PL201781B1 - Panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania lub wygrzewany panel oszkleniowy bez zamglenia, sposób wytwarzania panelu oszkleniowego - Google Patents
Panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania lub wygrzewany panel oszkleniowy bez zamglenia, sposób wytwarzania panelu oszkleniowegoInfo
- Publication number
- PL201781B1 PL201781B1 PL349337A PL34933799A PL201781B1 PL 201781 B1 PL201781 B1 PL 201781B1 PL 349337 A PL349337 A PL 349337A PL 34933799 A PL34933799 A PL 34933799A PL 201781 B1 PL201781 B1 PL 201781B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- glazing panel
- aluminum nitride
- panel according
- panel
- Prior art date
Links
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 76
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 43
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 10
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Zn+2] JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 136
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 61
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 27
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 13
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 12
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 SiOxCy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3647—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer in combination with other metals, silver being more than 50%
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)
Abstract
Panel oszkleniowy nadaj acy si e do wygrzewania lub wygrzewany panel oszkleniowy bez za- mglenia z naniesionym zestawem powlekaj acym zawieraj acy w sekwencji co najmniej: pod lo ze szkla- ne, doln a warstw e przeciwodbiciow a zawieraj ac a co najmniej jedn a warstw e zawieraj ac a azotek glinu, warstw e ze srebra lub ze stopu srebra odbijaj ac a w podczerwieni i wierzchni a warstw e przeciwodbi- ciow a, charakteryzuj acy si e tym, ze dolna warstwa przeciwodbiciowa zawiera pierwsz a warstw e s a- siaduj ac a z pod lo zem zawieraj ac a azotek glinu i wierzchni a warstw e zawieraj ac a mieszany tlenek cynku i glinu lub, wierzchnia warstwa przeciwodbiciowa zawiera co najmniej pierwsz a warstw e z mie- szanego tlenku cynku i glinu i pokrywaj ac a warstw e zawieraj ac a azotek glinu maj ac a grubo sc geome- tryczn a mniejsz a od 10 -8 m; przy czym panel oszkleniowy nadaj acy si e do wygrzewania po wygrzewa- niu wykazuje wzrost wspó lczynnika przepuszczania swiat la TL o co najmniej 2,5% i daje panel oszkleniowy bez zamglenia, w przypadku gdy dolna warstwa przeciwodbiciowa zawiera pierwsz a war- stw e s asiaduj ac a z pod lo zem zawieraj ac a azotek glinu i wierzchni a warstw e zawieraj ac a mieszany tlenek cynku i glinu. Sposób wytwarzania panelu oszkleniowego maj acego zamglenie mniejsze od 0,5, polegaj acy na tym, ze obejmuje on etap, w którym wygrzewa si e panel oszkleniowy wed lug wynalazku w temperaturze co najmniej 570°C. PL PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania lub wygrzewany panel oszkleniowy bez zamglenia oraz sposób wytwarzania panelu oszkleniowego. Panele oszkleniowe według wynalazku to, zwłaszcza lecz nie wyłącznie panele oszkleniowe, których zadaniem jest kontrola słoneczna i które mają być wygrzewane po nałożeniu filtra kontroli słonecznej.
Opis EP 233003A ujawnia panel oszkleniowy z filtrem optycznym naniesionym metodą napylania katodowego mającym następującą konstrukcję: podłoże szklane/spodnia warstwa dielektryczna SnO2/pierwsza bariera metaliczna Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/Ag/druga warstwa metaliczna Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/wierzchnia warstwa dielektryczna SnO2. Zadaniem filtra optycznego jest blokowanie znaczącej części podającego promieniowania w podczerwonej części widma, z umożliwieniem przejścia znaczącej części promieniowania w widzialnej części widma. W ten sposób filtr zmniejsza efekt cieplny podającego promieniowania słonecznego, z zachowaniem dobrej widoczności przez oszklenie, które jest szczególnie odpowiednie na przednie szyby samochodowe.
W tym typie konstrukcji, warstwa Ag odbija padaj ą ce promieniowanie w podczerwieni; dla wykonania tego zadania warstwa powinna być w postaci metalicznego srebra, a nie jako tlenek srebra i nie powinna być zanieczyszczona przez sąsiednie warstwy. Warstwy dielektryczne, które przekładają warstwę Ag służą do zmniejszenia odbicia widzialnej części widma, co w przeciwnym razie powodowałaby warstwa Ag. Druga bariera służy do zapobiegania utlenianiu warstwy Ag podczas napylania katodowego wierzchniej warstwy dielektrycznej w utleniającej atmosferze; bariera ta ulega co najmniej częściowemu utlenieniu podczas tego procesu. Głównym zadaniem pierwszej bariery jest zapobieganie utlenianiu warstwy srebra podczas wygrzewania powłoki (na przykład podczas zginania i/lub odpuszczania) panelu oszkleniowego raczej w wyniku jej utleniania niż w wyniku przechodzenia tlenu do warstwy Ag. To utlenianie bariery podczas wygrzewania powoduje zwiększenie wartości TL panelu oszkleniowego.
Opis EP 792847A ujawnia nadający się do wygrzewania panel oszkleniowy do kontroli promieniowania słonecznego, który opiera się na tej samej zasadzie i który ma następującą konstrukcję: podłoże szklane/warstwa dielektryczna ZnO/bariera Zn/Ag/bariera Zn/warstwa dielektryczna ZnO/bariera Zn/Ag/bariera Zn/warstwa dielektryczna ZnO. Bariery Zn umieszczone poniżej każdej warstwy Ag mają być całkowicie utlenione podczas wygrzewania i służą do ochrony warstw Ag przed utlenianiem. Jak wiadomo według stanu techniki, konstrukcja z dwóch oddalonych od siebie warstw Ag, a nie pojedyncza warstwa Ag zwiększa selektywność filtra.
Opis EP 718250A ujawnia zastosowanie warstwy, która stanowi barierę dla dyfuzji tlenu jako ostatnia część najbardziej zewnętrznej warstwy dielektrycznej w tym typie zestawu filtra. Taka warstwa dla wytworzenia skutecznej bariery musi mieć grubość co najmniej 10-8 m [100 A], korzystnie co najmniej 2·10-8 m [200 A] i może zawierać związek krzemu SiO2, SiOxCy, SiOxNy, azotki jak Si3N4 lub AlN, węgliki jak SiC, TiC, CrC i TaC.
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania lub wygrzewany panel oszkleniowy bez zamglenia z naniesionym zestawem powlekającym zawierający w sekwencji co najmniej: podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodbiciową zawierającą co najmniej jedną warstwę zawierającą azotek glinu, warstwę ze srebra lub ze stopu srebra odbijającą w podczerwieni i wierzchnią warstwę przeciwodbiciową, charakteryzujący się tym, że dolna warstwa przeciwodbiciowa zawiera pierwszą warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą azotek glinu i wierzchnią warstwę zawierającą mieszany tlenek cynku i glinu lub, wierzchnia warstwa przeciwodbiciowa zawiera co najmniej pierwszą warstwę z mieszanego tlenku cynku i glinu i pokrywającą warstwę zawierającą azotek glinu mającą grubość geometryczną mniejszą od 10-8 m; przy czym panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania po wygrzewaniu wykazuje wzrost współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 2,5% i daje panel oszkleniowy bez zamglenia, w przypadku gdy dolna warstwa przeciwodbiciowa zawiera pierwszą warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą azotek glinu i wierzchnią warstwę zawierającą mieszany tlenek cynku i glinu.
Korzystnie panel zawiera w sekwencji co najmniej: podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodbiciową zawierającą co najmniej jedną warstwę zawierającą azotek glinu, warstwę odbijającą w podczerwieni, środkową warstwę przeciwodbiciową, warstwę odbijającą w podczerwieni, i wierzchnią warstwę przeciwodbiciową, przy czym wygrzewany panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania, po wygrzewaniu wykazuje wzrost wartości współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 2,5% i daje panel oszkleniowy bez zamglenia.
PL 201 781 B1
Korzystnie w sekwencji co najmniej jedna warstwa zawierająca azotek glinu ma grubość geometryczną większą od 4·10-9 m.
Korzystnie co najmniej jedna warstwa zawierająca azotek glinu ma grubość geometryczną mniejszą od 1,95·10-8 m.
Korzystnie dolna warstwa przeciwodbiciowa, jak również górna warstwa przeciwodbiciowa, zawierają co najmniej jedną warstwę zawierającą azotek glinu.
Korzystnie każda warstwa przeciwodbiciowa zawiera co najmniej jedną warstwę zawierającą azotek glinu.
Korzystnie mieszany tlenek cynku i glinu ma stosunek atomowy Al/Zn większy od lub równy 0,05 i mniejszy od lub równy 0,25.
Korzystnie wygrzewany panel oszkleniowy po wygrzewaniu wykazuje wzrost wartości współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 2,5%.
Korzystnie wygrzewany panel oszkleniowy po wygrzewaniu wykazuje wzrost wartości współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 7%.
Korzystnie azotkiem glinu jest czysty AlN.
Korzystnie azotek glinu zawiera co najmniej 90% wagowych, a korzystnie co najmniej 95% wagowych czystego AlN.
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania panelu oszkleniowego mającego zamglenie mniejsze od 0,5, polegający na tym, że obejmuje on etap, w którym wygrzewa się panel oszkleniowy według wynalazku w temperaturze co najmniej 570°C.
Stosowany w niniejszym opisie termin „panel oszkleniowy poddawany ogrzewaniu oznacza panel oszkleniowy z naniesionym zestawem powlekającym, który może być poddawany zginaniu i/lub odpuszczaniu cieplnemu i/lub operacji utwardzania cieplnego i/lub innemu sposobowi wygrzewania, przy czym zamglenie obrabianego w ten sposób panelu oszkleniowego nie przekracza wartości 0,5, a korzystnie 0,3. Termin „panel oszkleniowy bez zamglenia, stosowany w niniejszym opisie, oznacza panel oszkleniowy z naniesionym zestawem powlekającym, który zginano i/lub odpuszczano cieplnie i/lub utwardzano cieplnie i/lub poddano innemu sposobowi wygrzewania po naniesieniu zestawu powlekającego i który ma zamglenie nie przekraczające wartości 0,5, a korzystnie nie przekraczające wartości 0,3. Takie sposoby wygrzewania mogą obejmować ogrzewanie lub poddanie oszklenia z naniesionym zestawem powlekają cym dział aniu temperatury powyżej okoł o 560°C, na przykł ad temperatury od 560°C do 700°C w atmosferze. Innymi takimi sposobami wygrzewania może być spiekanie materiału ceramicznego lub emalii, uszczelnianie próżniowe podwójnego oszklenia i wypalanie powlekanej na mokro powłoki o małym odbiciu lub powłoki przeciwoślepieniowej. Sposób wygrzewania, zwłaszcza sposób zginania i/lub odpuszczania cieplnego i/lub utwardzania cieplnego, można wykonać w temperaturze co najmniej 600°C w ciągu co najmniej 10 minut, 12 minut lub 15 minut albo w temperaturze co najmniej 620°C w cią gu co najmniej 10 minut, 12 minut lub 15 minut, albo w temperaturze co najmniej 640°C w ciągu co najmniej 10 minut, 12 minut lub 15 minut.
Do nanoszenia warstw powlekających można zastosować dowolną odpowiednią metodę lub kombinację metod. Na przykład szczególnie korzystne jest odparowywanie (cieplne lub za pomocą wiązki elektronów), piroliza cieczowa, chemiczne nanoszenie par, nanoszenie próżniowe i napylanie katodowe, zwłaszcza napylanie magnetronowe, przy czym to ostatnie jest szczególnie korzystne. Różne warstwy zestawu powlekającego można nanosić różnymi metodami.
Azotkiem glinu może być czysty AlN, zasadniczo czysty AlN, AlN zawierający zanieczyszczenia lub AlN zawierający jedną lub kilka domieszek, na przykład chrom i/lub krzem i/lub tytan, które mogą poprawiać trwałość chemiczną materiału. Azotek glinu może zawierać około 97% wagowych czystego AlN. Alternatywnie, może on zawierać oksyazotek, karboazotek lub oksykarboazotek. Azotek glinu można nanosić metodą napylania katodowego z tarczy w atmosferze azotu. Alternatywnie, można nanosić go metodą napylania katodowego z tarczy w atmosferze, która jest mieszaniną argonu z azotem. Tarczą może być na przykład stop 6061, stop 6061 lub stop 4032.
Sądzi się, że azotek glinu skutecznie blokuje nie tylko tlen, ale także jony sodu i inne jony, które mogą dyfundować ze szkła do zestawu powlekającego i spowodować pogorszenie optycznych i elektrycznych właściwości, zwłaszcza jeśli panel oszkleniowy poddać wygrzewaniu.
Jak wiadomo, SiO2 i Al2O3 są skutecznymi barierami dyfuzji jonów sodu w napylanych katodowo zestawach powlekających. Oprócz tego, że nanoszenie metodą napylania katodowego jest łatwiejsze, szybsze i tańsze, to uważa się, że azotek glinu może stanowić skuteczną barierę dla dyfuzji w przypadku mniejszych grubości geometrycznych niż grubość wymagana przy użyciu znanych materiałów.
PL 201 781 B1
Na przykład dobrą odporność cieplną względem dyfuzji jonów i tlenu z podłoża szklanego można nadać zestawowi powlekającemu przez rozmieszczenie azotku glinu o grubości geometrycznej większej od 4·10-9 m [40 A], na przykład około 5·10-9 m [50 A], jako co najmniej część spodniej warstwy przeciwodbiciowej, zwłaszcza, jeśli zestaw powlekający zawiera także warstwę barierową, na przykład metaliczną lub podtlenkową warstwę barierową, pod warstwą odbijającą w podczerwieni. W przypadku braku takiej bariery pod warstwą odbijającą w podczerwieni, dobrą odporność cieplną względem dyfuzji jonów i tlenu z podłoża szklanego można nadawać zestawowi powlekającemu przez rozmieszczenie w nim azotku glinu o grubości geometrycznej większą od 5·10-9 m [50 A], korzystnie większą od 8·10-9 m [80 A] lub 9·10-9 m [90 A], na przykład o grubości około 10-8 m [100 A], jako co najmniej części spodniej warstwy przeciwodbiciowej. Warstwa azotku glinu może nadawać korzystne właściwości nawet, jeśli ma grubość mniejszą od 1,95·10-8 m [195 A].
Zestaw powlekający może zawierać warstwę barierową nad warstwą odbijającą w podczerwieni i/lub pod warstwą odbijającą w podczerwieni. Takie bariery mogą zawierać jeden metal lub kilka metali i mogą być nanoszone na przykład jako tlenki metali, jako podtlenki metali lub jako metale.
Zdolność blokowania dyfuzji jonów i tlenu z podłoża szklanego za pomocą stosunkowo cienkiej warstwy umożliwia większy wybór materiałów i grubości niż w przypadku zastosowania innych warstw w zestawie powlekającym.
Umieszczenie warstwy tlenku metalu między azotkiem glinu a materiałem odbijającym w podczerwieni (zwłaszcza jeśli jest nim srebro lub stop srebra) może połączyć właściwości trwałości cieplnej azotku glinu z właściwościami wstawianego materiału, co sprzyja krystalizacji materiału odbijającego w podczerwieni i równoważy właściwości odbijania w podczerwieni z zamgleniem zestawu powlekającego, zwłaszcza, jeśli poddano go wygrzewaniu. Jednym takim korzystnym tlenkiem jest mieszany tlenek cynku i glinu, korzystnie o stosunku atomowym Al/Zn od około 0,1 do około 0,2, korzystniej od około 0,1 do około 0,15. Możliwym wyjaśnieniem tego jest fakt, że obecność Al w strukturze tlenku cynku może ograniczać wzrost ziaren kryształów w warstwie mieszanego tlenku.
Wygrzewanie może powodować wzrost wartości TL panelu oszkleniowego. Kontrolowany wzrost wartości TL może być korzystny dla zapewnienia dostatecznie dużej wartości TL, aby można było zastosować panel oszkleniowy na przykład w szybach samochodowych. Bezwzględna wartość TL może się zwiększyć w wyniku wygrzewania, na przykład więcej niż o około 2,5%, więcej niż o około 3%, więcej niż o około 5%, więcej niż o około 8% lub więcej niż o około 10%. Wygrzewanie może także spowodować zmniejszenie zdolności emisyjnej panelu oszkleniowego.
Skuteczność stosunkowo cienkiej warstwy azotku glinu w nadawaniu trwałości cieplnej pozwala na zastosowanie stosunkowo grubej warstwy takiego tlenku.
Zarówno w przypadku Si3N4 jak również w przypadku AlN potrzeba dłuższego czasu do naniesienia ich zwykłymi metodami napylania katodowego niż w przypadku tlenków stosowanych tradycyjnie w takich powłokach, na przykład ZnO, SnO2. Możliwość otrzymania dobrej trwałości cieplnej za pomocą stosunkowo cienkiej warstwy azotku glinu sprawia, że nanoszenie takiej warstwy nie jest czynnikiem ograniczającym sposób nanoszenia.
Nanoszenie azotku glinu metodą napylania katodowego jest także tańsze niż na przykład nanoszenie Si3N4 i nie potrzebuje domieszkowania lub ostrożności wymaganych podczas nanoszenia Si3N4.
Gęstość optyczna warstw przeciwodbiciowych, zwłaszcza wierzchniej warstwy przeciwodbiciowej ma zasadnicze znaczenie dla określenia barwy panelu oszkleniowego. Jeśli część warstwy przeciwodbiciowej zostanie utleniona, na przykład podczas wygrzewania panelu oszkleniowego, to, szczególnie w przypadku Si3N4 (współczynnik załamania światła około 2), gęstość optyczna może ulec zmianie, jeśli Si3N4 może być utleniony do SiO2 (współczynnik załamania światła około 1,45). Jeśli warstwa przeciwodbiciowa zawiera azotek glinu (współczynnik załamania światła około 1,7), to jego częściowe utlenienie do Al2O3 (współczynnik załamania światła około 1,7) będzie miało bardzo mały wpływ na gęstość optyczną warstwy.
Materiałem odbijającym w podczerwieni może być srebro lub stop srebra, na przykład stop srebra zawierający jako materiał dodatkowy jeden lub kilka metali jak Pd, Au i Cu. Ten materiał dodatkowy może znajdować się w stopie srebra w stosunku atomowym od 0,3% do 10%, korzystnie od 0,3% do 5%, korzystniej, zwłaszcza gdy materiałem dodatkowym jest Pd, od 0,3% do 2%, w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i metalu dodatkowego.
Jedna lub kilka warstw przeciwodbiciowych może zawierać tlenek, azotek, węglik lub ich mieszaninę. Warstwa przeciwodbiciowa może zawierać na przykład:
PL 201 781 B1
- tlenek jednego lub kilku z Zn, Ti, Sn, Si, Al, Ta lub Zr; tlenek cynku zawieraj ą cy Al, Ga, Si lub Sn lub tlenek indu zawierający Sn;
- azotek jednego lub kilku z Si, Al i B lub mieszaninę (włącznie z podwójnym azotkiem) azotku Zr lub Ti z jednym z wyżej wymienionych azotków;
- związek podwójny, na przykład SiOxCy, SiOxNy, SiAlxNy lub SiAlxOyNz.
Warstwą przeciwodbiciową może być warstwa pojedyncza lub może ona zawierać dwie lub kilka warstw o różnym składzie. Szczególnie korzystny jest tlenek cynku, korzystnie tlenek cynku zawierający co najmniej jeden z Sn, Cr, Si, B, Mg, In, Ga i szczególnie korzystnie zawierający Al i/lub Ti, ponieważ zastosowanie tych materiałów może ułatwić wytwarzanie trwałej sąsiedniej warstwy o dużej krystaliczności odbijającej w podczerwieni.
Możliwość zastosowania warstwy azotku glinu o grubości mniejszej od 10-8 m [100 A] dla uzyskania skutecznej bariery cieplnej daje duże możliwości wyboru ogólnej konstrukcji wierzchniej warstwy przeciwodbiciowej. Warstwa zawierająca azotek glinu może mieć grubość około 8,5·10-9 m [85 A]; zapewnia to kompromis pomiędzy dobrą odpornością cieplną a grubością. Warstwa zawierająca azotek glinu może mieć grubość większą od lub równą około 5·10-9 m [50 A], 6·10-9 m [60 A] lub 8·10-9 m [80 A]; jej grubość może być mniejsza od lub równa około 8,5·10-9 m [85 A], 9·10-9 m [90 A] lub 9,5·10-9 m [95 A].
Wykorzystując sposób wytwarzania panelu oszkleniowego, wytwarza się wygrzewany panel oszkleniowy o zamgleniu mniejszym od około 0,5, korzystnie mniejszym od około 0,3, odpowiedni do zastosowań na przykład w budownictwie, samochodach i w przemyśle.
Przykłady niniejszego wynalazku opisano w odniesieniu do Fig. 1, która jest przekrojem przez panel oszkleniowy przed operacją jego zginania i odpuszczania (dla ułatwienia przedstawienia, nie pokazano w tej samej skali względnych grubości panelu oszkleniowego i warstw powlekających).
P r z y k ł a d 1.
Fig. 1 przedstawia podwójną, wygrzewaną, powlekającą warstwę Ag naniesioną na podłoże szklane metodą napylania magnetronowego, mającą następującą konstrukcję sekwencyjną:
| nr odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2Ί03 m [2 mm] | |
| dolna warstwa dielektryczna | 11 | 6·10-9 m [60 A] | |
| zawierająca: AlN | 12 | ||
| ZnAlOx | 13 | 2,5·10-8 m [250 A] | Al/Zn = 0,1 |
| bariera pod ZnAlOy | 14 | 109 m [10 A] | Al/Zn = 0,1 |
| Ag | 15 | 108 m [100 A] | |
| bariera nad ZnAlOy | 16 | 1,2·10-9 m [12 A] | Al/Zn = 0,1 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 17 | 7,5·108 m [750 A] | Al/Zn = 0,1 |
| bariera pod ZnAlOy | 18 | 7·10-10 m [7 A] | Al/Zn = 0,1 |
| Ag | 19 | 10 8 m [100 A] | |
| bariera nad ZnAlOy | 20 | 1,7·10-9 m [17 A] | Al/Zn = 0,1 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 22 | 1,85·10-8 m [185 A] | Al/Zn = 0,1 |
| AlN | 23 | 8,5·10-9 m [85 A ] |
w której ZnAlOx oznacza mieszany tlenek zawierający Zn i Al naniesione w tym przykładzie metodą reaktywnego napylania z tarczy, którą jest stop lub mieszanina Zn z Al w obecności tlenu. Bariery ZnAlOy są podobnie osadzane przez napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Al w atmosferze zawierającej tlen wzbogacony argonem w celu osadzenia bariery, która nie jest całkowicie utleniona.
Alternatywnie, warstwę mieszanego tlenku ZnAlOx można wytwarzać metodą napylania z tarczy, którą jest mieszanina tlenku cynku z tlenkiem Al, zwłaszcza w atmosferze gazowego argonu lub w atmosferze tlenu zawierającej dużą ilość argonu.
PL 201 781 B1
Jeśli warstwy barierowe zawierają te same materiały jak warstwa mieszanego tlenku, zwłaszcza jak sąsiednia warstwa mieszanego tlenku, to może to ułatwić kierowanie tarczami i kontrolę warunków nanoszenia oraz może zapewnić dobrą adhezję między warstwami, a tym samym dobrą trwałość mechaniczną zestawu powlekającego.
Stan utlenienia w każdej z dielektrycznych warstw ZnAlOx - spodniej, środkowej i wierzchniej nie musi być taki sam. Podobnie stan utlenienia w każdej z barier ZnAlOy nie musi być taki sam. Tak samo stosunek Al/Zn nie musi być taki sam dla wszystkich warstw; na przykład warstwy barierowe mogą mieć stosunek Al/Zn różny od stosunku dla przeciwodbiciowych warstw dielektrycznych, a przeciwodbiciowe warstwy dielektryczne mogą mieć stosunki Al/Zn różne między sobą.
Każda wierzchnia bariera chroni przed utlenieniem spodnią warstwę srebra podczas nanoszenia metodą napylania katodowego jej wierzchniej warstwy tlenku ZnAlOx. Chociaż może wystąpić dalsze utlenianie tych warstw barierowych podczas nanoszenia ich wierzchnich warstw tlenkowych, to część tych barier korzystnie pozostaje w postaci niecałkowicie utlenionej i stanowi barierę dla następnego wygrzewania panelu oszkleniowego.
Ten specjalny panel oszkleniowy ma być wprowadzony do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje nastę pujące właściwości:
| właściwość | przed wygrzewaniem (patrz uwaga 1 poniżej) | po wygrzewaniu (patrz uwaga 2 poniżej ) |
| TL (iluminant A) | 63% | 76% |
| TE (system Moon 2) | 38% | 42% |
| zamglenie | 0,1 | 0,25 |
| a* | -20 (strona powleczona) | -6 (zewnętrzna) |
| b* | +3 (strona powleczona) | -12 (zewnętrzna) |
| RE (system Moon 2) | 31% (strona powleczona) | 33% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: zmierzono dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed wygrzewaniem.
Uwaga 2: zmierzono po wygrzewaniu w temperaturze 650°C w ciągu 10 minut z następnym zginaniem i odpuszczaniem i po laminowaniu z 2·10-3 m [2 mm] przezroczystym arkuszem szkł a i z 7,6·10-4 m [0,76 mm] przezroczystym PVB.
Wygrzewanie powoduje korzystnie zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, przy czym po wygrzewaniu otrzymuje się następującą konstrukcję zestawu powlekającego:
| nr odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2Ί0'3 m [2 mm] | |
| dolna warstwa dielektryczna | 11 | 6Ί0'9 m [60 A] | |
| zawierająca: AlN (częściowo utleniony) | 12 | ||
| ZnAlOx | 13 | 2,5Ί0'8ιτ [250 A] | Al/Zn=0,1 |
| utleniona bariera pod ZnAlOx | 14 | 10'9 m - 1,6·10-9 m [10 A - 16 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10'8 m [100 A] | |
| utleniona bariera nad ZnAlOx | 16 | 1,2·10-9 m - 2Ί0'9 m [12 A - 20 A] | Al/Zn=0,1 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 17 | 7,5Ί0'8 m [750 A] | Al/Zn=0,1 |
| utleniona bariera pod ZnAlOx | 18 | 7·10-9 m - 1,2·10-9 m [7 A - 12 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10'8 m [100 A] | |
| utleniona bariera nad ZnAlOx | 20 | 1,7·10-9 ιτ-2,8Ί0'9 m [17 A - 28 A] | Al/Zn=0,1 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 22 | 1,85·10-8 m [185 A] | Al/Zn=0,1 |
| AlN (częściowo utleniony) | 23 | 8,5·10-9 m [85 A] |
PL 201 781 B1
Warstwy AlN (częściowo utlenione) mogą zawierać mieszaninę AlN z Al2O3, przy czym AlN jest częściowo utleniony podczas wygrzewania. Warstwy barierowe nie muszą być całkowicie utlenione podczas wygrzewania, a ich grubość w pewnej mierze zależy do ich stopnia utlenienia.
P r z y k ł a d 2.
Przykład 2 jest podobny do przykładu 1, ale pominięto spodnie warstwy zestawu barierowego. Zestawy barierowe i właściwości przykładu podano poniżej:
| nr odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2·10-3 m [2 mm] | |
| dolna warstwa dielektryczna zawierająca: | 11 | 10-8 m [100 A] | |
| AlN | 12 | ||
| ZnAlOx | 13 | 2·10-8 m [200 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10-8 m [100 A] | |
| bariera nad ZnAl | 16 | 10-9 m [10 A] | Al/Zn=0,1 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 17 | 7,5·10-8 m [750 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10-8 m [100 A] | |
| bariera nad ZnAl | 20 | 1,5·10-9 m [15 A] | Al/Zn=0,1 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 22 | 1,85·10-8 m [185 A] | Al/Zn=0,1 |
| AlN (częściowo utleniony) | 23 | 8,5·10-9 m [85 A] |
w którym ZnAlOx oznacza mieszany tlenek zawieraj ą cy Zn i Al naniesiony w tym przykł adzie metodą reaktywnego napylania z tarczy, która jest stopem lub mieszaniną Zn z Al, w obecności tlenu. Bariery ZnAl są podobnie osadzane przez napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Al w zasadniczo oboję tnej, nie zawierają cej tlenu atmosferze.
Co najmniej część wierzchnich warstw 16, 20 zostaje utleniona podczas nanoszenia ich wierzchnich warstw tlenkowych. Niemniej jednak, część tych barier pozostaje korzystnie w postaci metalicznej lub co najmniej w postaci niecałkowicie utlenionego tlenku i stanowi barierę podczas następnego wygrzewania panelu oszkleniowego.
Ten specjalny panel oszkleniowy ma być wprowadzony do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje on nastę pują ce wł a ś ciwoś ci:
| właściwość | przed poddaniem cyklowi ogrzewania A (patrz uwaga 1 poniżej) | po poddaniu cyklowi ogrzewania A (patrz uwaga 2 poniżej) |
| TL (iluminant A) | 70% | 77% |
| TE (system Moon 2) | 41% | 43% |
| zamglenie | 0,1 | 0,2 |
| a* | -17 (strona powleczona) | -5 (zewnętrzna) |
| b* | +8 (strona powleczona) | -9 (zewnętrzna) |
| RE (system Moon 2) | 33% (strona powleczona) | 34% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: zmierzono dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed wygrzewaniem.
Uwaga 2: zmierzono po wygrzewaniu w temperaturze 625°C w ciągu 14 minut z następnym zginaniem i odpuszczaniem i po laminowaniu z 2·10-3 m [2 mm] przezroczystym arkuszem szkła i z 7,6·10-4 m [0,76 mm] przezroczystym PVB.
Wygrzewanie powoduje korzystnie zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, przy czym po wygrzewaniu otrzymuje się następującą konstrukcję zestawu powlekającego:
PL 201 781 B1
Zestaw powlekający po wygrzewaniu
| nr odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2Ί03 m [2 mm] | |
| dolna warstwa dielektryczna zawierająca: | 11 | 10-8 m [100 A] | |
| AlN | 12 | ||
| (częściowo utleniony) ZnAlOx | 13 | 2·10'8 m [200 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10-8 m [100 A] | |
| utleniona bariera nad ZnAlOx | 16 | 1,2·10-9 ιτι-2Ί0-9 m [12 A - 20 A] | Al/Zn=0,1 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlO | 17 | 7,5·10-8 m [750 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10-8 m [100 A] | |
| utleniona bariera nad ZnAlO | 20 | 1,7·10-9 τι-3·10-9 m [17 A - 30 A] | Al/Zn=0,1 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 22 | 1,85·10-8 m [185 A] | Al/Zn=0,1 |
| AlN (częściowo utleniony) | 23 | 8,5·10-9 m [85 A] |
P r z y k ł a d 3.
Przykład 3 jest podobny do przykładu 2. Zestawy powlekające i właściwości przykładu podano poniżej:
| liczba odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2·10-3 m [2 mm] | |
| dolna warstwa dielektryczna zawierająca: | 11 | 1,1·10-8 m [110 A] | |
| AlN | 12 | ||
| ZnAlOx | 13 | 2,4·10-8 m [240 A] | Al/Zn=0,14 |
| Ag | 15 | 108 m [100 A] | |
| bariera nad ZnAl | 16 | 1,2·10-9 m [12 A] | Al/Zn=0,14 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 17 | 7,5·10-8 m [750 A] | Al/Zn=0,14 |
| Ag | 19 | 10 8 m [100 A] | |
| bariera nad ZnAl | 20 | 1,8·10-9 m [18 A] | Al/Zn=0,14 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 22 | 1,8·10-8 m [180 A] | Al/Zn=0,14 |
| AlNx | 23 | 8,5·10-9 m [85 A] |
Co najmniej część wierzchnich warstw 16, 20 zostaje utleniona podczas nanoszenia ich wierzchnich warstw tlenkowych. Niemniej jednak, część tych barier pozostaje korzystnie w postaci metalicznej lub co najmniej w postaci niecałkowicie utlenionego tlenku i stanowi barierę podczas następnego wygrzewania panelu oszkleniowego.
Ten specjalny panel oszkleniowy ma być wprowadzony do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje nastę pujące właściwości:
| właściwość | po wygrzewaniu (patrz uwaga 1 poniżej) |
| TL (iluminant A) | 76% |
| TE (system Moon 2) | 43% |
| zamglenie | 0,23 |
| RE (system Moon 2) | 32% (zewnętrzna) |
PL 201 781 B1
Uwaga 1: zmierzono po wygrzewaniu w temperaturze 645°C w ciągu 14 minut z następnym zginaniem i odpuszczaniem i po laminowaniu z 2·10-3 m [2 mm] przezroczystym arkuszem szkła i z 7,6·10-4 m [0,76 mm] przezroczystym PVB.
Uwaga 2: a* przed wygrzewaniem wynosi -10 (strona powleczona)
P r z y k ł a d 4.
Przykład 4 jest podobny do przykładu 2. Zestawy powlekające i właściwości przykładu podano poniżej:
| liczba odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| podłoże szklane | 10 | 2-10-3 m [2 mm] | |
| dolna warstwa dielektryczna | 11 | 10-8 m [100 A] 2,2·10-8 m [220 A] | |
| zawierająca: AlNx | 12 | ||
| ZnAlOx | 13 | Al/Zn=0,14 | |
| Ag | 15 | 10-8 m [100 A] | |
| bariera nad ZnAl | 16 | 1,2-10-9 m [12 A] | Al/Zn=0,14 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 17 | 8-108 m [800 A] | Al/Zn=0,14 |
| Ag | 19 | 10-8 m [100 A] | |
| bariera nad ZnAl | 20 | 1,8-10-9 m [18 A] | Al/Zn=0,14 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 22 | 1,8-10-8 m [180 A] | Al/Zn=0,14 |
| AlNx | 23 | 8,5-10-9 m [85 A] |
Co najmniej część wierzchnich warstw 16, 20 zostaje utleniona podczas nanoszenia ich wierzchnich warstw tlenkowych. Niemniej jednak, część tych barier pozostaje korzystnie w postaci metalicznej lub co najmniej w postaci niecałkowicie utlenionego tlenku i stanowi barierę podczas następnego wygrzewania panelu oszkleniowego.
Ten specjalny panel oszkleniowy ma być wprowadzony do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje następujące właściwości:
| właściwość | po poddaniu wygrzewaniu (patrz uwaga 2 poniżej) |
| TL (iluminant A) | 75,5% |
| TE (system Moon 2) | 43,4% |
| zamglenie | 0,21 |
| RE (system Moon 2) | 31,5% (zewnętrzna) |
Uwaga 2: zmierzono po wygrzewaniu w temperaturze 645°C w ciągu 14 minut z następnym zginaniem i odpuszczaniem i po laminowaniu z 2·10-3 m [2 mm] przezroczystym arkuszem szkł a i z 7,6·10-4 m [0,76 mm] przezroczystym PVB.
P r z y k ł a d 5.
Przykład 5 jest podobny do przykładu 2. Zestawy powlekające i właściwości przykładu podano poniżej:
| liczba odniesienia | grubość geometryczna | stosunki atomowe | |
| 1 | 2 | 3 | 4 |
| podłoże szklane | 10 | 2-10-3 m [2 mm] | |
| dolna warstwa dielektryczna zawierająca: | 11 | 10-8 m [100 A] 2,2-10-8 m [220 A] | |
| AlNx | 12 | ||
| ZnAlOx | 13 | Al/Zn=0,05 | |
| Ag-Pd | 15 | 10-8 m [100 A] | Pd/Ag=0,005 |
| bariera nad ZnAl | 16 | 1,2-10-9 m [12 A] | Al/Zn=0,05 |
PL 201 781 B1 cd. przykładu 5
| 1 | 2 | 3 | 4 |
| środkowa warstwa dielektryczna zawierająca ZnAlOx | 17 | 8·10-8 m [800 A] | Al/Zn=0,05 |
| Ag-Pd | 19 | 10-8 m [100 A] | Pd/Ag=0,005 |
| bariera nad ZnAl | 20 | 1,8·10-9 m [18 A] | Al/Zn=0,05 |
| wierzchnia warstwa dielektryczna zawierająca: ZnAlOx | 22 | 1,8·10-8 m [180 A] | Al/Zn=0,05 |
| AlNx | 23 | 8,5·10-9 m [85 A] |
Co najmniej część wierzchnich warstw 16, 20 zostaje utleniona podczas nanoszenia ich wierzchnich warstw tlenkowych. Niemniej jednak, część tych barier pozostaje korzystnie w postaci metalicznej lub co najmniej w postaci niecałkowicie utlenionego tlenku i stanowi barierę podczas następnego wygrzewania panelu oszkleniowego.
Ten specjalny panel oszkleniowy ma być wprowadzony do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje nastę pujące właściwości:
| właściwość | po poddaniu wygrzewaniu (patrz uwaga 2 poniżej) |
| TL (iluminant A) | 75,2% |
| TE (system Moon 2) | 42,9% |
| zamglenie | 0,24 |
| RE (system Moon 2) | 31,4% (zewnętrzna) |
Uwaga 2: zmierzono po wygrzewaniu w temperaturze 645°C w ciągu 14 minut z następnym zginaniem i odpuszczaniem i po laminowaniu z 2·10-3 m [2 mm] przezroczystym arkuszem szkła i z 7,6·10-4 m [0,76 mm] przezroczystym PVB.
Dodatkowe warstwy można, jeśli jest to potrzebne, wprowadzać nad, pod lub między zestaw folii, bez odchodzenia od zakresu niniejszego wynalazku.
Oprócz korzystnych właściwości optycznych, jakie można uzyskać, każdy z przykładów daje warstwę powlekającą, która może być ogrzewana elektrycznie, na przykład w ogrzewanej elektrycznie szybie samochodowej, w celu usuwania zamglenia i/lub szronu, po wprowadzeniu odpowiednio umieszczonych łączników elektrycznych.
Współrzędne barw podane w przykładach są szczególnie odpowiednie do zastosowań w szybach samochodowych, ponieważ dają neutralny lub słabo niebieski lub słabo zielony wygląd w odbiciu, jeśli szybę samochodową ustawić pod kątem do karoserii samochodowej. Dla innych zastosowań, na przykład zastosowań w budownictwie, barwę w odbiciu można nastawiać sposobem znanym w technice przez nastawienie grubości warstw dielektrycznych i/lub warstwy/warstw srebra.
Wartość TL panelu oszkleniowego można dostosować do przewidywanego zastosowania. Na przykład:
- jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako szyba samochodowa na rynku europejskim, to można wybrać wartość TL większą od 75% (zgodnie z wymaganiami przepisów europejskich);
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako szyba samochodowa na rynku amerykańskim, to można wybrać wartość TL większą od 70% (zgodnie z wymaganiami przepisów amerykańskich);
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednia - boczna szyba samochodowa, to można nastawiać wartość TL większą od 70% (zgodnie z wymaganiami przepisów europejskich);
- jeś li panel oszkleniowy ma być stosowany jako tylna boczna szyba samochodowa lub jako tylna szyba samochodowa, to można wybrać wartość TL w zakresie od około 30% do około 70%.
Takie nastawianie wartości TL można uzyskać na przykład:
- przez dobranie grubości warstw zestawu powlekającego, w szczególności grubości warstw dielektrycznych i/lub warstw odbijających w podczerwieni;
- przez połączenie zestawu powlekają cego z podł o ż em barwnego szk ł a;
- przez połączenie zestawu powlekają cego z barwnym PVB lub z inną warstwą laminują c ą .
O ile z kontekstu nie wynika, ż e jest inaczej, to podane poniż ej terminy w niniejszym opisie mają następujące znaczenia:
PL 201 781 B1
| a* | współrzędna barwy mierzona na skali CIELab pod normalnym kątem padania | |
| Ag | srebro | |
| Al | glin | |
| Al2O3 | tlenek glinu | |
| AlN | azotek glinu | |
| b* | współrzędna barwy mierzona na skali CIELab pod normalnym kątem padania | |
| Bi | bizmut | |
| Cr | chrom | |
| zamglenie | procent przepuszczonego światła, które przechodząc przez próbkę odchyla się do padającej wiązki w wyniku rozproszenia w przód, pomiar według normy ASTM D 1003-61 (powtórne zatwierdzenie 1988) | |
| Hf | hafn | |
| materiał odbijający w podczerwieni | materiał mający współczynnik odbicia większy niż współczynnik odbicia szkła sodowo-wapniowego w paśmie fal o długości od 780 nm do 50 μιτι | |
| Na | sód | |
| Nb | niob | |
| NiCr | stop lub mieszanina niklu i chromu | |
| NiTi | stop lub mieszanina niklu i tytanu | |
| RE | odbicie energetyczne | strumień słoneczny (świecący i nieświecący) odbity od podłoża, w procentach padającego strumienia słonecznego |
| Sb | antymon | |
| selektywność | stosunek współczynnika przepuszczalności światła do czynnika słonecznego, np. TL/TE | |
| SiO2 | tlenek krzemu | |
| Si3N4 | azotek krzemu | |
| SnO2 | tlenek cyny | |
| Ta | tantal | |
| TE | współczynnik przepuszczania energii | strumień słoneczny (świecący i nieświecący) przepuszczony przez podłoże, w procentach padającego strumienia słonecznego |
| Ti | tytan | |
| TL | współczynnik przepuszczania światła | strumień światła przepuszczonego przez podłoże, w procentach padającego strumienia słonecznego |
| Zn | cynk | |
| ZnAl | stop lub mieszanina zawierająca cynk i glin | |
| ZnAlOx | mieszany tlenek zawierający cynk i glin | |
| ZnAlOy | częściowo utleniona mieszanina zawierająca cynk i glin | |
| ZnO | tlenek cynku | |
| ZnTi | stop lub mieszanina zawierająca cynk i tytan |
PL 201 781 B1 ciąg dalszy
| ZnTiOx | mieszany tlenek zawierający cyn i tytan | |
| ZnTiOy | częściowo utleniona mieszanina zawierająca cyn i tytan | |
| Zr | cyrkon |
Zastrzeżenia patentowe
Claims (12)
- Zastrzeżenia patentowe1. Panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania lub wygrzewany panel oszkleniowy bez zamglenia z naniesionym zestawem powlekającym zawierający w sekwencji co najmniej: podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodbiciową zawierającą co najmniej jedną warstwę zawierającą azotek glinu, warstwę ze srebra lub ze stopu srebra odbijającą w podczerwieni i wierzchnią warstwę przeciwodbiciową, znamienny tym, że dolna warstwa przeciwodbiciowa zawiera pierwszą warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą azotek glinu i wierzchnią warstwę zawierającą mieszany tlenek cynku i glinu lub, wierzchnia warstwa przeciwodbiciowa zawiera co najmniej pierwszą warstwę z mieszanego tlenku cynku i glinu i pokrywającą warstwę zawierającą azotek glinu mającą grubość geometryczną mniejszą od 10-8 m; przy czym panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania po wygrzewaniu wykazuje wzrost współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 2,5% i daje panel oszkleniowy bez zamglenia, w przypadku gdy dolna warstwa przeciwodbiciowa zawiera pierwszą warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą azotek glinu i wierzchnią warstwę zawierającą mieszany tlenek cynku i glinu.
- 2. Panel według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera w sekwencji co najmniej: podłoże szklane, dolną warstwę przeciwodbiciową zawierającą co najmniej jedną warstwę zawierającą azotek glinu, warstwę odbijającą w podczerwieni, środkową warstwę przeciwodbiciową, warstwę odbijającą w podczerwieni, i wierzchnią warstwę przeciwodbiciową, przy czym wygrzewany panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania, po wygrzewaniu wykazuje wzrost wartości współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 2,5% i daje panel oszkleniowy bez zamglenia.
- 3. Panel według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że w sekwencji co najmniej jedna warstwa zawierająca azotek glinu ma grubość geometryczną większą od 4·10-9 m.
- 4. Panel według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że co najmniej jedna warstwa zawierająca azotek glinu ma grubość geometryczną mniejszą od 1,95·10-8 m.
- 5. Panel według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że dolna warstwa przeciwodbiciowa jak również górna warstwa przeciwodbiciowa zawierają co najmniej jedną warstwę zawierającą azotek glinu.
- 6. Panel według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że każda warstwa przeciwodbiciowa zawiera co najmniej jedną warstwę zawierającą azotek glinu.
- 7. Panel według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że mieszany tlenek cynku i glinu ma stosunek atomowy Al/Zn większy od lub równy 0,05 i mniejszy od lub równy 0,25.
- 8. Panel według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że wygrzewany panel oszkleniowy po wygrzewaniu wykazuje wzrost wartości współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 2,5%.
- 9. Panel według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że wygrzewany panel oszkleniowy po wygrzewaniu wykazuje wzrost wartości współczynnika przepuszczania światła TL o co najmniej 7%.
- 10. Panel według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że azotkiem glinu jest czysty AlN.
- 11. Panel według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że azotek glinu zawiera co najmniej 90% wagowych, a korzystnie co najmniej 95% wagowych czystego AlN.
- 12. Sposób wytwarzania panelu oszkleniowego mającego zamglenie mniejsze od 0,5, znamienny tym, że obejmuje on etap, w którym wygrzewa się panel oszkleniowy określony w zastrz. 1 w temperaturze co najmniej 570°C.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98204319 | 1998-12-18 | ||
| PCT/EP1999/010072 WO2000037379A1 (en) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Glazing panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL349337A1 PL349337A1 (en) | 2002-07-15 |
| PL201781B1 true PL201781B1 (pl) | 2009-05-29 |
Family
ID=8234492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL349337A PL201781B1 (pl) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania lub wygrzewany panel oszkleniowy bez zamglenia, sposób wytwarzania panelu oszkleniowego |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6340529B1 (pl) |
| EP (1) | EP1154963B1 (pl) |
| JP (1) | JP4359981B2 (pl) |
| AT (1) | ATE275105T1 (pl) |
| CZ (1) | CZ20012219A3 (pl) |
| DE (1) | DE69919904T2 (pl) |
| ES (1) | ES2228151T3 (pl) |
| HU (1) | HU224414B1 (pl) |
| PL (1) | PL201781B1 (pl) |
| SK (1) | SK8352001A3 (pl) |
| WO (1) | WO2000037379A1 (pl) |
Families Citing this family (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050096288A1 (en) * | 1997-06-13 | 2005-05-05 | Aragene, Inc. | Lipoproteins as nucleic acid vectors |
| US6699585B2 (en) | 1998-12-18 | 2004-03-02 | Asahi Glass Company, Limited | Glazing panel |
| US6610410B2 (en) | 1998-12-18 | 2003-08-26 | Asahi Glass Company, Limited | Glazing panel |
| US7344782B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-03-18 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7462398B2 (en) * | 2004-02-27 | 2008-12-09 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with zinc oxide over IR reflecting layer and corresponding method |
| US6576349B2 (en) * | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
| US7879448B2 (en) * | 2000-07-11 | 2011-02-01 | Guardian Industires Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US6887575B2 (en) * | 2001-10-17 | 2005-05-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with zinc oxide inclusive contact layer(s) |
| US6445503B1 (en) * | 2000-07-10 | 2002-09-03 | Guardian Industries Corp. | High durable, low-E, heat treatable layer coating system |
| US20030049464A1 (en) * | 2001-09-04 | 2003-03-13 | Afg Industries, Inc. | Double silver low-emissivity and solar control coatings |
| US6602608B2 (en) * | 2001-11-09 | 2003-08-05 | Guardian Industries, Corp. | Coated article with improved barrier layer structure and method of making the same |
| US6586102B1 (en) * | 2001-11-30 | 2003-07-01 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
| US6830817B2 (en) * | 2001-12-21 | 2004-12-14 | Guardian Industries Corp. | Low-e coating with high visible transmission |
| US7087309B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-08-08 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with tin oxide, silicon nitride and/or zinc oxide under IR reflecting layer and corresponding method |
| US7133197B2 (en) * | 2004-02-23 | 2006-11-07 | Jds Uniphase Corporation | Metal-dielectric coating for image sensor lids |
| US7081302B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-07-25 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer |
| US7393584B2 (en) * | 2005-01-14 | 2008-07-01 | Solutia Incorporated | Multiple layer laminate with moisture barrier |
| MX2007014164A (es) * | 2005-05-12 | 2008-02-25 | Agc Flat Glass North America | Recubrimiento de baja emisividad con bajo coeficiente de ganancia de calor solar, propiedades quimicas y mecanicas mejoradas y metodo para fabricar el mismo. |
| SE530464C2 (sv) * | 2005-08-02 | 2008-06-17 | Sunstrip Ab | Nickel-aluminiumoxid-belagd solabsorbator |
| US20070071983A1 (en) * | 2005-09-23 | 2007-03-29 | Solutia, Inc. | Multiple layer glazing bilayer |
| US7342716B2 (en) | 2005-10-11 | 2008-03-11 | Cardinal Cg Company | Multiple cavity low-emissivity coatings |
| US7339728B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-03-04 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient |
| US7572511B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-08-11 | Cardinal Cg Company | High infrared reflection coatings |
| GB0600425D0 (en) * | 2006-01-11 | 2006-02-15 | Pilkington Plc | Heat treatable coated glass pane |
| US8132426B2 (en) | 2007-01-29 | 2012-03-13 | Guardian Industries Corp. | Method of making heat treated coated article using diamond-like carbon (DLC) coating and protective film |
| GB0712447D0 (en) | 2007-06-27 | 2007-08-08 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| US7901781B2 (en) * | 2007-11-23 | 2011-03-08 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same |
| JP5197418B2 (ja) | 2008-08-26 | 2013-05-15 | 三菱電機株式会社 | 反射防止膜及びその製造方法、並びに表示装置 |
| GB0823501D0 (en) | 2008-12-24 | 2009-01-28 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US10060180B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US9862640B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-01-09 | Cardinal Cg Company | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| JP5722346B2 (ja) | 2010-01-16 | 2015-05-20 | 日本板硝子株式会社 | 高品質放射制御コーティング、放射制御ガラスおよび製造方法 |
| US10000411B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
| US10000965B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
| US8790783B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-07-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| US8679634B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Functional layers comprising Ni-inclusive ternary alloys and methods of making the same |
| US8709604B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-04-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| US8679633B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same |
| BE1020331A4 (fr) * | 2011-11-29 | 2013-08-06 | Agc Glass Europe | Vitrage de contrôle solaire. |
| TWI549811B (zh) * | 2013-07-23 | 2016-09-21 | 大立光電股份有限公司 | 紅外線濾光元件 |
| US20180105459A1 (en) * | 2015-04-20 | 2018-04-19 | Agency For Science, Technology And Research | A multilayer coating |
| US11028012B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-06-08 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
Family Cites Families (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4822120A (en) | 1974-08-16 | 1989-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
| NO157212C (no) | 1982-09-21 | 1988-02-10 | Pilkington Brothers Plc | Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne. |
| US4716086A (en) | 1984-12-19 | 1987-12-29 | Ppg Industries, Inc. | Protective overcoat for low emissivity coated article |
| US4786563A (en) | 1985-12-23 | 1988-11-22 | Ppg Industries, Inc. | Protective coating for low emissivity coated articles |
| DE3750823C5 (de) | 1986-01-29 | 2006-01-26 | Pilkington Plc, St. Helens | Beschichtetes Glas. |
| EP0277228B1 (en) | 1986-08-20 | 1992-10-28 | Libbey-Owens-Ford Co. | Solar control glass assembly and method of making same |
| US4859532A (en) | 1986-11-27 | 1989-08-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent laminated product |
| US4806220A (en) | 1986-12-29 | 1989-02-21 | Ppg Industries, Inc. | Method of making low emissivity film for high temperature processing |
| US4898790A (en) | 1986-12-29 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for high temperature processing |
| US4902580A (en) | 1988-04-01 | 1990-02-20 | Ppg Industries, Inc. | Neutral reflecting coated articles with sputtered multilayer films of metal oxides |
| US4834857A (en) | 1988-04-01 | 1989-05-30 | Ppg Industries, Inc. | Neutral sputtered films of metal alloy oxides |
| US4898789A (en) | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
| DE3940748A1 (de) | 1989-12-09 | 1991-06-13 | Ver Glaswerke Gmbh | Elektrisch beheizbare autoglasscheibe aus verbundglas |
| DE69128729T2 (de) * | 1990-07-05 | 1998-04-30 | Asahi Glass Co Ltd | Beschichtung mit niedriger Emission |
| US5532062A (en) | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| DE69220901T3 (de) | 1991-10-30 | 2005-01-20 | Asahi Glass Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung eines wärmebehandelten beschichteten Glases |
| US5993617A (en) | 1991-12-26 | 1999-11-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Functional product |
| CA2120875C (en) * | 1993-04-28 | 1999-07-06 | The Boc Group, Inc. | Durable low-emissivity solar control thin film coating |
| DE4324576C1 (de) | 1993-07-22 | 1995-01-26 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer mit einer Mehrfachschicht versehenen Glasscheibe |
| ATE169288T1 (de) * | 1994-05-03 | 1998-08-15 | Cardinal Ig Co | Transparenter gegenstand mit siliciumnitrid- schutzschicht |
| FI96579C (fi) * | 1994-11-14 | 1996-07-25 | Instrumentarium Oy | Menetelmä vaarallisen alipaineen muodostumisen estämiseksi hengitysjärjestelmässä |
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| FR2734811B1 (fr) * | 1995-06-01 | 1997-07-04 | Saint Gobain Vitrage | Substrats transparents revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| DE19520843A1 (de) * | 1995-06-08 | 1996-12-12 | Leybold Ag | Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung |
| CA2179853C (en) | 1995-06-26 | 2007-05-22 | Susumu Suzuki | Laminate |
| DE19541937C1 (de) | 1995-11-10 | 1996-11-28 | Ver Glaswerke Gmbh | Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission |
| IT1293394B1 (it) * | 1996-07-25 | 1999-03-01 | Glaverbel | Substrati rivestiti di metallo |
| US6040939A (en) * | 1998-06-16 | 2000-03-21 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Anti-solar and low emissivity functioning multi-layer coatings on transparent substrates |
-
1999
- 1999-12-15 HU HU0104538A patent/HU224414B1/hu active IP Right Grant
- 1999-12-15 PL PL349337A patent/PL201781B1/pl unknown
- 1999-12-15 EP EP99964596A patent/EP1154963B1/en not_active Revoked
- 1999-12-15 CZ CZ20012219A patent/CZ20012219A3/cs unknown
- 1999-12-15 SK SK835-2001A patent/SK8352001A3/sk unknown
- 1999-12-15 ES ES99964596T patent/ES2228151T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 AT AT99964596T patent/ATE275105T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 WO PCT/EP1999/010072 patent/WO2000037379A1/en not_active Ceased
- 1999-12-15 DE DE69919904T patent/DE69919904T2/de not_active Revoked
- 1999-12-17 JP JP35930499A patent/JP4359981B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-20 US US09/466,785 patent/US6340529B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000229379A (ja) | 2000-08-22 |
| DE69919904T2 (de) | 2005-09-01 |
| HU224414B1 (hu) | 2005-08-29 |
| DE69919904D1 (de) | 2004-10-07 |
| PL349337A1 (en) | 2002-07-15 |
| HUP0104538A2 (en) | 2002-11-28 |
| ES2228151T3 (es) | 2005-04-01 |
| US6340529B1 (en) | 2002-01-22 |
| JP4359981B2 (ja) | 2009-11-11 |
| CZ20012219A3 (cs) | 2002-02-13 |
| ATE275105T1 (de) | 2004-09-15 |
| WO2000037379A1 (en) | 2000-06-29 |
| EP1154963A1 (en) | 2001-11-21 |
| SK8352001A3 (en) | 2001-11-06 |
| EP1154963B1 (en) | 2004-09-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL201781B1 (pl) | Panel oszkleniowy nadający się do wygrzewania lub wygrzewany panel oszkleniowy bez zamglenia, sposób wytwarzania panelu oszkleniowego | |
| EP1154965B1 (en) | Glazing panel | |
| EP1150928B1 (en) | Glazing panel | |
| US6610410B2 (en) | Glazing panel | |
| US6699585B2 (en) | Glazing panel | |
| US20080085404A1 (en) | Transparent substrate coated with a silver layer | |
| KR20080109899A (ko) | 피복 판유리 | |
| PL200326B1 (pl) | Szyby oszkleniowe oraz sposób wytwarzania szyby oszkleniowej | |
| PL203325B1 (pl) | Sposób wytwarzania oszklenia oraz zagiętego albo zahartowanego oszklenia wyposażonego w wielowarstewkową powłokę i oszklenie oraz zagięte albo zahartowane oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową | |
| EP1147066B1 (en) | Glazing panel | |
| PL199886B1 (pl) | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego |