing low amounts of tin |
| DE19848751C1 (de) | 1998-10-22 | 1999-12-16 | Ver Glaswerke Gmbh | Schichtsystem für transparente Substrate |
| CN1067661C (zh) * | 1998-12-31 | 2001-06-27 | 冶金工业部钢铁研究总院 | 一种制备氧化镍电致变色薄膜的方法 |
| US6919133B2 (en) | 2002-03-01 | 2005-07-19 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
| US7588829B2 (en) * | 2002-05-31 | 2009-09-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Article having an aesthetic coating |
| JP4240933B2 (ja) * | 2002-07-18 | 2009-03-18 | キヤノン株式会社 | 積層体形成方法 |
| FR2856627B1 (fr) | 2003-06-26 | 2006-08-11 | Saint Gobain | Substrat transparent muni d'un revetement avec proprietes de resistance mecanique |
| JP4961786B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2012-06-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明導電膜、およびこれを用いた透明導電性フィルム |
| DE102009006832A1 (de) | 2009-01-30 | 2010-08-05 | Bayerisches Zentrum für Angewandte Energieforschung e.V. | Flüssige oder halbfeste Formulierung spektralselektiver Partikel zur Beschichtung flexibler Körper sowie Verwendung dieser |
| US8143515B2 (en) * | 2009-12-15 | 2012-03-27 | Primestar Solar, Inc. | Cadmium telluride thin film photovoltaic devices and methods of manufacturing the same |
| US8241938B2 (en) * | 2010-07-02 | 2012-08-14 | Primestar Solar, Inc. | Methods of forming a conductive transparent oxide film layer for use in a cadmium telluride based thin film photovoltaic device |
| FR2968091B1 (fr) * | 2010-11-26 | 2013-03-22 | Saint Gobain | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
| CN102732825A (zh) * | 2011-04-06 | 2012-10-17 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件 |
| DE102012200799A1 (de) * | 2011-09-26 | 2013-03-28 | Interpane Entwicklungs-Und Beratungsgesellschaft Mbh | Brandschutzelement mit Schutzbeschichtung und dessen Herstellungsverfahren |
| JP6174330B2 (ja) * | 2012-05-17 | 2017-08-02 | 日産自動車株式会社 | 透明誘電体膜、熱反射構造体およびその製造方法、ならびにこれを用いた合わせガラス |
| CN103625042B (zh) * | 2012-08-21 | 2017-04-12 | 信义玻璃工程（东莞）有限公司 | 镀膜玻璃及其制备方法 |
| EP2928838A1 (de) * | 2012-12-06 | 2015-10-14 | Saint-Gobain Glass France | Glasscheibe mit mindestens einer schutzschicht, die zinn-zinkoxid enthält |
| CN103057209B (zh) * | 2012-12-18 | 2015-09-23 | 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司 | 高隔热节能防爆膜 |
| JP6000991B2 (ja) | 2013-01-31 | 2016-10-05 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
| DE102013004689A1 (de) | 2013-03-19 | 2014-09-25 | Remmers Baustofftechnik Gmbh | Niedrigemittierende Innenwandbeschichtung |
| JP5859476B2 (ja) | 2013-04-11 | 2016-02-10 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
| DE102013104702B4 (de) * | 2013-05-07 | 2014-12-11 | Schott Ag | Beschichtete Glaskeramikplatte |
| CN103613287A (zh) * | 2013-11-14 | 2014-03-05 | 中山市创科科研技术服务有限公司 | 一种可钢异地加工低辐射薄膜的制备方法 |
| JP6423198B2 (ja) * | 2014-08-05 | 2018-11-14 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
| JP6472130B2 (ja) * | 2014-11-07 | 2019-02-20 | Ａｇｃ株式会社 | 積層膜付き基板 |
| JP6163196B2 (ja) * | 2015-12-16 | 2017-07-12 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
| CN107164729B (zh) * | 2017-04-01 | 2020-03-31 | 河南城建学院 | 一种TiO2构成的多层减反射自清洁薄膜及其制备方法 |
| WO2018220411A1 (en) | 2017-05-31 | 2018-12-06 | Arcelormittal | A coated metallic substrate and fabrication method |
| CN112951930B (zh) * | 2021-01-29 | 2022-11-04 | 山东省科学院能源研究所 | 二氧化钛/银/二氧化钛透明导电膜及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4166018A (en) * | 1974-01-31 | 1979-08-28 | Airco, Inc. | Sputtering process and apparatus |
| JPS5115014A (en) * | 1974-07-23 | 1976-02-06 | Toray Industries | Boshihikitorihoho |
| US4349425A (en) * | 1977-09-09 | 1982-09-14 | Hitachi, Ltd. | Transparent conductive films and methods of producing same |
| US4113599A (en) * | 1977-09-26 | 1978-09-12 | Ppg Industries, Inc. | Sputtering technique for the deposition of indium oxide |
| DE2830723A1 (de) * | 1978-07-13 | 1980-02-14 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Verfahren zur herstellung von infrarotreflektierenden scheiben durch katodenzerstaeubung |
| US4201649A (en) * | 1978-11-29 | 1980-05-06 | Ppg Industries, Inc. | Low resistance indium oxide coatings |
| JPS56126152A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-02 | Teijin Ltd | Laminate |
| JPS571754A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-06 | Teijin Ltd | Laminate |
| EP0035906B2 (en) * | 1980-03-10 | 1989-11-08 | Teijin Limited | Selectively light-transmitting laminated structure |
| JPS57130303A (en) * | 1981-02-03 | 1982-08-12 | Sharp Kk | Method of producing transparent conductive film |
| DE3138998A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen | Verfahren zur herstellung von duennen metalloxidschichten |
| US4421622A (en) * | 1982-09-20 | 1983-12-20 | Advanced Coating Technology, Inc. | Method of making sputtered coatings |
| NO157212C (no) * | 1982-09-21 | 1988-02-10 | Pilkington Brothers Plc | Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne. |
| ZA842139B (en) * | 1983-03-25 | 1984-10-31 | Flachglas Ag | Process for coating a transparent substrate |
| DE3316548C2 (de) * | 1983-03-25 | 1985-01-17 | Flachglas AG, 8510 Fürth | Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates |
-
1985
- 1985-10-08 AU AU48390/85A patent/AU561315B2/en not_active Ceased
- 1985-10-16 NZ NZ213849A patent/NZ213849A/xx unknown
- 1985-10-24 DE DE8585113488T patent/DE3585025D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-10-24 DE DE8989113298T patent/DE3587078T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-10-24 EP EP85113488A patent/EP0183052B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-10-24 AT AT85113488T patent/ATE70818T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-10-24 EP EP89113298A patent/EP0343695B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-10-25 NO NO854274A patent/NO172065C/no not_active IP Right Cessation
- 1985-10-28 KR KR1019850007965A patent/KR920007499B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1985-10-28 JP JP60241231A patent/JPH0662319B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1985-10-28 CN CN85109342A patent/CN1020639C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1985-10-28 ES ES548274A patent/ES8609505A1/es not_active Expired
- 1985-10-28 DK DK494185A patent/DK169758B1/da not_active IP Right Cessation
- 1985-10-28 FI FI854214A patent/FI854214L/fi not_active Application Discontinuation
-
1992
- 1992-11-19 HK HK911/92A patent/HK91192A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK494185A (da) | 1986-04-30 |
| ES8609505A1 (es) | 1986-07-16 |
| AU4839085A (en) | 1986-06-12 |
| CN85109342A (zh) | 1986-10-08 |
| CN1020639C (zh) | 1993-05-12 |
| KR860005049A (ko) | 1986-07-16 |
| NZ213849A (en) | 1990-03-27 |
| EP0183052B1 (en) | 1991-12-27 |
| FI854214A0 (fi) | 1985-10-28 |
| NO172065C (no) | 1993-06-02 |
| NO172065B (no) | 1993-02-22 |
| HK91192A (en) | 1992-11-27 |
| KR920007499B1 (ko) | 1992-09-04 |
| ATE70818T1 (de) | 1992-01-15 |
| FI854214L (fi) | 1986-04-30 |
| EP0183052A3 (en) | 1987-05-27 |
| DE3585025D1 (de) | 1992-02-06 |
| EP0343695A1 (en) | 1989-11-29 |
| DE3587078T2 (de) | 1993-07-15 |
| AU561315B2 (en) | 1987-05-07 |
| ES548274A0 (es) | 1986-07-16 |
| DE3587078D1 (de) | 1993-03-18 |
| EP0183052A2 (en) | 1986-06-04 |
| DK494185D0 (da) | 1985-10-28 |
| NO854274L (no) | 1986-04-30 |
| JPH0662319B2 (ja) | 1994-08-17 |
| JPS61111940A (ja) | 1986-05-30 |
| EP0343695B1 (en) | 1993-02-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DK169758B1 (da) | Artikel med høj transmission og lav emissivitet samt fremgangsmåde til dens fremstilling | |
| DK171096B1 (da) | Artikel med visuelt neutral refleksion, høj transmission og lav emission samt fremgangsmåde til fremstilling heraf | |
| DK166536B1 (da) | Produkt med hoej transmittans og lav emissivitet | |
| US4610771A (en) | Sputtered films of metal alloy oxides and method of preparation thereof | |
| US4786563A (en) | Protective coating for low emissivity coated articles | |
| US4948677A (en) | High transmittance, low emissivity article and method of preparation | |
| US4902580A (en) | Neutral reflecting coated articles with sputtered multilayer films of metal oxides | |
| US4806220A (en) | Method of making low emissivity film for high temperature processing | |
| CA1331867C (en) | Low emissivity film for high temperature processing | |
| US5059295A (en) | Method of making low emissivity window | |
| KR920005471B1 (ko) | 고온처리용 저복사성 필름 | |
| US4806221A (en) | Sputtered films of bismuth/tin oxide | |
| US5178966A (en) | Composite with sputtered films of bismuth/tin oxide |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| B1 | Patent granted (law 1993) | ||
| PBP | Patent lapsed |
Country of ref document: DK |