PL199886B1 - Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego - Google Patents
Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowegoInfo
- Publication number
- PL199886B1 PL199886B1 PL355154A PL35515499A PL199886B1 PL 199886 B1 PL199886 B1 PL 199886B1 PL 355154 A PL355154 A PL 355154A PL 35515499 A PL35515499 A PL 35515499A PL 199886 B1 PL199886 B1 PL 199886B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- barrier layer
- lower barrier
- layer
- glazing panel
- mixture
- Prior art date
Links
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 131
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 151
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 84
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 30
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 25
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 18
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 18
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 13
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 2
- GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N tin zinc Chemical compound [Zn].[Sn] GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007850 degeneration Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Ujawniono panel oszkleniowy posiadaj acy zespó l powlekaj acy zawieraj acy uszeregowane w odpowiednim porz adku co najmniej: pod lo ze szklane, podstawow a warstw e przeciwodblaskow a, doln a warstw e barierow a, warstw e odbijaj ac a promieniowanie podczerwone, górn a warstw e bariero- w a, oraz powierzchniow a warstw e przeciwodblaskow a, korzystnie zawieraj acy uszeregowane w od- powiednim porz adku co najmniej: pod lo ze szklane, podstawow a warstw e przeciwodblaskow a, doln a warstw e barierow a, warstw e odbijaj ac a promieniowanie podczerwone, górn a warstw e barierow a, srodkow a warstw e przeciwodblaskow a, doln a warstw e barierow a, warstw e odbijaj ac a promieniowanie podczerwone, górn a warstw e barierow a, oraz powierzchniow a warstw e przeciwodblaskow a, charakte- ryzuj acy si e tym, ze co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszanine Zn i co naj- mniej jednego dodatkowego materia lu X, w której stosunek atomowy X/Zn w tej dolnej warstwie barie- rowej mie sci si e w zakresie od 0,03 do 10, i w której X stanowi jeden lub wi ecej materia lów wybranych z grupy obejmuj acej Al, Ti, Hf, Sb, Nb, Ta i Zr. Ujawniono sposób wytwarzania panelu oszkleniowego o zamgleniu mniejszym ni z 0,5, który obejmuje etap, w którym panel oszkleniowy wed lug wynalazku poddaje si e obróbce cieplnej w temperaturze równej co najmniej 570°C. PL PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego, a zwłaszcza, lecz nie wyłącznie, panel oszkleniowy kontrolujący promieniowanie słoneczne, który jest przeznaczony do poddawania obróbce cieplnej następującej już po nałożeniu filtra kontrolującego promieniowanie słoneczne.
Europejski opis patentowy EP 233003A ujawnia panel oszkleniowy posiadający filtr optyczny naniesiony przez rozpylanie o następującej strukturze: podłoże szklane/SnO2 podstawowy dielektryk/pierwsza bariera metaliczna z Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/Ag/druga bariera metaliczna z Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/Sn powierzchniowy dielektryk. Ten filtr optyczny przeznaczony jest do blokowania znacznej części padającego promieniowania w podczerwonej części widma przy jednoczesnym przepuszczaniu znacznej części padającego promieniowania w widzialnej części widma. W ten sposób, filtr ten działa zmniejszając efekt cieplny padającego światła słonecznego przy jednoczesnym zapewnieniu dobrej widzialności poprzez takie oszklenie i jest szczególnie odpowiednie na szyby samochodowe.
W strukturze tego typu, warstwa Ag dział a odbijając padające promieniowanie podczerwone, i aby spełniać tę rolę musi być utrzymywana raczej w postaci metalicznego srebra niż w postaci tlenku srebra i nie może być ona zanieczyszczana przez warstwy sąsiadujące. Warstwy dielektryczne, które obejmują warstwę Ag służą zmniejszeniu odbicia widzialnej części widma, co w przeciwnym wypadku wywoływałaby warstwa Ag. Druga bariera służy do zapobiegania utlenianiu warstwy Ag podczas napylania górnej dielektrycznej warstwy SnO2 w atmosferze utleniającej; ta bariera jest co najmniej częściowo utleniana podczas tego procesu. Głównym zadaniem pierwszej warstwy barierowej jest zapobieganie utlenianiu warstwy srebrnej podczas obróbki cieplnej tej powłoki (tj. podczas zginania i/lub hartowania) panelu oszkleniowego dzięki temu, że to ta warstwa raczej sama się utlenia niż pozwoli na przechodzenie przez nią tlenu do warstwy Ag. Takie utlenianie warstwy barierowej podczas obróbki cieplnej powoduje wzrost TL w panelu oszkleniowym.
Europejski opis patentowy EP 792847A ujawnia panel oszkleniowy kontrolujący promieniowanie słoneczne nadający się do obróbki cieplnej, który oparty jest na takiej samej zasadzie i ma następującą strukturę: podłoże szklane/dielektryk ZnO/bariera Zn/Ag/bariera Zn/dielektryk ZnO/bariera Zn/Ag/bariera Zn/dielektryk ZnO. Bariery ZnO usytuowane poniżej każdej z warstw Ag są przeznaczone do całkowitego utlenienia się podczas obróbki cieplnej i służą do ochrony warstw Ag przed utlenianiem. Jak dobrze wiadomo w stanie techniki, struktura posiadająca zamiast pojedynczej warstwy Ag raczej dwie, oddzielone od siebie warstwy Ag podwyższa selektywność tego filtra.
Europejski opis patentowy EP 275474A ujawnia panel kontrolujący promieniowanie słoneczne nadający się do obróbki cieplnej o następującej strukturze: podłoże szklane/dielektryk cynian cynku/bariera Ti/Ag/bariera Ti/dielektryk cynian cynku. Bariery Ti są ogólnie korzystne w tego typu strukturach nadających się do obróbki cieplnej z powodu ich wysokiego powinowactwa do tlenu i względnej łatwości z jaką mogą one być utleniane do postaci tlenku tytanu.
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, dolną warstwę barierową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, górną warstwę barierową, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, charakteryzujący się tym, że dolna warstwa barierowa zawiera mieszaninę Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn w tej dolnej warstwie barierowej mieści się w zakresie od 0,03 do 10, i w której X stanowi jeden lub wię cej materiał ów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Hf, Sb, Nb, Ta i Zr.
Korzystnie, panel oszkleniowy zawiera uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej: podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, dolną warstwę barierową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, górną warstwę barierową, środkową warstwę przeciwodblaskową,
PL 199 886 B1 dolną warstwę barierową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, górną warstwę barierową, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, i charakteryzuje się tym, że co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn w tej dolnej warstwie barierowej mieści się w zakresie od 0,03 do 10, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Hf, Sb, Nb, Ta i Zr.
Korzystnie panel oszkleniowy stanowi panel nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia.
Korzystnie dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i Al, w której stosunek atomowy Al/Zn jest równy co najmniej 0,03.
Korzystniej, dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i Al, w której stosunek atomowy Al/Zn mieści się w zakresie 0,03 do 0,3.
Korzystnie dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i Ti, w której stosunek atomowy Ti/Zn jest równy co najmniej 0,03.
Korzystniej, dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i Ti, w której stosunek atomowy Ti/Zn mieści się w zakresie 1 do 10.
Korzystnie stosunek atomowy X/Zn jest mniejszy lub równy 5.
Korzystnie dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych jest nałożona jako metal lub jest w postaci metalicznej.
Korzystnie dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych ma grubość geometryczną większą lub równą 2·10-10 m [2 A] oraz mniejszą lub równą 5·10-9 m [50 A].
Korzystnie co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych obejmuje warstwę tlenku zawierającą mieszaninę Zn i dodatkowego materiału X z dolnej warstwy barierowej lub z co najmniej jednej z dolnych warstw barierowych.
Korzystniej co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych obejmuje warstwę tlenku zawierającą mieszaninę Zn i dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest taki sam jak stosunek atomowy X/Zn w dolnej warstwie barierowej lub w co najmniej jednej z dolnych warstw barierowych.
Korzystnie co najmniej jedna z górnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i jednego lub więcej dodatkowych materiałów wybranych z Grup 3a, 3b, 4a, 4b, 5a, 5b, 6b, 7b Układu Okresowego Pierwiastków.
Przedmiotem wynalazku jest również sposób wytwarzania panelu oszkleniowego o zamgleniu mniejszym niż 0,5, charakteryzujący się tym, że obejmuje etap, w którym panel oszkleniowy według wynalazku poddaje się obróbce cieplnej w temperaturze równej co najmniej 570°C.
Wprowadzenie dolnej warstwy barierowej jako mieszaniny Zn i jednego ze specyficznych dodatkowych materiałów zapewnia korzystną kombinację własności. Ta dolna warstwa barierowa nie tylko odgrywa główną rolę w ochronie warstwy Ag przed niepożądanym utlenianiem podczas obróbki cieplnej lecz także musi ona na przykład być kompatybilna z pozostałymi warstwami w tym zespole powlekającym, musi być odporna mechanicznie i chemicznie oraz musi nadawać się do produkcji na skalę przemysłową.
Dowolne odpowiednie sposoby lub kombinacje sposobów można zastosować w celu nakładania warstw powlekających. Na przykład, naparowanie (promieniowanie cieplne lub elektronowe), piroliza cieczy, chemiczne osadzanie par, osadzanie próżniowe oraz napylanie, zwłaszcza napylanie magnetronowe, przy czym ten ostatni sposób jest szczególnie preferowany. Różne warstwy tego zespołu powlekającego mogą być osadzane za pomocą różnych technik.
Dolna warstwa barierowa panelu według wynalazku może zapewniać korzystną kombinację cech, takich jak:
- odporność cieplna przy ochronie leżącej nad nią warstwy Ag przed degeneracją gdy panel oszkleniowy jest ogrzewany, na przykład podczas hartowania i/lub zginania. Godne uwagi jest to, że tolerancja na zmiany w cyklach cieplnych, którym poddawany jest panel oszkleniowy, może być wyższa niż uzyskiwana, na przykład, dla znanych dolnych warstw barierowych Ti lub Zn.
- odporność mechaniczna: dolna warstwa barierowa może mieć wyższą przyczepność do sąsiedniej warstwy Ag niż, na przykład, warstwa barierowa Al. Może to mieć miejsce także wtedy, gdy dolna warstwa barierowa zawiera Al.
PL 199 886 B1
- kompatybilność z Ag: krystalizacja warstwy Ag oddziaływuje na jej własności optyczne. Czysta warstwa Zn lub ZnO leżąca pod warstwą Ag może prowadzić do nadmiernej krystalizacji tego Ag i do problemów z zamgleniem w tej powłoce, zwłaszcza gdy powłokę poddaje się obróbce cieplnej.
Niedogodność ta może być kontrolowana lub złagodzona w panelu według wynalazku, przy ciągle jeszcze korzystnej krystalizacji w stopniu wystarczającym dla zapewnienia dobrych własności odbijania promieniowania podczerwonego. Korzystne własności dolnej warstwy barierowej mogą nie zostać uzyskane jeśli stosunek atomowy X/Zn jest niższy od określonego minimum, na przykład, jeśli materiał X jest obecny w Zn w postaci zanieczyszczeń. Stosunek atomowy X/Zn może być niższy niż 5; może być mniejszy lub równy 4 lub 3. Może to dostarczyć wystarczającą ilość Zn w tej dolnej warstwie barierowej dla zapewnienia korzystnych własności. Dolna warstwa barierowa korzystnie osadzona jest w postaci metalu lub podtlenku i służy nie tylko do blokowania przechodzenia tlenu do warstwy Ag, lecz także do blokowania dyfuzji lekkich jonów, zwłaszcza Na, z podłoża szklanego do warstwy Ag. Musi zatem być spełniona dodatkowa funkcja tej dolnej warstwy barierowej, i w konsekwencji, inne czynniki muszą być brane pod uwagę przy jej doborze.
Szczególnie dobre wyniki można uzyskać, jeśli X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Hf, Sb, Nb, Ta oraz Zr.
Grubość dolnej warstwy barierowej może być większa niż 5·10-10 m [5 A], korzystnie większa niż 10-9 m [10 A]; może to zapewnić szczególnie znaczną poprawę własności tej powłoki jeśli poddawana jest ona obróbce cieplnej. Grubość dolnej warstwy barierowej może być:
mniejsza lub równa 5·10-9 m [50 A], zwłaszcza jeśli X stanowi Ti;
mniejsza lub równa 4·10-9 m [40 A], zwłaszcza jeśli stosunek atomowy X/Zn jest mniejszy lub równy około 3;
mniejsza lub równa 3·10-9 m [30 A], zwłaszcza jeśli stosunek atomowy X/Zn jest mniejszy lub równy około 1;
mniejsza lub równa 2,5·10-9 m [25 A], zwłaszcza jeśli X stanowi Al.
Te grubości mogą nadawać odpowiednie poziomy stabilności tej powłoce, jeśli jest ona poddawana obróbce cieplnej. Jednakże, optymalna grubość będzie ulegała wpływom szczególnego składu dolnej warstwy barierowej, warunków osadzania dolnej warstwy barierowej, własności optycznych poszukiwanego panelu oszkleniowego oraz reżimu obróbki cieplnej, jeśli zastosowano, której poddawany jest ten panel oszkleniowy. Materiał odbijający promieniowanie podczerwone może stanowić srebro lub stop srebra, na przykład stop srebra zawierający jeden lub więcej spośród Pd, Au oraz Cu, jako materiał dodatkowy. Taki materiał dodatkowy może być obecny w stopie srebra w stosunku atomowym, w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i metalu dodatkowego, równym 0,3 do 10%, korzystnie 0,3 do 5%, a korzystniej, zwłaszcza gdy dodatkowy materiał stanowi Pd, 0,3 do 2%.
Jedna lub więcej spośród warstw przeciwodblaskowych mogą zawierać tlenek, azotek, węglik lub ich mieszaninę. Na przykład, warstwa przeciwodblaskowa może zawierać: tlenek jednego lub więcej spośród Zn, Ti, Sn, Si, Al, Ta lub Zr; tlenek cynku zawierający Al, Ga, Si lub Sn lub tlenek indu zawierający Sn; azotek jednego lub więcej spośród Si, Al i B lub mieszaninę (w tym podwójny azotek) azotku Zr lub azotku Ti z jednym spośród wyżej wymienionych azotków; związek podwójny, na przykład, SiOxCy, SiOxNy, SiAlxNy lub SiAlxOyNz. Warstwę przeciwodblaskową może stanowić warstwa pojedyncza lub może ona obejmować dwie lub więcej warstw o różnych składach. Tlenek cynku, korzystnie tlenek cynku zawierający co najmniej jeden spośród Sn, Cr, Si, B, Mg, In, Ga i korzystnie Al i/lub Ti jest szczególnie preferowany gdyż użycie tych materiałów może ułatwiać trwałe tworzenie sąsiedniej warstwy odbijającej promieniowanie podczerwone o wysokiej krystalizacji.
Korzystną kombinację własności uzyskanych dzięki dolnej warstwie barierowej w panelu według wynalazku można wykorzystać również w zespole powlekającym posiadającym dwie, lub nawet więcej niż dwie, oddzielone od siebie, warstwy odbijające promieniowanie podczerwone. Każda z warstw odbijających promieniowanie podczerwone może posiadać własną dolną warstwę barierową, i w takim przypadku co najmniej jedna, a korzystnie każda z tych dolnych warstw barierowych, zawiera dokładnie określone materiały. W celu uzyskania panelu oszkleniowego o selektywności większej niż 1,5 lub 1,7 można zastosować wielokrotne, oddzielone od siebie, warstwy odbijające promieniowane podczerwone.
A zatem zapewniono szczególną korzyść polegającą na dostarczeniu paneli oszkleniowych nadających się do obróbki cieplnej oraz paneli oszkleniowych poddanych obróbce cieplnej. Panele oszkleniowe według wynalazku nie muszą być poddawane obróbce cieplnej. Używane w tym opisie określenie „panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej” oznacza, że ten panel oszkleniowy
PL 199 886 B1 posiada zespół powlekający przystosowany do poddawania go zginaniu i/lub hartowaniu cieplnemu i/lub operacji utwardzania cieplnego i/lub innym obróbkom cieplnym bez występowania zamglenia tak traktowanych panel oszkleniowych przekraczającego wartość 0,5, korzystnie bez zamglenia przekraczającego wartość 0,3. Stosowane w tym opisie określenie „poddawany obróbce cieplnej panel oszkleniowy zasadniczo bez zamglenia” oznacza panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający, który został poddawany zginaniu i/lub hartowaniu cieplnemu i/lub utwardzaniu cieplnemu i/lub innym obróbkom cieplnym już po osadzeniu na nim tego zespołu powlekającego, i posiada on zamglenie nie przekraczające wartości 0,5, korzystnie nie przekraczające wartości 0,3. Taka obróbka cieplna może być związana z ogrzewaniem lub poddawaniem tego panelu oszkleniowego posiadającego zespół powlekający działaniu temperatury wyższej niż 560°C, na przykład pomiędzy 560°C a 700°C w atmosferze. Innymi tego typu obróbkami cieplnymi mogą być spiekanie materiałów ceramicznych lub emalii, próżniowe uszczelnianie jednostki o podwójnym oszkleniu oraz kalcynacja (wypalanie) naniesionej na mokro powłoki słabo odbijającej lub też powłoki przeciwoślepieniowej. Obróbka cieplna, zwłaszcza gdy stanowi ją wyginanie i/lub hartowanie cieplne i/lub operacja utwardzania cieplnego, może być prowadzona w temperaturze co najmniej 600°C przez co najmniej 10 minut, 12 minut, lub 15 minut, co najmniej 620°C przez co najmniej 10 minut, 12 minut, lub 15 minut, lub też co najmniej 640°C przez co najmniej 10 minut, 12 minut, lub 15 minut.
Połączenie Zn i Al w dolnej warstwie barierowej może zapewnić korzystną kombinację wyżej omówionych własności, zwłaszcza gdy stosunek atomowy Al/Zn mieści się w zakresie 0,03 do 0,3, a korzystnie w zakresie 0,05 do 0,15. Stosunek atomowy Al/Zn moż e być mniejszy niż 1. Korzystną kombinacje własności można także uzyskać dzięki połączeniu Zn i Ti w dolnej warstwie barierowej, zwłaszcza gdy stosunek atomowy Ti/Zn mieści się w zakresie 1 do 10, a korzystnie w zakresie 1,5 do 6, a najkorzystniej 2 do 5.
Gdy powłoka (zespół powlekający) ma więcej niż jedną dolną warstwę barierową, to mogą one mieć taki sam lub zasadniczo taki sam skład. Może to ułatwić proces kontroli oraz zamawiania oraz przechowywania niezbędnych tarcz. Kombinacja dolnej warstwy barierowej zawierającej Zn z dodatkowym materiałem X oraz z sąsiadującą z tą dolną warstwą barierową warstwą dielektryczną, która także zawiera Zn z tym samym dodatkowym materiałem X może ułatwić kontrolę utleniania dolnej warstwy barierowej podczas obróbki cieplnej panelu oszkleniowego. Użycie tego samego lub podobnego materiału, jak w dolnej warstwie barierowej, do górnej warstwy barierowej może ułatwić kontrolę utleniania obu warstw barierowych podczas obróbki cieplnej. Może być to szczególnie korzystne, gdy jedna lub więcej z sąsiadujących warstw dielektrycznych zawiera podobny materiał.
Użycie podobnych materiałów do więcej niż jednej warstwy tego zespołu powlekającego może ułatwić kontrolę procesu zastosowanego do osadzania różnych warstw dzięki pozwoleniu na stosowanie podobnych warunków dla różnych powłok. Ponadto, użycie tarcz o tym samym składzie do osadzania więcej niż jednej warstwy tej powłoki może ułatwić przechowywanie oraz zamawianie takich tarcz na skalę przemysłową. Może to również zapewnić dobre przyleganie pomiędzy warstwami tej powłoki, a zatem i dobrą trwałość mechaniczną. Sposób wytwarzania panelu oszkleniowego może być wykorzystany do wytwarzania, na przykład, obrabianych cieplnie architektonicznych paneli oszkleniowych, oszklenia pojazdów, a zwłaszcza szyb samochodowych.
Poniżej zostaną opisane przykłady wykonania wynalazku w oparciu o fig. 1, która przedstawia przekrój porzeczny przez panel oszkleniowy przed jego zginaniem i operacją hartowania (dla ułatwienia prezentacji, względne grubości panelu oszkleniowego oraz warstw powlekających nie zostały przedstawione w skali).
P r z y k ł a d 1
Figura 1 przedstawia powłokę nadającą się do obróbki cieplnej obejmującą podwójną warstwę Ag, osadzoną na podłożu szklanym przez napylanie magnetronowe i posiadającą uszeregowaną w odpowiednim porządku następującą strukturę:
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| 1 | 2 | 3 | 4 |
| Podłoże szklane | 10 | 2·10-3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: | 11 | 6·10-9 m [60 A] | |
| AlN | 12 | ||
| ZnAlOx | 13 | 2,5·10-8 m [250 A] | Al/Zn=0,1 |
PL 199 886 B1 cd. tabeli
| 1 | 2 | 3 | 4 |
| Dolna warstwa barierowa ZnAlOy | 14 | 10-9 m [10 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10-8 m [100 A] | |
| Górna warstwa barierowa ZnAlOy | 16 | 1,2·10-9 m [12 A] | Al/Zn=0,1 |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 7,5·10-8 m [750 A] | Al/Zn=0,1 |
| Dolna warstwa barierowa ZnAlOy | 18 | 7·10-10 m [7 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10-8 m [100 A] | |
| Górna warstwa barierowa ZnAlOy | 20 | 1,7·10-9 m [17 A] | Al/Zn=0,1 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: | 21 | 1,85·10-8 m [185 A] | |
| ZnAlOx | 22 | Al/Zn=0,1 | |
| AlN | 23 | 8,5·10-9 m [85 A] |
w której ZnAlOx oznacza tlenek mieszany zawierają cy Zn i Al osadzony w tym przykł adzie wykonania przez reaktywne napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Al w obecności tlenu. Warstwy barierowe ZnAlOy osadzone są podobnie przez napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Al w atmosferze zawierającej tlen wzbogacony w argon dla osadzenia warstwy barierowej, która nie będzie całkowicie utleniona.
Alternatywnie, warstwa tlenku mieszanego może być utworzona przez napylanie z tarczy, którą stanowi mieszanina tlenku cynku i tlenku glinu, zwłaszcza w atmosferze zawierającej gaz argon lub tlen wzbogacony argonem.
Niekoniecznie stan utlenienia w każdej spośród podstawowej, środkowej i powierzchniowej dielektrycznej warstwy ZnAlOx musi być taki sam. Podobnie, stan utlenienia w każdej z warstw barierowych ZnAlOy nie musi być taki sam. Jednakowoż, stosunek Al/Zn nie musi być taki sam dla wszystkich warstw; na przykład, warstwy barierowe mogą mieć inny stosunek Al/Zn niż dielektryczne warstwy przeciwodblaskowe, a poszczególne dielektryczne warstwy przeciwodblaskowe też mogą mieć inne od siebie nawzajem wartości stosunków Al/Zn.
Każda górna warstwa barierowa chroni leżącą pod nią warstwę srebra przed utlenieniem podczas osadzania przez napylanie leżącej z kolei na niej warstwy tlenku ZnAlOx. Podczas gdy dalsze utlenianie tych warstw barierowych może nastąpić podczas osadzania leżących na nich warstw tlenku, to część tych warstw barierowych korzystnie pozostaje w postaci tlenku, który jest nie w pełni utleniony w celu zapewnienia bariery dla mającej później nastąpić obróbki cieplnej panelu oszkleniowego.
Ten szczególny panel oszkleniowy przeznaczony jest do włączenia go do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje on następujące własności:
| Własność | Przed obróbką cieplną Uwaga 1 | Po obróbce cieplnej Uwaga 2 |
| TL (Illuminant A) | 63% | 76% |
| TE (Układ Moon 2) | 38% | 42% |
| Zamglenie | 0,1 | 0,25 |
| a* | -20 (strona powlekana) | -6 (zewnętrzna) |
| b* | +3 (strona powlekana) | -12 (zewnętrzna) |
| RE (Układ Moon 2) | 31% (strona powlekana) | 33% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: Mierzone dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed obróbką cieplną
Uwaga 2: Mierzone po obróbce cieplnej w temperaturze 650°C przez 10 minut, po której przeprowadzono zginanie i hartowanie, oraz laminowanie z jasnym arkuszem szkła o grubości 2·10-3 m [2 mm] oraz z jasnym PVB o grubości 7,6·10-4 m [0,76 mm]
Obróbka cieplna korzystnie powoduje zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, tak że struktura tego zespołu powlekającego po obróbce cieplnej jest następująca:
PL 199 886 B1
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2·10-3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: AlN (część. utl.) ZnAlOx | 11 12 13 | 6·10-9 m [60 A] 2,5·10-8 m [250 A] | Al/Zn=0,1 |
| ZnAlOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 14 | 10-9 m - 1,6·10-9 m [10 A - 16 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10-8 m [100 A] | |
| ZnAlOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 16 | 1,2·10-9 - 2·10-9 m [12 A - 20 A] | Al/Zn=0,1 |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 7,5·10-8 m [750 A] | Al/Zn=0,1 |
| ZnAlOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 18 | 7·10-10 m - 2·10-9 m [7 A - 12 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10'8 m [100 A] | |
| ZnAlOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 20 | 1,7·10-9 m - 2,8·10'9 m [17 A - 28 A] | Al/Zn=0,1 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnAlOx AlN (część. utl.) | 21 22 23 | 1,85·10-8 m [185 A] 8,5·10-9 m [85 A] | Al/Zn=0,1 |
Warstwy AlN (częściowo utlenione) mogą zawierać mieszaninę AlN i Al2O3, przy czym AlN jest częściowo utleniony podczas obróbki cieplnej. Warstwy barierowe niekoniecznie są całkowicie utlenione, a ich grubości będą zależały w pewnej mierze od stopnia ich utlenienia.
P r z y k ł a d 2
Zespół powlekający i własności według Przykładu 2 przedstawiono poniżej:
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2Ί0'3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: | 11 | 10-8 m [100 A] | |
| AlN | 12 | ||
| ZnAlOx | 13 | 2·10-8 m [200 A] | Al/Zn=0,1 |
| Dolna warstwa barierowa ZnAlO | 14 | 7·10-10 m [7 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10'8 m [100 A] | |
| Górna warstwa barierowa ZnAl | 16 | 10'9 m [10 A] | Al/Zn=0,1 |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 7,5·10-8 m [750 A] | Al/Zn=0,1 |
| Dolna warstwa barierowa ZnAl | 18 | 5·10-10 m [5 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10'8 m [100 A] | |
| Górna warstwa barierowa ZnAl | 20 | 1,4·10-9 m [14 A] | Al/Zn=0,1 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: | 21 | 1,85·10-8 m [185 A] | |
| ZnAlOx | 22 | Al/Zn=0,1 | |
| AlN | 23 | 8,5·10-9 m [85 A] |
w której ZnAlOx oznacza tlenek mieszany zawierają cy Zn i Al osadzony w tym przykł adzie wykonania przez reaktywne napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Al w obecności tlenu. Warstwy barierowe ZnAl osadzone są podobnie przez napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Al w zasadniczo obojętnej, wolnej od tlenu atmosferze.
Co najmniej część górnych warstw barierowych 16, 20 jest utlenionych podczas osadzania leżących na nich warstw tlenkowych. Pomimo tego, część tych warstw barierowych korzystnie pozostaje
PL 199 886 B1 w postaci metalicznej, lub przynajmniej w postaci tlenku, który jest nie w pełni utleniony w celu zapewnienia bariery dla mającej później nastąpić obróbki cieplnej panelu oszkleniowego.
Ten szczególny panel oszkleniowy przeznaczony jest do włączenia go do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje on następujące własności:
| Własność | Przed obróbką cieplną Uwaga 1 | Po obróbce cieplnej Uwaga 2 |
| TL (Illuminant A) | 61% | 77,5% |
| TE (Układ Moon 2) | 36% | 43% |
| Zamglenie | 0,1 | 0,22 |
| a* | -18 (strona powlekana) | -3 (zewnętrzna) |
| b* | +6 (strona powlekana) | -7 (zewnętrzna) |
| RE (Układ Moon 2) | 30% (strona powlekana) | 35% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: Mierzone dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed obróbką cieplną
Uwaga 2: Mierzone po obróbce cieplnej w temperaturze 625°C przez 14 minut, po której przeprowadzono zginanie i hartowanie, oraz laminowanie z jasnym arkuszem szkła o grubości 2·10-3 m [2 mm] oraz z jasnym PVB o grubości 7,6·10-4 m [0,76 mm].
Obróbka cieplna korzystnie powoduje zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, tak że struktura tego zespołu powlekającego po obróbce cieplnej jest następująca:
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2Ί0'3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: AlN (część. utl.) ZnAlOx | 11 12 13 | 10'8 m [100 A] 2Ί0'8 m [200 A] | Al/Zn=0,1 |
| ZnAlOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 14 | 9Ί0'10 m - 1,2·10-9 m [9 A - 12 A] | |
| Ag | 15 | 10'8 m [100 A] | |
| ZnAlOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 16 | 1,2·10-9 m - 1,6·10-9 m [12 A - 16 A] | Al/Zn=0,1 |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 7,5·10'8 m [750 A] | Al/Zn=0,1 |
| ZnAlOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 18 | 6Ί0'10 m - 9·10-10 m [6 A - 9 A] | |
| Ag | 19 | 10'8 m [100 A] | |
| ZnAlOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 20 | 1,7·10-9 m - 2,3·10-9 m [17 A - 28 A] | Al/Zn=0,1 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnAlOx AlN (część. utl.) | 21 22 23 | 1,85·10-8 m [185 A] 8,5·10-9 m [85 A] | Al/Zn=0,1 |
W miarę potrzeby dodatkowe warstwy mogą być wprowadzone ponad, poniż ej lub pomi ę dzy ten układ zespołu powlekającego cienkimi warstwami bez wykraczania poza zakres niniejszego wynalazku.
Oprócz korzystnych własności optycznych, które można uzyskać, każdy z przykładów zapewnia powłokę, która może być ogrzewana elektrycznie, na przykład, w ogrzewanych elektrycznie szybach samochodowych w celu zapewnienia funkcji pozbywania się pary i/lub odmrażania przy dodaniu odpowiednio umieszczonych konektorów elektrycznych.
Kolorowe koordynaty z tych przykładów są szczególnie odpowiednie na szyby samochodowe, gdyż dają one neutralny lub lekko niebieski wygląd przy odbiciu, gdy szyba zamontowana jest pod kątem w stosunku do karoserii samochodowej. Dla innych zastosowań, na przykład, jeśli pożądany jest lekko zielony wygląd dla szyb samochodowych lub w przypadku zastosowań architektonicznych,
PL 199 886 B1 dla których pożądany jest odmienny kolor, kolor w odbiciu można dostosować zgodnie z wiedzą zawartą w stanie techniki przez dostosowanie grubości warstw dielektrycznych i/lub warstw odbijających promieniowanie podczerwone.
Wartość TL panelu oszkleniowego można dostosować do pożądanego zastosowania. Na przykład:
- jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednia szyba samochodowa na rynek europejski, to można dobrać wartość TL wyższą niż 15%, co wymagają przepisy europejskie;
- jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednia szyba samochodowa na rynek amerykański, to można dobrać wartość TL wyższą niż 70%, co wymagają przepisy amerykańskie;
- jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednie światło pozycyjne do pojazdu, to można dostosować wartość TL wyższą niż 70%, co wymagają przepisy europejskie;
- jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako tylne światło pozycyjne do pojazdu lub tylna szyba samochodowa, to można dobrać wartość TL równą od 30% do 70%.
Takie dopasowywanie wartości TL można uzyskać, na przykład:
- przez dostosowanie grubości warstw zespołu powlekającego, a zwłaszcza grubości warstw dielektryka i/lub warstw odbijających promieniowanie podczerwone.
- przez łączenie zespołu powlekającego z zabarwionym podłożem szklanym.
- przez łączenie zespołu powlekającego z zabarwionym PVB lub innymi tworzywami laminującymi.
Poniższe terminy mają następujące znaczenia w tym opisie:
| a* | kolorowy koordynat mierzony na skali CIELab przy normalnym padaniu promieni | |
| Ag | srebro | |
| Al | glin | |
| Al2O3 | tlenek glinu | |
| AlN | azotek glinu | |
| b* | kolorowy koordynat mierzony na skali CIELab przy normalnym padaniu promieni | |
| Bi | bizmut | |
| Cr | chrom | |
| zamglenie | procent transmitowanego światła, które przechodząc przez próbkę ulega odchyleniu od padającej wiązki przez przednie rozpraszanie, jak mierzono zgodnie z normą ASTM Designation D 1003-61 (ponownie aprobowane w 1988 r.) | |
| Hf | hafn | |
| materiał odbijający promieniowanie podczerwone | materiał, który ma współczynnik odbicia wyższy od współczynnika odbicia szkła sodowo-wapniowego w zakresie długości fali od 7,8·10-7 m [780 nm] do 5-10-5 m [50 mikronów] | |
| Na | sód | |
| Nb | niob | |
| NiCr | stop lub mieszanina zawierająca nikiel i chrom | |
| NiTi | stop lub mieszanina zawierająca nikiel i tytan | |
| RE | odbicie energetyczne | strumień promieniowania słonecznego (świetlnego i nieświetlnego) odbitego od podłoża jako procent padającego strumienia promieniowania słonecznego |
| Sb | antymon | |
| selektywność | stosunek transmitancji świetlnej do transmitancji energetycznej, czyli TL/TE |
PL 199 886 B1
| SiO2 | tlenek krzemu | |
| Si3N4 | azotek krzem | |
| SnO2 | tlenek cyny | |
| Ta | tantal | |
| TE | transmitancja energetyczna | strumień promieniowania słonecznego (świetlnego i nieświetlnego) przepuszczonego przez podłoże jako procent padającego strumienia promieniowania słonecznego |
| Ti | tytan | |
| TL | transmitancja świetlna | strumień promieniowania słonecznego przepuszczony przez podłoże jako procent padającego strumienia promieniowania słonecznego |
| Zn | cynk | |
| ZnAl | stop lub mieszanina zawierająca cynk i glin | |
| ZnAlOx | tlenek mieszany zawierający cynk i glin | |
| ZnAlOy | częściowo utleniona cynk i glin mieszanina zawierająca | |
| ZnO | tlenek cynku | |
| ZnTi | stop lub mieszanina zawierająca cynk i tytan | |
| ZnTiOx | tlenek mieszany zawierający cynk i tytan | |
| ZnTiOy | częściowo utleniona cynk i tytan mieszanina zawierająca | |
| Zr | cyrkon |
Zastrzeżenia patentowe
Claims (14)
1. Panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, dolną warstwę barierową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, górną warstwę barierową, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, znamienny tym, że dolna warstwa barierowa zawiera mieszaninę Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn w tej dolnej warstwie barierowej mieści się w zakresie od 0,03 do 10, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Al, Ti, Hf, Sb, Nb, Ta i Zr.
2. Panel oszkleniowy według zastrz. 1 zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, dolną warstwę barierową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, górną warstwę barierową, środkową warstwę przeciwodblaskową, dolną warstwę barierową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, górną warstwę barierową, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową,
PL 199 886 B1 znamienny tym, że co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn w tej dolnej warstwie barierowej mieści się w zakresie od 0,03 do 10, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmują cej Al, Ti, Hf, Sb, Nb, Ta i Zr.
3. Panel oszkleniowy wed ł ug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ż e stanowi go panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia.
4. Panel oszkleniowy wed ł ug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ż e dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i Al, w której stosunek atomowy Al/Zn jest równy co najmniej 0,03.
5. Panel oszkleniowy wedł ug zastrz. 4, znamienny tym, ż e dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i Al, w której stosunek atomowy Al/Zn mieści się w zakresie 0,03 do 0,3.
6. Panel oszkleniowy wed ł ug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ż e dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i Ti, w której stosunek atomowy Ti/Zn jest równy co najmniej 0,03.
7. Panel oszkleniowy wedł ug zastrz. 6, znamienny tym, ż e dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i Ti, w której stosunek atomowy Ti/Zn mieści się w zakresie 1 do 10.
8. Panel oszkleniowy wed ł ug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ż e stosunek atomowy X/Zn jest mniejszy lub równy 5.
9. Panel oszkleniowy wed ł ug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ż e dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych jest nałożona jako metal lub jest w postaci metalicznej.
10. Panel oszkleniowy według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że dolna warstwa barierowa lub co najmniej jedna z dolnych warstw barierowych ma grubość geometryczną większą lub równą 2·10-10 m oraz mniejszą lub równą 5·10-9 m.
11. Panel oszkleniowy według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych obejmuje warstwę tlenku zawierającą mieszaninę Zn i dodatkowego materiału X z dolnej warstwy barierowej lub z co najmniej jednej z dolnych warstw barierowych.
12. Panel oszkleniowy według zastrz. 11, znamienny tym, że co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych obejmuje warstwę tlenku zawierającą mieszaninę Zn i dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest taki sam jak stosunek atomowy X/Zn w dolnej warstwie barierowej lub w co najmniej jednej z dolnych warstw barierowych.
13. Panel oszkleniowy według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że co najmniej jedna z górnych warstw barierowych zawiera mieszaninę Zn i jednego lub więcej dodatkowych materiałów wybranych z Grup 3a, 3b, 4a, 4b, 5a, 5b, 6b, 7b Ukł adu Okresowego Pierwiastków.
14. Sposób wytwarzania panelu oszkleniowego o zamgleniu mniejszym niż 0,5, znamienny tym, że obejmuje on etap, w którym panel oszkleniowy określony w zastrz. 1 poddaje się obróbce cieplnej w temperaturze równej co najmniej 570°C.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98204312 | 1998-12-18 | ||
| PCT/EP1999/010071 WO2000037378A1 (en) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Glazing panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL355154A1 PL355154A1 (pl) | 2004-04-05 |
| PL199886B1 true PL199886B1 (pl) | 2008-11-28 |
Family
ID=8234486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL355154A PL199886B1 (pl) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1154964A1 (pl) |
| JP (1) | JP2000229380A (pl) |
| CZ (1) | CZ301887B6 (pl) |
| HU (1) | HUP0104691A2 (pl) |
| PL (1) | PL199886B1 (pl) |
| SK (1) | SK8342001A3 (pl) |
| WO (1) | WO2000037378A1 (pl) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005334648A (ja) | 2004-04-21 | 2005-12-08 | Acushnet Co | 変移する中空タイプのゴルフクラブ |
| US7137903B2 (en) | 2004-04-21 | 2006-11-21 | Acushnet Company | Transitioning hollow golf clubs |
| ITRM20060181A1 (it) * | 2006-03-31 | 2007-10-01 | Pilkington Italia Spa | Lastra di vetro rivestita |
| JP5620334B2 (ja) * | 2011-05-18 | 2014-11-05 | 株式会社神戸製鋼所 | Ｃｉｇｓ系太陽電池 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG47839A1 (en) * | 1990-07-05 | 1998-04-17 | Asahi Glass Co Ltd | A low emissivity film |
| DE69503896T3 (de) * | 1994-05-03 | 2005-10-27 | Cardinal Cg Co., Eden Prairie | Transparenter gegenstand mit siliciumnitrid-schutzschicht |
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| CA2179853C (en) * | 1995-06-26 | 2007-05-22 | Susumu Suzuki | Laminate |
-
1999
- 1999-12-15 PL PL355154A patent/PL199886B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 HU HU0104691A patent/HUP0104691A2/hu unknown
- 1999-12-15 SK SK834-2001A patent/SK8342001A3/sk unknown
- 1999-12-15 EP EP99967957A patent/EP1154964A1/en not_active Withdrawn
- 1999-12-15 WO PCT/EP1999/010071 patent/WO2000037378A1/en active Application Filing
- 1999-12-15 CZ CZ20012218A patent/CZ301887B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-12-17 JP JP11359734A patent/JP2000229380A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL355154A1 (pl) | 2004-04-05 |
| HUP0104691A2 (en) | 2002-11-28 |
| SK8342001A3 (en) | 2001-11-06 |
| EP1154964A1 (en) | 2001-11-21 |
| WO2000037378A1 (en) | 2000-06-29 |
| CZ301887B6 (cs) | 2010-07-21 |
| CZ20012218A3 (cs) | 2002-02-13 |
| JP2000229380A (ja) | 2000-08-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1154965B1 (en) | Glazing panel | |
| EP1154963B1 (en) | Glazing panel | |
| EP1150928B1 (en) | Glazing panel | |
| US6610410B2 (en) | Glazing panel | |
| US7198850B2 (en) | Glazing | |
| EP1594812B1 (en) | Glazing panel carrying a coating stack | |
| US6699585B2 (en) | Glazing panel | |
| EP1147066B1 (en) | Glazing panel | |
| PL199886B1 (pl) | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20111215 |