CZ20012219A3 - Zasklívací tabule a způsob její výroby - Google Patents
Zasklívací tabule a způsob její výroby Download PDFInfo
- Publication number
- CZ20012219A3 CZ20012219A3 CZ20012219A CZ20012219A CZ20012219A3 CZ 20012219 A3 CZ20012219 A3 CZ 20012219A3 CZ 20012219 A CZ20012219 A CZ 20012219A CZ 20012219 A CZ20012219 A CZ 20012219A CZ 20012219 A3 CZ20012219 A3 CZ 20012219A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- heat
- layer
- glazing panel
- treatable
- substantially non
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 37
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 61
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 58
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 10
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Zn+2] JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 148
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 67
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 14
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 13
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 11
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 8
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 5
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 5
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- -1 SiO 2 Chemical class 0.000 description 2
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 2
- 101100126625 Caenorhabditis elegans itr-1 gene Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3647—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer in combination with other metals, silver being more than 50%
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)
Description
Oblast techniky
Předmětný vynález se týká zasklívacích tabulí a zejména, avšak nejen, zasklívacích tabulí pro regulaci procházejícího slunečního záření, které jsou určeny pro podstoupení tepelné úpravy po aplikaci filtru pro regulaci průchodu slunečního záření.
Dosavadní stav techniky
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 233003A byla popsána zasklívací tabule nesoucí optický filtr nanesený pokovováním rozprašováním, který má následující strukturu: skleněný podkladový materiál/základní vrstva dielektrika tvořená SnO2/první kovová bariéra zahrnující Al, Ti, Zn, Zr nebo Ta/Ag/druhá kovová bariéra zahrnující Al, Ti, Zn, Zr nebo Ta/vnější vrstva dielektrika tvořená SnO2. Uvedený optický filtr je vytvořen s cílem blokovat podstatnou část dopadajícího záření v infračervené oblasti spektra a současně umožnit průchod podstatné části záření ve viditelné oblasti spektra. Takto vytvořený filtr slouží pro snížení ohřívacího účinku dopadajícího slunečního záření, přičemž zároveň umožňuje dobrou viditelnost skrz uvedenou zasklívací tabuli a takováto zasklívací tabule je zvlášť vhodná pro výrobu čelních skel automobilů.
Ve výše uvedeném typu struktury slouží vrstva stříbra pro odrážení dopadajícího infračerveného záření a aby mohla plnit tuto roli, musí mít tato vrstva spíše charakter kovového • · stříbra než oxidu stříbra a nesmí být kontaminována přiléhajícími vrstvami. Vrstvy uvedeného dielektrika, které přiléhají k uvedené vrstvě stříbra z obou stran, slouží pro snížení odrazu záření ve viditelné oblasti spektra, který by jinak vyvolávala uvedená vrstva stříbra. Druhá kovová bariéra slouží pro zabránění oxidace vrstvy stříbra během vytváření vnější vrstvy dielektrika, kterou tvoří SnO2, přičemž k vytváření této vrstvy dochází pokovováváním rozprašováním v oxidační atmosféře; při uvedeném procesu dochází k alespoň částečné oxidaci uvedené kovové bariéry. Hlavním úkolem první kovové bariéry je zabránit oxidaci vrstvy stříbra během tepelné úpravy uvedeného optického filtru, naneseného na skleněné tabuli (tj. během ohýbání a/nebo temperování této skleněné tabule), přičemž ochranný účinek této vrstvy spočívá v tom, že při uvedených tepelných úpravách dochází spíše k oxidaci této vrstvy než k umožnění průchodu kyslíku až k vrstvě stříbra. Tato oxidace uvedené kovové vrstvy během tepelné úpravy skla vyvolává zvýšení hodnoty TL dané zasklívací tabule.
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 792847A byla popsána tepelně upravitelná zasklívací tabule pro regulaci průchodu slunečního záření, která byla vytvořena na stejném principu a měla následující strukturu: skleněný podkladový materiál/vrstva dielektrika tvořená ZnO/Zn bariéra/ Ag/Zn bariéra/vrstva dielektrika tvořená ZnO/Zn bariéra/ Ag/Zn bariéra/vrstva dielektrika tvořená ZnO. Zinkové (Zn) bariéry, které se nacházejí pod každou vrstvou stříbra jsou určeny k tomu, aby došlo k jejich úplné oxidaci během tepelné úpravy takovéto skleněné tabule a slouží pro ochranu vrstvy stříbra před oxidací. V dané oblasti techniky je rovněž známo,
že zvýšení selektivity daného optického filtru je možné dosáhnout spíše pomocí uvedené struktury obsahující dvě, vzájemně oddělené vrstvy stříbra než pomocí struktury obsahující jedinou vrstvu stříbra.
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 718250A bylo popsáno použití vrstvy, která zajišťuje bariérovou funkci proti difúzi kyslíku, přičemž v tomto typu vrstveného filtru tvoří tato vrstva alespoň část vnější vrstvy dielektrika. Aby takováto vrstva tvořila účinnou bariéru, musí mít tloušťku alespoň 100 Á a výhodně má tloušťku alespoň 200 A, přičemž tato vrstva může zahrnovat sloučeniny křemíku, jako je SiO2, SiOxCy, SiOxNy, nitridy, jako je Si3N4 nebo A1N, karbidy, jako je SiC, TiC, CrC a TaC.
Podstata vynálezu
Pokud z kontextu nevyplývá jinak, mají v následujícím textu jednotlivé zkratky, symboly a vzorce následující význam:
| a* | souřadnice chromátičnosti měřená na stupnici CIELab při normálním dopadu záření | |
| Ag | stříbro | |
| Al | hliník | |
| A12O3 | oxid hlinitý | |
| A1N | nitrid hlinitý |
• ·· · · ·· ·· «· ··»
| b* | souřadnice chromatičnosti měřená na stupnici CIELab při normálním dopadu záření | |
| Bi | bismut | |
| Cr | chrom | |
| zákal | procento propouštěného světla procházejícího skrz vzorek, které se liší od dopadajícího paprsku rozptylem v předním směru, stanovené podle standardu ASTM D 1003-61 (který byl novelizován v roce 1988) | |
| Hf | hafnium | |
| materiál odrážející infračervené záření | materiál, jehož koeficient odrazu v oblasti vlnových délek od 780 nanometrů do 50 mikrometrů je větší než koeficient odrazu sodnovápenatého skla | |
| Na | sodík | |
| Nb | niob | |
| NiCr | slitina nebo směs obsahující nikl a chrom | |
| NiTi | slitina nebo směs obsahující nikl a titan | |
| RE | odraz energie | množství slunečního záření (viditelného nebo neviditelného) odraženého od podkladového materiálu, vyjádřené jako procento dopadajícího slunečního záření |
| Sb | antimon |
| selektivita | poměr množství propouštěného viditelného slunečního záření ku slunečnímu faktoru, tj. poměr TL/TE | |
| SiO2 | oxid křemičitý | |
| Si3N4 | nitrid křemičitý | |
| SnO2 | oxid cíničitý | |
| Ta | tantal | |
| TE | propustnost energie | množství slunečního záření (viditelného nebo neviditelného) procházející podkladovým materiálem, vyjádřené jako procento dopadajícího slunečního záření |
| Ti | titan | |
| TL | propustnost viditelného záření | množství viditelného záření procházející podkladovým materiálem, vyjádřené jako procento dopadajícího viditelného záření |
| Zn | zinek | |
| ZnAl | slitina nebo směs obsahující zinek a hliník | |
| ZnAlOx | směsný oxid obsahující zinek a hliník | |
| ZnAlOy | částečně zoxidovaná směs obsahující zinek a hliník | |
| ZnO | oxid zinečnatý | |
| ZnTi | slitina nebo směs obsahující zinek a titan | |
| ZnTiOx | směsný oxid obsahující zinek a titan |
| ZnTiOy | částečně zoxidovaná směs obsahující zinek a titan | |
| Zr | zirkonium |
Jedním aspektem předmětného vynálezu je zasklívací tabule, jejíž definice je uvedena níže v patentovém nároku 1.
Pojmem „tepelně upravitelná zasklívací tabule se v tomto textu rozumí, že daná zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, je upravena tak, aby mohla být podrobena ohýbání a/nebo tepelnému temperování a/nebo tepelnému vytvrzování a/nebo jinému procesu tepelné úpravy, aniž by zakalení takto upravené zasklívací tabule přesáhlo hodnotu 0,5, výhodně aniž by zakalení takto upravené zasklívací tabule přesáhlo hodnotu 0,3. Pojmem „v podstatě nezakalený tepelně upravený zasklívací panel se v tomto textu rozumí zasklívací tabule s naneseným vrstveným povlakem, která byla po nanesení uvedeného vrstveného povlaku podrobena ohýbání a/nebo tepelnému temperování a/nebo tepelnému vytvrzování a/nebo jinému procesu tepelné úpravy, přičemž zakalení takto upravené zasklívací tabule nepřesahuje hodnotu 0,5, výhodně zakalení takto upravené zasklívací tabule nepřesahuje hodnotu 0,3. Takovéto procesy tepelné úpravy mohou zahrnovat zahřívání zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, nebo vystavení takovéto tabule teplotám vyšším než přibližně 560 °C, jako je například vystavení uvedené tabule teplotě v rozmezí od 560 °C do 700 °C, v normální atmosféře. Dalším takovýmto procesem tepelné úpravy může být slinování keramického nebo smaltového materiálu, uzavírání dvojité zasklívací jednotky ve vakuu a žíhání nízkoreflexní vrstvy nebo antioslňující vrstvy nanášené mokrou cestou. Uvedený ♦ ·· ·· ♦· ·· ♦ · · · ··· · · ♦ · • ·· ····· fc* ·
9 ··· 9 9 9 9 9 · ·
9 9 9 9 9 9 9 9 9 99 9 99 99 99 9 9 999 proces tepelné úpravy, zejména pak pokud se jedná o ohýbání a/nebo tepelné temperování a/nebo tepelné vytvrzování, může probíhat při teplotě alespoň 600 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut, při teplotě alespoň 620 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut, nebo při teplotě alespoň 640 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo minut.
Pro nanášení jednotlivých vrstev povlaku podle předmětného vynálezu je možné použít jakoukoli vhodnou metodu nebo jakoukoli vhodnou kombinaci těchto metod. Tak například je možné použít odpařování (pomocí tepla nebo elektronového svazku), kapalnou pyrolýzu, chemické vylučování z plynné fáze, vakuové nanášení a pokovovávání rozprašováním, zejména magnetronové pokovovávání rozprašováním, které se při provádění tohoto vynálezu používá zvlášť, výhodně. Jednotlivé vrstvy vrstveného povlaku podle předmětného vynálezu je možné nanášet různými způsoby.
Uvedeným nitridem hliníku může podle tohoto vynálezu být čistý nitrid hlinitý (A1N), v podstatě čistý nitrid hlinitý (A1N), nitrid hlinitý (A1N) obsahující nečistoty nebo nitrid hlinitý (A1N) obsahující jeden nebo více dopantů, jako je například chrom a/nebo křemík a/nebo titan, které mohou zlepšit chemickou odolnost daného materiálu. Nitrid hliníku podle předmětného vynálezu může obsahovat přibližně 97 hmotnostních procent čistého A1N. V alternativním případě může nitrid hliníku podle předmětného vynálezu obsahovat oxynitrid, karbonitrid nebo oxykarbonitrid. Nitrid hliníku podle předmětného vynálezu je možné nanášet pokovováváním rozprašováním suroviny v dusíkové atmosféře. V alternativním • ti tt iiM 9 • · · · · ♦ · · ·· · • · · · · · · · · ·· « * · · · · · · · φ ·· • 9 · · · « · · ·· «· · · · · · · · a· · · · případě je možné tento nitrid nanášet pokovováním rozprašováním suroviny v atmosféře tvořené směsí argonu a dusíku. Uvedenou surovinou může být například slitina 6061, slitina 6066 nebo slitina 4032.
Má se za to, že uvedený nitrid hliníku, který je obsažen v základní antireflexní vrstvě podle tohoto vynálezu, slouží nejen pro blokování kyslíku, ale také pro blokování sodných a jiných iontů, které mohou difundovat ze skla do vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu a způsobit tak zhoršení optických a elektrických vlastností dané zasklívací tabule, zejména pokud je tato zasklívací tabule podrobena tepelné úpravě.
O oxidu křemičitém (SiO2) a oxidu hlinitém (A12O3) je známo, že slouží jako účinné bariéry pro zabránění difúze sodných iontů do vrstvených povlaků nanesených pokovováním rozprašováním. Kromě toho, že nitrid hliníku se nanáší pokovováním rozprašováním snadněji, rychleji a s menšími náklady, se má za to, že nitrid hliníku, tvořící část základní vrstvy dielektrika podle předmětného vynálezu, tvoří účinnou bariéru proti difúzi jak sodných iontů, tak proti difúzi kyslíku. Dále se má za to, že nitrid hliníku může zajistit účinnou bariéru proti uvedené difúzi již při menší geometrické tloušťce než je tloušťka potřebná pro zajištění stejné funkce v případě dosud známých materiálů. Tak například dobrou tepelnou odolnost, s ohledem k difúzi iontů a kyslíku z daného skleněného podkladového materiálu, je možné propůjčit vrstvenému povlaku podle tohoto vynálezu vytvořením vrstvy nitridu hliníku o geometrické tloušťce větší než 40 Á, například o geometrické tloušťce přibližně 50 Á, přičemž takto vytvořená vrstva nitridu hliníku tvoří část základní antireflexní vrstvy podle předmětného vynálezu, a to zejména pokud vrstvený povlak podle tohoto vynálezu obsahuje také bariérovou vrstvu, jako je například kovová nebo suboxidová bariérová vrstva, která je nanesena pod uvedenou vrstvou odrážející infračervené záření. V případě absence takovéto bariérové vrstvy, která je nanesena pod uvedenou vrstvou odrážející infračervené záření, je možně propůjčit vrstvenému povlaku podle tohoto vynálezu dobrou tepelnou odolnost, s ohledem k difúzi iontů a kyslíku z daného skleněného podkladového materiálu, vytvořením vrstvy nitridu hliníku o geometrické tloušťce větší než 50 Á, výhodně větší než 80 Á nebo 90 Á, například vytvořením vrstvy o tloušťce přibližně 100 Á, přičemž tato vrstva tvoří alespoň část základní antireflexní vrstvy podle tohoto vynálezu. Uvedená vrstva nitridu hliníku může propůjčit výhodné vlastnosti ještě i v případě, že je tenčí než 195 Á.
Vrstvený povlak podle předmětného vynálezu může obsahovat bariérovou vrstvu, která překrývá vrstvu odrážející infračervené záření a/nebo bariérovou vrstvu, která leží pod uvedenou vrstvou odrážející infračervené záření. Tyto bariérové vrstvy mohou zahrnovat jeden nebo více kovů a mohou být nanášeny například ve formě oxidů kovů, ve formě suboxidů kovů a v kovové formě.
Již zmíněná schopnost blokovat difúzi iontů a kyslíku ze skleněného podkladového materiálu pomocí poměrně tenké vrstvy zajišťuje velkou flexibilitu uvedených materiálů a tloušťky ostatních vrstev obsažených ve vrstveném povlaku podle předmětného vynálezu.
« ·· ·· ·· ·♦ ·
9 9 · 9 · · · · · • ·· · · ··♦ ♦ · · • · » · · ·· ··· · · »·· ·· ·· ·· · ♦ · 9 ·
Vytvořením vrstvy oxidu kovu mezi vrstvou nitridu hliníku a vrstvou materiálu odrážejícího infračervené záření (zejména pokud je tímto materiálem stříbro nebo slitina stříbra) je možné spolu kombinovat tepelnou stabilitu nitridu hliníku a materiálu, který byl použit na vytvoření této vmezeřené vrstvy, což podporuje krystalizaci uvedeného materiálu odrážejícího infračervené záření, takže je možné vhodně vyvážit vlastnosti vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu týkající se odrážení infračerveného záření se zákalem tohoto povlaku, a to zejména pokud je tento vrstvený povlak podroben tepelné úpravě. Jedním z výhodných oxidů, které se používají pro vytváření shora uvedené vmezeřené vrstvy, je směsný oxid zinku a hliníku, ve kterém je výhodně atomový poměr Al/Zn v rozmezí od přibližně 0,1 do 0,2, výhodněji od 0,1 do 0,15. Jedním z možných vysvětlení pro tuto skutečnost může být, že přítomnost hliníku ve struktuře oxidu zinečnatého může redukovat růst krystalických zrn ve vrstvě vytvořené z tohoto směsného oxidu.
Tepelná úprava může vyvolat zvýšení hodnoty TL zasklívací tabule podle tohoto vynálezu. Kontrolované zvýšení hodnoty TL může být výhodné při zajišťování dostatečně vysoké hodnoty TL zasklívací tabule podle tohoto vynálezu, která se používá například pro výrobu čelních skel automobilů. Hodnota TL může být během tepelné úpravy zvýšena například o více než přibližně 2,5 procenta, o více než přibližně 3 procenta, o více než přibližně 5 procent, o více než přibližně 8 procent nebo o více než přibližně 10 procent. Tepelná úprava může rovněž vyvolat snížení emisivity zasklívací tabule podle předmětného vynálezu.
♦ 44 44 4444 · ·· · · 9 9 9 · 4· · • ·Φ 4 4 444 444
4 4 4 4 4* 4 44
4f4 44 44 ·· 44 444
Již zmíněná účinnost relativně tenké vrstvy nitridu hliníku podle tohoto vynálezu při propůjčování tepelné stability umožňuje použití relativně silných vrstev shora uvedeného oxidu.
Nanášení vrstvy jak nitridu křemičitého (Si3N4) , tak nitridu hlinitého (A1N) pomocí běžného pokovovávání rozprašováním trvá delší dobu než nanášení oxidů, které se tradičně používají při vytváření takovýchto nanesených vrstev, jejichž příkladem je oxid zinečnatý (ZnO) nebo oxid cíničitý (SnO2) . Již zmíněná schopnost poskytnout dobrou tepelnou stabilitu pomocí relativně tenké vrstvy nitridu hliníku podle tohoto vynálezu tak zmírňuje omezující vliv nanášení takovéto vrstvy na celý proces nanášení.
Nitrid hliníku podle tohoto vynálezu je také nanášen pokovováváním rozprašováním s větší účinností (projevující se ve snížení výrobních nákladů) než například nitrid křemičitý (Sí3N4) a nevyžaduje dopování nebo regulační opatření, jako je tomu při nanášení nitridu křemičitého (Si3N4) .
Optická tloušťka antireflexních vrstev podle tohoto vynálezu, zejména vnější antireflexní vrstvy, je určující při stanovení zabarvení zasklívací tabule podle tohoto vynálezu. Pokud dochází k oxidaci části antireflexní vrstvy, například během tepelné úpravy uvedené zasklívací tabule, potom je možné uvedenou optickou tloušťku modifikovat zejména pomocí Si3N4 (jehož index lomu je přibližně 2), protože Si3N4 je možné oxidovat na SiO2 (jehož index lomu je přibližně 1,45) . V případě, že uvedená antireflexní vrstva zahrnuje nitrid hliníku, jehož index lomu je přibližně 1,7, oxidace části • ·φ ·· ·· ·· • · · · « · φ · φ φ φ ·· · · ··· « φ
ΦΦΦ φφφφ · · · ·♦· ·« ·· ·· φ· ΦΦΦ tohoto nitridu na A12O3 (jehož index lomu je přibližně 1,7) má zanedbatelný efekt na optickou tloušťku uvedené vrstvy.
Materiálem pro odrážení infračerveného záření podle předmětného vynálezu může být stříbro nebo slitiny stříbra, jako je například slitina stříbra obsahující jako další prvek jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující palladium (Pd), zlato (Au) a měď (Cu). Takovýto další prvek může být v uvedené slitině stříbra přítomen v atomovém poměru od 0,3 procenta do 10 procent, výhodně od 0,3 procenta do 5 procent a výhodněji, zejména pokud uvedeným dalším prvkem je palladium (Pd), od 0,3 procenta do 2 procent, vztaženo na celkové množství stříbra a dalšího kovu.
Jedna nebo více z uvedených antireflexních vrstev může zahrnovat oxid, nitrid, karbid nebo jejich směs. Antireflexní vrstva podle předmětného vynálezu může zahrnovat například:
oxid j ednoho nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující zinek (Zn), titan (Ti), cín (Sn), křemík (Si), hliník (Al), tantal (Ta) nebo zirkonium (Zr); oxid zinku obsahující hliník (Al), galium (Ga), křemík (Si) nebo cín (Sn) nebo oxid india obsahující cín (Sn) ;
nitrid jednoho nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující křemík (Si), hliník (Al) a bor (B) nebo směs (včetně směsného nitridu) nitridu zirkonia (Zr) nebo titanu (Ti) s jedním z výše uvedených nitridů;
směsnou sloučeninu, jako je například SiOxCy, SiOxNy, SiAlxNy nebo SiAlxOyNz.
·« ♦ · ·· ·· 4 ·· · · · · · * · ·· · · ··· · · · • · · · · · · · · · · «· · · φ · · · · • · · · · · · ·· ·· ···
Antireflexní vrstva podle předmětného vynálezu může být tvořena jedinou vrstvou nebo může obsahovat dvě nebo více vrstev, které se od sebe liší svým složením. Zvlášť výhodně se používá oxid zinku, výhodně oxid zinečnatý obsahující alespoň jeden z prvků vybraných ze skupiny zahrnující cín (Sn), chrom (Cr), křemík (Si), bor (B) , hořčík (Mg), indium (In), galium (Ga) a výhodně hliník (Al) a/nebo titan (Ti), protože použití takovýchto materiálů usnadňuje vytvoření stabilní přilehlé vrstvy s vysokou krystalinitou, která odráží infračervené záření.
Dalším aspektem předmětného vynálezu je zasklívací tabule definovaná níže uvedeným patentovým nárokem 5.
Uvedená možnost použití vrstvy nitridu hliníku, která je tenčí než 100 Á, pro vytvoření účinné tepelné bariéry zajišťuje výraznou flexibilitu ve volbě celkové struktury vnější antireflexní vrstvy. Uvedená vrstva zahrnující nitrid hliníku může mít tloušťku přibližně 85 Á; což představuje kompromis mezi dobrou tepelnou odolností a tloušťkou dané vrstvy. Uvedená vrstva zahrnující nitrid hliníku může mít tloušťku rovnou nebo větší než přibližně 50 Á, 60 Á nebo 80 Á; přičemž její tloušťka může být rovna nebo menší než přibližně 85 Á, 90 Á nebo 95 Á.
Dalším aspektem předmětného vynálezu je způsob výroby zasklívací tabule, jejíž vlastnosti jsou definovány níže uvedeným patentovým nárokem 16. Tento způsob může být použit například pro výrobu tepelně upravených zasklívacích tabulí, jejichž zákal je menší než přibližně 0,5, výhodně menší než přibližně 0,3, které jsou vhodné pro použití například ·· ·· ···· • · ··· ···
4« · 9 99· ·· ·· ···· · · ····· · · · ··· · v architektuře, v automobilovém průmyslu a v jiných průmyslových aplikacích.
Stručný popis obrázků na výkresech
Na obrázku 1 je znázorněn průřez zasklívací tabulí podle předmětného vynálezu před jejím ohnutím a tepelnou úpravou (pro jednoduchost nejsou tloušťky uvedené zasklívací tabule a jednotlivých nanesených vrstev zobrazeny v odpovídajících poměrech).
Příklady provedení vynálezu
Příklad 1
Níže uvedené příklady jsou popsány s odkazem na obrázek 1. Na obrázku 1 je znázorněn tepelně upravitelný vrstvený povlak obsahující dvě stříbrné vrstvy, který je nanesen na skleněném podkladovém materiálu, přičemž k jeho vytvoření bylo použito magnetronové pokovovávání rozprašováním a tento povlak měl následující sekvenční strukturu:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva | |||
| dielektrika zahrnující: | 11 | ||
| A1N | 12 | 60 Á | |
| ZnAlOx | 13 | 250 Á | Al/Zn =0,1 |
| 15 | • 4« 44 44 • 4 4 4 4 4 « 4 44 4 4444 | 4 4 4 4 4 4 4 4 4 4 | |
| 444 44 ·· 4 4 | 4 4 4 4 |
| Podkladová bariéra ZnAlOy | 14 | 10 Á | Al/Zn = 0,1 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAlOy | 16 | 12 Á | Al/Zn =0,1 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 750 Á | Al/Zn =0,1 |
| Podkladová bariéra ZnAlOy | 18 | 0 7 A | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 19 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAlOy | 20 | 17 Ά | Al/Zn =0,1 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx A1N | 22 23 | 185 Á 85 Á | Al/Zn =0,1 |
Přičemž ZnAlOx je směsný oxid obsahující zinek (Zn) a hliník (Al), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), v přítomnosti kyslíku. Podobně byly ZnAlOy bariéry naneseny pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), v kyslíkové atmosféře obohacené argonem za účelem nanesení bariérové vrstvy, která není zcela zoxidována.
V alternativním případě bylo možné vytvořit vrstvu směsného oxidu ZnAlOx pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala směs oxidu zinečnatého a oxidu • «φ φφ φφ φφ φ φφ φ φ φφφ φφφφ φ φφ φ * φφφ φφ φ φφ φφφ φφ φφφ φ φ φφφ φφφφ φφ φ τφφ φφ ΦΦ ΦΦ ΦΦΦ hliníku, zejména v argonové atmosféře nebo v kyslíkové atmosféře obohacené argonem.
Pokud bariérové vrstvy podle tohoto vynálezu zahrnují stejné materiály jako vrstva vytvořená ze směsného oxidu, zejména jako přiléhající vrstva vytvořená ze směsného oxidu, může být usnadněna manipulace se surovinami a kontrola skladovacích podmínek a dále může být tímto způsobem zajištěna dobrá přilnavost mezi uvedenými vrstvami a tím i dobrá mechanická odolnost vytvořeného vrstveného povlaku.
Oxidační stav ve všech uvedených (tj. v základní, střední a vnější) vrstvách dielektrika zahrnujících ZnAlOx nemusel být nezbytně stejný. Podobně oxidační stav ve všech uvedených bariérových vrstvách zahrnujících ZnAlOy nemusel být stejný. Stejně tak nemusel být poměr Al/Zn stejný ve všech uvedených vrstvách; tak například uvedené bariérové vrstvy mohly obsahovat jiný poměr Al/Zn než uvedené antireflexní dielektrické vrstvy a tyto antireflexní dielektrické vrstvy se mohly od sebe vzájemně lišit hodnotou poměru Al/Zn.
Každá z uvedených vrchních bariérových vrstev chránila odpovídající vrstvu stříbra, kterou překrývala, před oxidací během nanášení vrstvy ZnAlOx, která překrývala tuto bariérovou vrstvu, přičemž k nanášení uvedené oxidové vrstvy docházelo pokovováváním rozprašováním. I když k další oxidaci těchto bariérových vrstev mohlo dojít během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly, část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala formu oxidu, který nebyl zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
| • ·· • · · • t· | ·· '3 « • · | ·« • ··· | ·· * · • · | • · |
| • 4 9« | ·· | ·· | e· | ·· |
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
| Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 63 procent | 76 procent |
| TE (systém Moon 2) | 38 procent | 42 procent |
| zákal | 0,1 | 0,25 |
| a* | -20 (na straně povlaku) | -6 (na vnější straně) |
| b* | +3 (na straně povlaku) | -12 (na vnější straně) |
| RE (systém Moon 2) | 31 procent (na straně povlaku) | 33 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
2 Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 650 °C, přičemž po uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úprava ve výhodném provedení způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev, takže vrstvený povlak po tepelné úpravě měl následující strukturu:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: A1N (částečně zoxidovaný) ZnAlOx | 11 12 13 | 60 Á 250 Á | Al/Zn =0,1 |
| ZnAlOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 14 | 10 - 16 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 16 | 12 - 20 Á | Al/Zn =0,1 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 750 Á | Al/Zn =0,1 |
| ZnAlOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 18 | 7 - 12 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 19 | 100 Á | |
| ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 20 | 17 - 28 Á | Al/Zn =0,1 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx A1N (částečně zoxidovaný) | 22 23 | 185 Á 85 Á | Al/Zn =0,1 |
Uvedené (částečně zoxidované) vrstvy nitridu hlinitého (A1N) mohly zahrnovat směs nitridu hlinitého (A1N) a oxidu hlinitého (A12O3) , přičemž k částečné oxidaci A1N docházelo při uvedeném procesu tepelné úpravy. Uvedené bariérové vrstvy • ··· ·· nemusely být nezbytně zcela zoxidovány a jejich tloušťka byla závislá do jisté míry na stupni jejich oxidace.
Příklad 2
Příklad 2 je podobný příkladu 1 s tím, že bylo vynecháno vytvoření podkladových bariérových vrstev. Vrstvený povlak nanesený na skleněné tabuli měl v tomto případě následující strukturu a vlastnosti:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: A1N ZnAlOx | 11 12 13 | 100 Á 200 Á | Al/Zn = 0,1 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 16 | 10 Á | Al/Zn =0,1 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 750 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 19 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 20 | 15 Á | Al/Zn = 0,1 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx A1N | 22 23 | 185 Á 85 Á | Al/Zn =0,1 |
Přičemž ZnAlOx je směsný oxid obsahující zinek (Zn) a hliník (Al), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužila slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), v přítomnosti kyslíku. Podobně byly ZnAl bariéry naneseny pokovováváním rozprašováním, při kterém jako surovina sloužila slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), ve v podstatě inertní atmosféře, která neobsahovala kyslík.
Alespoň část vrchních bariérových vrstev 16 a 20 byla zoxidována během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly. Nicméně část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala kovovou formu nebo alespoň formu oxidu, který není zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
| Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 70 procent | 77 procent |
| TE (systém Moon 2) | 41 procent | 43 procent |
| zákal | 0,1 | 0,2 |
| a* | -17 (na straně povlaku) | -5 (na vnější straně) |
| b* | + 8 (na straně povlaku) | -9 (na vnější straně) |
| RE (systém Moon 2) | 33 procent (na straně povlaku) | 34 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
2 Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 625 °C, přičemž po uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úprava ve výhodném provedení způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev, takže vrstvený povlak po tepelné úpravě měl následující strukturu:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: A1N (částečně zoxidovaný) ZnAlOx | 11 12 13 | 100 Á 200 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 16 | 12 - 20 Á | Al/Zn =0,1 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 750 Á | Al/Zn =0,1 |
| Ag | 19 | 100 Á | |
| ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 20 | 17 - 30 Á | Al/Zn =0,1 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx A1N (částečně zoxidovaný) | 22 23 | 185 Á 85 Á | Al/Zn =0,1 |
Příklad 3
Příklad 3 je podobný příkladu 2. Vrstvený povlak nanesený na skleněné tabuli měl v tomto případě následující strukturu a vlastnosti:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: AlNx ZnAlOx | 11 12 13 | 110 A 240 Á | Al/Zn =0,14 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 16 | 12 Á | Al/Zn =0,14 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 750 A | Al/Zn =0,14 |
| Ag | 19 | 100 Á |
| Vrchní bariéra ZnAl | 20 | 18 Á | Al/Zn = 0,14 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx AlNx | 22 23 | 180 Á 85 Á | Al/Zn = 0,14 |
Alespoň část vrchních bariérových vrstev 16 a 20 byla zoxidována během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly. Nicméně část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala kovovou formu nebo alespoň formu oxidu, který není zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti .·
| Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 76 procent | |
| TE (systém Moon 2) | 43 procent | |
| zákal | 0,23 | |
| a* | -10 (na straně povlaku) | |
| b* | ||
| RE (systém Moon 2) | 32 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna 14 minut při teplotě 645 °C, přičemž během této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Příklad 4
Příklad 4 je podobný příkladu 2. Vrstvený povlak nanesený na skleněné tabuli měl v tomto případě následující strukturu a vlastnosti:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: AlNx ZnAlOx | 11 12 13 | 100 Á 220 Á | Al/Zn =0,14 |
| Ag | 15 | 100 Á | |
| Vrchní bariéra ZnAl | 16 | 12 Á | Al/Zn =0,14 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 800 Á | Al/Zn =0,14 |
| Ag | 19 | 100 Á |
| Vrchní bariéra ZnAl | 20 | 18 Á | Al/Zn =0,14 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx AlNx | 22 23 | 180 Á 85 Á | Al/Zn = 0,14 |
Alespoň část vrchních bariérových vrstev 16 a 20 byla zoxidována během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly. Nicméně část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala kovovou formu nebo alespoň formu oxidu, který není zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
| Vlastnost | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 75,5 procenta |
| TE (systém Moon 2) | 43,4 procenta |
| zákal | 0,21 |
| a* | |
| b* | |
| RE (systém Moon 2) | 31,5 procenta (na vnější straně) |
Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 645 °C, přičemž během této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Příklad 5
Příklad 5 je podobný příkladu 2. Vrstvený povlak nanesený na skleněné tabuli měl v tomto případě následující strukturu a vlastnosti:
| Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
| Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
| Základní vrstva dielektrika zahrnující: AlNx ZnAlOx | 11 1.2 13 | 100 Á 220 Á | Al/Zn =0,05 |
| Ag-Pd | 15 | 100 Á | Pd/Ag = 0,005 |
| Vrchní bariéra ZnAl | 16 | 12 Á | Al/Zn = 0,05 |
| Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 800 Á | Al/Zn =0,14 |
| Ag-Pd | 19 | 100 Á | Pd/Ag = 0,005 |
| Vrchní bariéra ZnAl | 20 | 18 Á | Al/Zn = 0,05 |
| Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx AlNx | 22 23 | 180 Á 85 Á | Al/Zn =0,05 |
Alespoň část vrchních bariérových vrstev 16 a 20 byla zoxidována během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly.
Nicméně část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala kovovou formu nebo alespoň formu oxidu, který není zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
| Vlastnost | Po tepelné úpravě2 |
| TL (iluminant A) | 75,2 procenta |
| TE (systém Moon 2) | 42,9 procenta |
| zákal | 0,24 |
| a* | |
| b* | |
| RE (systém Moon 2) | 31,4 procenta (na vnější straně) |
Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 645 °C, přičemž během této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Aniž by došlo k překročení rozsahu předmětného vynálezu, je možné nad, pod nebo mezi uvedený vrstvený povlak vpravit další vrstvy.
Kromě již zmíněných výhodných optických vlastností, které je možné pomocí tohoto vynálezu získat, popisuje každý ze shora uvedených příkladů vytvoření nanesené vrstvy, kterou je možné elektricky ohřívat, například v elektricky vyhřívaných oknech automobilů, k jejichž vyhřívání dochází pomocí vhodně umístěných elektrických konektorů za účelem zajištění odmlžovací a/nebo rozmrazovací funkce.
Souřadnice chromátičnosti skleněných tabulí podle shora uvedených příkladů jsou zvlášť vhodné pro použití při výrobě čelních skel automobilů, protože pokud je uvedené sklo zamontováno do karosérie automobilu pod určitým úhlem, zajišťují tyto souřadnice jeho neutrální nebo jemně modrý vzhled při odrazu dopadajícího světla. Pro jiné použití, jako například v případě použití skla podle tohoto vynálezu v architektuře je možné barvu skla podle předmětného vynálezu upravit způsobem, který je v dané oblasti techniky známý a který zahrnuje úpravu tloušťky dielektrických vrstev a/nebo vrstev stříbra.
Hodnota TL zasklívací tabule podle předmětného vynálezu může být upravena tak, aby vyhovovala požadovanému použití. Tak například:
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako čelní sklo automobilů na evropském trhu, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 75 procent (jak to vyžadují předpisy Evropské unie);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako čelní sklo automobilů na trhu Spojených států amerických, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 70 procent (jak to vyžadují předpisy Spojených států amerických);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako přední boční sklo automobilů, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 70 procent (jak to vyžadují předpisy Evropské unie);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako zadní boční sklo nebo zadní sklo automobilů, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla v rozmezí od přibližně 30 procent do 70 procent.
Výše uvedené úpravy hodnoty TL je možné dosáhnout například:
úpravou tloušťky vrstev obsažených ve vrstveném povlaku podle tohoto vynálezu, zejména úpravou tloušťky dielektrických vrstev a/nebo vrstev odrážejících infračervené záření;
kombinací vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu s pocínovaným skleněným podkladovým materiálem;
kombinací vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu s pocínovaným PVB nebo jinými laminačními materiály.
Claims (16)
1. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule nesoucí vrstvený povlak obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál;
základní antireflexní vrstvu obsahující alespoň jednu vrstvu zahrnující nitrid hliníku;
reflexní vrstvu odrážející infračervené záření; a vnější antireflexní vrstvu, vyznačující se tím, že tepelná úprava uvedené tepelně upravítelné zasklívací tabule, prováděná za účelem vytvoření v podstatě nezakalené tepelně upravené zasklívací tabule, vyvolává zvýšení hodnoty TL uvedené zasklívací tabule o alespoň 2,5 procenta.
2. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle nároku 1, obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál;
základní antireflexní vrstvu obsahující alespoň jednu vrstvu zahrnující nitrid hliníku;
reflexní vrstvu odrážející infračervené záření;
střední antireflexní vrstvu reflexní vrstvu odrážející infračervené záření; a vnější antireflexní vrstvu, vyznačující se tím, že tepelná úprava uvedené tepelně upravitelné zasklívací tabule, prováděná za účelem vytvoření v podstatě nezakalené tepelně upravené zasklívací tabule, vyvolává zvýšení hodnoty TL uvedené zasklívací tabule o alespoň 2,5 procenta.
»4
4 4 4
4 4 <4
4 «
4 4 • 4
4 444
3. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že alespoň jedna z uvedených vrstev zahrnující nitrid hliníku má geometrickou tloušťku větší než 40 Á.
4. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 3, vyznačující se tím, že alespoň jedna z uvedených vrstev zahrnující nitrid hliníku má geometrickou tloušťku menší než 195 Á.
5. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule nesoucí vrstvený povlak pro regulaci propustnosti slunečního záření obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál;
základní antireflexní vrstvu;
reflexní vrstvu odrážející infračervené záření a vnější antireflexní vrstvu, vyznačující se tím, že uvedená vnější antireflexní vrstva obsahuje alespoň jednu vrstvu zahrnující nitrid hliníku, jejíž geometrická tloušťka je menší než 100 Ά.
6. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 5, vyznačující se tím, že jak uvedená základní antireflexní vrstva, tak uvedená vnější antireflexní vrstva obsahuje alespoň jednu vrstvu zahrnující nitrid hliníku.
φ φ ΦΦ φ· φ· ΦΦ φ
7. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 6, vyznačující se tím, že každá antireflexní vrstva obsahuje alespoň jednu vrstvu zahrnující nitrid hliníku.
8. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že uvedená základní antireflexní vrstva obsahuje první vrstvu, která přiléhá k uvedenému podkladovému materiálu a zahrnuje nitrid hliníku, a vrchní vrstvu zahrnující oxid kovu.
9. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 8, vyznačující se tím, že uvedená vnější antireflexní vrstva obsahuje první vrstvu oxidu kovu a vrchní vrstvu zahrnující nitrid hliníku.
10. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle nároku 8 nebo 9, vyznačující se tím, že uvedenou vrstvou oxidu kovu je vrstva směsného oxidu zinku a hliníku.
11. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle nároku 10, vyznačující se tím, že v uvedeném směsném oxidu zinku a hliníku je atomový poměr Al/Zn roven nebo větší než 0,05 a roven nebo menší než 0,25.
Wtó VSETEČKR advokát
120 00 PRAHA 2, Hálkova 2
12.
13.
14.
Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 11, vyznačující se tím, že tepelná úprava uvedené tepelně upravitelné zasklívací tabule, prováděná za účelem vytvoření v podstatě nezakalené tepelně upravené zasklívací tabule, vyvolává zvýšení hodnoty TL uvedené zasklívací tabule o alespoň 5 procent.
Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 12, vyznačující se tím, že tepelná úprava uvedené tepelně upravitelné zasklívací tabule, prováděná za účelem vytvoření v podstatě nezakalené tepelně upravené zasklívací tabule, vyvolává zvýšení hodnoty TL uvedené zasklívací tabule o alespoň 7 procent.
Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 13, vyznačující se tím, že uvedeným nitridem hliníku jev podstatě čistý nitrid hlinitý (A1N).
Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 13, vyznačující se tím, že uvedený nitrid hliníku obsahuje alespoň 90 hmotnostních procent, výhodně alespoň 95 hmotnostních procent čistého nitridu hlinitého (A1N).
15 .
16.
Způsob výroby zasklívací tabule, jejíž zákal je menší než přibližně 0,5, vyznačující se tím, že zahrnuje stupeň podrobení zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 15 procesu tepelné úpravy při teplotě alespoň 570 °C.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98204319 | 1998-12-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ20012219A3 true CZ20012219A3 (cs) | 2002-02-13 |
Family
ID=8234492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20012219A CZ20012219A3 (cs) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Zasklívací tabule a způsob její výroby |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6340529B1 (cs) |
| EP (1) | EP1154963B1 (cs) |
| JP (1) | JP4359981B2 (cs) |
| AT (1) | ATE275105T1 (cs) |
| CZ (1) | CZ20012219A3 (cs) |
| DE (1) | DE69919904T2 (cs) |
| ES (1) | ES2228151T3 (cs) |
| HU (1) | HU224414B1 (cs) |
| PL (1) | PL201781B1 (cs) |
| SK (1) | SK8352001A3 (cs) |
| WO (1) | WO2000037379A1 (cs) |
Families Citing this family (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050096288A1 (en) * | 1997-06-13 | 2005-05-05 | Aragene, Inc. | Lipoproteins as nucleic acid vectors |
| US6610410B2 (en) | 1998-12-18 | 2003-08-26 | Asahi Glass Company, Limited | Glazing panel |
| US6699585B2 (en) | 1998-12-18 | 2004-03-02 | Asahi Glass Company, Limited | Glazing panel |
| US6445503B1 (en) * | 2000-07-10 | 2002-09-03 | Guardian Industries Corp. | High durable, low-E, heat treatable layer coating system |
| US6576349B2 (en) * | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
| US7879448B2 (en) * | 2000-07-11 | 2011-02-01 | Guardian Industires Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US6887575B2 (en) * | 2001-10-17 | 2005-05-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with zinc oxide inclusive contact layer(s) |
| US7462398B2 (en) * | 2004-02-27 | 2008-12-09 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with zinc oxide over IR reflecting layer and corresponding method |
| US7344782B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-03-18 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US20030049464A1 (en) * | 2001-09-04 | 2003-03-13 | Afg Industries, Inc. | Double silver low-emissivity and solar control coatings |
| US6602608B2 (en) * | 2001-11-09 | 2003-08-05 | Guardian Industries, Corp. | Coated article with improved barrier layer structure and method of making the same |
| US6586102B1 (en) * | 2001-11-30 | 2003-07-01 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
| US6830817B2 (en) * | 2001-12-21 | 2004-12-14 | Guardian Industries Corp. | Low-e coating with high visible transmission |
| US7087309B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-08-08 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with tin oxide, silicon nitride and/or zinc oxide under IR reflecting layer and corresponding method |
| US7133197B2 (en) * | 2004-02-23 | 2006-11-07 | Jds Uniphase Corporation | Metal-dielectric coating for image sensor lids |
| US7081302B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-07-25 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer |
| US7393584B2 (en) * | 2005-01-14 | 2008-07-01 | Solutia Incorporated | Multiple layer laminate with moisture barrier |
| EP1881893B1 (en) * | 2005-05-12 | 2018-07-11 | AGC Flat Glass North America, Inc. | Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same |
| SE530464C2 (sv) * | 2005-08-02 | 2008-06-17 | Sunstrip Ab | Nickel-aluminiumoxid-belagd solabsorbator |
| US20070071983A1 (en) * | 2005-09-23 | 2007-03-29 | Solutia, Inc. | Multiple layer glazing bilayer |
| US7342716B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-03-11 | Cardinal Cg Company | Multiple cavity low-emissivity coatings |
| US7339728B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-03-04 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient |
| US7572511B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-08-11 | Cardinal Cg Company | High infrared reflection coatings |
| GB0600425D0 (en) * | 2006-01-11 | 2006-02-15 | Pilkington Plc | Heat treatable coated glass pane |
| US8132426B2 (en) | 2007-01-29 | 2012-03-13 | Guardian Industries Corp. | Method of making heat treated coated article using diamond-like carbon (DLC) coating and protective film |
| GB0712447D0 (en) * | 2007-06-27 | 2007-08-08 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| US7901781B2 (en) * | 2007-11-23 | 2011-03-08 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same |
| JP5197418B2 (ja) | 2008-08-26 | 2013-05-15 | 三菱電機株式会社 | 反射防止膜及びその製造方法、並びに表示装置 |
| GB0823501D0 (en) | 2008-12-24 | 2009-01-28 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| CA2786872A1 (en) | 2010-01-16 | 2011-07-21 | Cardinal Cg Company | High quality emission control coatings, emission control glazings, and production methods |
| US10000411B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
| US9862640B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-01-09 | Cardinal Cg Company | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US10060180B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US10000965B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
| US8709604B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-04-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| US8679634B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Functional layers comprising Ni-inclusive ternary alloys and methods of making the same |
| US8679633B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same |
| US8790783B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-07-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| BE1020331A4 (fr) * | 2011-11-29 | 2013-08-06 | Agc Glass Europe | Vitrage de contrôle solaire. |
| TWI549811B (zh) * | 2013-07-23 | 2016-09-21 | 大立光電股份有限公司 | 紅外線濾光元件 |
| US20180105459A1 (en) * | 2015-04-20 | 2018-04-19 | Agency For Science, Technology And Research | A multilayer coating |
| US11028012B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-06-08 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
Family Cites Families (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4822120A (en) | 1974-08-16 | 1989-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
| NO157212C (no) | 1982-09-21 | 1988-02-10 | Pilkington Brothers Plc | Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne. |
| US4716086A (en) | 1984-12-19 | 1987-12-29 | Ppg Industries, Inc. | Protective overcoat for low emissivity coated article |
| US4786563A (en) | 1985-12-23 | 1988-11-22 | Ppg Industries, Inc. | Protective coating for low emissivity coated articles |
| ATE115098T1 (de) | 1986-01-29 | 1994-12-15 | Pilkington Plc | Beschichtetes glas. |
| ATE81820T1 (de) | 1986-08-20 | 1992-11-15 | Libbey Owens Ford Co | Solarbauteil aus glas und verfahren zu seiner herstellung. |
| US4859532A (en) | 1986-11-27 | 1989-08-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent laminated product |
| US4898790A (en) | 1986-12-29 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for high temperature processing |
| US4806220A (en) | 1986-12-29 | 1989-02-21 | Ppg Industries, Inc. | Method of making low emissivity film for high temperature processing |
| US4834857A (en) | 1988-04-01 | 1989-05-30 | Ppg Industries, Inc. | Neutral sputtered films of metal alloy oxides |
| US4902580A (en) | 1988-04-01 | 1990-02-20 | Ppg Industries, Inc. | Neutral reflecting coated articles with sputtered multilayer films of metal oxides |
| US4898789A (en) | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
| DE3940748A1 (de) | 1989-12-09 | 1991-06-13 | Ver Glaswerke Gmbh | Elektrisch beheizbare autoglasscheibe aus verbundglas |
| US5532062A (en) | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| ES2095271T3 (es) | 1990-07-05 | 1997-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | Pelicula de baja emisividad. |
| US5543229A (en) | 1991-10-30 | 1996-08-06 | Asahi Glass Company Ltd. | Method of making a heat treated coated glass |
| US5993617A (en) | 1991-12-26 | 1999-11-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Functional product |
| CA2120875C (en) * | 1993-04-28 | 1999-07-06 | The Boc Group, Inc. | Durable low-emissivity solar control thin film coating |
| DE4324576C1 (de) | 1993-07-22 | 1995-01-26 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer mit einer Mehrfachschicht versehenen Glasscheibe |
| ATE169288T1 (de) * | 1994-05-03 | 1998-08-15 | Cardinal Ig Co | Transparenter gegenstand mit siliciumnitrid- schutzschicht |
| FI96579C (fi) * | 1994-11-14 | 1996-07-25 | Instrumentarium Oy | Menetelmä vaarallisen alipaineen muodostumisen estämiseksi hengitysjärjestelmässä |
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| FR2734811B1 (fr) * | 1995-06-01 | 1997-07-04 | Saint Gobain Vitrage | Substrats transparents revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| DE19520843A1 (de) * | 1995-06-08 | 1996-12-12 | Leybold Ag | Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung |
| CA2179853C (en) * | 1995-06-26 | 2007-05-22 | Susumu Suzuki | Laminate |
| DE19541937C1 (de) | 1995-11-10 | 1996-11-28 | Ver Glaswerke Gmbh | Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission |
| IT1293394B1 (it) * | 1996-07-25 | 1999-03-01 | Glaverbel | Substrati rivestiti di metallo |
| US6040939A (en) * | 1998-06-16 | 2000-03-21 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Anti-solar and low emissivity functioning multi-layer coatings on transparent substrates |
-
1999
- 1999-12-15 DE DE69919904T patent/DE69919904T2/de not_active Revoked
- 1999-12-15 EP EP99964596A patent/EP1154963B1/en not_active Revoked
- 1999-12-15 CZ CZ20012219A patent/CZ20012219A3/cs unknown
- 1999-12-15 AT AT99964596T patent/ATE275105T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 SK SK835-2001A patent/SK8352001A3/sk unknown
- 1999-12-15 WO PCT/EP1999/010072 patent/WO2000037379A1/en active IP Right Grant
- 1999-12-15 PL PL349337A patent/PL201781B1/pl unknown
- 1999-12-15 ES ES99964596T patent/ES2228151T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 HU HU0104538A patent/HU224414B1/hu active IP Right Grant
- 1999-12-17 JP JP35930499A patent/JP4359981B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-20 US US09/466,785 patent/US6340529B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL201781B1 (pl) | 2009-05-29 |
| ES2228151T3 (es) | 2005-04-01 |
| SK8352001A3 (en) | 2001-11-06 |
| DE69919904D1 (de) | 2004-10-07 |
| JP2000229379A (ja) | 2000-08-22 |
| JP4359981B2 (ja) | 2009-11-11 |
| EP1154963B1 (en) | 2004-09-01 |
| US6340529B1 (en) | 2002-01-22 |
| HUP0104538A2 (en) | 2002-11-28 |
| ATE275105T1 (de) | 2004-09-15 |
| DE69919904T2 (de) | 2005-09-01 |
| HU224414B1 (hu) | 2005-08-29 |
| EP1154963A1 (en) | 2001-11-21 |
| PL349337A1 (en) | 2002-07-15 |
| WO2000037379A1 (en) | 2000-06-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ20012219A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby | |
| EP1154965B1 (en) | Glazing panel | |
| US6610410B2 (en) | Glazing panel | |
| US6472072B1 (en) | Glazing panel | |
| US6699585B2 (en) | Glazing panel | |
| EP1230189A1 (en) | Glazing | |
| EP1147066B1 (en) | Glazing panel | |
| CZ20012218A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby |