KR920001387B1 - 자동차의 열부하 감소용 저 복사성 필름 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 발명은 일반적으로 금속산화물 필름의 음극 퍼스터링(cathode sputtering)분야에 관한 것으로, 더욱 특히 금속 및 금속산화물로 된 다층 필름의 자기 스퍼터링(magnetic sputtering)분야에 관한 것이다.
길러리(Gillery)등에 의한 미합중국 특허 제4,094,763호에 400℉ 이상의 온도 및 조절된 양의 산소를 함유하는 저압 대기에서 내화성 기재(예 : 유리)상에 금속(예 : 주석 및 인듐)을 음극 스퍼터링시켜, 투명한 전기전도성 제품을 생성시키는 것이 기술되어 있다.
길러리에 의한 미합중국 특허 제 4,113,599호는 일정한 방전 전류를 유지하기 위하여 산소 유속을 조정하고, 또한 스퍼터링실에서의 일정한 압력을 유지하기 위하여 아르곤 유속을 조정하는, 인듐 산화물의 반응성 전착도장을 위한 음극 스퍼티링 기법을 개시하고 있다.
채핀(Chapin)에 의한 미합중국 특허 제4,166,018호에는 평면의 스퍼터링 표면 주위에 스퍼터링 표면상의 폐쇄 루프 침식 영역전반에 걸쳐 아취형의 선속라인을 포함하는 자기장(magnetic field)을 형성하는 스퍼터링 장치가 기술되어 있다.
길러리에 의한 미합중국 특허 제4,201,649호에는 저온에서 인듐 산화물의 매우 얇은 하도층(primer layer)을 우선 전착시킨 다음, 기재를 가열하여, 전형적으로 높은 음극 스퍼터링 온도에서의 음극 스퍼터링에 의해 인듐 산화물의 전도성층의 주요부분을 전착시킴으로써 저 저항성 인듐 산화물의 얇은 필름을 제조하는 방법이 기술되어 있다.
그로스(Groth)에 의한 미합중국 특허 제4,327,967호에는 유리판, 유리판 표면상의 2 이상의 굴절지수를 갖는 간섭 필름, 간섭 필름위의 열반사성 금 필름, 및 금 필름위의 크롬, 철, 니켈, 티탄 또는 그들의 합금으로된 중간색화 필름을 포함하는, 중간 색의 외관을 갖는 열-반사 판이 기술되어 있다.
미야크(Miyake) 등에 의한 미합중국 특허 제4,349,425에는 아르곤-산소 혼합가스중에서 카드뮴-주석 합금을 d-c 반응성 스퍼터링하여 낮은 전기저항성 및 높은 광학적 투명도를 갖는 카듀뮴-주석 산화물 필름을 제조하는 것이 기술되어 있다.
하트(HART)에 의한 미합중국 특허 제4,462,883호에는 유리와 같이 투명한 기재위에 은층, 소량의 은 이외의 금속층, 및 금속산화물로 된 반사방지칭을 음극 스퍼터링하여 생성시켜 저 복사성 도막이 기술되어 있다. 상기 반사방지층은 주석 산화물, 티탄 산화물, 아연 산화물, 인듐 산화물, 비스무스 산화물 또는 지르코늄 산화물일 수 있다.
이중유리 창(double-glazed window)단위의 열효율을 개선하기 위한 관점에서는, 방사열전달을 감소시킴으로써 상기 단위의 단열능을 증가시키는 도막을 유리의 한 면 상에 제공하는 것이 바람직하다. 그러므로, 상기 도막은 방사 스펙트럼의 적외선 파장 범위에서 낮은 복사율을 가져야만 한다. 실제적으로, 상기 도막을 가시파장 범위에서 높은 투과도를 가져야 한다. 심미적으로, 상기 도막은 낮은 시간 반사도를 가져야만 하며, 바람직하게는 본질적으로 무색이어야 한다.
상기에 기술한 바와같이 고 투과성, 저 복사성 도막은 일반적으로 가시광선 반사성을 줄이기 위해 금속산화물의 유전층 사이에 삽입되는, 적외선 반사성 및 저 복사성을 위한 얇은 금속층을 포함한다. 상기 다층필름은 전형적으로 음극 스퍼터링, 특히 자전관(magnetron) 스퍼터링에 의해 생성된다. 상기 금속층은 금 또는 구리일 수 있으나, 일반적으로는 은이다. 선행기술에서 기술된 상기 금속산화물층은 주석 산화물, 인듐 산화물, 티탄 산화물, 비스무스 산화물, 아연 산화물, 지르코늄 산화물 및 납 산화물을 포함한다. 몇몇 경우에는, 빈약한 내구성 또는 한계 복사성과 같은 특정 단점들을 극복하기 위해, 비스무스 산화물의 망간, 주석산화물의 경우에 인듐, 및 이의 역인 경우와 같이 상기 산화물에 소량의 다른 금속을 혼입시킨다. 그러나, 상기 금속산화물은 모두 다소의 결점을 갖는다.
질의 저하를 유발하는 요소 및 환경 요인으로부터 도막을 보호하여, 상기 도막이 사용중에 이중유리 창 단위의 내부표면에 유지된다 하더라도, 제조와 설치과정 사이에서 발생되는 취급, 포장, 세척 및 기타 제작공정에 견딜 수 있는 내구 효과가 있는 도막이 특히 바람직하다. 상기 특성은 금속산화물에서 찾을 수 있다. 그러나, 기계적 내구성을 제공하는 경도, 화학적 내구성을 제공하는 불활성, 및 유리와 금속층 모두에 대한 우수한 접착성 이외에, 상기 금속산화물은 또한 하기 특성들도 갖추어야 한다.
상기 금속산화물은 금속층의 반사성을 줄여 도장된 제품의 투과도를 증진시키기 위하여 적절하게 높은 굴절 지수, 바람직하게는 2.0 보다 큰 굴절지수를 가져야 한다. 또한 상기 금속산화물은 도장된 제품의 투과도를 최대화하기 위해 최소의 흡수도을 가져야 한다. 상업적인 이유로, 상기 금속산화물은 적절한 가격이어야 하며, 자전관 스퍼터링에 의해 비교적 빠른 전착 속도를 가져야 하고, 독성이 없어야 한다.
아마도 가장 중요하고, 만족시키기가 가장 어려운 상기 금속산화물 필름의 요구사항은 금속 필름과의 상호작용에 관한 것이다. 상기 금속산화물 필름은 아래에 높인 금속 필름을 외부 요인으로부터 보호하기 위해 낮은 다공성을 가져야 하고, 금속필름을 독립층으로 보존하기 위해 확산성이 낮아야 한다. 마지막으로, 그리고 무엇보다도, 상기 금속산화물은 최소의 저항과 최대의 투과도를 갖는 연속상의 금속 필름을 전착시킬수 있도록 금속층의 전착을 위해 우수한 핵형성 표면을 제공해야 한다. 연속상 및 불연속상의 은 필름의 특성은 본 명세서에, 참고로 인용한 길러리에 의한 미합중국 특허 제4, 462, 884호에 기술되어 있다.
일반적으로 쓰이는 금속산화물 다층필름중에서, 산 및 알카리 물질 모두에 가용성인 산화물인, 아연산화물 및 비스무스 산화물을 포함하는 금속산화물 다층필름은 내구성이 불충분하며, 그 다층필름은 지문에 의해 질이 떨어지고 염, 이산화 황 및 습도 시험에서 파괴된다. 바람직하게는 주석으로 도우핑된 인듐 산화물이 더 내구적이고 아래에 놓인 금속층을 더 보호한다 ; 그러나 인듐은 느리게 스퍼터링되고 비교적 비싸다. 인듐 또는 안티몬으로 두우핑된 주석 산화물도 또한 더 내구적이고 아래에 놓인 금속층을 더 보호하지만, 은 필름의 핵 형성에 적절한 표면을 제공하지 못해 고 저항 및 저 투과도를 낳게 한다. 이어서 전착된 은 필름의 적절한 핵 형성을 낳게하는 금속산화물 필름의 특징은 확립되어 있지 않았다 ; 그렇지만 상기 기술한 금속산화물을 사용한 시행 착오 실험법이 널리 실시되어 왔다.
본 명세서에서 참고로 인용한, 길러리에 의한 미합중국 특허 제4,610,771호에는 고 투과성, 저 복사성 도막으로 사용하기 위한 은층 및 아연-주석 합금 산화물층의 신규한 다층 필름 뿐 아니라 아연-주석 합금 산화물의 신규한 필름 조성물이 제공되어 있다.
길러리에 의한 미합중국 특허 제4,716,086호에는, 티탄 산화물과 같이 극히 내화학성인 물질의 외부 보호층을 제공함으로써, 다층 필름, 특히 반사방지 금속 및/또는 금속합금 산화물층과 적외선 반사 금속층(예 : 은)을 포함하는 다층 필름의 내구성을 개선시키는 것이 기술되어 있다.
길러리에 의해 1986년 3월 17일자로 출원된 미합중국 특허원 제841,056호에는 금속 및 금속산화물층사이의 접착성을 개선하는 구리와 같은 하도층을 제공함으로써, 다층 필름, 특히 반사방지 금속 및/또는 금속합금 산화물층과 적외선 반사 금속층(예 : 은)을 포함하는 다층필름의 내구성을 개선시키는 것이 기술되어 있다.
저 복사성 고 투과성 다층 필름은 다중 유리 창 단위에서 건축 용도에 충분히 견딜 수 있도록 만들어졌지만, 템퍼링(tempering) 또는 굽힘(bending)같은 고온 가공에 견딜 수 있는 온도 내성은 충분하지 않았다.
본 발명은 특히 자동차의 전면 유리, 측면 유리 또는 후면 유리 용도를 위한, 가시광선 반사성을 흩트리지 않고, 투명도에 대해 우수한 열 부하 감소를 제공하는 신규의 다층 도막을 포함한다. 본 발명의 신규의 다층 도막의 제 1 의 반사방지 금속산화물층(예 : 아연 및 주석의 산화물), 적외선 반사금속층(예 : 은), 티탄을 포함하는 하도층, 제 2 의 보다 두꺼운 금속산화물층, 또 하나의 적외선 반사금속층(예 : 은), 추가의 하도층, 제 3 의 반사방지 금속산화물층, 및 바람직하게는 티탄 금속 또는 티탄 산화물의 외부 보호층을 포함한다.
금속 또는 금속합금의 산화물을 바람직하게 포함하는 필름조성물은 음극 스퍼터링, 바람직하게는 자전관 스퍼터링에 의해 전착시키는 것이 바람직하다. 목적 금속 또는 금속합금 원소를 포함하는 음극 타겟을 준비한다. 다음에, 기재의 표면의 금속 또는 금속합금 산화물 필름을 전착시키기 위해 반응성 대기, 바람직하게는 산소를 포함하는 대기중에서 그 타겟을 스퍼터링시킨다.
본 발명에 따르는 바람직한 금속합금 산화물은 아연 및 주석을 함유하는 합금의 산화물이다. 아연/주석 합금 산화물 필름을 본 발명에 따라서 음극 스퍼터링, 바람직하게는 자성으로 향상된 음극 스퍼터링에 의해 전착시킬 수 있다. 음극 스퍼터링도 본 발명에 따르는 고투과성 저 복사성 필름을 전착시키는데 바람직한 방법이다.
상기 필름은 통상 다층, 바람직하게는 반사방지 금속산화물층들(예 : 인듐 산화물, 티탄 산화물 또는 바람직하게는 주석산 아연을 포함하는 아연 및 주석의 합금 산화물) 사이에 삽입된 고도의 반사성 금속층(예 : 금 또는 은)을 포함한다.
본 발명에 따르는 바람직한 고투과성, 저 복수성 다층 필름을 생성시키기 위해서는, 각종 금속합금을 스퍼터링시켜 금속합금 산화물 필름을 형성시킬 수도 있지만, 주석과 아연의 합금이 바람직하다. 특히 바람직한 합금은, 바람직하게는 10 내지 90% 아연 및 90 내지 10% 주석의 비율로 아연 및 주석을 포함한다.
바람직한 아연/주석 합금은 30 내지 60% 아연범위, 바람직하게는 40 : 60 내지 60 : 40의 아연/주석 비를 갖는다. 가장 바람직한 범위는 주석 대 아연 중량비 46 : 54 내지 50 : 50이다. 아연/주석 합금의 음극은 산화성 대기중에서 반응적으로 스퍼터링되어 아연, 주석 및 산소를 포함하는, 바람직하게는 주석산 아연(Zn2SnO4)을 포함하는 금속산화물층을 전착시킨다.
통상적인 자전관 스퍼터링 공정에서, 기재는 도장실내에 스퍼터링할 물질의 타겟 면을 갖는 음극과 대면하도록 배치시킨다. 본 발명에 따르는 바람직한 기재에는 도장 공정의 조작 조건에 심한 영향을 받지 않는 유리, 세라믹 및 플라스틱이 포함된다.
상기 음극은 모든 통상의 디자인, 바람직하게는 스퍼터링 공정을 향상시키기 위해 자기장과 결합시켜 사용하고, 전기적 전위공급원과 연결된, 선장된 장방향 디자인의 것일 수 있다. 최소한 하나의 음극 타겟 표면은 금속합금 산화물 필름을 형성하도록 반응성 대기중에서 스퍼터링하는 아연/주석과 같은 금속합금을 포함한다. 양극은, 본 명세서에서 참고로 인용한 길러리 등에 의한 미합중국 특허 제4,478,702호에서 개시한 바와 같이 대칭적으로, 디자인되고 위치된 부품이 바람직하다.
본 발명의 바라직한 실시태양에서는, 음극 스퍼터링에 의해 다층 필름을 전착시켜 고투과성, 저 복사성 도막을 형성시킨다. 금속합금 타겟이외에, 최소한 하나의 다른 음극 타겟 표면은 스퍼터링되어 반사 금속층을 형성할 금속을 포함한다. 최소한 하나의 추가의 음극타겟 표면은 스퍼터링되어 티탄 산화물층을 전착시킬 티탄을 포함한다.
3층의 반사방지 금속합금 산화물 필름과 교대로 조합된 2층의 반사금속 필름을 갖는 내구성 다층 도막은, 금속 및 금속산화물 필름사이의 접착성을 개선하기 위한 티탄 산화물 하도층을 사용하여 하기와 같이 생성시키며, 또한 하도층은 본 발명에 따르는 다층 도막에 고온 내성을 제공하여 생성된 도장 제품이 도막의 질을 떨어뜨리지 않은 채 고온 가공(예 : 굽힘, 아닐링, 템퍼링, 적층(laminating), 또는 유리 용접(glass welding))을 수행할 수 있도록 한다.
본 발명의 하도층의 두께는 필름의 원하는 투과도에 의해서만 제한을 받아, 바람직하게는 최소한 10Å, 더욱 바람직하게는 12 내지 30Å이다. 만일 반사금속 필름위에 단일 하도층을 전착시킨다면, 그 두께는 20Å 이상이 바람직하다. 만일 반사금속층 위의 하도층 두께가 20Å 미만이라면, 제 1 반사방지 금속산화물층과 적외선 반사금속층 사이에 추가의 하도층을 전착시키는 것이 바람직하다.
바람직하게는 10-4토르(torr)미만, 더욱 바람직하게는 2×10-5토르 미만으로 감압된 도장실에 투명한 유리기재를 놓는다. 불활성 및 반응성 가스, 바람직하게는 아르곤 및 산소의 선택된 대기를 도장실에 약 5×10-4내지 10-2토르의 압력으로 설정한다. 아연/주석 금속의 타겟 표면을 갖는 음극을 도장시킬 기재의 표면위에서 조작한다. 타겟 금속을 스퍼터링시키고 실내의 대기와 반응시켜 유리 표면상에 아연/주석 합금 산화물 도막층을 전착시킨다.
아연/주석 합금 산화물의 제 1 층을 전착시킨 후, 도장실의 기체를 배출시키고, 순수 아르곤과 같은 불활성 대기를 약 5×10-4내지 10-2토르의 압력으로 설정한다. 바람직하게는, 티탄의 타겟 표면을 갖는 음극을 스퍼터링하여 아연/주석 합금 산화물층위에 제 1 티탄 금속 하도층을 전착시킨다. 또다른 실시태양으로, 티탄 음극을 약한 산화대기중에서 스퍼터링하여 아연/주석 합금 산화물층위에 티탄 산화물 하도층을 전착시킨다. 다음으로, 은의 타겟 표면을 갖는 음극을 스퍼터링하여 그 하도층위에 반사성 금속 은층을 전착시킨다. 상기 반사성 은 층위에 티탄을 스퍼터링함으로써 제 2 하도층을 전착시키는 것이 바람직하다. 다시, 티탄을 불활성 대기중에서 스퍼터링하여 금속 티탄 하도층을 전착시키거나, 약한 산화 대기중에서 티탄 산화물 하도층을 전착시킨다. 다음으로, 제 1 아연/주석 합금 산화물층을 전착시키는데 사용한 것과 본질적으로 같은 조건하(이번 층의 두께가 제 1 층의 두께의 거의 2배인 것만 제외)에서 상기 제 2 하도층위에 아연/주석합금 산화물의 제 2 층을 전착시킨다. 바람직하게는, 또 하나의 하도층을 전착시킨 다음 제 2 적외선 반사금속층을 전착시키고, 바람직하게는 역시 또 하나의 하도층을 전착시킨 다음에 제 1 층과 거의 같은 두께를 갖는 제 3 의 반사방지 금속산화물층, 그리고 마지막으로, 바람직하게는 도막의 목적하는 최종 투과도에 의해서만 그 두께가 제한되는 티탄 산화물과 같은 보호필름을 전착시킨다.
본 발명의 가장 바람직한 실시태양에서, 마지막 반사방지 금속산화물 필름위에 보호막을 전착시킨다. 보호막은 길러리 등에 의한 미합중국 특허 제4,594,137호에 기술된 바와 같은 금속층을 스퍼터링에 의해 금속산화물 필름위에 전착시키는 것이 바람직하다. 보호막으로 바람직한 금속은 스텐레스 강 또는 인코넬(Inconel)과 같은 철 또는 니켈의 합금을 포함한다. 티탄이 그의 고투과성때문에 가장 바람직한 보호막이다. 또 다른 실시태양에서, 보호층은 본 명세서에서 참고로 인용한 길러리 등에 의한 미합중국 특허 제4,716,086호에 기술된 바와 같이, 티탄 산화물과 같은 특히 내화학성인 물질일 수 있다.
다층 필름의 내화학성은 다층 필름위에 티탄 산화물을 포함하는 보호막을 전착시킴으로써 대부분 개선된다. 바람직하게는, 상기 티탄 산화물 보호막은 비교적 높은 전착 속도, 및 낮은 압력, 바람직하게는 약 3밀리토르에서 음극 스퍼터링함으로써 전착시킨다. 티탄 산화물을 포함하는 보호막은 티탄 산화물을 직접 전착시키기 위해 산소가 충분한 대기중에서 티탄을 스퍼터링함으로써 형성시킬 수 있다. 본 발명의 또다른 실시태양에서 티탄 산화물을 포함하는 보호막은, 불활성 대기중에서 티탄을 스퍼터링하여 티탄-함유 필름을 전착시키고 이어서 공기와 같은 산화 대기에 노출시켜 티탄 산화물로 산화시킴으로써 형성시킬 수 있다.
유사하게, 만일 본 발명의 하도층을 티탄 금속으로 불활성 대기중에서 전착시켰다면, 후속 고온 가공으로 인해 그 금속의 산화가 일어나 티탄 산화물이 형성된다.
하기 특성 실시예의 설명으로 부터 본 발명을 더 이해할 수 있을 것이다. 실시예에서, 필름조성물이 정확하게 Zn2SnO4일 필요는 없지만, 아연/주석 합금 산화물 필름은 주석산 아연을 가리킨다.
[실시예]
고투과성, 저 복사성 도장 제품을 얻기 위해 소오다-석회-실리카 유리기재상에 다층 필름을 전착시켰다. 5×17인치(12.7×43.2cm)의 고정 음극은 아연 52.4중량% 및 주석 47.6중량%로 이루어진 아연/주석 합금의 스퍼터링 표면을 포함한다. 50/50아르곤/산소 대기중에서 4밀리토르의 압력을 설정하도록 조정한 도장실내에 소오다-석회-실리카 유리기재를 놓았다. 상기 유리가 스퍼터링 표면을 120인치(3.0m)/분의 속도로 지나가는 동안, 음극을 1.7kW 전력으로 자기장에서 스퍼터링시켰다.
주석산 아연의 필름이 유리 표면에 전착되었다. 3회를 거쳐 약 300Å의 필름 두께를 얻었고, 그 결과 투과도가 90%(유리기재의 경우)에서 84%(주석산 아연으로도장된 유리기재의 경우)로 감소하였다. 다음에, 4밀리토르 압력의 아르곤 가스 대기중에서 은 음극 타겟을 스퍼터링함으로써, 티탄 하도층위에 은 층을 전착시켰다. 상기 기재를 은 음극 타겟 밑으로 같은 속도로 지나게 하였으며, 은 100Å을 전착시키는데 2회의 과정이 필요하였고, 또한 투과도는 66%로 감소하였다. 은 층위에 15Å 두께의 티탄 하도층을 스퍼터링시켰으며, 투과도는 56.5%로 감소하였다.
다음에, 600Å 두께의 주석산 아연의 제 2 반사방지층을 전착시켰으며, 투과도는 73%로 증가하였고, 이어서 100Å 두께와 2차 은층을 전착시켰으며, 투과도는 69.5%로 감소하였다. 15Å 두께의 최종 티탄 하도층은 투과도를 58%로 감소시켰고, 그런다음 최종 300Å 두께의 주석산 아연 반사 방지층을 전착시켜 투과도를 최종적으로 78%로 증가시켰다.
임의로, 5×17인치(12.7×43.2센티미터)의 고정 티탄 음극을 3밀리토르의 압력에서 같은 용량의 아르곤과 산소를 포함하는 대기중에 10KW에서 스퍼터링시켜 약 15 내지 20A 두께의 티탄 산화물의 보호막을 전착시켰다. 티탄 산화물의 보호막은 다층 도막의 내성 및 반사 특성에 크게 영향을 미치지 않으며, 단지 약1% 이하의 투과도를 변하게 하였다.
본 발명의 하도층에 의한 금속과 금속산화물 필름사이의 개선된 접착성의 결과로 얻어진 도장 제품의 개선된 내구성은 도장된 표면을 젖은 천으로 문지르는 간단한 박리시험으로 쉽게 입증될 수 있다. 하도층을 갖지 않은 주석산 아연/은/주석산 아연으로 도장된 표면은 젖은 천으로 몇번 문지른 후에, 반사도가 약 6% 에서 18%로 증가하였으며, 이는 상도 주석산 아연 및 그 아래에 놓인 은 필름 둘다 제거되었음을 말해준다. 대조적으로, 본 발명의 주석산 아연/티탄/은/티탄/주석산 아연/티탄/은/티탄/주석산 아연/티탄 산화물로 도장된 제품에서는 젖은 천으로 지속적으로 강하게 문질렀어도 눈에 보이는 변화가 없다.
바람직한 티탄 산화물 보호막은 약 10 내지 50A 범위의 두께를 갖는다. 보다 두꺼운 필름을 사용할 수도 있으며, 이는 단지 목적 투과도에 의해서만 제한을 받는다. 약 20A 두께의 티탄 산화물 보호막을 가질 때, 본 실시예에 따르는 다층도막의 내구성은, 주위 온도에서 2 내지 1/2%염 용액중에서는 2시간에서 22시간으로 증가하였고, 150℉(약 66℃)에서 탈이온수를 포함하는 Q-판넬 클리브랜드 응축 시험기(Q-Panel Cleveland Condensation Tester) 모델 QCT-ADO로 수행한 클리브랜드 습도 시험기에서는 5시간에서 1주일로 증가하였다.
두층의 90A 두께의 은 적외선 반사층을 포함하는 본 발명의 전형적인 도장 제품은, 하나의 은층을 포함하고 약 73%의 같은 시감 투과도를 갖는 표준 저 복사성 도막의 총 태양에너지 반사도 27% 및 총 태양에너지 투과도 45%에 비해, 총 태양에너지의 40%를 투과하고 30%를 반사하였다. 추가로, 단일 층에 약 130Å의 은을 갖는 표준 저 복사성 도막의 경우의 반사도 14% 및 청동색에 비해 본 실시예의 도막의 가시광선 반사도는 8%였고 중간색이었다. 담색 유리 시이트에 도장된 투명 유리 시이트를 적층시킨 후에 상기 광학 특성들을 측정하였다.
상기 실시예는 본 발명은 설명하기 위해 제공한 것이다. 제품 및 공정의 다양한 변경도 포함된다. 예를들면, 다른 도장 조성물들이 본 발명의 범주내에 든다. 아연/주석 합금을 스퍼터링시 아연과 주석의 비에 따라, 상기 도막은 주석산 아연이외에 다양한 양의 아연 산화물 및 주석 산화물을 광범위하게 포함할 수 있다. 하도층은 각종 산화상태에 있는 티탄 금속을 포함할 수 있다. 본 발명에 따르는 하도막으로 지르코늄, 크롬 및 아연/주석 합금과 같은 다른 금속들도 유용하다. 각종 층들의 두께는 주로 투과도와 같은 목적 광학 성질에 의해서 제한된다. 또한 목적 광학 성질에 따라, 3개 이상의 반사방지층과 2개 이상의 적외선 반사층을 교대로 사용할 수도 있다. 가스의 압력 및 농도와 같은 공정 변수들은 넓은 범위에 걸쳐 변할 수 있다. 다른 내화학성 물질의 보호막을 금속 또는 산화물로서 전착시킬 수 있다. 본 발명의 도장물을 편편한 유리에 도포시키고 이어서 적층뿐아니라 템퍼링 및 구부림과 같은 고온 가공을 시킬 수도 있다. 본 발명의 범위를 하기 청구범위에 의해 규정한다.
Claims (20)
- a) 투명한 비금속 기재 ; b) 상기 기재의 한 표면의 전착된 제1의 투명한 반사방지 금속산화물 필름 ; c) 상기 반사방지 금속산화물층상에 전착된 투명한 적외선 반사 금속 필름 ; d) 상기 적외선 반사 금속 필름상에 전착된 투명한 금속 함유 하도층 ; e) 상기 하도층 상의 제2의 투명한 반사방지 금속산화물 필름 ; f) 상기 제2의 투명한 반사방지 금속산화물 필름상에 전착된 제2의 투명한 적외선 반사 금속 필름 ; g) 상기 제2의 적외선 반사 금속층상에 전착된 제2의 투명한 금속 함유 하도층 ; 및 h) 상기 제2하도층상에 전착된 제3의 투명한 반사방지 금속산화물 필름을 포함하는 고투과성, 저 복사성 제품.
- 제1항에 있어서, 상기 기재가 유리인 제품.
- 제2항에 있어서, 상기 반사 금속 필름이 은인 제품.
- 제3항에 있어서, 상기 반사방지. 금속산화물 필름이 아연과 주석의 반응 생성물 산화물을 포함하는 제품.
- 제1항에 있어서, 상기 하도 필름이 티탄을 포함하는 제품.
- 제1항에 있어서, 상기 제1의 투명한 반사방지 필름과 상기 제 1 의 투명한 적외선 반사 금속필름 사이에 추가의 하도층을 더 포함하는 제품.
- 제6항에 있어서, 상기 추가의 하도층이 티탄을 포함하는 제품.
- 제7항에 있어서, 상기 제2의 투명한 반사방지 필름과 상기 제2의 투명한 적외선 반사금속 필름사이에 제2의 추가의 하도층을 더 포함하는 제품.
- 제8항에 있어서, 모든 하도층들이 티탄을 포함하는 제품.
- 제1항에 있어서, 상기 제3의 반사방지 금속산화물 필름위에 전착된 금속 함유 보호막을 더 포함하는 제품.
- a) 산소를 포함하는 반응성 대기중에서 금속을 스퍼터링(sputtering)함으로써 기재의 한 표면에 제1의 금속산화물 필름을 전착시키는 단계 ; b) 상기 금속산화물층위에 반사 금속 필름을 스퍼터링하는 단계 ; c) 상기 반사 금속필름위에 금속 함유 하도층을 스퍼터링하는 단계 ; d) 상기 하도층 위에 제2의 금속산화물 필름을 스퍼터링하는 단계 ; e) 상기 제2의 금속산화물 필름위에 제2의 적외선 반사 금속 필름을 스퍼터링하는 단계 ; f) 상기 제2의 적외선 반사층위에 제2의 금속 함유 하도층을 스퍼터링하는 단계 ; 및 g) 상기 제2하도층위에 제3의 반사방지 금속산화물층을 스퍼터링하는 단계를 포함하는 고온내성필름의 전착 방법.
- 제11항에 있어서, 상기 하도층들이 티탄을 포함하는 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 기재가 유리인 방법.
- 제13항에 있어서, 상기 금속산화물 필름이 아연과 주석의 반응 생성물을 포함하는 방법.
- 제11항에 있어서, 상기 제3의 반사방지 산화물 필름위에 전착되는 금속 함유 보호막을 전착시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- a) 스퍼터링실(sputtering chamber)내에 투명한 비금속성 기재를 배치하는 단계 ; b) 산소를 포함하는 반응성 대기중에서 아연 및 주석을 스퍼터링하여 상기 기재의 표면상에 제1의 투명한 아연/주석 산화물 필름을 전착시키는 단계 ; c) 티탄을 스퍼터링하여 상기 산화물 필름상에 하도층을 전착시키는 단계 ; d) 불활성 대기중에서 은을 스퍼터링하여 상기 하도층상에 투명한 은 필름을 전착시키는 단계 ; e) 티탄을 스퍼터링하여 상기 은 필름상에 제2의 하도층을 전착시키는 단계; f) 산소를 포함하는 반응성 대기중에서 음극 아연 및 주석을 스퍼터링하여 상기 제2의 하도층상에 제2의 아연/주석 산화물 필림을 전착시키는 단계 ; g) 티탄을 스퍼터링하여 상기 제2의 산화물 필름상에 제 3 의 하도층을 전착시키는 단계 ; h) 불활성 대기중에서 은을 스퍼터일하여 상기 제3의 하도층상에 제2의 은층을 전착시키는 단계 ; i) 티탄을 스퍼터링하여 상기 제2의 은층상에 제4의 하도층을 전착시키는 단계 ; 및 j) 산소를 포함하는 반응성 대기중에서 아연 및 주석을 스퍼터링하여 상기 제4의 하도층상에 제3의 아연/주석 산화물 필름을 전착시키는 단계를 포함하는, 다층 저 복사성 도장 제품의 제조방법.
- 제16항에 있어서, 상기 기재가 유리인 방법.
- 제16항에 있어서, 상기 제3의 금속합금 산화물 필름위에 금속함유 보호막을 전착시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 제18항에 있어서, 상기 하도층들이 티탄을 포함하는 방법.
- 제11항에 있어서, 다층 도장된 제품을 고온 가공시켜 도막의 투과성을 증대시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
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