KR920007499B1 - 투과도가 높고 복사율이 낮은 물품 및 그 제조방법 - Google Patents

투과도가 높고 복사율이 낮은 물품 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

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Description

투과도가 높고 복사율이 낮은 물품 및 그 제조방법
본 발명은 일반적으로 금속 산화물 필름의 음극 스펏터링(cathode sputtering)기술에 관한 것이며, 더욱 구체적으로는 금속 및 금속 산화물의 다츨 필름의 자기(magnetic)스펏터링 기술에 관한 것이다.
길러리등의 미합중국 특허 제4,094,763호는 조절된 양의 산소를 함유한 저압 분위기내에서 400℉ 이상의 온도에서 유리같은 내화 지지체상에 주석 및 인듐 같은 금속을 음극 스펏터링 처리하므로써 투명하고 전기전도성인 물품을 생산해 내는 것에 대해서 밝히고 있다.
길러리의 미합중국 특허 제4,113,599호는, 스펏터링 실내에서 아르곤의 유동속도를 조정하여 일정한 압력을 유지하는 반면에 산소의 유동속도를 조절하여 일정한 방전류를 유지하는, 인듐 산화물의 반응성 용착을 위한 음극 스펏터링 기술을 기술하고 있다.
차핀의 미합중국 특허 제4,166,018호는 자기장이 평면 스펏터링 표면 부근에 형성되고, 자기장은 스펏터링 표면의 폐쇄 루우프 침식 구역에 걸쳐서 궁형 속선(궁형弓形束線)으로 구성되는 스펏터링 장치에 대해서 기술하고 있다.
길러리의 미합중국 특허 제4,201,649호는 먼저 저온에서 매우 얇은 인듐산화물의 프라이머층을 용착시키고, 그 다음에 지지체를 가열하여 전형적으로 높은 음극 스펏터링 온도에서의 음극 스펏터링에 의해 대부분의 두께의 전도성 인듐 산화물층을 용착시키는, 저항성이 낮은 얇은 인듐 산화물 필름을 제조하는 방법에 대해서 기술하고 있다.
그로스의 미합중국 특허 제4,327,967호는, 유리 페인(pane), 유리표면에 2이상의 굴절률을 갖는 간섭필름, 간섭필름위의 열반사 금필름, 금 필름위의 크롬, 철, 니켈, 티탄 또는 그들의 합금들의 중화필름으로 구성되는, 무채색 외관을 가지는 열반사 패널(panel)에 대해서 기술하고 있다.
미야케등의 미합중국 특허 제4,349,425호는 아르곤-산소 혼합물내에서 카드뮴-주석합금의 디이-시이(d-c)반응성 스펏터링을 하여 저 저항률 및 그 광투명도를 가지는 카드뮴-주석산화물 필름을 형성하는 것에 대해서 기술하고 있다.
하트의 미합중국 특허 제4,462,883호는 은층과, 은 이외의 소량의 금속과, 금속 산화물의 반사 방지층을 유리같은 투명한 지지체상에 음극 스펏터링하므로써 생산된 복사율이 낮은 코우팅에 대해서 기술하고 있다. 반사 방지층은 주석 산화물, 티탄 산화물, 아연 산화물, 인듐 산화물, 비스무트산화물 또는 지르코늄 산화물일 수 있다.
마우에르의 재발행 제27,473호는 다양한 금속, 티탄 산화물, 납 산화물 또는 비스무트 산화물 같은 투명한 재료로 된 2개의 층 사이에 삽입된 금 또는 구리의 얇은 층으로 구성되는 다층의 투명한 물품에 대해서 기술하고 있다.
이중으로 판유리가 끼워진 윈도우 유닛(window units)의 에너지 효율을 개선하기 위하여, 복사 열전달을 감소시켜서 유닛의 절연능력을 증가시킨 하나의 유리표면상에 코우팅을 제공하는 것이 바람직하다. 그러므로 코우팅은 복사 스펙트럼의 적외선 파장범위에서 복사율이 낮아야만 한다. 실제적인 이유로해서, 코우팅은 가시파장범위에서 투과도가 높아야 한다. 미학적인 이유로해서, 코우팅은 시감(視感)반사율(luminous reflectance)이 낮아야 하며, 바람직하게는 본질적으로 무색이어야 한다.
전술한 바와 같은 투과도가 높고 복사율이 낮은 코우팅은 일반적으로 적외선 반사율 및 저 복사율을 목적으로 금속 산화물의 유전체 층사이에 삽입되어 가시 반사율을 감소시키는 얇은 금속층으로 구성된다. 이러한 다층 필름은 전형적으로 음극 스펏터링, 특히 자기 스펏터링에 의해 생산된다. 금속층은 금 또는 구리일 수 있으나, 일반적으로 은이다. 선행기술에서 기술된 금속 산화물층에는 주석 산화물, 인듐 산화물, 티탄 산화물, 비스무트 산화물, 아연 산화물, 지르코늄 산화물 및 납 산화물이 포함된다. 몇몇 경우에 있어서, 이러한 산화물들은, 비스무트 산화물내에 망간, 주석 산화물내에 인듐 및 인듐 산화물내의 주석과 같이 소량의 다른 금속들을 포함하여 내구성 불량 또는 한계 복사율 같은 단점들을 극복한다. 그러나 이들 금속 산화물 모두는 몇가지 결함이 있다.
코우팅이 그것의 열화를 초래하는 환경 작용물 및 요소로부터 보호되는 곳에서 사용시에 이중으로 판유리가 끼워진 윈도우 유닛의 내부표면상에 유지될 수 있다 하더라도, 제조 및 설치사이에서 생기는 취급, 포장, 세척 및 기타 제조과정을 잘 견뎌낼 수 있는 내구성 효과가 있는 코우팅이 특히 바람직하다. 이들 성질들은 금속 산화물에서 볼 수 있다. 그러나 기계적 내구성을 제공하는 경도와, 화학적 내구성을 제공하는 불활성(inertness), 그리고 유리 및 금속층에 대한 양호한 밀착성 외에도 또한 금속 산화물은 하기 성질들을 가져야 한다.
금속 산화물은 상당히 높은 굴절률, 바람직하게는 2.0이상의 굴절률을 가져서 금속층의 반사율을 감소시키고 피복된 제품의 투과도를 향상시켜야 한다. 또한 금속 산화물은 피복된 제품의 투과도를 최대화하기 위해서 흡수를 최소로 하여야 한다. 상업적인 이유로해서, 금속 산화물은 합리적으로 값이 매겨져야 하며, 마그네트론(magnetron) 스펏터링에 의해 비교적 빠른 용착속도를 가져야 하며, 무독성이어야 한다.
아마도 금속 산화물 필름의 필수조건으로서 가장 중요하고 만족시키기에 가장 어려운 것은 금속 필름과의 상호작용에 관한 것이다. 금속 산화물 필름은, 외부 작용물(agents)로부터 밑에 깔린 금속필름을 보호하기 위하여 가공율이 작아야 하며, 분리층(separate layers)의 본래의 모습을 보전하기 위하여 금속의 확산도가 낮아야 한다. 마지막으로 그리고 특히 금속 산화물은 금속층이 용착하기에 양호한 핵생성 표면을 제공하여야 하며, 이는 연속적은 금속필름이 최소의 저항 및 최대의 투과도를 가지며 용착될 수 있게 하기 위해서이다. 연속 및 불연속은 필름의 특성은 본 명세서에서 참조하기 위해 기술한 길러리의 미합중국 특허 제4,462,884호에 기술되어 있다.
일반적으로 사용되는 금속 산화물 필름중에서 아연 산화물 및 비스무트 산화물은 내구성이 불충분한데, 산 및 알칼리처리제내에 가용성이며, 지분에 의해 성질이 약화되고, 염, 이산화 황 및 습도시험시에 파괴된다. 바람직하게는 주석이 도우핑된 인듐 산화물이 내구성이 더 좋지만, 그러나 인듐은 느리게 스펏터(sputter)되며, 비교적 비싸다. 인듐 또는 안티몬으로 도우핑될 수 있는 주석 산화물 또한 내구성이 더 좋지만은 필름의 핵생성을 위한 적절한 표면을 제공하지 못해서, 결국 저항이 높고 투과도가 낮아지게 된다. 계속하여 용착된 은필름의 핵생성을 적절하게 하는 금속필름의 특성은 확립되지 않았다. 그러나 전술한 금속 산화물을 사용하여 시행착오 실험이 광범위하게 실시되어 왔다.
본 발명은 투과도가 높고 복사율이 낮은 코우팅으로 사용할 목적으로 금속 및 급속합금 산화물층의 신규한 다층(multiplelayer)필름은 물론 금속합금 산화물의 신규한 필름 조성물을 제공한다. 나아가서 본 발명은 금속 및 금속 산화물층 사이의 밀착성을 개선하는 프라이머층을 이용하여 그러한 다층 코우팅에 개선된 내구성을 제공한다.
금속합금의 산화물로 구성되는 신규한 필름 조성물은 음극 스펏터링, 바람직하게는 마그네트론 스펏터링에 의해서 바람직하게 용착된다. 음극 타겟(targer)은 금속합금 원소를 원하는 비율로 구성하여 제조된다. 그리고 나서 타겟은 바람직하게는 산소를 함유하는 반응성 분위기내에서 스펏터되어 지지체표면에 금속합금 산화물 필름을 용착한다.
본 발명에 따르는 바람직한 금속합금 산화물은 아연 및 주석으로 구성되는 합금의 산화물이다. 아연/주석합금 산화물 필름은 바람직하게는 자기적으로 증강된 음극 스펏터링에 의해 본 발명에 따라서 용착될 수 있다. 또한 음극 스펏터링은 본 발명에 따르는 투과도가 높고 복사율이 낮은 필름을 용착시키는데 바람직한 방법이다. 전형적으로 그러한 필름은 다층, 바람직하게는 인듐 산화물 또는 티탄 산화물 같은 반사 방지 금속 산화물 층사이에 삽입된 금, 은 또는 구리 같은 고 반사성 금속층으로 구성된다. 본 발명에 따라서, 반사방지 금속 산화물층은 바람직하게는 아연 및 주석합금의 산화물로 구성되면, 주석산 아연(zine stannate)으로 구성되는 것이 바람직하다. 금속합금 산화물 필름의 특성은 금속필름층과 협력하여 투과도가 높고 복사율이 낮은 코우팅을 형성하는 금속합금 산화물 필름의 성능에 관해서는 언제나 예측될 수는 없는 반면에, 그것의 내구성과, 더욱 중요하게는, 은 필름의 핵생성에 관한 효율성을 결정하기 위하여 다양한 시험이 실시될 수 있다.
내구성을 측정하기 위한 시험으로, 장기적 안정성의 표시로서 코우팅의 색, 반사율 및 투과도의 변화를 측정하는 열시험, 자외선, 습도 및 염(지문 또는 해안환경)과 같은 환경조건의 효과를 측정하는 노출시험 및 가속 내후도; 산성 대기오염에 의해 손상되는 코우팅의 감수율(susceptibility)을 측정하는 이산화 황시험, 및 코우팅이 종래의 유리 세척기 및 산성 또는 알칼리 청정제에 의해 손상되는지의 여부를 결정하는 시험이 있다.
더욱 중요한 것으로서 핵생성 시험을 실행하여 은 같은 금속층의 용착에 대한 금속합금 산화물의 효과를 평가할 수 있다. 핵생성 시험을 실행하기 위해서, 하나의 금속합금 산화물 층을 지지체표면에 용착시킨다. 그리고나서 지지체 표면의 단위면적당 주어진 중량의 은을 은위에 용착시킨다. 마지막으로, 제2의 금속합금 산화물층을 은층위에 용착시킨다. 평가된 제1의 효과는 은이 용착될 때 투과도의 감소이다 : 투과도의 감소가 적을수록, 핵생성은 양호해진다. 제3의 효과는 다층 코우팅의 최종 투과도이다 : 투과도가 높을 수록, 핵생성은 양호해진다.
다양한 금속합금을 스펏터하여 금속합금 산화물 필름을 형성할 수 있는 반면에, 본 발명에 따르는 투과도가 높고 복사율이 낮은 바람직한 다층 필름을 생산하기 위해서, 주석과 아연의 합금이 바람직하다. 특히 바람직한 합금은 아연 및 주석으로 구성되며, 바람직한 비율은 10-90% 아연 및 90-10% 주석이다. 바람직한 아연/주석합금은 30-60% 아연의 범위를 가지며, 바람직하게는 40:60-60:40의 아연/주석비를 갖는다. 가장 바람직한 범위는 주석 대 아연의 중량으로 46:54-50:50이다. 산화분위기내에서 반응적으로 스펏터된 아연/주석합금의 음극은 아연, 주석 및 산소, 바람직하게는 주석산 아연인 Zn2SnO4로 구성되는 금속 산화물층의 용착을 초래한다.
종래의 마그네트론 스펏터링 방법에 있어서, 지지체는 스펏터된 재료의 타겟표면을 가지는 음극과 대향관계로 코우팅 실내에 위치한다. 본 발명에 따르는 바람직한 지지체에는 유리, 세라믹스 및 플라스틱이 포함되며 이들은 코우팅 과정의 조업조건에 의해 유해한 영향을 받지 않는다.
음극은 임의의 종래 디자인 형상이 될 수 있으며, 바람직하게는 기다란 직사각형 디자인 형상이 될 수 있으며, 이 형상은 전기 포텐셜 원과 연결되거나 바람직하게는 자기장과 협력하여 스펏터링과정을 증강시키기 위해 사용될 수 있다. 적어도 하나의 음극 타겟표면은, 반응성 분위기내에서 스펏터되어 금속합금 산화물 필름을 형성하는 아연/주석 같은 금속합금으로 구성된다. 양극은 바람직하게는 대칭적으로 설계되고 위치하는 조립품이며, 이는 길러리등에 의해서 1984년 1월 17일 출원된 미합중국 특허출원 제571,406호에서 공개하고 있다.
본 발명의 바람직한 구체예에 있어서, 다층 필름은 음극 스펏터링에 의해 용착되어 투과도가 높고 복사율이 낮은 코우팅을 형성한다. 금속합금 타겟에 더불어서 적어도 하나의 다른 음극 타겟표면은 스펏터되어 반사 금속층을 형성하는 금속으로 구성된다. 반사방지 금속합금 산화물층과 협력하는 반사금속층을 가지는 다층 코우팅은 하기와 같이 제조된다.
청정한 유리 지지체를 바람직하게는 10-4토르 이하, 더욱 바람직하게는 2×10-5토르 이하의 진공상태로 한 코우팅 실내에 위치시킨다. 불활성 및 반응성 가스, 바람직하게는 아르곤 및 산소의 선택된 분위기를 코우팅 실내에 설정하여 약 5×10-4및 10-2토르 사이의 압력이 되게 한다. 아연/주석금속합금의 타겟표면을 가지는 음극이 피복되는 지지체표면에서 작동된다. 타겟금속을 스펏터하고, 실내의 분위기와 반응시켜 유리표면상에 아연/주석합금 산화물 코우팅층을 용착시킨다.
아연/주석합금 산화물의 초기층이 용착된 후, 코우팅실은 진공상태로 되고, 순소 아르곤 같은 불활성 분위기가 약 5 ×10-4및 10-2토르 사이의 압력으로 설정된다. 은 금속의 타겟표면을 가지는 음극은 아연/주석합금 산화물로 피복된 표면에서 작동된다. 타겟금속은 스펏터되고 반사, 전도성 금속층을 아연/주석합금 산화물로 피복된 유리표면상에 용착한다. 아연/주석합금 산화물의 제2의 층이, 제1의 아연/주석합금 산화물층을 용착하는데 사용된 조건과 본질적으로 동일한 조건하에서 은층에 용착된다.
바람직스럽게, 적어도 하나의 부가적인 음극 타겟표면은 프라이머층으로서 용착되는 금속으로 구성된다. 반사 방지 금속합금 산화물 필름과 협력하여 반사금속필름을 가지는 내구성있는 다층 코우팅은 하기와 같이 제조되며, 프라이머층을 이용하여 금속 및 금속 산화물 필름간의 밀착성을 개선한다.
청정한 유리 지지체를 바람직하게는 10-4토르 이하, 더욱 바람직하게는 2×10-5토르 이하의 진공상태로 한 코우팅 실내에 위치시킨다. 불활성 및 반응성 가스, 바람직하게는 아르곤 및 산소의 선택된 분위기를 코우팅 실내에 설정하여 약 5×10-4및 10-2토르 사이의 압력이 되게 한다. 아연/주석금속합금의 타겟표면을 가지는 음극이 피복되는 지지체 표면에서 작동된다. 타겟금속은 스펏터되고, 실내의 분위기와 반응하여 유리표면상에 아연/주석합금 산화물 코우팅층을 용착한다.
아연/주석합금 산화물의 초기층이 용착된 후, 코우팅실은 진공상태로 되고, 순수 아르곤 같은 불활성 분위기를 설정하여 약 5×10-4및 10-2토르 사이의 압력이 되게 한다. 구리같은 금속의 타겟표면을 가지는 음극이 스펏터되어 아연/주석합금 산화물층에 프라이머층을 용착한다. 그리고나서 은의 타겟표면을 가지는 음극은 스펏터되어, 밑에 깔린 금속 산화물 필름에 대한 은 필름의 밀착성을 개선하는 프라이머층상에 금속 은의 반사층을 용착한다. 그리고나서 부가적인 프라이머층이 반사 은층에 구리 같은 금속을 스펏터링함으로써 용착되어 계속하여 용착된 윗쪽에 있는(overlying) 금속 산화물 필름과 은 필름간의 밀착성을 개선한다. 마지막으로 아연/주석합금 산화물의 제2의 층이, 제1의 아연/주석합금 산화물층을 용착하는데 사용된 조건과 본질적으로 동일 조건하에서, 제2의 프라이머층에 용착된다.
본 발명의 가장 바람직한 구체예에 있어서, 최종 금속 산화물 필름에 보호 오버코트(over coat)를 용착한다. 보호오버코트는, 길러리등에 의해 1983년 9월 9일 출원된 미합중국 특허출원 제530,570호에 기술된 것과 같은 금속층을 금속 산화물 필름에 스펏터링하므로써 바람직하게 용착된다. 바람직한 오버코트용 금속에는 스테인레스 강 또는 인코넬 같은 니켈 또는 철 합금이 포함된다. 티탄은 투과도가 높기 때문에 가장 바람직한 오버코트이다.
본 발명은 하기하는 특정한 실시예 내용으로부터 더욱 이해될 것이다. 실시예에 있어서, 아연/주석합금 산화물 필름은, 필름조성물에 정확히 Zn2SnO4를 필요로 하는 것은 아니지만, 주석산 아연으로 언급되었다.
[실시예 1]
5×17인치(12.7×43.2센티미터)로 측정된 정지음극은 52.4중량% 아연 및 47.6% 주석으로 구성되는 아연/주석합금의 스펏터링 표면으로 구성된다. 소오다-석회-실리카 유리 지지체를 50/50 아르곤/산소 분위기로 4밀리토르(millitorr)의 압력의 진공으로 된 코우팅 실내에 위치시켰다. 음극은, 유리가 110인치(2.8미터)/분의 속도로 스펏터링 표면을 지나면서 운반되는 동안, 1.7킬로와트의 동력으로 자기장내에서 스펏터된다. 주석산 아연 필름이 유리표면에 용착된다. 3번 통과시켜 약 340옹스트롱의 필름두께를 형성하며, 이는 유리 지지체에 대한 90%에서 주석산 아연으로 피복된 유리 지지체에 대한 81%까지 투과도를 감소시킨다.
[실시예 2]
다층 필름을 소오다-석회 실리카 유리 지지체에 용착하여 투과도가 높고 복사율이 낮은 피복 제품을 생산한다. 먼저 실시예 1에서와 같이 주석산 아연층을 용착한다. 다음에 4밀리토르 압력의 아르곤 가스의 분위기에서 은 음극 타겟을 스펏터링하므로써 주석산 아연에 은층을 용착한다. 실시예 1에서와 동일한 속도로 은 음극 타겟을 통과하는 지지체에 있어서 2번 통과하게 하여 약 90옹스트롱의 필름두께에 상당하는 단위 평방 센티미터당 11마이크로그램의 은을 용착하며, 이는 제1이 주석산 아연 필름에 대하여 81%에서 72%까지, 피복된 지지체의 투과도를 감소시킨다. 바람직하게, 은은 아연/주석 합금층으로 피복되어 밀착성을 개선하고, 최종 반사방지 주석산 아연층이 용착되기 전에 은층을 보호한다. 더욱이 금속합금은 투과도를 감소시키기 때문에 그 두께는 최소로 하는 것이 바람직하다. 금속층은, 4밀리토르의 압력으로 아르곤내에서 최소의 동력으로, 아연/주석합금 타겟을 스펏터링하므로써 용착된다. 샘플의 투과도는 한번 통과후에 60%까지 감소한다. 마지막으로 아연/주석합금음극 타겟이 실시예 1에서와 같은 산화 분위기내에서 스펏터되어 주석산 아연 필름을 생산한다. 110인치(2.8미터)/분의 속도로 4번 통과시키면 약 430옹스트롱의 필름 두께가 형성되며, 이는 코우팅 제품의 투과도를 60%에서 87%까지 증가시킨다. 최종의 피복된 제품은 스퀘어당 10오옴의 표면저항을 가지며, 양면으로부터 약간 푸른빛을 띈 반사를 하는데, 피복된 면으로부터 5% 및 피복되지 않은 면으로부터 6%의 시감 반사율을 갖는다.
[실시예 3]
다층 필름을 소오다-석회 실리카 유리 지지체에 용착하여 투과도가 높고 복사율이 낮은 피복된 제품을 생산한다. 5×17인치(12.7×43.2센티미터)로 측정된 정지음극은 52.4중량% 아연 및 47.6% 주석으로 구성되는 아연/주석합금의 스펏터링 표면으로 구성된다. 소오다-석회-실리카 유리 지지체를 50/50 아르곤/산소분위기내에서 4밀리토르 압력의 진공상태로 된 코우팅 실내에 위치시켰다. 음극은, 유리가 110인치(2.8미터)/분의 속도로 스펏터링 표면을 지나면서 운반되는 동안, 1.7킬로와트의 동력으로 자기장내에서 스펏터된다. 주석산 아연필름이 유리표면에 용착된다. 3번 통과시켜 약 340옹스트롱의 필름두께를 형성하며, 이는 유리 지지체에 대한 90%에서 주석산 아연으로 피복된 유리 지지체에 대한 83%까지 투과도를 감소시킨다. 그리고 나서 구리 타겟을 가진 정지 음극은 스펏터되어 주석산 아연에 구리 프라이머층을 형성하며, 투과도는 약 80.6%까지 감소된다. 다음에, 은층은, 4밀리토르의 압력으로 아르곤 가스의 분위기에서 은 음극 타겟을 스펏터링 하므로써 구리 프라이머층에 용착된다. 동일 속도로 은 음극 타겟하에서 지나가는 지지체로 2번 통과하는 것이 ㎠당 11마이크로그램의 은을 용착하는 것이 필수적이며, 이는 약 90옹스트롱의 필름두께에 상당하며, 피복된 지지체의 투과도를 약 70.3%까지 감소시킨다. 제2의 구리 프라이머층이 은층에 스펏터되어 밀착성이 개선되고, 최종의 반사방지 주석산 아연층이 용착되기 전에 은층을 보호한다. 구리 프라이머층이 투과도를 감소시키기 때문에, 그 두께는 최소로 하는 것이 바람직하다. 구리 프라이머층은 4밀리토르 압력으로 아르곤내에서 최소의 동력으로 구리 타겟을 스펏터링하므로써 용착된다. 샘플의 투과도는, 제2의 구리 프라이머층이 용착된 후, 68.3%까지 감소된다. 마지막으로, 아연/주석합금 음극 타겟은 산화분위기내에서 스펏터되어 주석산 아연 필름을 형성한다. 110인치(2.8미터)/분의 속도로 4번 통과하면 약 430옹스트롱의 필름두께를 형성하며, 제품의 투과도를 68.3%에서 83.2%까지 증가시킨다. 최종의 피복된 제품은 스퀘어 당 10오옴의 표면저항을 가지며, 양면으로부터 약간 푸른빛을 띈 반사를 하는데, 피복된 면으로부터 5% 및 피복되지 않은 면으로부터 6%의 시감 반사율을 갖는다.
본 발명의 프라이머층의 결과로서 금속 및 금속 산화물 필름사이의 개선된 밀착성에 기인하는 피복된 물품의 개선된 내구성은 축축한 천(damp cloth)으로 피복된 표면을 닦는 것으로 구성되는 단순한 마모시험에 의해 쉽게 입증된다. 본 발명에 따르는 프라이머층을 갖지 않은 주석산 아연/은/주석산 아연으로 피복된 표면은, 축축한 천을 여러번 지나가게한 후, 약 6%에서 약 18%까지 반사율이 증가되고 겉에 있는 주석산 아연 및 밑에 깔린 은 필름이 제거됐음을 나타낸다. 대조에 있어서, 축축한 천으로 오랫동안 격렬히 마찰하였으나 본 발명의 프라이머층으로 구성되는 주석산 아연/구리/은/구리/주석산 아연으로 피복된 물품에 하등의 가시적 변화가 없었다.
상기 실시예들은 본 발명을 예시하기 위해서 제공하였다. 제품 및 방법에 다양한 변경이 포함된다. 예를들면, 다른 코우팅 조성물이 본 발명의 범주내에 있다. 아연/주석합금이 스펏터될 때 아연 및 주석의 비율에 따라서, 코우팅은 주석산 아연외에 광범위하게 다양한 양의 아연 산화물 및 주석 산화물을 포함할 수 있다. 본 방법이 매우 높은 온도를 요구하지 않기 때문에, 여러가지의 플라스틱 같은 유리 이외의 지지체가 피복될 수 있다. 스캐닝(scanning) 음극이 정지 지지체와 함께 사용될 수 있고 또는 둘다 정지될 수 있다. 가스의 농도 및 압력같은 공정 파라미터는 광범위한 범위에 걸쳐서 변화될 수 있다. 광범위하게 다양한 금속 및 금속 산화물 필름사이의 밀착성은 본 발명에 따르는 프라이머층을 사용하여 개선될 수 있다. 프라이머층은 인듐같은 다른 금속 또는 구리 산화물 또는 인듐 산화물같은 산화물로 구성될 수 있다. 본 발명의 범주는 하기 특허청구의 범위에 의해 정의된다.

Claims (5)

  1. a. 투명한 비금속 지지체; b. 상기 지지체 표면에 용착된 금속 산화물로 구성되는 제1의 투명한 필름; c. 상기 제1의 금속 산화물 필름에 용착된 제1의 투명한 프라이머층; d. 상기 프라이머층에 용착된 투명한 금속필름; e. 상기 반사 금속필름에 용착된 제2의 투명한 프라이머층; f. 투명한 필름층의 금속 산화물이 아연 및 주석으로 구성되는 금속합금의 산화물 반응생성물이면 투명한 프라이머층들이 생략될 수 있는 조건으로 상기 제2의 프라이머층에 용착된 금속 산화물로 구성되는 제2의 투명한 필름으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 투과도가 높은 복사율이 낮은 물품.
  2. a. 아연 및 주석의 금속합금으로 구성된 음극 타겟을 형성하고; b. 지지체를 상기 음극 타겟과 함께 진공실(evacuated chamber)내에서 피복되도록 위치시키고; c. 산소로 구성되는 반응성 분위기내에서 상기 금속합금 음극 타겟을 스펏터링하므로써 상기 지지체 표면상에 금속합금 산화물 필름을 용착시키는 단계들로 구성되는, 금속합금의 산화물로 구성되는 필름을 용착시키는 방법.
  3. a. 투명한 비금속 지지체를 스펏터링실내에 위치시키고; b. 산소로 구성되는 반응성 분위기내에서 아연 및 주석합금으로 구성되는 음극 타겟을 스펏터링하여 상기 지지체 표면상에 투명한 금속합금 산화물 필름을 용착하고; c. 불활성 분위기내에서 은 음극 타겟을 스펏터링하여 상기 금속합금 산화물 필름상에 투명한 은 필름을 용착하고; d. 산소로 구성되는 반응성 분위기내에서 아연 및 주석의 합금으로 구성되는 음극 타겟을 스펏터링하여 상기 은 필름상에 금속합금 산화물 필름을 용착하는 단계들로 구성되는, 다층의 투과도가 높고 복사율이 낮은 피복된 생성물의 제조방법.
  4. a. 산소로 구성되는 반응성 분위기내에서 금속음극 타겟을 스펏터링하여 지지체 표면상에 금속 산화물 필름을 용착하고; b. 상기 금속 산화물 필름에 프라이머층을 스펏터링하고; c. 상기 프라이머층에 반사금속필름을 스펏터링하고; d. 상기 반사금속필름에 제2의 프라이머층을 스펏터링하고; e. 상기 제2의 프라이머층에 제2의 금속합금 산화물 필름을 스펏터링하는 단계들로 구성되는, 내구성 있는 필름을 용착하는 방법.
  5. a. 투명한 비금속 지지체를 스펏터링실내에 위치시키고; b. 산소로 구성되는 반응성 분위기내에서 아연 및 주석의 합금으로 구성되는 음극 타겟을 스펏터링하여 상기 지지체 표면상에 투명한 금속합금 산화물 필름을 용착하고; c. 구리 타겟을 스펏터링하여 상기 산화물 필름상에 프라이머층을 용착하고; d. 불활성 분위기내에서 은 음극 타겟을 스펏터링하여 상기 프라이머층상에 투명한 은 필름을 용착시키고; e. 구리 타겟을 스펏터링하여 상기 은 필름상에 제2의 프라이머층을 용착하고; 산소로 구성되는 반응성 분위기내에서 아연 및 주석의 합금으로 구성되는 음극 타겟을 스펏터링하여 상기 제2의 프라이머층상에 금속합금 산화물 필름을 용착하는 단계들로 구성되는, 다층의 투과도가 높고, 복사율이 낮은 피복된 생성물의 제조방법.
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Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4716086A (en) * 1984-12-19 1987-12-29 Ppg Industries, Inc. Protective overcoat for low emissivity coated article
JPS63110507A (ja) * 1986-10-27 1988-05-16 日本板硝子株式会社 透明導電体
CA1331867C (en) * 1986-12-29 1994-09-06 James Joseph Finley Low emissivity film for high temperature processing
US4769291A (en) * 1987-02-02 1988-09-06 The Boc Group, Inc. Transparent coatings by reactive sputtering
US4847158A (en) * 1987-05-15 1989-07-11 Ppg Industries, Inc. Low reflectance bronze coating
US4961994A (en) * 1987-12-16 1990-10-09 General Electric Company Protective coated composite material
US5902505A (en) * 1988-04-04 1999-05-11 Ppg Industries, Inc. Heat load reduction windshield
US4898789A (en) * 1988-04-04 1990-02-06 Ppg Industries, Inc. Low emissivity film for automotive heat load reduction
US5112693A (en) * 1988-10-03 1992-05-12 Ppg Industries, Inc. Low reflectance, highly saturated colored coating for monolithic glazing
GB8900166D0 (en) * 1989-01-05 1989-03-01 Glaverbel Glass coating
GB8900165D0 (en) * 1989-01-05 1989-03-01 Glaverbel Glass coating
US5532062A (en) * 1990-07-05 1996-07-02 Asahi Glass Company Ltd. Low emissivity film
US5419969A (en) * 1990-07-05 1995-05-30 Asahi Glass Company Ltd. Low emissivity film
SG47839A1 (en) * 1990-07-05 1998-04-17 Asahi Glass Co Ltd A low emissivity film
US5183700A (en) * 1990-08-10 1993-02-02 Viratec Thin Films, Inc. Solar control properties in low emissivity coatings
ATE160107T1 (de) * 1990-08-30 1997-11-15 Viratec Thin Films Inc Verfahren zur abscheidung von nioboxid enthaltenden optischen beschichtungen mittels reaktiver gleichstromzerstäubung
US5296302A (en) * 1992-03-27 1994-03-22 Cardinal Ig Company Abrasion-resistant overcoat for coated substrates
DE4409934A1 (de) * 1994-03-23 1995-09-28 Ver Glaswerke Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten einer Glasscheibe mit wenigstens einer Schicht aus Zinndioxid durch reaktive Katodenzerstäubung
US5579162A (en) 1994-10-31 1996-11-26 Viratec Thin Films, Inc. Antireflection coating for a temperature sensitive substrate
DE19520843A1 (de) * 1995-06-08 1996-12-12 Leybold Ag Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
EP0748768A1 (en) * 1995-06-13 1996-12-18 Nissan Chemical Industries Ltd. Hydrated zinc stannate sols, coating compositions and optical elements
US6001164A (en) * 1995-06-13 1999-12-14 Nissan Chemical Industries, Ltd. Hydrated zinc stannate sols, coating compositions and optical elements
US5942338A (en) * 1996-04-25 1999-08-24 Ppg Industries Ohio, Inc. Coated articles
US5821001A (en) * 1996-04-25 1998-10-13 Ppg Industries, Inc. Coated articles
US6231999B1 (en) * 1996-06-21 2001-05-15 Cardinal Ig Company Heat temperable transparent coated glass article
US6899953B1 (en) * 1998-05-08 2005-05-31 Ppg Industries Ohio, Inc. Shippable heat-treatable sputter coated article and zinc cathode sputtering target containing low amounts of tin
DE19848751C1 (de) * 1998-10-22 1999-12-16 Ver Glaswerke Gmbh Schichtsystem für transparente Substrate
CN1067661C (zh) * 1998-12-31 2001-06-27 冶金工业部钢铁研究总院 一种制备氧化镍电致变色薄膜的方法
US6919133B2 (en) 2002-03-01 2005-07-19 Cardinal Cg Company Thin film coating having transparent base layer
US7588829B2 (en) * 2002-05-31 2009-09-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Article having an aesthetic coating
JP4240933B2 (ja) * 2002-07-18 2009-03-18 キヤノン株式会社 積層体形成方法
FR2856627B1 (fr) 2003-06-26 2006-08-11 Saint Gobain Substrat transparent muni d'un revetement avec proprietes de resistance mecanique
JP4961786B2 (ja) * 2006-03-17 2012-06-27 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜、およびこれを用いた透明導電性フィルム
DE102009006832A1 (de) 2009-01-30 2010-08-05 Bayerisches Zentrum für Angewandte Energieforschung e.V. Flüssige oder halbfeste Formulierung spektralselektiver Partikel zur Beschichtung flexibler Körper sowie Verwendung dieser
US8143515B2 (en) * 2009-12-15 2012-03-27 Primestar Solar, Inc. Cadmium telluride thin film photovoltaic devices and methods of manufacturing the same
US8241938B2 (en) * 2010-07-02 2012-08-14 Primestar Solar, Inc. Methods of forming a conductive transparent oxide film layer for use in a cadmium telluride based thin film photovoltaic device
FR2968091B1 (fr) * 2010-11-26 2013-03-22 Saint Gobain Substrat transparent comportant un revetement antireflet
CN102732825A (zh) * 2011-04-06 2012-10-17 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件
DE102012200799A1 (de) * 2011-09-26 2013-03-28 Interpane Entwicklungs-Und Beratungsgesellschaft Mbh Brandschutzelement mit Schutzbeschichtung und dessen Herstellungsverfahren
JP6174330B2 (ja) * 2012-05-17 2017-08-02 日産自動車株式会社 透明誘電体膜、熱反射構造体およびその製造方法、ならびにこれを用いた合わせガラス
CN103625042B (zh) * 2012-08-21 2017-04-12 信义玻璃工程（东莞）有限公司 镀膜玻璃及其制备方法
WO2014086570A1 (de) * 2012-12-06 2014-06-12 Saint-Gobain Glass France Glasscheibe mit mindestens einer schutzschicht, die zinn-zinkoxid enthält
CN103057209B (zh) * 2012-12-18 2015-09-23 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司 高隔热节能防爆膜
JP6000991B2 (ja) 2013-01-31 2016-10-05 日東電工株式会社 赤外線反射フィルム
DE102013004689A1 (de) 2013-03-19 2014-09-25 Remmers Baustofftechnik Gmbh Niedrigemittierende Innenwandbeschichtung
JP5859476B2 (ja) 2013-04-11 2016-02-10 日東電工株式会社 赤外線反射フィルム
DE102013104702B4 (de) 2013-05-07 2014-12-11 Schott Ag Beschichtete Glaskeramikplatte
CN103613287A (zh) * 2013-11-14 2014-03-05 中山市创科科研技术服务有限公司 一种可钢异地加工低辐射薄膜的制备方法
JP6423198B2 (ja) 2014-08-05 2018-11-14 日東電工株式会社 赤外線反射フィルム
JP6472130B2 (ja) * 2014-11-07 2019-02-20 Ａｇｃ株式会社 積層膜付き基板
JP6163196B2 (ja) * 2015-12-16 2017-07-12 日東電工株式会社 赤外線反射フィルム
CN107164729B (zh) * 2017-04-01 2020-03-31 河南城建学院 一种TiO2构成的多层减反射自清洁薄膜及其制备方法
WO2018220411A1 (en) * 2017-05-31 2018-12-06 Arcelormittal A coated metallic substrate and fabrication method
CN112951930B (zh) * 2021-01-29 2022-11-04 山东省科学院能源研究所 二氧化钛/银/二氧化钛透明导电膜及其制备方法与应用

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4166018A (en) * 1974-01-31 1979-08-28 Airco, Inc. Sputtering process and apparatus
JPS5115014A (en) * 1974-07-23 1976-02-06 Toray Industries Boshihikitorihoho
US4349425A (en) * 1977-09-09 1982-09-14 Hitachi, Ltd. Transparent conductive films and methods of producing same
US4113599A (en) * 1977-09-26 1978-09-12 Ppg Industries, Inc. Sputtering technique for the deposition of indium oxide
DE2830723A1 (de) * 1978-07-13 1980-02-14 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Verfahren zur herstellung von infrarotreflektierenden scheiben durch katodenzerstaeubung
US4201649A (en) * 1978-11-29 1980-05-06 Ppg Industries, Inc. Low resistance indium oxide coatings
DE3160998D1 (en) * 1980-03-10 1983-11-03 Teijin Ltd Selectively light-transmitting laminated structure
JPS56126152A (en) * 1980-03-10 1981-10-02 Teijin Ltd Laminate
JPS571754A (en) * 1980-06-04 1982-01-06 Teijin Ltd Laminate
JPS57130303A (en) * 1981-02-03 1982-08-12 Sharp Kk Method of producing transparent conductive film
DE3138998A1 (de) * 1981-09-30 1983-04-14 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen Verfahren zur herstellung von duennen metalloxidschichten
US4421622A (en) * 1982-09-20 1983-12-20 Advanced Coating Technology, Inc. Method of making sputtered coatings
NO157212C (no) * 1982-09-21 1988-02-10 Pilkington Brothers Plc Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne.
ZA842139B (en) * 1983-03-25 1984-10-31 Flachglas Ag Process for coating a transparent substrate
DE3316548C2 (de) * 1983-03-25 1985-01-17 Flachglas AG, 8510 Fürth Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates

Also Published As

Publication number Publication date
EP0183052B1 (en) 1991-12-27
EP0343695B1 (en) 1993-02-03
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NO854274L (no) 1986-04-30
EP0343695A1 (en) 1989-11-29
HK91192A (en) 1992-11-27
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DK169758B1 (da) 1995-02-20
DK494185A (da) 1986-04-30
CN85109342A (zh) 1986-10-08
DE3587078T2 (de) 1993-07-15

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